JP2002267973A - マルチビーム走査における走査線ピッチ調整方法、マルチビーム走査用光源装置およびマルチビーム走査装置 - Google Patents
マルチビーム走査における走査線ピッチ調整方法、マルチビーム走査用光源装置およびマルチビーム走査装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】マルチビーム走査における走査線ピッチを容易
かつ正確に行いうる新規な「走査線ピッチ調整方法」お
よびこの方法を実施するための「マルチビーム走査用光
源装置」の実現を課題とする。 【解決手段】マルチビーム走査において、被走査面上の
走査線間の間隔を調整する方法であって、各光ビームを
個別的に別個のシリンドリカルレンズに５Ａ、５Ｂより
副走査方向へ集束させた状態で、ビーム合成手段６へ導
き、ビーム合成手段６により合成された光ビーム群を光
偏向器１２の偏向反射面位置に導光し、偏向反射面近傍
に各光ビームごとに主走査方向に長い線像として結像さ
せるようにし、１以上の光ビームの光路上にミラー４
Ａ、４Ｂを配置し、このミラーの反射面の揺動調整によ
り光ビームの進行方向を副走査方向に偏向調整し、シリ
ンドリカルレンズ５Ａ、５Ｂの１以上を副走査方向に並
進変位調整することにより、被走査面上の走査線間の間
隔を調整する。
かつ正確に行いうる新規な「走査線ピッチ調整方法」お
よびこの方法を実施するための「マルチビーム走査用光
源装置」の実現を課題とする。 【解決手段】マルチビーム走査において、被走査面上の
走査線間の間隔を調整する方法であって、各光ビームを
個別的に別個のシリンドリカルレンズに５Ａ、５Ｂより
副走査方向へ集束させた状態で、ビーム合成手段６へ導
き、ビーム合成手段６により合成された光ビーム群を光
偏向器１２の偏向反射面位置に導光し、偏向反射面近傍
に各光ビームごとに主走査方向に長い線像として結像さ
せるようにし、１以上の光ビームの光路上にミラー４
Ａ、４Ｂを配置し、このミラーの反射面の揺動調整によ
り光ビームの進行方向を副走査方向に偏向調整し、シリ
ンドリカルレンズ５Ａ、５Ｂの１以上を副走査方向に並
進変位調整することにより、被走査面上の走査線間の間
隔を調整する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、マルチビーム走
査における走査線ピッチ調整方法、マルチビーム走査用
光源装置およびマルチビーム走査装置に関する。
査における走査線ピッチ調整方法、マルチビーム走査用
光源装置およびマルチビーム走査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近来、光プリンタや光製版装置、光描画
装置等の画像形成装置に用いられる光走査装置におい
て、一度に複数の走査線を走査する「マルチビーム走査
方式」が提案され、実用化されつつある。
装置等の画像形成装置に用いられる光走査装置におい
て、一度に複数の走査線を走査する「マルチビーム走査
方式」が提案され、実用化されつつある。
【０００３】このようなマルチビーム走査方式には、各
光スポットが隣接する走査線を走査する「隣接走査方
式」と、副走査方向に隣接する光スポットが、１以上の
走査線を飛び越して走査する「飛び越し走査方式」とが
あるが、何れの走査方式においても、良好なマルチビー
ム走査を行うには、「走査線ピッチ」即ち、隣接する光
スポットの副走査方向の間隔が適正に設定されねばなら
ない。
光スポットが隣接する走査線を走査する「隣接走査方
式」と、副走査方向に隣接する光スポットが、１以上の
走査線を飛び越して走査する「飛び越し走査方式」とが
あるが、何れの走査方式においても、良好なマルチビー
ム走査を行うには、「走査線ピッチ」即ち、隣接する光
スポットの副走査方向の間隔が適正に設定されねばなら
ない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、マルチビ
ーム走査における走査線ピッチを容易かつ正確に行いう
る新規な「走査線ピッチ調整方法」およびこの方法を実
施するための「マルチビーム走査用光源装置」の実現を
課題とする。この発明はまた、上記マルチビーム走査用
光源装置を用いた新規なマルチビーム走査装置の実現を
課題とする。
ーム走査における走査線ピッチを容易かつ正確に行いう
る新規な「走査線ピッチ調整方法」およびこの方法を実
施するための「マルチビーム走査用光源装置」の実現を
課題とする。この発明はまた、上記マルチビーム走査用
光源装置を用いた新規なマルチビーム走査装置の実現を
課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この発明の走査線ピッチ
調整方法は「複数の光源から放射される複数の光ビーム
を共通の光偏向器により同時に偏向させ、各偏向光束を
共通の走査結像光学系により被走査面に導光し、被走査
面上に、副走査方向へ互いに分離した複数の光スポット
を形成し、複数走査線を同時に走査するマルチビーム走
査において、被走査面上の走査線間の間隔（走査線ピッ
チ）を調整する方法」である。
調整方法は「複数の光源から放射される複数の光ビーム
を共通の光偏向器により同時に偏向させ、各偏向光束を
共通の走査結像光学系により被走査面に導光し、被走査
面上に、副走査方向へ互いに分離した複数の光スポット
を形成し、複数走査線を同時に走査するマルチビーム走
査において、被走査面上の走査線間の間隔（走査線ピッ
チ）を調整する方法」である。
【０００６】請求項１記載の方法は、以下の如き特徴を
有する。即ち、各光ビームを個別的に別個のシリンドリ
カルレンズにより副走査方向へ集束させた状態で、ビー
ム合成手段へ導き、このビーム合成手段により合成され
た光ビーム群を光偏向器の偏向反射面位置に導光し、偏
向反射面近傍に各光ビームごとに「主走査方向に長い線
像」として結像させるようにする。
有する。即ち、各光ビームを個別的に別個のシリンドリ
カルレンズにより副走査方向へ集束させた状態で、ビー
ム合成手段へ導き、このビーム合成手段により合成され
た光ビーム群を光偏向器の偏向反射面位置に導光し、偏
向反射面近傍に各光ビームごとに「主走査方向に長い線
像」として結像させるようにする。
【０００７】１以上の光ビームの光路上に「ミラー」を
配置し、このミラーの反射面の揺動調整により光ビーム
の進行方向を副走査方向に偏向調整する。また、シリン
ドリカルレンズの１以上を副走査方向に「並進変位調
整」することにより、被走査面上の走査線間の間隔を調
整する。
配置し、このミラーの反射面の揺動調整により光ビーム
の進行方向を副走査方向に偏向調整する。また、シリン
ドリカルレンズの１以上を副走査方向に「並進変位調
整」することにより、被走査面上の走査線間の間隔を調
整する。
【０００８】従って、走査線ピッチの調整は、１以上の
ミラーの反射面の揺動調整と、シリンドリカルレンズの
並進変位調整とにより行われることになる。この場合、
反射面の揺動調整を行うミラーと、並進変位調整を行う
シリンドリカルレンズとは、異なる光ビームの光路上に
あってもよい。
ミラーの反射面の揺動調整と、シリンドリカルレンズの
並進変位調整とにより行われることになる。この場合、
反射面の揺動調整を行うミラーと、並進変位調整を行う
シリンドリカルレンズとは、異なる光ビームの光路上に
あってもよい。
【０００９】例えば、２つの光ビームの光路を仮に光
路：Ａ、光路：Ｂとするとき、光路：Ａに設けたミラー
の反射面を揺動調整するとともに、光路：Ｂに設けたシ
リンドリカルレンズを並進変位調整するようにしても良
い。
路：Ａ、光路：Ｂとするとき、光路：Ａに設けたミラー
の反射面を揺動調整するとともに、光路：Ｂに設けたシ
リンドリカルレンズを並進変位調整するようにしても良
い。
【００１０】勿論、１以上の光ビームの光路上に、反射
面の揺動調整可能なミラーと、並進変位調整可能なシリ
ンドリカルレンズとを設け、１以上の光ビームによる光
スポット結像位置を副走査方向に調整することができる
（請求項２）。
面の揺動調整可能なミラーと、並進変位調整可能なシリ
ンドリカルレンズとを設け、１以上の光ビームによる光
スポット結像位置を副走査方向に調整することができる
（請求項２）。
【００１１】この請求項２記載の走査線ピッチ調整方法
の場合、各光ビームの光路上に、反射面の揺動調整可能
なミラーと、並進変位調整可能なシリンドリカルレンズ
とを設け、各光ビームによる光スポット結像位置を副走
査方向に調整することができる。ミラーとシリンドリカ
ルレンズの位置関係はどちらを光源側にしてもよい。
の場合、各光ビームの光路上に、反射面の揺動調整可能
なミラーと、並進変位調整可能なシリンドリカルレンズ
とを設け、各光ビームによる光スポット結像位置を副走
査方向に調整することができる。ミラーとシリンドリカ
ルレンズの位置関係はどちらを光源側にしてもよい。
【００１２】上記請求項１または２または３記載の走査
線ピッチ調整方法で、ミラーの反射面の揺動調整により
粗調整を行い、シリンドリカルレンズの並進変位調整に
より微調整を行うことが好ましい（請求項４）。即ち、
ミラーの反射面（の法線の向き）がΔθだけ変化する
と、反射される光ビームの方向は副走査方向に２Δθだ
け変化するので、ミラーによる進行方向の偏向調整は粗
調整に適している。これに対し、シリンドリカルレンズ
の副走査方向への並進変位による光ビームの変位は小さ
いので、シリンドリカルレンズによる調整は微調整に適
している。
線ピッチ調整方法で、ミラーの反射面の揺動調整により
粗調整を行い、シリンドリカルレンズの並進変位調整に
より微調整を行うことが好ましい（請求項４）。即ち、
ミラーの反射面（の法線の向き）がΔθだけ変化する
と、反射される光ビームの方向は副走査方向に２Δθだ
け変化するので、ミラーによる進行方向の偏向調整は粗
調整に適している。これに対し、シリンドリカルレンズ
の副走査方向への並進変位による光ビームの変位は小さ
いので、シリンドリカルレンズによる調整は微調整に適
している。
【００１３】光源の数は、同時走査する走査線の本数に
等しい。光源の数は、ビーム合成の可能な限りにおいて
適宜であるが、最小限の数として光源数：２とすること
ができる（請求項５）。
等しい。光源の数は、ビーム合成の可能な限りにおいて
適宜であるが、最小限の数として光源数：２とすること
ができる（請求項５）。
【００１４】この発明のマルチビーム走査用光源装置は
「複数の光源から放射される複数の光ビームを共通の光
偏向器により同時に偏向させ、各偏向光束を共通の走査
結像光学系により被走査面に導光し、被走査面上に、副
走査方向へ互いに分離した複数の光スポットを形成し、
複数走査線を同時に走査するマルチビーム走査におい
て、ビーム合成機能と走査線ピッチ調整機能とを有する
マルチビーム走査用光源装置」であって、ｎ（≧２）個
の光源と、ｎ個のカップリングレンズ、ビーム合成手
段、ｎ個のシリンドリカルレンズ、１以上のミラーを有
する（請求項６）。
「複数の光源から放射される複数の光ビームを共通の光
偏向器により同時に偏向させ、各偏向光束を共通の走査
結像光学系により被走査面に導光し、被走査面上に、副
走査方向へ互いに分離した複数の光スポットを形成し、
複数走査線を同時に走査するマルチビーム走査におい
て、ビーム合成機能と走査線ピッチ調整機能とを有する
マルチビーム走査用光源装置」であって、ｎ（≧２）個
の光源と、ｎ個のカップリングレンズ、ビーム合成手
段、ｎ個のシリンドリカルレンズ、１以上のミラーを有
する（請求項６）。
【００１５】ｎ（≧２）個の光源は、マルチビーム走査
用の光束を放射する。光源としては半導体レーザが好適
である。ｎ個のカップリングレンズは、各光源からの光
束を個別的にカップリングして、以後の光学系に適した
光束形態の光ビームとする。光ビームの光束形態として
は平行光束とすることもできるし、弱い集束性もしくは
弱い発散性の光束とすることもできる。
用の光束を放射する。光源としては半導体レーザが好適
である。ｎ個のカップリングレンズは、各光源からの光
束を個別的にカップリングして、以後の光学系に適した
光束形態の光ビームとする。光ビームの光束形態として
は平行光束とすることもできるし、弱い集束性もしくは
弱い発散性の光束とすることもできる。
【００１６】「ビーム合成手段」は、カップリングされ
た各光束を、マルチビーム走査用の光ビーム群（マルチ
ビーム走査に用い得る光ビーム群）としてビーム合成す
る。「ｎ個のシリンドリカルレンズ」は、各カップリン
グレンズとビーム合成手段との間に配備され、光ビーム
を個別的に副走査方向へ集束させる。
た各光束を、マルチビーム走査用の光ビーム群（マルチ
ビーム走査に用い得る光ビーム群）としてビーム合成す
る。「ｎ個のシリンドリカルレンズ」は、各カップリン
グレンズとビーム合成手段との間に配備され、光ビーム
を個別的に副走査方向へ集束させる。
【００１７】「１以上のミラー」は、１以上の光ビーム
の光路上において、カップリングレンズとビーム合成手
段との間に設けられ、光ビームの進行方向を副走査方向
に偏向調整するべく、反射面の態位が揺動調整可能であ
る。ミラーの個数：ｍは、１≦ｍ≦ｎである。
の光路上において、カップリングレンズとビーム合成手
段との間に設けられ、光ビームの進行方向を副走査方向
に偏向調整するべく、反射面の態位が揺動調整可能であ
る。ミラーの個数：ｍは、１≦ｍ≦ｎである。
【００１８】上記ｎ個のシリンドリカルレンズの１以上
は、副走査方向に並進変位調整可能である。
は、副走査方向に並進変位調整可能である。
【００１９】この請求項６記載のマルチビーム走査用光
源装置において「１以上の光ビームの光路上に、並進変
位調整可能なシリンドリカルレンズと、反射面が揺動調
整可能な揺動調整ミラーと」を設けることができる（請
求項７）。この場合において、「並進変位調整可能なシ
リンドリカルレンズと、反射面を揺動調整可能な揺動調
整ミラーと」を。各光ビームの光路上に設けることがで
きる（請求項８）。
源装置において「１以上の光ビームの光路上に、並進変
位調整可能なシリンドリカルレンズと、反射面が揺動調
整可能な揺動調整ミラーと」を設けることができる（請
求項７）。この場合において、「並進変位調整可能なシ
リンドリカルレンズと、反射面を揺動調整可能な揺動調
整ミラーと」を。各光ビームの光路上に設けることがで
きる（請求項８）。
【００２０】上記請求項６または７または８記載のマル
チビーム走査用光源装置において、光源の数を２とし、
ビーム合成手段を「一方の光ビームの透過と、他方の光
ビームの反射によりビーム合成を行うプリズム光学素
子」とすることができる（請求項９）。このプリズム光
学素子としては、例えば、ハーフミラープリズムを用い
ることができる。
チビーム走査用光源装置において、光源の数を２とし、
ビーム合成手段を「一方の光ビームの透過と、他方の光
ビームの反射によりビーム合成を行うプリズム光学素
子」とすることができる（請求項９）。このプリズム光
学素子としては、例えば、ハーフミラープリズムを用い
ることができる。
【００２１】「プリズム光学素子」はまた「光ビーム
を、光ビームの偏光状態に応じて透過または反射させる
偏光プリズム」とすることができる（請求項１０）。例
えば、光源として２個の半導体レーザを用いる場合、半
導体レーザから放射されるレーザ光束は実質的な直線偏
光状態にあるので、各半導体レーザから放射されるレー
ザ光束の偏光方向を互いに直交関係にすることにより、
上記偏光プリズムで光利用効率良くビーム合成すること
ができる。
を、光ビームの偏光状態に応じて透過または反射させる
偏光プリズム」とすることができる（請求項１０）。例
えば、光源として２個の半導体レーザを用いる場合、半
導体レーザから放射されるレーザ光束は実質的な直線偏
光状態にあるので、各半導体レーザから放射されるレー
ザ光束の偏光方向を互いに直交関係にすることにより、
上記偏光プリズムで光利用効率良くビーム合成すること
ができる。
【００２２】あるいは、上記請求項１０記載のマルチビ
ーム走査用光源装置において、一方の光ビームの偏光方
向を、他方の光ビームの偏光方向に直交させる波長板
（１／２波長板）を設けても良い（請求項１１）。
ーム走査用光源装置において、一方の光ビームの偏光方
向を、他方の光ビームの偏光方向に直交させる波長板
（１／２波長板）を設けても良い（請求項１１）。
【００２３】ビーム合成の他の方法としては、光源から
放射される光束の波長を互いに異ならせ、互いに波長の
異なる各光ビームを「ダイクロイックミラー」を用いて
ビーム合成することができる。この方法でビーム合成を
行うと３以上の光ビームの場合でも容易にビーム合成す
ることができる。
放射される光束の波長を互いに異ならせ、互いに波長の
異なる各光ビームを「ダイクロイックミラー」を用いて
ビーム合成することができる。この方法でビーム合成を
行うと３以上の光ビームの場合でも容易にビーム合成す
ることができる。
【００２４】この発明のマルチビーム走査装置は「複数
の光源から放射される複数の光ビームを共通の光偏向器
により同時に偏向させ、各偏向光束を共通の走査結像光
学系により被走査面に導光し、被走査面上に、副走査方
向へ互いに分離した複数の光スポットを形成し、複数走
査線を同時に走査するマルチビーム走査装置」であっ
て、マルチビーム走査用光源装置として、請求項６〜１
１の任意の１に記載のものを用いることを特徴とする
（請求項１２）。
の光源から放射される複数の光ビームを共通の光偏向器
により同時に偏向させ、各偏向光束を共通の走査結像光
学系により被走査面に導光し、被走査面上に、副走査方
向へ互いに分離した複数の光スポットを形成し、複数走
査線を同時に走査するマルチビーム走査装置」であっ
て、マルチビーム走査用光源装置として、請求項６〜１
１の任意の１に記載のものを用いることを特徴とする
（請求項１２）。
【００２５】光偏向器としては、回転多面鏡や回転単面
鏡、あるいは回転２面鏡のように、偏向反射面を回転さ
せる方式のものでも良いし、ガルバノミラーのように偏
向反射面を揺動させる方式のものでもよい。
鏡、あるいは回転２面鏡のように、偏向反射面を回転さ
せる方式のものでも良いし、ガルバノミラーのように偏
向反射面を揺動させる方式のものでもよい。
【００２６】走査結像光学系は１枚以上のレンズで構成
することもできるし、１面以上の結像ミラーで構成する
こともでき、さらには１枚以上のレンズと１面以上の結
像ミラーの組合せとして構成することもできる。
することもできるし、１面以上の結像ミラーで構成する
こともでき、さらには１枚以上のレンズと１面以上の結
像ミラーの組合せとして構成することもできる。
【００２７】即ち、光偏向器や走査結像光学系は、従来
から知られたものを適宜に用いることができる。「被走
査面」は、実体的には感光性媒体の感光面である。感光
性媒体としては、光導電性の感光体や、銀塩フィルム、
走査光のエネルギーで発色する発色性感光シート等を利
用できる。
から知られたものを適宜に用いることができる。「被走
査面」は、実体的には感光性媒体の感光面である。感光
性媒体としては、光導電性の感光体や、銀塩フィルム、
走査光のエネルギーで発色する発色性感光シート等を利
用できる。
【００２８】
【発明の実施の形態】図４は、マルチビーム走査装置を
説明するための図である。図４において、符号１０で示
すマルチビーム走査用光源装置は、複数の光源から放射
される光束を「マルチビーム走査用にビーム合成」して
光ビーム群（図の繁雑を避けるため、１本の光ビームの
みを示している）として射出させる。光ビーム群は「光
偏向器」である回転多面鏡１２により偏向され、「走査
結像光学系」を構成する２枚のレンズ１４、１６により
被走査面１８へ導光され、被走査面１８上に、副走査方
向（図面に直交する方向）へ互いに分離した複数の光ス
ポットを形成する。これら複数の光スポットにより被走
査面１８が複数走査線同時に走査される。
説明するための図である。図４において、符号１０で示
すマルチビーム走査用光源装置は、複数の光源から放射
される光束を「マルチビーム走査用にビーム合成」して
光ビーム群（図の繁雑を避けるため、１本の光ビームの
みを示している）として射出させる。光ビーム群は「光
偏向器」である回転多面鏡１２により偏向され、「走査
結像光学系」を構成する２枚のレンズ１４、１６により
被走査面１８へ導光され、被走査面１８上に、副走査方
向（図面に直交する方向）へ互いに分離した複数の光ス
ポットを形成する。これら複数の光スポットにより被走
査面１８が複数走査線同時に走査される。
【００２９】図１は、図４に示すマルチビーム走査用光
源装置１０の実施の１形態を示している。符号１Ａ、１
Ｂで示す「光源」としての半導体レーザから放射される
光束は、カップリングレンズ２Ａ、２Ｂによりそれぞれ
カップリングされて、以下の光学系に適した光ビームと
なる。この実施の形態において、カップリングレンズ２
Ａ、２Ｂから射出する光ビームは実質的な平行光束であ
る。
源装置１０の実施の１形態を示している。符号１Ａ、１
Ｂで示す「光源」としての半導体レーザから放射される
光束は、カップリングレンズ２Ａ、２Ｂによりそれぞれ
カップリングされて、以下の光学系に適した光ビームと
なる。この実施の形態において、カップリングレンズ２
Ａ、２Ｂから射出する光ビームは実質的な平行光束であ
る。
【００３０】カップリングされた光ビームはそれぞれ、
アパーチュア３の開口部を透過してビーム整形され、ミ
ラー４Ａ、４Ｂに入射して反射され、各々シリンドリカ
ルレンズ５Ａ、５Ｂに入射する。シリンドリカルレンズ
５Ａ、５Ｂは入射する光ビームを副走査方向（図面に直
交する方向）に集束させる。各光ビームは集束しつつビ
ーム合成手段６に入射してビーム合成され、光偏向器と
しての回転多面鏡１２に入射する。各光ビームは回転多
面鏡１２の偏向反射面近傍に、主走査方向に長い線像と
して結像する。
アパーチュア３の開口部を透過してビーム整形され、ミ
ラー４Ａ、４Ｂに入射して反射され、各々シリンドリカ
ルレンズ５Ａ、５Ｂに入射する。シリンドリカルレンズ
５Ａ、５Ｂは入射する光ビームを副走査方向（図面に直
交する方向）に集束させる。各光ビームは集束しつつビ
ーム合成手段６に入射してビーム合成され、光偏向器と
しての回転多面鏡１２に入射する。各光ビームは回転多
面鏡１２の偏向反射面近傍に、主走査方向に長い線像と
して結像する。
【００３１】ミラー４Ａ、４Ｂは平面鏡であって、図面
に平行な軸の回りに揺動調整可能である。また、シリン
ドリカルレンズ５Ａ、５Ｂは、副走査方向にのみ正のパ
ワーを持ち、図面に直交する方向、即ち、副走査方向に
並進変位調整可能である。
に平行な軸の回りに揺動調整可能である。また、シリン
ドリカルレンズ５Ａ、５Ｂは、副走査方向にのみ正のパ
ワーを持ち、図面に直交する方向、即ち、副走査方向に
並進変位調整可能である。
【００３２】ビーム合成手段６は、偏光プリズムと１／
２波長板６Ｂとを有する。偏光プリズムは偏光分離膜６
Ａと反射膜６Ｃとを有する。各光ビームは、半導体レー
ザ１Ａ、１Ｂからは「偏光分離膜６Ａに対してＰ偏光」
として射出する。
２波長板６Ｂとを有する。偏光プリズムは偏光分離膜６
Ａと反射膜６Ｃとを有する。各光ビームは、半導体レー
ザ１Ａ、１Ｂからは「偏光分離膜６Ａに対してＰ偏光」
として射出する。
【００３３】従って、半導体レーザ１Ａからの光ビーム
は、偏光プリズムに入射すると、反射膜６Ｃにより内部
反射し、偏光分離膜６Ａを直進的に透過して偏光プリズ
ムから射出する。
は、偏光プリズムに入射すると、反射膜６Ｃにより内部
反射し、偏光分離膜６Ａを直進的に透過して偏光プリズ
ムから射出する。
【００３４】半導体レーザ１Ｂからの光ビームは、１／
２波長板６Ｂにより偏光方向を９０度旋回され、偏光分
離膜６Ａに対してＳ偏光として偏光プリズムに入射し、
偏光分離膜６Ａに反射されて偏光プリズムから射出す
る。
２波長板６Ｂにより偏光方向を９０度旋回され、偏光分
離膜６Ａに対してＳ偏光として偏光プリズムに入射し、
偏光分離膜６Ａに反射されて偏光プリズムから射出す
る。
【００３５】図２は、マルチビーム走査用光源装置の実
施の別形態を示している。混同の虞が無いと思われるも
のについては、図１におけると同一の符号を付した。図
１の実施の形態との差異は、シリンドリカルレンズ５
Ａ、５Ｂが、ミラー４Ａ、４Ｂよりも光源側に位置する
こと、ビーム合成手段６０として、偏光プリズムと１／
２波長板６０Ｂとが用いられている点である。
施の別形態を示している。混同の虞が無いと思われるも
のについては、図１におけると同一の符号を付した。図
１の実施の形態との差異は、シリンドリカルレンズ５
Ａ、５Ｂが、ミラー４Ａ、４Ｂよりも光源側に位置する
こと、ビーム合成手段６０として、偏光プリズムと１／
２波長板６０Ｂとが用いられている点である。
【００３６】従って、各光源からの光ビームはシリンド
リカルレンズにより副走査方向へ集束する光ビームとな
ってミラー４Ａ、４Ｂに反射される。ビーム合成手段６
０における符号６０Ａは偏光分離膜、符号６０Ｃは反射
膜であり、ビーム合成は、図１の実施の形態におけると
同様に行われる。
リカルレンズにより副走査方向へ集束する光ビームとな
ってミラー４Ａ、４Ｂに反射される。ビーム合成手段６
０における符号６０Ａは偏光分離膜、符号６０Ｃは反射
膜であり、ビーム合成は、図１の実施の形態におけると
同様に行われる。
【００３７】即ち、図１（図２）に実施の形態を示すマ
ルチビーム走査用光源装置は、複数の光源１Ａ、１Ｂか
ら放射される複数の光ビームを共通の光偏向器１２によ
り同時に偏向させ、各偏向光束を共通の走査結像光学系
により被走査面に導光し、被走査面上に、副走査方向へ
互いに分離した複数の光スポットを形成し、複数走査線
を同時に走査するマルチビーム走査において、ビーム合
成機能と走査線ピッチ調整機能とを有するマルチビーム
走査用光源装置であって、ｎ（≧２）個の光源１Ａ、１
Ｂと、各光源からの光束を個別的にカップリングして光
ビームとするｎ個のカップリングレンズ２Ａ、２Ｂと、
カップリングされた各光束を、マルチビーム走査用の光
ビーム群としてビーム合成するビーム合成手段６（６
０）と、各カップリングレンズとビーム合成手段との間
に配備され、光ビームを個別的に副走査方向へ集束させ
るｎ個のシリンドリカルレンズ５Ａ、５Ｂと、１以上の
光ビームの光路上において、カップリングレンズとビー
ム合成手段との間に設けられ、光ビームの進行方向を副
走査方向に偏向調整するべく、反射面の態位が揺動調整
可能な１以上のミラー４Ａ、４Ｂとを有し、ｎ個のシリ
ンドリカルレンズ５Ａ、５Ｂの１以上を、副走査方向に
並進変位調整可能としたマルチビーム走査用光源装置
（請求項６）である。
ルチビーム走査用光源装置は、複数の光源１Ａ、１Ｂか
ら放射される複数の光ビームを共通の光偏向器１２によ
り同時に偏向させ、各偏向光束を共通の走査結像光学系
により被走査面に導光し、被走査面上に、副走査方向へ
互いに分離した複数の光スポットを形成し、複数走査線
を同時に走査するマルチビーム走査において、ビーム合
成機能と走査線ピッチ調整機能とを有するマルチビーム
走査用光源装置であって、ｎ（≧２）個の光源１Ａ、１
Ｂと、各光源からの光束を個別的にカップリングして光
ビームとするｎ個のカップリングレンズ２Ａ、２Ｂと、
カップリングされた各光束を、マルチビーム走査用の光
ビーム群としてビーム合成するビーム合成手段６（６
０）と、各カップリングレンズとビーム合成手段との間
に配備され、光ビームを個別的に副走査方向へ集束させ
るｎ個のシリンドリカルレンズ５Ａ、５Ｂと、１以上の
光ビームの光路上において、カップリングレンズとビー
ム合成手段との間に設けられ、光ビームの進行方向を副
走査方向に偏向調整するべく、反射面の態位が揺動調整
可能な１以上のミラー４Ａ、４Ｂとを有し、ｎ個のシリ
ンドリカルレンズ５Ａ、５Ｂの１以上を、副走査方向に
並進変位調整可能としたマルチビーム走査用光源装置
（請求項６）である。
【００３８】また、これら実施の形態のマルチビーム走
査用光源装置は、１以上の光ビームの光路上に、並進変
位調整可能なシリンドリカルレンズと、反射面が揺動調
整可能な揺動調整ミラーとが設けられており（請求項
７）、各光ビームの光路上に、並進変位調整可能なシリ
ンドリカルレンズ５Ａ、５Ｂと、反射面が揺動調整可能
な揺動調整ミラー４Ａ、４Ｂとが設けられている（請求
項８）。
査用光源装置は、１以上の光ビームの光路上に、並進変
位調整可能なシリンドリカルレンズと、反射面が揺動調
整可能な揺動調整ミラーとが設けられており（請求項
７）、各光ビームの光路上に、並進変位調整可能なシリ
ンドリカルレンズ５Ａ、５Ｂと、反射面が揺動調整可能
な揺動調整ミラー４Ａ、４Ｂとが設けられている（請求
項８）。
【００３９】さらに、光源の数が２であり、ビーム合成
手段６（６０）が、一方の光ビームの透過と、他方の光
ビームの反射によりビーム合成を行うプリズム光学素子
であり（請求項９）、プリズム光学素子は光ビームを
「光ビームの偏光状態に応じて透過または反射」させる
偏光プリズムであり（請求項１０）、一方の光ビームの
偏光方向を、他方の光ビームの偏光方向に直交させる波
長板６Ｂ（６０Ｂ）を有する（請求項１１）。
手段６（６０）が、一方の光ビームの透過と、他方の光
ビームの反射によりビーム合成を行うプリズム光学素子
であり（請求項９）、プリズム光学素子は光ビームを
「光ビームの偏光状態に応じて透過または反射」させる
偏光プリズムであり（請求項１０）、一方の光ビームの
偏光方向を、他方の光ビームの偏光方向に直交させる波
長板６Ｂ（６０Ｂ）を有する（請求項１１）。
【００４０】図１、図２のマルチビーム走査用光源装置
において、走査線ピッチを調整するには、例えば、以下
のようにする。即ち、まず、ミラー４Ａを揺動調整する
と共に、シリンドリカルレンズ５Ａを並進変位調整する
ことにより、光源１Ａからの光ビームが被走査面上に形
成する光スポットの（副走査方向の）位置を所定の基準
位置に設定する。
において、走査線ピッチを調整するには、例えば、以下
のようにする。即ち、まず、ミラー４Ａを揺動調整する
と共に、シリンドリカルレンズ５Ａを並進変位調整する
ことにより、光源１Ａからの光ビームが被走査面上に形
成する光スポットの（副走査方向の）位置を所定の基準
位置に設定する。
【００４１】この状態で、ミラー４Ｂを揺動調整し、且
つ、シリンドリカルレンズ５Ｂを並進変位調整すること
により、光源１Ｂからの光ビームが被走査面上に形成す
る光スポットの位置を、先に設定された「光源１Ａから
の光ビームの光スポット」位置に対して調整し、両光ス
ポットの副走査方向の間隔が所望の走査線ピッチになる
ようにする。
つ、シリンドリカルレンズ５Ｂを並進変位調整すること
により、光源１Ｂからの光ビームが被走査面上に形成す
る光スポットの位置を、先に設定された「光源１Ａから
の光ビームの光スポット」位置に対して調整し、両光ス
ポットの副走査方向の間隔が所望の走査線ピッチになる
ようにする。
【００４２】このようにする代わりに、光源１Ａからの
光ビームの光路上にあるミラー４Ａ、シリンドリカルレ
ンズ５Ａを固定とし、光源１Ａからの光ビームが形成す
る光スポットの副走査方向の位置を基準位置として一義
的に固定し、この基準位置に対して、光源１Ｂからの光
ビームの光スポットの位置を、ミラー４Ｂの揺動調整と
シリンドリカルレンズ５Ｂの並進変位調整とにより調整
して、所望の走査線ピッチを実現するようにしてもよ
い。
光ビームの光路上にあるミラー４Ａ、シリンドリカルレ
ンズ５Ａを固定とし、光源１Ａからの光ビームが形成す
る光スポットの副走査方向の位置を基準位置として一義
的に固定し、この基準位置に対して、光源１Ｂからの光
ビームの光スポットの位置を、ミラー４Ｂの揺動調整と
シリンドリカルレンズ５Ｂの並進変位調整とにより調整
して、所望の走査線ピッチを実現するようにしてもよ
い。
【００４３】あるいは、ミラー４Ａとシリンドリカルレ
ンズ５Ｂとを固定とし、シリンドリカルレンズ５Ａの併
進変位調整により「光源１Ａからの光ビームの光スポッ
トの位置」を基準位置に設定し、この基準位置に対し
て、光源１Ｂからの光ビームの光スポット位置を、ミラ
ー４Ｂの揺動調整により調整して所望の走査線ピッチを
得るようにしても良い。
ンズ５Ｂとを固定とし、シリンドリカルレンズ５Ａの併
進変位調整により「光源１Ａからの光ビームの光スポッ
トの位置」を基準位置に設定し、この基準位置に対し
て、光源１Ｂからの光ビームの光スポット位置を、ミラ
ー４Ｂの揺動調整により調整して所望の走査線ピッチを
得るようにしても良い。
【００４４】図１（図２）の実施の形態のマルチビーム
走査用光源装置を用いると、複数の光源１Ａ、１Ｂから
放射される複数の光ビームを共通の光偏向器１２により
同時に偏向させ、各偏向光束を共通の走査結像光学系に
より被走査面に導光し、被走査面上に、副走査方向へ互
いに分離した複数の光スポットを形成し、複数走査線を
同時に走査するマルチビーム走査において、被走査面上
の走査線間の間隔を調整する方法であって、各光ビーム
を個別的に別個のシリンドリカルレンズ５Ａ、５Ｂによ
り副走査方向へ集束させた状態で、ビーム合成手段６
（６０）へ導き、ビーム合成手段により合成された光ビ
ーム群を光偏向器１２の偏向反射面位置に導光し、偏向
反射面近傍に各光ビームごとに主走査方向に長い線像と
して結像させるようにし、１以上の光ビームの光路上に
ミラー４Ａ、４Ｂを配置し、このミラーの反射面の揺動
調整により光ビームの進行方向を副走査方向に偏向調整
し、シリンドリカルレンズ５Ａ、５Ｂの１以上を副走査
方向に並進変位調整することにより、被走査面上の走査
線間の間隔を調整する走査線ピッチ調整方法（請求項
１）を実施することができる。
走査用光源装置を用いると、複数の光源１Ａ、１Ｂから
放射される複数の光ビームを共通の光偏向器１２により
同時に偏向させ、各偏向光束を共通の走査結像光学系に
より被走査面に導光し、被走査面上に、副走査方向へ互
いに分離した複数の光スポットを形成し、複数走査線を
同時に走査するマルチビーム走査において、被走査面上
の走査線間の間隔を調整する方法であって、各光ビーム
を個別的に別個のシリンドリカルレンズ５Ａ、５Ｂによ
り副走査方向へ集束させた状態で、ビーム合成手段６
（６０）へ導き、ビーム合成手段により合成された光ビ
ーム群を光偏向器１２の偏向反射面位置に導光し、偏向
反射面近傍に各光ビームごとに主走査方向に長い線像と
して結像させるようにし、１以上の光ビームの光路上に
ミラー４Ａ、４Ｂを配置し、このミラーの反射面の揺動
調整により光ビームの進行方向を副走査方向に偏向調整
し、シリンドリカルレンズ５Ａ、５Ｂの１以上を副走査
方向に並進変位調整することにより、被走査面上の走査
線間の間隔を調整する走査線ピッチ調整方法（請求項
１）を実施することができる。
【００４５】また、図１（図２）のマルチビーム走査用
光源装置によれば、１以上の光ビームの光路上に、反射
面の揺動調整可能なミラーと、並進変位調整可能なシリ
ンドリカルレンズとを設け、１以上の光ビームによる光
スポット結像位置を副走査方向に調整する走査線ピッチ
調整方法（請求項２）、各光ビームの光路上に、反射面
の揺動調整可能なミラーと、並進変位調整可能なシリン
ドリカルレンズとを設け、各光ビームによる光スポット
結像位置を副走査方向に調整する走査線ピッチ調整方法
（請求項３）を実施することができる。
光源装置によれば、１以上の光ビームの光路上に、反射
面の揺動調整可能なミラーと、並進変位調整可能なシリ
ンドリカルレンズとを設け、１以上の光ビームによる光
スポット結像位置を副走査方向に調整する走査線ピッチ
調整方法（請求項２）、各光ビームの光路上に、反射面
の揺動調整可能なミラーと、並進変位調整可能なシリン
ドリカルレンズとを設け、各光ビームによる光スポット
結像位置を副走査方向に調整する走査線ピッチ調整方法
（請求項３）を実施することができる。
【００４６】上記走査線ピッチ調整方法においては、ミ
ラー４Ａ、４Ｂの反射面の揺動調整により粗調整を行
い、シリンドリカルレンズ５Ａ、５Ｂの並進変位調整に
より微調整を行うのが良い（請求項４）。上に説明した
実施の形態では、光源の数が２である（請求項５）が、
ビーム合成手段を工夫することにより、光源の数を３以
上とすることも可能である。
ラー４Ａ、４Ｂの反射面の揺動調整により粗調整を行
い、シリンドリカルレンズ５Ａ、５Ｂの並進変位調整に
より微調整を行うのが良い（請求項４）。上に説明した
実施の形態では、光源の数が２である（請求項５）が、
ビーム合成手段を工夫することにより、光源の数を３以
上とすることも可能である。
【００４７】従って、図４のマルチビーム走査装置にお
ける光源装置１０として、図１又は図２に示すものを用
いたものは、複数の光源から放射される複数の光ビーム
を共通の光偏向器１２により同時に偏向させ、各偏向光
束を共通の走査結像光学系１４、１６により被走査面１
８に導光し、被走査面１８上に、副走査方向へ互いに分
離した複数の光スポットを形成し、複数走査線を同時に
走査するマルチビーム走査装置であって、マルチビーム
走査用光源装置１０として、請求項６〜１１の任意の１
に記載のものを用いるマルチビーム走査装置（請求項１
２）である。
ける光源装置１０として、図１又は図２に示すものを用
いたものは、複数の光源から放射される複数の光ビーム
を共通の光偏向器１２により同時に偏向させ、各偏向光
束を共通の走査結像光学系１４、１６により被走査面１
８に導光し、被走査面１８上に、副走査方向へ互いに分
離した複数の光スポットを形成し、複数走査線を同時に
走査するマルチビーム走査装置であって、マルチビーム
走査用光源装置１０として、請求項６〜１１の任意の１
に記載のものを用いるマルチビーム走査装置（請求項１
２）である。
【００４８】ミラー４Ａ、４Ｂを揺動調整する方法や、
シリンドリカルレンズ５Ａ、５Ｂを並進変位調整する方
法は、公知の適宜の方法を利用することができるが、こ
れら揺動調性方法・並進変位調整方法の１例を、ミラー
４Ａ、シリンドリカルレンズ５Ａの調整を例にとって説
明する。
シリンドリカルレンズ５Ａ、５Ｂを並進変位調整する方
法は、公知の適宜の方法を利用することができるが、こ
れら揺動調性方法・並進変位調整方法の１例を、ミラー
４Ａ、シリンドリカルレンズ５Ａの調整を例にとって説
明する。
【００４９】図３（ａ）において、ミラー４Ａは、保持
具４１に保持されて鏡面に合致した揺動軸４０の回りに
揺動自在となっている。保持具４１と不動部材４２との
間には「圧縮性」のばね４３が介設され、ばねの段発力
によりミラー４Ａに反時計方向のモーメントを作用させ
ている。
具４１に保持されて鏡面に合致した揺動軸４０の回りに
揺動自在となっている。保持具４１と不動部材４２との
間には「圧縮性」のばね４３が介設され、ばねの段発力
によりミラー４Ａに反時計方向のモーメントを作用させ
ている。
【００５０】一方、不動部材４４に設けられた調整ねじ
４５の先端が保持具４１に当接し、上記モーメントによ
るミラー４Ａの回転を阻止している。調整ねじ４５の調
整により、ミラー４Ａの反射面態位を揺動調整すること
ができる。
４５の先端が保持具４１に当接し、上記モーメントによ
るミラー４Ａの回転を阻止している。調整ねじ４５の調
整により、ミラー４Ａの反射面態位を揺動調整すること
ができる。
【００５１】図３（ｂ）において、シリンドリカルレン
ズ５Ａは、その母線方向両端に凸設された係合部５０
Ａ、５０Ｂを、保持具５１のガイド溝に係合させること
により、保持具５１に対して副走査方向にのみ変位可能
となっている。
ズ５Ａは、その母線方向両端に凸設された係合部５０
Ａ、５０Ｂを、保持具５１のガイド溝に係合させること
により、保持具５１に対して副走査方向にのみ変位可能
となっている。
【００５２】保持具５１の底部には板ばね５２が設けら
れてシリンドリカルレンズ５Ａに上方へ向う弾性力を作
用させている。保持具５１の上部に設けられた調整ねじ
５３、５４は、その先端部をシリンドリカルレンズ５Ａ
の上端縁の２箇所に当接させている。調整ねじ５３、５
４の調整により、シリンドリカルレンズ５Ａを副走査方
向に並進変位調整することができる。
れてシリンドリカルレンズ５Ａに上方へ向う弾性力を作
用させている。保持具５１の上部に設けられた調整ねじ
５３、５４は、その先端部をシリンドリカルレンズ５Ａ
の上端縁の２箇所に当接させている。調整ねじ５３、５
４の調整により、シリンドリカルレンズ５Ａを副走査方
向に並進変位調整することができる。
【００５３】なお、図１の例において、半導体レーザ１
Ａ、１Ｂからの光ビームの中心光線は、ミラー４Ａ、４
Ｂの揺動軸上に入射する。また、図２の例においても、
半導体レーザ１Ａ、１Ｂからの光ビームの中心光線は、
シリンドリカルレンズ５Ａ、５Ｂが無いものとすればミ
ラー４Ａ、４Ｂの揺動軸上に入射する。
Ａ、１Ｂからの光ビームの中心光線は、ミラー４Ａ、４
Ｂの揺動軸上に入射する。また、図２の例においても、
半導体レーザ１Ａ、１Ｂからの光ビームの中心光線は、
シリンドリカルレンズ５Ａ、５Ｂが無いものとすればミ
ラー４Ａ、４Ｂの揺動軸上に入射する。
【００５４】
【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば、マルチビーム走査における新規な走査線ピッチ調整
方法、マルチビーム走査用光源装置およびマルチビーム
走査装置を実現できる。この発明のマルチビーム走査用
光源装置は、走査線ピッチ調整方法の実施により、容易
に走査線ピッチを調整できる。従って、マルチビーム走
査用光源装置を用いる，マルチビーム走査装置は所望の
走査線ピッチで良好なマルチビーム走査を実現できる。
ば、マルチビーム走査における新規な走査線ピッチ調整
方法、マルチビーム走査用光源装置およびマルチビーム
走査装置を実現できる。この発明のマルチビーム走査用
光源装置は、走査線ピッチ調整方法の実施により、容易
に走査線ピッチを調整できる。従って、マルチビーム走
査用光源装置を用いる，マルチビーム走査装置は所望の
走査線ピッチで良好なマルチビーム走査を実現できる。
【図１】マルチビーム走査用光学装置の実施の１形態を
説明するための図である。
説明するための図である。
【図２】マルチビーム走査用光学装置の実施の別形態を
説明するための図である。
説明するための図である。
【図３】ミラーの揺動調整、シリンドリカルレンズの並
進変位調整を説明するための図である。
進変位調整を説明するための図である。
【図４】マルチビーム走査装置を説明するための図であ
る。
る。
【符号の説明】 １Ａ、１Ｂ 半導体レーザ（光源） ２Ａ、２Ｂ カップリングレンズ ３ アパーチュア ４Ａ、４Ｂ ミラー ５Ａ、５Ｂ シリンドリカルレンズ ６ ビーム合成手段 １２ 回転多面鏡（光偏向器）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０４Ｎ 1/036 Ｂ４１Ｊ 3/00 Ｄ 1/113 Ｈ０４Ｎ 1/04 １０４Ａ Ｆターム(参考） 2C362 AA10 AA48 BA58 BA61 BA83 BA84 DA03 2H043 AD02 AD15 AD21 AD23 2H045 BA22 BA33 CA03 CA93 CA95 DA02 5C051 AA02 CA07 DA02 DB02 DB22 DB24 DB30 DC04 DE21 5C072 AA03 BA02 BA04 DA02 DA04 DA23 HA02 HA06 HA09 HA10 HA13 XA03 XA05
Claims (12)
- 【請求項１】複数の光源から放射される複数の光ビーム
を共通の光偏向器により同時に偏向させ、各偏向光束を
共通の走査結像光学系により被走査面に導光し、上記被
走査面上に、副走査方向へ互いに分離した複数の光スポ
ットを形成し、複数走査線を同時に走査するマルチビー
ム走査において、被走査面上の走査線間の間隔を調整す
る方法であって、 各光ビームを個別的に別個のシリンドリカルレンズによ
り副走査方向へ集束させた状態で、ビーム合成手段へ導
き、上記ビーム合成手段により合成された光ビーム群を
光偏向器の偏向反射面位置に導光し、偏向反射面近傍に
各光ビームごとに主走査方向に長い線像として結像させ
るようにし、 １以上の光ビームの光路上にミラーを配置し、このミラ
ーの反射面の揺動調整により上記光ビームの進行方向を
副走査方向に偏向調整し、前記シリンドリカルレンズの
１以上を副走査方向に並進変位調整することにより、被
走査面上の走査線間の間隔を調整することを特徴とする
走査線ピッチ調整方法。 - 【請求項２】請求項１記載の走査線ピッチ調整方法にお
いて、 １以上の光ビームの光路上に、反射面の揺動調整可能な
ミラーと、並進変位調整可能なシリンドリカルレンズと
を設け、上記１以上の光ビームによる光スポット結像位
置を副走査方向に調整することを特徴とする走査線ピッ
チ調整方法。 - 【請求項３】請求項２記載の走査線ピッチ調整方法にお
いて、 各光ビームの光路上に、反射面の揺動調整可能なミラー
と、並進変位調整可能なシリンドリカルレンズとを設
け、各光ビームによる光スポット結像位置を副走査方向
に調整することを特徴とする走査線ピッチ調整方法。 - 【請求項４】請求項１または２または３記載の走査線ピ
ッチ調整方法において、 ミラーの反射面の揺動調整により粗調整を行い、シリン
ドリカルレンズの並進変位調整により微調整を行うこと
を特徴とする走査線ピッチ調整方法。 - 【請求項５】請求項１〜４の任意の１に記載の走査線ピ
ッチ調整方法において、 光源の数が２であることを特徴とする走査線ピッチ調整
方法。 - 【請求項６】複数の光源から放射される複数の光ビーム
を共通の光偏向器により同時に偏向させ、各偏向光束を
共通の走査結像光学系により被走査面に導光し、上記被
走査面上に、副走査方向へ互いに分離した複数の光スポ
ットを形成し、複数走査線を同時に走査するマルチビー
ム走査において、ビーム合成機能と走査線ピッチ調整機
能とを有するマルチビーム走査用光源装置であって、 ｎ（≧２）個の光源と、 各光源からの光束を個別的にカップリングして光ビーム
とするｎ個のカップリングレンズと、 カップリングされた各光束を、マルチビーム走査用の光
ビーム群としてビーム合成するビーム合成手段と、 上記各カップリングレンズと上記ビーム合成手段との間
に配備され、光ビームを個別的に副走査方向へ集束させ
るｎ個のシリンドリカルレンズと、 １以上の光ビームの光路上において、カップリングレン
ズとビーム合成手段との間に設けられ、光ビームの進行
方向を副走査方向に偏向調整するべく、反射面の態位が
揺動調整可能な１以上のミラーとを有し、 上記ｎ個のシリンドリカルレンズの１以上を、副走査方
向に並進変位調整可能としたことを特徴とするマルチビ
ーム走査用光源装置。 - 【請求項７】請求項６記載のマルチビーム走査用光源装
置において、 １以上の光ビームの光路上に、並進変位調整可能なシリ
ンドリカルレンズと、反射面が揺動調整可能な揺動調整
ミラーとが設けられていることを特徴とするマルチビー
ム走査用光源装置。 - 【請求項８】請求項７記載のマルチビーム走査用調整装
置において、 各光ビームの光路上に、並進変位調整可能なシリンドリ
カルレンズと、反射面が揺動調整可能な揺動調整ミラー
とが設けられていることを特徴とするマルチビーム走査
用光源装置。 - 【請求項９】請求項６または７または８記載のマルチビ
ーム走査用光源装置において、 光源の数が２であり、ビーム合成手段が、一方の光ビー
ムの透過と、他方の光ビームの反射によりビーム合成を
行うプリズム光学素子であることを特徴とするマルチビ
ーム走査用光源装置。 - 【請求項１０】請求項９記載のマルチビーム走査用光源
装置において、 プリズム光学素子が光ビームを、光ビームの偏光状態に
応じて透過または反射させる偏光プリズムであることを
特徴とするマルチビーム走査用光源装置。 - 【請求項１１】請求項１０記載のマルチビーム走査用光
源装置において、 一方の光ビームの偏光方向を、他方の光ビームの偏光方
向に直交させる波長板を有することを特徴とするマルチ
ビーム走査用光源装置。 - 【請求項１２】複数の光源から放射される複数の光ビー
ムを共通の光偏向器により同時に偏向させ、各偏向光束
を共通の走査結像光学系により被走査面に導光し、上記
被走査面上に、副走査方向へ互いに分離した複数の光ス
ポットを形成し、複数走査線を同時に走査するマルチビ
ーム走査装置であって、 マルチビーム走査用光源装置として、請求項６〜１１の
任意の１に記載のものを用いることを特徴とするマルチ
ビーム走査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001072335A JP4592985B2 (ja) | 2001-03-14 | 2001-03-14 | マルチビーム走査における走査線ピッチ調整方法、マルチビーム走査用光源装置およびマルチビーム走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP2001072335A JP4592985B2 (ja) | 2001-03-14 | 2001-03-14 | マルチビーム走査における走査線ピッチ調整方法、マルチビーム走査用光源装置およびマルチビーム走査装置 |
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