JP2002267843A

JP2002267843A - 表示装置用基板

Info

Publication number: JP2002267843A
Application number: JP2001068728A
Authority: JP
Inventors: Sumitaka Tatsuta; 純隆龍田; Toshiaki Aono; 俊明青野; Kohei Arakawa; 公平荒川
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2001-03-12
Filing date: 2001-03-12
Publication date: 2002-09-18

Abstract

(57)【要約】【課題】軽量化・薄型化が容易で、衝撃に強く、平面
性、ＩＴＯ電極との密着性に優れ、製造が容易で、更
に、ガスバリヤ性に優れ、広帯域において高性能を示す
表示装置用基板の提供。【解決手段】波長４００〜７００ｎｍにおける平均光
透過率が７０％以上、ガラス転移点が１００℃以上、か
つ、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍにおけ
るレターデーション値をそれぞれＲｅ（４５０）、Ｒｅ
（５５０）及びＲｅ（６５０）としたとき、Ｒｅ（４５
０）＜Ｒｅ（５５０）＜Ｒｅ（６５０）を満たす位相差
板と、無機層状化合物及びポリマーを含むガスバリヤ層
と、を有することを特徴とする表示装置用基板である。
位相差板が、固有複屈折値が正の材料及び負の材料を含
有する態様、固有複屈折値が正の材料及び負の材料が、
ポリマーである態様等が好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、パソコン、ＡＶ機
器、携帯電話、情報通信機器、ゲームやシミュレーショ
ン機器、及び、車載用のナビゲーションシステム等、種
々の分野の表示装置、特に２端子素子型液晶表示装置、
３端子素子型液晶表示装置等に好適な液晶表示装置に用
いられる表示装置用基板に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、情報機器、通信機器等に、ＳＴＮ
型液晶表示装置、ＭＩＮ液晶表示装置、ＴＦＴ液晶表示
装置等が使用されている。これらの液晶表示装置用の基
板としては、厚み１ｍｍ以下のホウケイ酸ガラス板、ソ
ーダライムガラス板、無アルカリガラス板等が用いられ
ている。しかし、ガラス基板は、耐衝撃性が低く、落下
によって割れる等の問題があるため、プラスチック基板
で代替させるニーズが高い。

【０００３】しかし、プラチック基板は、ガラス基板に
比べ、酸素等に対するガスバリヤ性が低い。このため、
好適に液晶の性能を維持するためには、高いガスバリヤ
性が必要とされ、プラスチック基板にガスバリヤ性を付
与する技術が種々検討されている。

【０００４】例えば、特許第３０５４２３５号公報で
は、ガスバリヤ層として、ポリ塩化ビニル、ポリエステ
ル、ポリアクリロニトリル、ビニルアルコール及びその
共重合体等の樹脂で形成された層や、二酸化珪素等の無
機化合物等の蒸着層等が開示されている。また、特許第
３０５９８６６号には、厚み０．００１５〜０．２５ｍ
ｍの超薄ガラスをプラスチックに貼り付ける方法が開示
されている。

【０００５】しかし、ポリビニルアルコール等の有機物
で、所望のガスバリヤ性を有する層を形成するには、厚
い層を形成することが必要とされる。又、湿度によって
ガスバリヤ特性が大きく影響を受ける。無機化合物を用
いれば、層の厚みを薄くすることはできるが、応力が加
わるとひびが入る等の問題、高コストになる問題等があ
る。超薄ガラスを用いる場合には、超薄ガラスが割れ易
く、歩留まり良く貼合することが技術的に困難であり、
高コストになる問題等がある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来に
おける諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課
題とする。即ち、本発明は、軽量化・薄型化が容易で、
衝撃に強く、平面性、ＩＴＯ電極との密着性に優れ、製
造が容易で、更に、ガスバリヤ性に優れ、広帯域におい
て高性能を示す表示装置用基板を提供することを目的と
する。

【０００７】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の手段としては、以下の通りである。＜１＞波長４００〜７００ｎｍにおける平均光透過率
が７０％以上、ガラス転移点が１００℃以上、かつ、波
長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍにおけるレタ
ーデーション値をそれぞれＲｅ（４５０）、Ｒｅ（５５
０）及びＲｅ（６５０）としたとき、Ｒｅ（４５０）＜
Ｒｅ（５５０）＜Ｒｅ（６５０）を満たす位相差板と、
無機層状化合物及びポリマーを含むガスバリヤ層と、を
有することを特徴とする表示装置用基板である。

【０００８】＜２＞位相差板が、固有複屈折値が正の
材料及び負の材料を含有する前記＜１＞に記載の表示装
置用基板である。＜３＞固有複屈折値が正の材料及び負の材料が、ポリ
マーである前記＜２＞に記載の表示装置用基板である。＜４＞位相差板の、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び
６５０ｎｍにおけるレターデーション（Ｒｅ）／波長
（λ）の値が、０．２〜０．３である前記＜１＞から＜
３＞のいずれかに記載の表示装置用基板である。

【０００９】＜５＞無機層状化合物が、合成雲母であ
る前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の表示装置用
基板である。＜６＞ガスバリヤ層の上に、ハードコート層及び密着
層の少なくともいずれかを有する前記＜１＞から＜５＞
のいずれかに記載の表示装置用基板である。＜７＞ハードコート層及び密着層の少なくともいずれ
かの上に、透明導電層を有する前記＜６＞に記載の表示
装置用基板である。

【００１０】＜８＞ハードコート層及び密着層の少な
くともいずれかと、透明導電層と、の間にカラーフィル
ターを有する前記＜７＞に記載の表示装置用基板であ
る。＜９＞無機層状化合物のアスペクト比が、２０以上で
ある前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の表示装置
用基板である。＜１０＞無機層状化合物のアスペクト比が、１００以
上である前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の表示
装置用基板である。＜１１＞ポリマーが、水溶性ポリマーである前記＜１
＞から＜１０＞のいずれかに記載の表示装置用基板であ
る。＜１２＞ポリマーが、モノマー単位として、ビニルア
ルコールを７０％以上含有するポリビニルアルコール及
びその変性体から選択される少なくとも１種を含む前記
＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載の表示装置用基板
である。＜１３＞ポリマーが、カルボキシル変性ポリビニルア
ルコール、シラノール変性ポリビニルアルコール、及
び、エポキシ変性ポリビニルアルコールから選択される
少なくとも１種を含む前記＜１＞から＜１２＞のいずれ
かに記載の表示装置用基板である。＜１４＞ポリマーが、ゼラチンを含む前記＜１＞から
＜１３＞のいずれかに記載の表示装置用基板である。＜１５＞ガスバリヤ層の酸素透過率（温度４０℃、湿
度９０％）が、０．５ｍｌ／ｍ^２・ａｔｍ・ｄａｙ以下
である前記＜１＞から＜１４＞のいずれかに記載の表示
装置用基板である。

【００１１】本発明の表示装置用基板は、前記位相差板
と、前記ガスバリヤ層と、を有する。該ガスバリヤ層
は、無機層状化合物及びポリマーを含む。該無機層状化
合物は、多数の薄片に劈開し、該薄片が、該ガスバリヤ
層の厚み方向と略直交する方向に、互いにずれた状態で
層状に重なり合って分散している。また、無機層状化合
物は、それ自体ガスバリヤ性に優れる。従って、ガスが
前記ガスバリヤ層を透過するためには、該ガスバリヤ層
の一方の面から層に進入し、一旦、層状に多数分散した
無機層状化合物の片の層壁に沿って層中を進行した後、
層壁端部で層中を厚み方向に進行することを繰り返し
て、ガスバリヤ層の他の面まで到達することにより透過
する必要がある。このため、ガスがガスバリヤ層を透過
するためには、ガスバリヤ層中で、ガスバリヤ層の厚み
方向の距離に比べて相当長い距離を進行する必要があ
る。その結果、ガスは、該ガスバリヤ層を殆ど透過する
ことなく、本発明における表示装置用基板は、ガスバリ
ヤ性に優れる。

【００１２】また、前記ガスバリヤ層においては、前記
無機層状化合物は、前記ポリマー間に好適に分散され、
一般的な塗布方法により形成可能である。このため、ひ
び割れ等の強度面の問題が無く、又、製造が容易で生産
性が高く低コストで得られる。

【００１３】この結果、前記無機層状化合物をガスバリ
ヤ層に含ませることにより、軽量化・薄型化が容易で、
ひび等の衝撃に強く、平面性、ＩＴＯ電極との密着性が
高く、製造が容易で、更に、ガスバリヤ性に優れ、広帯
域において高性能を示す表示装置用基板の提供が可能と
なる。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の表示装置用基板を
詳細に説明する。本発明の表示装置用基板は、位相差板
と、ガスバリア層と、を有し、必要に応じてその他の部
材を有する。

【００１５】［ガスバリヤ層］前記ガスバリヤ層は、無
機層状化合物及びポリマーを含み、必要に応じてその他
の成分を含有する。

【００１６】−無機層状化合物− 前記無機層状化合物は、１０〜１５オングストロームの
厚さの単位結晶格子層を含む積層構造を有し、格子内金
属原子置換が他の粘土鉱物より著しく大きい。このた
め、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償するために
層間に陽イオンを吸着し介在させている。これら層間に
介在している陽イオン（交換性陽イオン）は、種々の陽
イオンと交換される。特に、陽イオンのイオン半径が小
さいと層状結晶格子間の結合が弱いため、水等により大
きく膨潤する。膨潤した状態で無機層状化合物にシェア
ーをかけると容易に劈開し、水中で安定したゾルを形成
する。

【００１７】前記無機層状化合物において、前記層間に
介在する陽イオン（交換性陽イオン）は、Ｎａ^＋、Ｃａ
^２＋、Ｍｇ^２＋等であり、該陽イオンが、Ｌｉ^＋、Ｎａ
^＋の場合には、イオン半径が小さいため、層状結晶格子
間の結合が弱く、水中で大きく膨潤し、本発明に好まし
く用いられる。

【００１８】前記無機層状化合物としては、天然スメク
タイト、合成スメクタイト等のスメクタイト、膨潤性合
成雲母、バーミキュライト等の膨潤性の無機層状化合物
が特に好適に挙げられる。

【００１９】前記スメクタイトは、中心にＳｉが入った
Ｓｉ−Ｏ四面体が平面に広がった四面体シートと、Ａ
ｌ、Ｍｇ等の金属原子が中心に入った八面体シートと、
が２：１で構成された構造を有する。

【００２０】前記スメクタイトにおいて、四面体型では
ＳｉがＡｌに置換された構造、八面体型ではＡｌがＭｇ
に置換された構造となっているため、スメクタイトの結
晶層は、プラス電荷が不足し、表面荷電がマイナスとな
っている。前者の場合、四面体置換型（四面体荷電体）
であり、例えば、バイデライト、ノントロナイト、ボル
コンスコアイト、サポナイト、等が挙げられる。後者の
場合、八面体置換型（八面体荷電型）であり、例えば、
モンモリロナイト、ヘクトライト、スチーブンサイト等
が挙げられる。

【００２１】前記スメクタイトのうち、天然スメクタイ
トとしては、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトラ
イト、等が製品化されている。合成スメクタイトとして
は、サポナイト、ヘクトライト、スチーブンサイト、等
が製品化されている。

【００２２】前記膨潤性の無機層状化合物としては、一
般式Ａ（Ｂ，Ｃ）_２−３Ｓｉ_４Ｏ_１ _０（ＯＨ，Ｆ，Ｏ）
_２［但し、Ａは、Ｎａ及びＬｉの何れか、Ｂ及びＣは、
Ｍｇ及びＬｉの何れかである］等で表される。

【００２３】前記膨潤性合成雲母としては、例えば、Ｎ
ａテトラシックマイカＮａＭｇ_２． _５（Ｓｉ_４Ｏ_１０）
Ｆ_２、Ｎａ又はＬｉテニオライト（ＮａＬｉ）Ｍｇ_２Ｌ
ｉ（Ｓｉ_４Ｏ_１０）Ｆ_２、Ｎａ又はＬｉヘクトライト
（ＮａＬｉ）_１／３Ｍｇ_２／３Ｌｉ_１／３（Ｓｉ_４Ｏ
_１０）Ｆ_２、等が挙げられる。

【００２４】前記無機層状化合物の中でも、水による膨
潤度が大きく、水中で容易に劈開し安定したゾルを形成
し易い点で、ベントナイト、膨潤性合成雲母等が好まし
く、特に、膨潤性合成雲母が好適である。

【００２５】−ポリマー− 前記ポリマーとしては、前記無機層状化合物が、前記ガ
スバリヤ層に好適に分散可能であれば特に制限はない
が、前記無機層状化合物の表面が親水的であるため、該
無機層状化合物の分散性の観点から、水溶性ポリマーが
好ましく、例えば、ゼラチン及びその誘導体、ゼラチン
と他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミン、カゼ
イン等の蛋白質；ヒドロキシエチルセルロース、カルボ
キシメチルセルロース、セルロース硫酸エステル類等の
ようなセルロース誘導体；アルギン酸ソーダ、プルラ
ン、澱粉誘導体等の糖誘導体；ポリビニルアルコール及
びその変性体（カルボキシ変性ポリビニルアルコール、
シラノール変性ポリビニルアルコール、エポキシ変性ポ
リビニルアルコール等）、エチレン−ビニルアルコール
共重合体（ＥＶＡＬ）等のビニルアルコールと他の単量
体との共重合体、ポリビニルアルコール部分アセター
ル、ポリ−Ｎ−ビニルピロリドン、等のポリビニル系；
ポリアクリル酸系；ナイロン等のポリアミド系；ポリメ
タクリル酸系；ポリアクリルアミド等の単一体あるいは
共重合体；等、多種の合成の親水性高分子物質等が挙げ
られる。

【００２６】前記ポリマーとしては、重合体ラテックス
（又はエマルジョン）として水に分散させ用いることも
できる。前記重合体ラテックスを構成する単量体として
は、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、クロ
トン酸エステル、ビニルエステル、マレイン酸ジエステ
ル、フマル酸ジエステル、イタコン酸ジエステル、アク
リルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエーテル
類、スチレン類、塩化ビニリデン類、アクリロニトリル
類、ビニルアセタール類、等が挙げられる。

【００２７】これらの単量体について更に具体例を示す
と、前記アクリル酸エステルとしては、メチルアクリレ
ート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレー
ト、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレー
ト、イソブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリ
レート、ヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルア
クリレート、アセトキシエチルアクリレート、フェニル
アクリレート、２−メトキシアクリレート、２−エトキ
シアクリレート、２−（２−メトキシエトキシ）エチル
アクリレート等が挙げられる。

【００２８】前記メタクリル酸エステルとしては、メチ
ルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピ
ルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、ｔｅｒ
ｔ−ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレ
ート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−エト
キシエチルメタクリレート、等が挙げられる。

【００２９】前記クロトン酸エステルとしては、クロト
ン酸ブチル、クロトン酸ヘキシル等が挙げられる。前記
ビニルエステルとしては、ビニルアセテート、ビニルプ
ロピオネート、ビニルブチレート、ビニルメトキシアセ
テート、安息香酸ビニル等が挙げられる。

【００３０】前記マレイン酸ジエステルとしては、マレ
イン酸ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブ
チル等が挙げられる。前記フマル酸ジエステルとして
は、フマル酸ジエチル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジ
ブチル等が挙げられる。前記イタコン酸ジエステルとし
ては、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジメチル、イタ
コン酸ジブチル等が挙げられる。

【００３１】前記アクリルアミド類としては、アクリル
アミド、メチルアクリルアミド、エチルアクリルアミ
ド、プロピルアクリルアミド、ｎ−ブチルアクリルアミ
ド、ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、シクロヘキシル
アクリルアミド、２−メトキシエチルアクリルアミド、
ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、フ
ェニルアクリルアミド、等が挙げられる。

【００３２】前記メタクリルアミド類としては、メチル
メタクリルアミド、エチルメタクリルアミド、ｎ−ブチ
ルメタクリルアミド、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリルアミ
ド、２−メトキシメタクリルアミド、ジメチルメタクリ
ルアミド、ジエチルメタクリルアミド等が挙げられる。
前記ビニルエーテル類としては、メチルビニルエーテ
ル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、
メトキシエチルビニルエーテル、ジメチルアミノエチル
ビニルエーテル等が挙げられる。

【００３３】前記スチレン類としては、スチレン、メチ
ルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、
エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン、メトキシスチレン、ブトキ
シスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジ
クロロスチレン、ブロモスチレン、ビニル安息香酸メチ
ルエステル、２−メチルスチレン等が挙げられる。

【００３４】これらの単量体により構成される重合体ラ
テックスとしては、単独重合体でもよく、共重合体でも
よいが、製膜性、透明性、及びガスバリヤ性の点で、ア
クリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、スチレ
ン類、アクリル酸、メタクリル酸の二元又は三元共重合
体、スチレン類とブタジエンとの共重合体、ポリ塩化ビ
ニリデン類、ポリエステル類、ポリビニルアセタール
類、ポリアクリロニトリル類、等が特に好適である。

【００３５】前記ポリマーとしては、その屈折値が、分
散させる無機層状化合物の屈折値と近いのが好ましく、
例えば、無機層状化合物として、膨潤性の合成雲母（屈
折値：約１．５３）を用いた場合、併用して用いるポリ
マーとしては、ゼラチン（屈折値：１．５３〜１．５
４）が特に好ましい。ゼラチンを用いた場合、塗布・冷
却によりゲル化させてガスバリヤ層を形成するため、得
られるガスバリヤ層は、かぜムラ等が無く、光学特性に
優れる。また、ガスバリヤ性にも優れる。

【００３６】前記ゼラチンとしては、石灰処理ゼラチン
のほか、酸処理ゼラチン、ゼラチン加水分解物、ゼラチ
ン酵素分散物等が挙げられる。ゼラチン誘導体として
は、ゼラチンに、例えば酸ハライド、酸無水物、イソシ
アナート類、ブロモ酢酸、アルカンサルトン類、ビニル
スルホンアミド類、マレインイミド化合物類、ポリアル
キレンオキシド類、エポキシ化合物類等、種々の化合物
を反応させて得られるもの等が挙げられる。

【００３７】前記ガスバリヤ層の形成においては、前記
ポリマーと架橋する架橋剤を用いるのが好ましく、該ポ
リマーは、官能基として、カルボキシル基、アミノ基、
アンモニウム塩基、ヒドロキシ基、スルフィン基（又は
その塩）基、スルホン酸（又はその塩）基、あるいはグ
リシジル基から選ばれる少なくとも１種の官能基を有す
るのが好ましい。

【００３８】前記架橋剤としては、例えば、ビニルスル
ホン系化合物、アルデヒド系化合物（ホルムアルデヒ
ド、グルタールアルデヒド等）、エポキシ系化合物、オ
キサジン系化合物、トリアジン系化合物、特開昭６２−
２３４１５７号公報に記載の高分子硬膜剤、メチル化メ
ラミン、ブロックドイソシアネート、メチロール化合
物、カルボジイミド樹脂等が挙げられる。

【００３９】これらの架橋剤の中でも、ビニルスルホン
系化合物、アルデヒド系化合物、エポキシ系化合物、オ
キサジン系化合物、トリアジン系化合物、特開昭６２−
２３４１５７号公報に記載の高分子硬膜剤等が好適であ
る。

【００４０】前記架橋剤の具体例を以下に示す。前記エ
ポキシ系化合物としては、２官能以上のものが挙げら
れ、例えば、ジブロモフェニルグリシジルエーテル、ジ
ブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、
エポキシクレゾールノボラック樹脂のエマルジョン、変
性ビスフェノールＡ型エポキシエマルジョン、アジピン
酸ジグリシジルエステル、ｏ−フタール酸ジグリシジル
エステル、ハイドロキノンジグリシジルエーテル、ビス
フェノールＳグリシジルエーテル、テレフタル酸ジグリ
シジルエーテル、グリシジルフタルイミド、プロピレン
ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリ
テトラメチレングリコールジグリシジルエーテル、アリ
ルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジル
エーテル、フェニルグリシジルエーテル、

【００４１】フェノール（ＥＯ）_５、グリシジルエーテ
ル、ｐ−ターシャリブチルフェニルグリシジルエーテ
ル、ラウリルアルコール（ＥＯ）_１５グリシジルエーテ
ル、炭素数１２〜１３のアルコール混合物のグリシジル
エーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、トリ
メチロールプロパンポリグリシジルエーテル、レゾルシ
ンジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグ
リシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシ
ジルエーテル、エチレンポリエチレングリコールジグリ
シジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテ
ル、ソルビタンポリグリシジルエーテル、ポリグリセロ
ールポリグリシジルエーテル、

【００４２】ペンタエリスリトールポリグリシジルエー
テル、ジグリセロールポリグリシジルエーテル、トリグ
リシジル−トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート等が挙げられ、これらのエポキシ系化合物の中で
も、特にグリシジルエーテル類が好適である。

【００４３】前記エポキシ系化合物における、エポキシ
当量としては、７０〜１０００ＷＰＥが好ましい。前記
エポキシ当量が、１０００ＷＰＥを超えると、耐水性を
付与するのが困難となることがある。

【００４４】前記ブロックドイソシアネートとは、イソ
シアネートの末端イソシアネート基をブロック剤でマス
キングした化合物をいう。該ブロックドイソシアネート
としては、例えば、（ａ）イソシアネート化合物の末端
にカルバモイル・スルホネート基（−ＮＨＣＯＳＯ
_３−）からなる親水性基のブロック体が形成され、活性
イソシアネート基をブロックしたもの、（ｂ）イソプロ
ピリデンマロネートを用いて活性イソシアネート基をブ
ロックしたもの（このブロックドイソシアネートは、Ｈ
ＤＩイソシアヌレートとイソプロピリデンマロネートと
トリエチルアミンとの反応で得られる。）、（ｃ）フェ
ノール類で活性イソシアネート基をブロックしたもの、
等が挙げられる。

【００４５】前記ブロックドイソシアネートは、例え
ば、前記シラノール変性ポリビニルアルコールと混合、
加熱することによりシラノール変性ポリビニルアルコー
ルを架橋改質して、シラノール変性ポリビニルアルコー
ルの耐水化が図られる。

【００４６】更に、ビニルスルホン化合物としては、特
開昭５３−５７２５７号、特開昭５３−４１２２２１
号、特公昭４９−１３５６３号、及び、特公昭４７−２
４２５９号の各公報に掲載されているもの等が挙げられ
る。

【００４７】前記アルデヒド系化合物としては、ホルム
アルデヒド、アセトアルデヒド等のモノアルデヒド、グ
リオキザール、グルタルアルデヒド、ジアルデヒドデン
プン（ジアルデヒドスターチ）等の多価アルデヒド等が
挙げられる。前記メチロール化合物としては、メチロー
ルメラミン、ジメチロール尿素等が挙げられる。

【００４８】前記ポリマーとして、シラノール変性ポリ
ビニルアルコールを用いる場合、前記架橋剤としては、
前記アルデヒド系化合物が特に好適である。

【００４９】前記架橋剤の、前記ポリマーに対する配合
量としては、該ポリマー１００質量部に対し、１〜５０
質量部が好ましい。前記配合量が、１質量部未満である
と、架橋改質効果の程度が低く、耐水性及び耐薬品性が
不充分となることがある一方、５０質量部を超えると、
液安定性が低下することがある。

【００５０】前記ポリマーとしては、前記無機層状化合
物の表面が疎水化処理されている場合には、疎水性ポリ
マーを好適に用いることができる。該無機層状化合物
は、前述のように表面がマイナスに荷電しているため、
カチオン性基を有する化合物を吸着する。従って、疎水
性基を有するカチオン性化合物、例えば、四級塩界面活
性剤を表面に吸着させ、表面を疎水化することができる
（特開平６−２８７０１４号公報）。このように表面疎
水化された膨潤性の無機層状化合物は、その疎水性基と
親和性のある有機溶剤により膨潤される。

【００５１】前記疎水性ポリマーとしては、公知の疎水
性ポリマー、例えば、塩化ビニリデン樹脂、塩化ビニル
樹脂、アクリロニトリル系樹脂、ナイロン系樹脂、ポリ
エステル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン
樹脂、フェノール樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹
脂、スチレーロ樹脂、ジアリルフタレート樹脂、エポキ
シ樹脂、ポリアセタール樹脂、等が挙げられる。

【００５２】以上述べたポリマーとしては、ガスバリヤ
性の高いものが好ましく、ポリビニルアルコール及びそ
の変性体、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶ
ＡＬ）、ナイロン系樹脂、塩化ビニリデン樹脂、アクリ
ロニトリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、ゼラチン及びその誘導体等が好適に挙げら
れ、特に、ガスバリヤ性の点で、モノマー単位として、
ビニルアルコールを７０％以上含有するポリビニルアル
コール及びその変性体、塩化ビニリデン樹脂、が好まし
い。前記ポリビニルアルコールの中では、隣接層との密
着性の点からは、カルボキシル変性ポリビニルアルコー
ル、シラノール変性ポリビニルアルコール、及び、エポ
キシ変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。耐水性
の点からは、エチレン−ビニルアルコール共重合体（Ｅ
ＶＡＬ）、シラノール変性ポリビニルアルコール、疎水
性基変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。水不溶
性のものは、前記重合体ラテックス（又はエマルジョ
ン）として用いるのが好ましい。

【００５３】＜ガスバリヤ層の特性・製法等＞前記ガス
バリヤ層における、前記無機層状化合物の大きさとして
は、厚みで１〜５０ｎｍが好ましく、２〜１０ｎｍがよ
り好ましい。面サイズとしては、２０〜２００，０００
ｎｍが好ましく、４０〜２０，０００ｎｍがより好まし
い。アスペクト比としては、１０〜５，０００が好まし
く、２０〜５，０００がより好ましく、４０〜３，００
０が更に好ましく、１００〜３，０００が特に好まし
い。該アスペクト比が、１０未満であると、ガスバリヤ
性が劣ることがある。

【００５４】前記ガスバリヤ層における、前記無機層状
化合物の含有量としては、１０〜３００ｍｇ／ｍ^２が好
ましく、２０〜２００ｍｇ／ｍ^２がより好ましく、３０
〜１５０ｍｇ／ｍ^２が更に好ましい。前記無機層状化合
物の含有量が、１０ｍｇ／ｍ^２未満であると、ガスバリ
ヤ性が充分でないことがある一方、３００ｍｇ／ｍ^２を
超えると、透明性、ヘイズの増加等が発生することがあ
る。

【００５５】前記ガスバリヤ層の酸素透過率（温度：４
０℃、湿度９０％）としては、０．５ｍｌ／ｍ^２・ａｔ
ｍ・ｄａｙ以下が好ましく、０．２ｍｌ／ｍ^２・ａｔｍ
・ｄａｙ以下がより好ましい。前記酸素透過率が、前記
数値範囲内であれば、充分なガスバリヤ性を有するガス
バリヤ層となる。尚、前記酸素透過率は、ガス透過率測
定装置（モコン社製）により求めた値である。

【００５６】前記ガスバリヤ層は、水等の溶媒を攪拌し
ながら、前記膨潤性の無機層状化合物を添加して充分水
等になじませ、無機層状化合物を膨潤させた後、分散機
にて分散させ、塗布等により形成する。これを、前記ポ
リマーの分散物中に添加し攪拌した後、前記位相差板上
に塗布する方法等により、形成することができる。

【００５７】前記無機層状化合物は、表面が親水的であ
るため、水中で容易に膨潤しシェアーをかけることによ
り容易に分散する。この時、水混和性の有機溶媒、例え
ば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロ
パノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール
等のアルコール類のほか、ジメチルスルホキサイド、ジ
メチルホルムアミド、アセトン等を所望により加えるこ
とができる。

【００５８】また、表面を四級塩界面活性剤等により疎
水化処理した膨潤性の無機層状化合物を用いる場合、前
記ガスバリヤ層は、疎水化処理した無機層状化合物を、
トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、セセトン、
メチルイソブチルケトン、プロパノール、イソプロパノ
ール、四級塩炭素、パークロロエチレン、メチルセロソ
ルブ、ジメチルホルムアミド、等の有機溶媒に充分なじ
ませ、膨油させた後、分散機にて分散し、塗布等により
形成される。

【００５９】前記分散機としては、機械的に直接力を加
えて分散する各種ミル等の分散機、大きな剪断力を有す
る高速攪拌型分散機、高強度の超音波エネルギーを与え
る分散機等がある。具体的には、ボールミル、サンドグ
ラインダーミル、ビスコミル、コロイドミル、ホモジナ
イザーディゾルバー、ポリトロン、ホモミキサー、ホモ
ブレンダーケディミル、ジェットアジター、毛細管式乳
化装置、液体サイレン、電磁歪式超音波発生機、ポール
マン笛を有する乳化装置等がある。前記分散機により分
散され得られた分散物は、高粘度或いはゲル状であり、
保存安定性は極めて良好である。塗布液に添加する際
は、水又は溶剤で希釈し充分攪拌した後添加する。

【００６０】前記ガスバリヤ層の厚みとしては、０．１
〜１０μｍが好ましく、１〜２μｍがより好ましい。前
記厚みが、０．１μｍ未満であると、ガスバリヤ性が充
分でないことがある一方、１０μｍを超えると、薄型化
・軽量化の点で充分でないことがある。

【００６１】［位相差板］前記位相差板は、波長４５０
ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍにおけるレターデーシ
ョン値をそれぞれＲｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）及び
Ｒｅ（６５０）としたとき、Ｒｅ（４５０）＜Ｒｅ（５
５０）＜Ｒｅ（６５０）を満たす。換言すれば、前記レ
ターデーション値と波長とが正の相関関係を有すること
が必要である。該相関関係を有することにより、可視光
域の入射光に対し一定の位相差特性を有し、白黒化、カ
ラー化等が容易となる。また、前記位相差板は、波長４
００〜７００ｎｍにおける平均光透過率が７０％以上、
ガラス転移点が１００℃以上であることが必要である。

【００６２】前記位相差板の、波長４５０ｎｍ、５５０
ｎｍ及び６５０ｎｍにおけるレターデーション（Ｒｅ）
／波長（λ）の値としては、用いる液晶の性質等により
多少変動することがあるが、０．２〜０．３が好まし
く、０．２３〜０．２７がより好ましく、０．２４〜
０．２６が更に好ましい。前記レターデーション（Ｒ
ｅ）／波長（λ）の値が、前記数値範囲内であれば、可
視光全域の入射光に対して、より均一な位相差特性を有
する広帯域１／４位相差板となる。

【００６３】＜位相差板の態様＞前記位相差板の態様と
しては、固有複屈折値が正の材料及び負の材料を含有す
る第一の態様、固有複屈折値が正の材料からなる層及び
負の材料からなる層の積層体を含む第二の態様、固有複
屈折値が正の部位及び負の部位を有する材料を含有する
第三の態様、WO００／２６７０５号公報記載の材料を用
いる第四の態様、酢酸セルロースを利用した第五の態様
等の、一枚で広帯域における１／４波長板特性を有する
材料も有効に利用可能であるが、本発明においては、固
有複屈折値が正及び負の組み合わせを有するのが、光弾
性が小さく、特に好ましい。

【００６４】＜＜第一の態様＞＞第一の態様は、前記位
相差板が、固有複屈折値が正の材料及び負の材料を含有
（「同一層中に含有」を意味する。）し、必要に応じて
その他の成分を含有する態様である。 −−固有複屈折値が正の材料−− 前記固有複屈折値が正の材料は、分子に一軸性の配向規
則を与えたときに、光学的に正の一軸性を示す特性を有
する材料であり、ポリマー、棒状液晶、棒状液晶ポリマ
ーなどがその例として挙げられる。これらは、１種単独
で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。本発
明においては、これらの中でも固有複屈折値が正のポリ
マーが好ましい。

【００６５】前記固有複屈折値が正の材料において、前
記固有複屈折値が正のポリマーとしては、ポリオレフィ
ン系ポリマー（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ノルボルネン系ポリマーなど）、ポリエステル系ポ
リマー（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブ
チレンテレフタレートなど）、ポリアリーレンサルファ
イド系ポリマー（例えば、ポリフェニレンサルファイド
など）、ポリビニルアルコール系ポリマー、ポリカーボ
ネート系ポリマー、ポリアリレート系ポリマー、セルロ
ースエステル系ポリマー（前記固有複屈折値が負である
ものもある）、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリ
スルホン系ポリマー、ポリアリルスルホン系ポリマー、
ポリ塩化ビニル系ポリマー、あるいはこれらの多元（二
元、三元等）共重合ポリマーなどが挙げられる。これら
は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用して
もよい。本発明においては、これらの中でも、変性ポリ
カーボネート等のポリカーボネート系、ノルボルネン
系、ポリエーテルスルホン系等のポリマーが、耐熱性、
透明性等の点で好ましい。

【００６６】前記棒状液晶としては、棒状のネマチック
配向を示す液晶が好適に挙げられ、低分子液晶であって
もよいし、高分子液晶であってもよい。前記低分子液晶
の具体例としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノ
ビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エ
ステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル
類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェ
ニルピリジン類、フェニルジオキサン類、トラン類、ア
ルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類、などが好適
に挙げられる。

【００６７】−−固有複屈折値が負の材料−− 前記固有複屈折値が負の材料は、分子に一軸性の配向規
則を与えたときに、光学的に負の一軸性を示す特性を有
する材料であり、ポリマー、ディスコティック液晶、デ
ィスコティック液晶ポリマーなどがその例として挙げら
れる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以
上を併用してもよい。本発明においては、これらの中で
も固有複屈折値が負のポリマーが好ましい。

【００６８】前記固有複屈折値が負の材料において、前
記固有複屈折値が負のポリマーとしては、ポリスチレン
系ポリマー、ポリアクリロニトリル系ポリマー、ポリメ
チルメタクリレート系ポリマー、酢酸セルロース系等の
セルロースエステル系ポリマー（前記固有複屈折値が正
であるものもある）、あるいはこれらの多元（二元、三
元等）共重合ポリマーなどが挙げられる。これらは、１
種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよ
い。本発明においては、これらの中でも、複屈折の発現
性の点で、スチレン系ポリマー等が好ましく、特に耐熱
性の点で、スチレン及び無水マレイン酸の共重合体がよ
り好ましい。

【００６９】前記固有複屈折値が正の材料及び負の材料
としては、波長分散が互いに大きく異なるのが好まし
く、また、前記レターデーション（Ｒｅ）の発現性が共
に大きいのが好ましい。

【００７０】前記固有複屈折値が負で、レターデーショ
ン（Ｒｅ）の発現性が大きい材料としては、スチレン系
素材が特に好適に挙げられる。スチレン系素材は波長分
散が大きいため、組み合わせる固有複屈折値が正の材料
としては、前記波長分散が小さい材料が好適に用いられ
る。前記波長分散が小さい材料としては、オレフィン
系、ポリビニルアルコール系、等のポリマーが挙げられ
るが、耐熱性、寸度安定性等の点から、ノルボルネン系
ポリマー等のシクロオレフィン系ポリマーが特に好適で
ある。

【００７１】−−その他の成分−− 前記位相差板に含有されるその他の成分としては、本発
明の効果を害しない限り特に制限はなく、目的に応じて
適宜選択することができ、例えば相溶化剤などが好適に
挙げられる。前記相溶化剤は、前記固有複屈折値が正の
材料と負の材料とを混合した際に相分離が生じてしまう
場合等に好適に使用することができ、該相溶化剤を使用
することによって、前記固有複屈折値が正の材料と負の
材料との混合状態を良好にすることができる。

【００７２】−−第一の態様における位相差板の製造−
− 前記第一の態様における位相差板の製造方法としては、
特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ
る。例えば、前記固有複屈折値が正の材料と負の材料と
を、適宜選択し、配合比を決定し、必要により前記相溶
化剤等を添加し、これらを配合する。その後、この配合
物を溶液化して塗布し乾燥することにより成形する溶液
成膜法、あるいはペレット化し溶融押出しして成形する
押出成形法、等に従ってフィルム状乃至シート状等に成
形し、延伸によってレターデーション（Ｒｅ）の値を前
記数値範囲内に制御して、位相差板が製造される。前記
延伸としては、機械的流れ方向に延伸する縦一軸延伸、
機械的流れ方向に直交する方向に延伸する横一軸延伸
（例えば、テンター延伸など）などが好適に挙げられる
が、若干であれば二軸延伸であってもよい。

【００７３】＜＜第二の態様＞＞第二の態様は、前記位
相差板が、固有複屈折値が正の材料からなる層及び負の
材料からなる層の積層体を含み、必要に応じてその他の
層を含む態様である。

【００７４】前記積層体における、前記固有複屈折値が
正の材料及び負の材料としては、前記「第一の態様」で
既に述べたのと同様の材料がすべて好適に挙げられ、特
に好ましい材料についてもすべて同様である。前記その
他の層としては、前記固有複屈折値が正の材料からなる
層及び負の材料からなる層を良好に接着可能な接着層な
どが挙げられる。

【００７５】−−第二の態様における位相差板の製造−
− 第二の態様における位相差板の製造方法としては、特に
制限はないが、積層体の製造が容易となる点で、前記固
有複屈折値が正の材料及び負の材料を共押出しして形成
されるのが好ましい。前記共押出しにおいては、例え
ば、前記固有複屈折値が正のポリマー、負のポリマー、
及び、所望により接着層用のポリマーを、押出ダイ内部
に導き、該ダイ内部もしくはダイの開口部で各ポリマー
を接触させ、一体化させて積層体を形成することができ
る。

【００７６】前記ダイとしては、特に制限はないが、Ｔ
ダイを好適に用いることができ、該Ｔダイの内部形状と
しては、特に制限はなく、種々の形状が挙げられる。所
望により、押し出された溶融状態の積層体を、複数のロ
ールに張架させ、該ロールの回転に追従させて移動させ
ることにより、積層体の厚みを所望の厚みに調整するこ
とができる。

【００７７】図１は、前記共押出しに好適に用いられる
共押出装置の概略構成図である。共押出装置２０は、押
出ダイ２２、押出器２４，２６、及び、張架ロール２
８，３０，３２を有する。共押出装置２０において、押
出器２４及び押出器２６内に格納された、固有複屈折値
が正のポリマー及び負のポリマーは、押出ダイ２２内部
に導かれ、押出ダイ２２の開口部で合流し、各ポリマー
が接触し一体化されて積層体３４が形成される。尚、固
有複屈折値が正のポリマー及び負のポリマーの密着性が
悪い場合には、更に、接着層形成用の押出器を設けても
良い。形成された積層体３４は、回転する張架ロール２
８，３０，３２により張架され、張架ロール２８，３
０，３２の回転に追従して移動し、所望の厚みに調整さ
れフィルム状乃至シート状に成形され、その正面のレタ
ーデーション（Ｒｅ）の値が１１０〜１６５ｎｍであれ
ばそのまま、前記数値範囲内にない場合には更に延伸す
ることにより、前記レターデーション（Ｒｅ）の値を前
記数値範囲内に制御して、位相差板が製造される。前記
延伸としては、前記「第一の態様における位相差板の製
造」において述べた「延伸」と同様の延伸が好適に挙げ
られる。

【００７８】＜＜第三の態様＞＞第三の態様は、前記位
相差板が、固有複屈折値が正の部位及び負の部位を有す
る材料を含有し、必要に応じてその他の成分を含有する
態様である。

【００７９】−−固有複屈折値が正の部位及び負の部位
を有する材料−− 前記固有複屈折値が正の部位及び負の部位を有する材料
としては、一軸性の配向規則を与えた場合に、正の一軸
性を示す鎖と負の一軸性を示す鎖とを有する共重合組成
物が好ましく、固有複屈折値が正のポリマーを構成する
単量体（モノマー）と、負のポリマーを構成する単量体
と、の共重合組成物等が特に好ましい。該共重合組成物
としては、特に制限はないが、主鎖と、該主鎖にグラフ
ト結合するグラフト鎖と、を有するグラフト共重合体が
好ましく、該主鎖が、前記固有複屈折値が正のポリマー
を構成する単量体からなる鎖であり、前記グラフト鎖
が、前記固有複屈折値が負のポリマーを構成する単量体
からなる鎖が特に好ましい。前記固有複屈折値が正のポ
リマー及び負のポリマーとしては、前記「第一の態様」
で既に述べたのと同様のポリマーがすべて好適に挙げら
れ、特に好ましいポリマー等についてもすべて同様であ
る。

【００８０】前記グラフト共重合体の製造方法として
は、特に制限はなく、塊状重合、沈殿重合、乳化重合、
溶液重合、懸濁重合、などの公知の重合方法が好適に挙
げられる。これらの中でも、懸濁重合又は溶液重合が好
ましい。

【００８１】前記懸濁重合の手法としては、例えば「高
分子合成の実験法」（大津隆行、木下雅悦共著、化学同
人社）１３０頁及び１４６頁〜１４７頁に記載された方
法を参考にすることができる。

【００８２】前記懸濁重合によると、前記グラフト共重
合体は、無機塩類及び／又は水溶性ポリマー分散剤の存
在下、水系の分散媒を用いて油溶性開始剤により開始さ
れた付加重合反応により、５０μｍ以上の粒子として得
られる。

【００８３】前記無機塩類は、分散安定化、単量体等の
水溶化防止等の目的で用いられ、該無機塩類としては、
例えば、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化カルシウ
ム、塩化マグネシウム、塩化アンモニウム、硫酸カリウ
ム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、硫酸アンモニ
ウム、硫酸アルミニウムカリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、リン酸水素カルシウム、などが挙げられ
る。

【００８４】前記水溶性ポリマー分散剤としては、例え
ば、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸ソーダ、ス
チレン−無水マレイン酸共重合体のアルカリ加水分解物
（例えばクラレ社製の「イソバン」）、アルギン酸ナト
リウム及び水溶性セルロース誘導体（三晶株式会社製の
「メイプロガット」、「ケルコＳＣＳ」、「クアーガ
ム」、ヘキストジャパン（株）製の「ＭＨ−Ｋ」）など
が挙げられる。

【００８５】前記懸濁重合に用いる重合開始剤として
は、水不溶性でかつ油溶性の重合開始剤が好ましく、例
えば、アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリ
ル）、アゾビスイソブチロニトリル、２，２'−アゾビ
ス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２'−ア
ゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリ
ル）、２，２'−アゾビスイソ酪酸ジメチル、過酸化ベ
ンゾイル、過酸化ラウロイウル、過酸化−ｔ−ブチル，
過酸化−ｔ−アミル、過酸化クミル、ｔ−ブチル過酸化
ベンゾエート、ｔ−ブチル過酸化フェニルアセテート、
等が挙げられる。これらの中でも、過酸化物系の重合開
始剤が好ましい。

【００８６】グラフト重合の際の重合温度としては、グ
ラフト重合を行う単量体の種類、沸点、天井温度（重合
と解重合とが平衡に達する温度）等により異なり一概に
規定することはできないが、通常、０〜１００℃であ
り、４０〜９０℃が好ましい。

【００８７】−−その他の成分−− 前記位相差板に含有されるその他の成分としては、前記
「第一の態様」で述べたのと同様のその他の成分が好適
に挙げられる。

【００８８】−−第三の態様における位相差板の製造−
− 前記第三の態様における位相差板の製造方法としては、
特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ
る。例えば、前記固有複屈折値が正の部位及び負の部位
を有する材料を適宜選択し、所望により相溶化剤等を添
加し、これらを配合する。そして、その後、この配合物
を、溶液化して塗布し乾燥することにより成形する溶液
成膜法、あるいはペレット化し溶融押出しして成形する
押出成形法、等に従ってフィルム状乃至シート状等に成
形され、その正面のレターデーション（Ｒｅ）の値が、
１１０〜１６５ｎｍであればそのまま、前記数値範囲内
にない場合には更に延伸することにより、前記レターデ
ーション（Ｒｅ）の値を前記数値範囲内に制御して、位
相差板が製造される。

【００８９】前記延伸としては、前記「第一の態様にお
ける位相差板の製造」において述べた「延伸」と同様の
延伸が好適に挙げられる。

【００９０】＜位相差板の物性＞前記位相差板の光弾性
としては、２０ブルースター以下が好ましく、５ブルー
スター以下がより好ましい。前記光弾性が、２０ブルー
スターを超えると、位相差板に応力を印加した際の歪み
により複屈折が発現し、光の洩れ等により好ましくない
ことがある。

【００９１】前記位相差板の厚みとしては、特に制限は
ないが、３０〜３００μｍが好ましく、５０〜２００μ
ｍがより好ましい。

【００９２】［その他の部材］前記その他の部材として
は、ハードコート層、保護層、密着層、透明導電層、カ
ラーフィルター、等が挙げられる。

【００９３】前記ハードコート層、保護層、密着層の材
質としては、エポキシ樹脂、エポキシアクリレート、Ｓ
ｉＯ_２、Ｓｉ_ｘＯ、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｓｉ_３Ｏ_４、Ｔｉ
Ｏ_２、ＡｌＮ、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＺｒＯ_２、ＳｉＣ、Ｓ
ｉ：Ｏ：Ｎ、Ｓｉ：Ｏ：Ｈ、Ｓｉ：Ｎ：Ｈ、Ｓｉ：Ｏ：
Ｎ：Ｈ、等が挙げられる。前記ハードコート層及び密着
層は、前記ガスバリヤ層の上に配されるのが好ましい。

【００９４】前記透明導電層の材質としては、ＩＴＯ
（酸化インジウムスズ）等の透明導電層の材質として公
知のものが挙げられる。該透明導電層は、前記ハードコ
ート層及び密着層の上に配されるのが好ましい。

【００９５】前記カラーフィルターの材質としては、染
料系（染色：フォトリソ、染料分散：エッチング）、顔
料系（フォトリソ、エッチング、印刷、電着、蒸着）、
金属酸化物系、コレステリック液晶系、等のカラーフィ
ルターの材質として公知のものが挙げられる。該カラー
フィルターは、前記ハードコート層及び密着層等と、前
記透明導電層と、の間に配されるのが好ましい。

【００９６】＜表示装置用基板の構成等＞本発明の表示
装置用基板の構成としては、ガスバリヤ性、強度及びカ
ール防止等の点で、前記位相差板の両方の面上に、前記
ガスバリヤ層を有するのが好ましい。また、本発明の表
示装置用基板を液晶表示装置に用いる場合、少なくと
も、液晶セルに接する側の面に、前記ガスバリヤ層を配
置するのが特に好ましい。

【００９７】＜表示装置用基板の用途等＞以上述べた本
発明の表示装置用基板は、従来の広帯域１／４波長板等
及びガラス基板を、ガスバリヤ層を有する実質一枚のプ
ラスチック基板に置き換えることから、軽量化・薄型化
が容易で、衝撃に強く、平面性、ＩＴＯ電極との密着
性、製造が容易で、更に、ガスバリヤ性に優れ、広帯域
において高性能を示すため、種々の分野の表示装置とし
て利用可能な液晶表示装置に特に好適に用いることがで
きる。

【００９８】

【実施例】以下、本発明の実施例を説明するが、本発明
はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。

【００９９】（実施例１） −位相差板の作製− ノルボルネン樹脂（ＪＳＲ社製；アートン「Ｆ」）（固
有複屈折値が正の材料）１６質量部と、スチレン及び無
水マレイン酸の共重合体（積水化学社製；「ダイラーク
２３２」）（固有複屈折値が負の材料）１１質量部と、
をトルエンに溶解し、塗布液（２７重量％）を調製し
た。前記塗布液を、ガラス板上にドクターブレードを用
いて流延し、乾燥して透明フィルム（厚み：１２０μ
ｍ）を得た。該透明フィルムを、１２５℃で３５％一軸
延伸し位相差板を作製した。

【０１００】＜波長分散等の測定＞得られた位相差板に
ついて、レターデーション測定器（王子計測社製；「Ｋ
ＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ」）を用いて、レターデーション
（Ｒｅ）の波長分散を測定した。結果を図２に示す。

【０１０１】図２に示すように、実施例１における位相
差板は、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍに
おけるレターデーション（Ｒｅ）値を各々Ｒｅ（４５
０）、Ｒｅ（５５０）及びＲｅ（６５０）としたとき、
Ｒｅ（４５０）＜Ｒｅ（５５０）＜Ｒｅ（６５０）を満
たしており、広帯域で優れた１／４位相差板特性を有し
ていることがわかった。また、該位相差板の平均光透過
率は９０％、ガラス転移点は１５５℃であった。

【０１０２】−表示装置用基板の作製− 膨潤性の無機層状化合物（膨潤性合成雲母：ＭＥ−１０
０（コープケミカル社製）８質量部を、攪拌しながら水
（１００質量部）に添加し充分水になじませ膨潤させた
後、分散機（ビスコミル：アイメックス社製）にかけて
充分に分散させた。これを、４０℃のゼラチン５重量％
水溶液５００質量部中に添加し、３０分間攪拌してガス
バリヤ層用塗布液を調製した。得られたガスバリヤ層用
塗布液を、前記位相差板表面に塗布し、ガスバリヤ層
（厚み：２μｍ）を形成し、表示装置用基板を作製し
た。

【０１０３】＜酸素透過率の測定＞得られた表示装置用
基板について、ガス透過率測定装置（モコン社製）によ
り酸素透過率を求めたところ、０．３ｍｌ／ｍ^２・ａｔ
ｍ・ｄａｙであり、良好なガスバリヤ性を有しているこ
とがわかった。

【０１０４】

【発明の効果】本発明によれば、軽量化・薄型化が容易
で、衝撃に強く、平面性、ＩＴＯ電極との密着性に優
れ、製造が容易で、更に、ガスバリヤ性に優れ、広帯域
において高性能を示す表示装置用基板を提供することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、共押出しに好適に用いられる共押出装
置の概略構成図である。

【図２】図２は、実施例１において得られた表示装置用
基板について、レターデーション測定器を用いて、レタ
ーデーション（Ｒｅ）の波長分散を測定した結果を示す
図である。

【符号の説明】

２０共押出装置２２押出ダイ２４押出器２６押出器２８張架ロール３０張架ロール３２張架ロール

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０９Ｆ 9/30 ３４９Ｇ０９Ｆ 9/30 ３４９ＢＧ０２Ｂ 1/10 Ｚ (72)発明者荒川公平静岡県富士宮市大中里200番地富士写真フイルム株式会社内Ｆターム(参考） 2H049 BA06 BA07 BA42 BB43 BB62 BC22 2H090 JB03 JC11 JD11 JD13 LA06 2H091 FA02Y FA11X FA11Z FC08 GA01 LA02 LA11 LA30 2K009 AA15 CC01 CC21 DD02 EE00 EE03 5C094 AA15 AA31 AA36 AA43 BA43 EB02 ED03 ED14

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】波長４００〜７００ｎｍにおける平均光
透過率が７０％以上、ガラス転移点が１００℃以上、か
つ、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍにおけ
るレターデーション値をそれぞれＲｅ（４５０）、Ｒｅ
（５５０）及びＲｅ（６５０）としたとき、Ｒｅ（４５
０）＜Ｒｅ（５５０）＜Ｒｅ（６５０）を満たす位相差
板と、無機層状化合物及びポリマーを含むガスバリヤ層
と、を有することを特徴とする表示装置用基板。
【請求項２】位相差板が、固有複屈折値が正の材料及
び負の材料を含有する請求項１に記載の表示装置用基
板。
【請求項３】固有複屈折値が正の材料及び負の材料
が、ポリマーである請求項２に記載の表示装置用基板。
【請求項４】位相差板の、波長４５０ｎｍ、５５０ｎ
ｍ及び６５０ｎｍにおけるレターデーション（Ｒｅ）／
波長（λ）の値が、０．２〜０．３である請求項１から
３のいずれかに記載の表示装置用基板。
【請求項５】無機層状化合物が、合成雲母である請求
項１から４のいずれかに記載の表示装置用基板。
【請求項６】ガスバリヤ層の上に、ハードコート層及
び密着層の少なくともいずれかを有する請求項１から５
のいずれかに記載の表示装置用基板。
【請求項７】ハードコート層及び密着層の少なくとも
いずれかの上に、透明導電層を有する請求項６に記載の
表示装置用基板。
【請求項８】ハードコート層及び密着層の少なくとも
いずれかと、透明導電層と、の間にカラーフィルターを
有する請求項７に記載の表示装置用基板。
【請求項９】無機層状化合物のアスペクト比が、２０
以上である請求項１から８のいずれかに記載の表示装置
用基板。
【請求項１０】無機層状化合物のアスペクト比が、１
００以上である請求項１から９のいずれかに記載の表示
装置用基板。
【請求項１１】ポリマーが、水溶性ポリマーである請
求項１から１０のいずれかに記載の表示装置用基板。
【請求項１２】ポリマーが、モノマー単位として、ビ
ニルアルコールを７０％以上含有するポリビニルアルコ
ール及びその変性体から選択される少なくとも１種を含
む請求項１から１１のいずれかに記載の表示装置用基
板。
【請求項１３】ポリマーが、カルボキシル変性ポリビ
ニルアルコール、シラノール変性ポリビニルアルコー
ル、及び、エポキシ変性ポリビニルアルコールから選択
される少なくとも１種を含む請求項１から１２のいずれ
かに記載の表示装置用基板。
【請求項１４】ポリマーが、ゼラチンを含む請求項１
から１３のいずれかに記載の表示装置用基板。
【請求項１５】ガスバリヤ層の酸素透過率（温度４０
℃、湿度９０％）が、０．５ｍｌ／ｍ^２・ａｔｍ・ｄａ
ｙ以下である請求項１から１４のいずれかに記載の表示
装置用基板。