JP2003029664A

JP2003029664A - 表示装置用基板

Info

Publication number: JP2003029664A
Application number: JP2001218769A
Authority: JP
Inventors: Kohei Arakawa; 公平荒川
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2001-07-18
Filing date: 2001-07-18
Publication date: 2003-01-31

Abstract

(57)【要約】【課題】軽量化・薄型化が容易で衝撃に強く、ガスバ
リヤ性等に優れ広帯域で高性能を示す表示装置用基板の
提供。【解決手段】固有複屈折値が正及び負の材料を含有す
るプラスチック基板表面に厚み０．００１５〜０．５０
ｍｍの透光性薄ガラス層を有し、波長６３２．８ｎｍに
おけるレターデーションの値が２５０〜４５０ｎｍで、
波長４５０、５５０、及び６５０ｎｍにおけるレターデ
ーションの値がＲｅ（４５０）＞Ｒｅ（５５０）＞Ｒｅ
（６５０）を満たすことを特徴とする表示装置用基板。
固有複屈折値が正及び負の材料を含有するプラスチック
基板の表面に、厚み０．００１５〜０．５０ｍｍの透光
性薄ガラス層を有し、波長６３２．８ｎｍにおけるレタ
ーデーションの値が５００〜６５０ｎｍで、波長４５
０、５５０、及び６５０ｎｍにおけるレターデーション
の値がＲｅ（４５０）＞Ｒｅ（５５０）＞Ｒｅ（６５
０）を満たすことを特徴とする表示装置用基板。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、パソコン、ＡＶ機
器、携帯型情報通信機器、ゲームやシミュレーション機
器、及び、車載用のナビゲーションシステム等、種々の
分野の表示装置等に好適な表示装置用基板に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、情報機器、通信機器等に、ＳＴＮ
型液晶表示装置、ＭＩＮ液晶表示装置、ＴＦＴ液晶表示
装置等が使用されている。これらの液晶表示装置用の基
板としては、厚み１ｍｍ以下のホウケイ酸ガラス板、ソ
ーダライムガラス板、無アルカリガラス板等が用いられ
ている。しかし、ガラス基板は、軽量化に限界があり、
また耐衝撃性が低く割れ易い等の問題があるため、プラ
スチック性基板で代替させるニーズが高い。

【０００３】近年、技術の更なる発達により、前記ガラ
ス基板及びプラスチック性基板に代替し得る、より高性
能の材料の開発が強く望まれており、前記ガラス基板が
有する問題を解決し得、更に、前記プラスチック性基板
に比べ、平面性、ＩＴＯ電極との密着性、強度、セル厚
の均一化の容易性等に優れ、液晶表示装置を製造する際
の熱処理工程において、熱応力による寸法変化により透
明電極の断線が生じ難く、不純物の混入の可能性が低
く、更に、ガスバリヤ性に優れた材料が強く要請されて
いる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来に
おける諸問題を解決し、諸要請に応え、以下の目的を達
成することを課題とする。即ち、本発明は、軽量化・薄
型化が容易で、衝撃に強く、平面性、ＩＴＯ電極との密
着性、強度、液晶セルのセル厚の均一化が容易で、耐熱
・耐薬品性に優れ、不純物の混入の可能性が低く、製造
が容易で、更に、ガスバリヤ性に優れ、広帯域において
高性能を示す表示装置用基板を提供することを目的とす
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の手段は、以下の通りである。＜１＞固有複屈折値が正の材料及び負の材料を含有す
るプラスチック基板の少なくとも一方の表面に、厚み
０．００１５〜０．５０ｍｍの透光性薄ガラス層を有
し、波長６３２．８ｎｍにおけるレターデーション（Ｒ
ｅ）の値が２５０〜４５０ｎｍであって、波長４５０ｎ
ｍ、５５０ｎｍ、及び、６５０ｎｍにおけるレターデー
ション値をＲｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）、及び、Ｒ
ｅ（６５０）としたとき、Ｒｅ（４５０）＞Ｒｅ（５５
０）＞Ｒｅ（６５０）を満たすことを特徴とする表示装
置用基板である。＜２＞固有複屈折値が正の材料及び負の材料を含有す
るプラスチック基板の少なくとも一方の表面に、厚み
０．００１５〜０．５０ｍｍの透光性薄ガラス層を有
し、波長６３２．８ｎｍにおけるレターデーション（Ｒ
ｅ）の値が５００〜６５０ｎｍであって、波長４５０ｎ
ｍ、５５０ｎｍ、及び、６５０ｎｍにおけるレターデー
ション値をＲｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）、及び、Ｒ
ｅ（６５０）としたとき、Ｒｅ（４５０）＞Ｒｅ（５５
０）＞Ｒｅ（６５０）を満たすことを特徴とする表示装
置用基板である。＜３＞固有複屈折値が正の材料及び負の材料を含有す
るプラスチック基板の少なくとも一方の表面に、厚み
０．００１５〜０．５０ｍｍの透光性薄ガラス層を有
し、波長６３２．８ｎｍにおけるレターデーション（Ｒ
ｅ）の値が、１５ｎｍ以下であることを特徴とする表示
装置用基板である。

【０００６】＜４＞固有複屈折値が正の材料及び負の
材料が、ポリマーである前記＜１＞から＜３＞のいずれ
かに記載の表示装置用基板である。＜５＞プラスチック基板が、ノルボルネン系ポリマー
を含有する前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の表
示装置用基板である。＜６＞プラスチック基板が、スチレン系ポリマーを含
有する前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の表示装
置用基板である。

【０００７】＜７＞プラスチック基板の光弾性が、２
０ブルースター以下である前記＜１＞から＜６＞のいず
れかに記載の表示装置用基板である。＜８＞プラスチック基板が、位相差板である前記＜１
＞又は＜２＞に記載の表示装置用基板である。＜９＞ＳＴＮ（スーパーツイステッドネマチック）型
液晶表示装置に用いられる前記＜１＞又は＜２＞に記載
の表示装置用基板である。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の表示装置用基板は、固有複屈折値が正の材料及
び負の材料を含有するプラスチック基板の少なくとも一
方の表面に、透光性薄ガラス層を有し、必要に応じてそ
の他の層を有する。

【０００９】−プラスチック基板− 前記プラスチック基板の態様としては、固有複屈折値が
正の材料及び負の材料を同一層に含有する第一の態様、
固有複屈折値が正の材料からなる層及び負の材料からな
る層の積層体を含む第二の態様、固有複屈折値が正の部
位及び負の部位を有する材料を含有する第三の態様等が
挙げられる。

【００１０】＜第一の態様＞第一の態様は、前記プラス
チック基板が、固有複屈折値が正の材料及び負の材料を
同一層中に含有し、必要に応じてその他の成分を含有す
る態様である。

【００１１】−−固有複屈折値が正の材料−− 前記固有複屈折値が正の材料は、分子に一軸性の配向規
則を与えたときに、光学的に正の一軸性を示す特性を有
する材料であり、ポリマー、棒状液晶、棒状液晶ポリマ
ーなどがその例として挙げられる。これらは、１種単独
で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。本発
明においては、これらの中でもポリマーが好ましい。

【００１２】前記ポリマーとしては、ポリオレフィン系
（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネ
ン系ポリマーなど）、ポリエステル系（例えば、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートな
ど）、ポリアリーレンサルファイド系（例えば、ポリフ
ェニレンサルファイドなど）、ポリビニルアルコール
系、ポリカーボネート系、ポリアリレート系、セルロー
スエステル系（前記固有複屈折値が負であるものもあ
る）、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリ
アリルスルホン系、ポリ塩化ビニル系、あるいはこれら
の多元（二元、三元等）共重合ポリマーなどが挙げられ
る。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上
を併用してもよい。本発明においては、これらの中で
も、ポリカーボネート系、ノルボルネン系、ポリエーテ
ルスルホン系等のポリマーが、耐熱性、透明性等の点で
好ましい。

【００１３】前記棒状液晶としては、棒状のネマチック
配向を示す液晶が好適に挙げられ、低分子液晶であって
もよいし、高分子液晶であってもよい。前記低分子液晶
の具体例としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノ
ビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エ
ステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル
類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェ
ニルピリジン類、フェニルジオキサン類、トラン類、ア
ルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類、などが好適
に挙げられる。

【００１４】−−固有複屈折値が負の材料−− 前記固有複屈折値が負の材料は、分子に一軸性の配向規
則を与えたときに、光学的に負の一軸性を示す特性を有
する材料であり、ポリマー、ディスコティック液晶、デ
ィスコティック液晶ポリマーなどがその例として挙げら
れる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以
上を併用してもよい。本発明においては、これらの中で
もポリマーが好ましい。

【００１５】前記ポリマーとしては、ポリスチレン系ポ
リマー、ポリアクリロニトリル系ポリマー、ポリメチル
メタクリレート系ポリマー、セルロースエステル系ポリ
マー（前記固有複屈折値が正であるものもある）、ある
いはこれらの多元（二元、三元等）共重合ポリマーなど
が挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよい
し、２種以上を併用してもよい。本発明においては、こ
れらの中でも、複屈折の発現性の点で、スチレン系ポリ
マー等が好ましく、特に耐熱性の点で、スチレン及び無
水マレイン酸の共重合体がより好ましい。

【００１６】前記固有複屈折値が正の材料及び負の材料
としては、波長分散が互いに大きく異なるのが好まし
く、また、前記レターデーション（Ｒｅ）の発現性が共
に大きいのが好ましい。

【００１７】前記固有複屈折値が負でレターデーション
（Ｒｅ）の発現性が大きい材料としては、スチレン系素
材が特に好適に挙げられる。スチレン系素材は波長分散
が大きいため、組み合わせる固有複屈折値が正の材料と
しては、前記波長分散が小さい材料が好適に用いられ
る。前記波長分散が小さい材料としては、オレフィン
系、ポリビニルアルコール系、等のポリマーが挙げられ
るが、耐熱性、寸度安定性等の点から、ノルボルネン系
ポリマー等のシクロオレフィン系ポリマーが特に好適で
ある。

【００１８】−−その他の成分−− 前記その他の成分としては、本発明の効果を害しない限
り特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することがで
き、例えば相溶化剤などが好適に挙げられる。前記相溶
化剤は、前記固有複屈折値が正の材料と負の材料とを混
合した際に相分離が生じてしまう場合等に好適に使用す
ることができ、該相溶化剤を使用することによって、前
記固有複屈折値が正の材料と負の材料との混合状態を良
好にすることができる。

【００１９】−−第一の態様におけるプラスチック基板
の製造−− 前記第一の態様におけるプラスチック基板の製造方法と
しては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択するこ
とができる。例えば、前記固有複屈折値が正の材料と負
の材料とを、適宜選択し、配合比を決定し、必要により
前記相溶化剤等を添加し、これらを配合する。その後、
この配合物を溶液化して塗布し乾燥することにより成形
する溶液成膜法、あるいはペレット化し溶融押出しして
成形する押出成形法、等に従ってフィルム状乃至シート
状等に成形し、延伸によってレターデーション（Ｒｅ）
の値を制御して、プラスチック基板が製造される。前記
延伸としては、機械的流れ方向に延伸する縦一軸延伸、
機械的流れ方向に直交する方向に延伸する横一軸延伸
（例えば、テンター延伸など）などが好適に挙げられる
が、若干であれば二軸延伸であってもよい。

【００２０】＜第二の態様＞第二の態様は、前記プラス
チック基板が、固有複屈折値が正の材料からなる層及び
負の材料からなる層の積層体を含み、必要に応じてその
他の層を含む態様である。

【００２１】前記積層体における、前記固有複屈折値が
正の材料及び負の材料としては、前記「第一の態様」で
既に述べたのと同様の材料がすべて好適に挙げられ、特
に好ましい材料についてもすべて同様である。前記その
他の層としては、前記固有複屈折値が正の材料からなる
層及び負の材料からなる層を良好に接着可能な接着層な
どが挙げられる。

【００２２】−−第二の態様におけるプラスチック基板
の製造−− 第二の態様におけるプラスチック基板の製造方法として
は、特に制限はないが、積層体の製造が容易となる点
で、前記固有複屈折値が正の材料及び負の材料を共押出
しして形成されるのが好ましい。前記共押出しにおいて
は、例えば、前記固有複屈折値が正のポリマー、負のポ
リマー、及び、所望により接着層用のポリマーを、押出
ダイ内部に導き、該ダイ内部もしくはダイの開口部で各
ポリマーを接触させ、一体化させて積層体を形成するこ
とができる。

【００２３】前記ダイとしては、特に制限はないが、Ｔ
ダイを好適に用いることができ、該Ｔダイの内部形状と
しては、特に制限はなく、種々の形状が挙げられる。所
望により、押し出された溶融状態の積層体を、複数のロ
ールに張架させ、該ロールの回転に追従させて移動させ
ることにより、積層体の厚みを所望の厚みに調整するこ
とができる。

【００２４】図１は、前記共押出しに好適に用いられる
共押出装置の概略構成図である。共押出装置２０は、押
出ダイ２２、押出器２４，２６、及び、張架ロール２
８，３０，３２を有する。共押出装置２０において、押
出器２４及び押出器２６内に格納された、固有複屈折値
が正のポリマー及び負のポリマーは、押出ダイ２２内部
に導かれ、押出ダイ２２の開口部で合流し、各ポリマー
が接触し一体化されて積層体３４が形成される。尚、固
有複屈折値が正のポリマー及び負のポリマーの密着性が
悪い場合には、更に、接着層形成用の押出器を設けても
良い。形成された積層体３４は、回転する張架ロール２
８，３０，３２により張架され、張架ロール２８，３
０，３２の回転に追従して移動し、所望の厚みに調整さ
れフィルム状乃至シート状に成形され、適宜延伸等によ
りレターデーション（Ｒｅ）の値を制御して、プラスチ
ック基板が製造される。前記延伸としては、前記「第一
の態様におけるプラスチック基板の製造」において述べ
た「延伸」と同様の延伸が好適に挙げられる。

【００２５】＜第三の態様＞第三の態様は、前記プラス
チック基板が、固有複屈折値が正の部位及び負の部位を
有する材料を含有し、必要に応じてその他の成分を含有
する態様である。

【００２６】−−固有複屈折値が正の部位及び負の部位
を有する材料−− 前記固有複屈折値が正の部位及び負の部位を有する材料
としては、一軸性の配向規則を与えた場合に、正の一軸
性を示す鎖と負の一軸性を示す鎖とを有する共重合組成
物が好ましく、固有複屈折値が正のポリマーを構成する
単量体（モノマー）と、負のポリマーを構成する単量体
と、の共重合組成物等が特に好ましい。該共重合組成物
としては、特に制限はないが、主鎖と、該主鎖にグラフ
ト結合するグラフト鎖と、を有するグラフト共重合体が
好ましく、該主鎖が、前記固有複屈折値が正のポリマー
を構成する単量体からなる鎖であり、前記グラフト鎖
が、前記固有複屈折値が負のポリマーを構成する単量体
からなる鎖が特に好ましい。前記固有複屈折値が正のポ
リマー及び負のポリマーとしては、前記「第一の態様」
で既に述べたのと同様のポリマーがすべて好適に挙げら
れ、特に好ましいポリマー等についてもすべて同様であ
る。

【００２７】前記グラフト共重合体の製造方法として
は、特に制限はなく、塊状重合、沈殿重合、乳化重合、
溶液重合、懸濁重合、などの公知の重合方法が好適に挙
げられる。これらの中でも、懸濁重合又は溶液重合が好
ましい。

【００２８】前記懸濁重合の手法としては、例えば「高
分子合成の実験法」（大津隆行、木下雅悦共著、化学同
人社）１３０頁及び１４６頁〜１４７頁に記載された方
法を参考にすることができる。

【００２９】前記懸濁重合によると、前記グラフト共重
合体は、無機塩類及び／又は水溶性ポリマー分散剤の存
在下、水系の分散媒を用いて油溶性開始剤により開始さ
れた付加重合反応により、５０μｍ以上の粒子として得
られる。

【００３０】前記無機塩類は、分散安定化、単量体等の
水溶化防止等の目的で用いられ、該無機塩類としては、
例えば、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化カルシウ
ム、塩化マグネシウム、塩化アンモニウム、硫酸カリウ
ム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、硫酸アンモニ
ウム、硫酸アルミニウムカリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、リン酸水素カルシウム、などが挙げられ
る。

【００３１】前記水溶性ポリマー分散剤としては、例え
ば、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸ソーダ、ス
チレン−無水マレイン酸共重合体のアルカリ加水分解物
（例えばクラレ社製の「イソバン」）、アルギン酸ナト
リウム及び水溶性セルロース誘導体（三晶株式会社製の
「メイプロガット」、「ケルコＳＣＳ」、「クアーガ
ム」、ヘキストジャパン（株）製の「ＭＨ−Ｋ」）など
が挙げられる。

【００３２】前記懸濁重合に用いる重合開始剤として
は、水不溶性でかつ油溶性の重合開始剤が好ましく、例
えば、アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリ
ル）、アゾビスイソブチロニトリル、２，２'−アゾビ
ス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２'−ア
ゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリ
ル）、２，２'−アゾビスイソ酪酸ジメチル、過酸化ベ
ンゾイル、過酸化ラウロイウル、過酸化−ｔ−ブチル，
過酸化−ｔ−アミル、過酸化クミル、ｔ−ブチル過酸化
ベンゾエート、ｔ−ブチル過酸化フェニルアセテート、
等が挙げられる。これらの中でも、過酸化物系の重合開
始剤が好ましい。

【００３３】グラフト重合の際の重合温度としては、グ
ラフト重合を行う単量体の種類、沸点、天井温度（重合
と解重合とが平衡に達する温度）等により異なり一概に
規定することはできないが、通常、０〜１００℃であ
り、４０〜９０℃が好ましい。

【００３４】−−その他の成分−− 前記その他の成分としては、前記「第一の態様」で述べ
たのと同様のその他の成分が好適に挙げられる。

【００３５】−−第三の態様におけるプラスチック基板
の製造−− 前記第三の態様におけるプラスチック基板の製造方法と
しては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択するこ
とができる。例えば、前記固有複屈折値が正の部位及び
負の部位を有する材料を適宜選択し、所望により相溶化
剤等を添加し、これらを配合する。そして、その後、こ
の配合物を、溶液化して塗布し乾燥することにより成形
する溶液成膜法、あるいはペレット化し溶融押出しして
成形する押出成形法、等に従ってフィルム状乃至シート
状等に成形され、適宜延伸等により、レターデーション
（Ｒｅ）の値を制御してプラスチック基板が製造され
る。

【００３６】前記延伸としては、前記「第一の態様にお
けるプラスチック基板の製造」において述べた「延伸」
と同様の延伸が好適に挙げられる。

【００３７】−透光性薄ガラス層− 前記透光性薄ガラス層は、可視光に対し透光性を有す
る。該透光性薄ガラス層の厚みとしては、０．００１５
〜０．５０ｍｍであることが必要であり、０．００１５
〜０．０６ｍｍであるのが好ましい。前記厚みが、０．
５０ｍｍを超えると、しなやかさが劣ることがある。

【００３８】前記透光性薄ガラス層は、軽量であり、ウ
ェブハンドリングで効率的に前記プラスチック基板に貼
合できるため、表示装置用基板を製造する際のコスト面
でも優れる。また、衝撃に強く、平面性、ＩＴＯ電極と
の密着性、強度、液晶セルのセル厚の均一化が容易で、
耐熱・耐薬品性に優れ、不純物の混入の可能性が低く、
製造が容易で、更に、ガスバリヤ性に優れるため、液晶
表示装置に用いた際に、優れた液晶の保護性能を有す
る。

【００３９】前記透光性薄ガラス層の材料としては、ホ
ウケイ酸ガラス、無アルカリガラス、低アルカリガラ
ス、ソーダライムガラス、ゾルゲルガラスなどが挙げら
れ、これらの中でも、安価なソーダライムガラスにアル
カリ封止コートしたもの、無アルカリガラス等が好まし
い。

【００４０】前記透光性薄ガラス層の製造方法として
は、特に制限はなく、リドロー法、フュージョン法、マ
イクロシート法、及び、ゾルゲル法等の公知の透光性薄
ガラス層の製造方法が挙げられる。

【００４１】前記透光性薄ガラス層におけるガスバリヤ
性としては、０．５ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ以下が
好ましい。薄ガラスを利用した本発明においては、厚み
０．００１５ｍｍの薄さでも、０．５ｃｃ／ｍ^２・ｄａ
ｙ・ａｔｍ以下という充分なガスバリヤ性が得られる。
尚、本発明において、前記ガスバリヤ性はガス透過率測
定装置（モコン社製）により酸素透過率を測定し評価す
ることができる。

【００４２】−その他の層− 前記その他の層としては、前記プラスチック基板及び透
光性薄ガラス層を好適に接着するための接着層等が挙げ
られる。該接着層の材料としては、例えば、アクリル
系、ポリビニルブチラール系、変性ポリオレフィン系、
ポリウレタン系、エポキシ系の材料等が挙げられる。

【００４３】＜表示装置用基板の物性・構成等＞本発明
の表示装置用基板としては、ＳＴＮ（スーパーツイステ
ッドネマチック）型液晶用に用いられる場合には、波長
６３２．８ｎｍにおけるレターデーション（Ｒｅ）の値
が、２５０〜４５０ｎｍ及び５００〜６５０ｎｍのいず
れかの数値範囲内であることが必要である。前記レター
デーション（Ｒｅ）の値が、前者の数値範囲を満たす場
合には、二枚の表示装置用基板で好適に前記ＳＴＮ型液
晶の補償が可能であり、後者の数値範囲を満たす場合に
は、一枚の表示装置用基板で好適に前記ＳＴＮ型液晶の
補償が可能である。

【００４４】又本発明の表示装置用基板としては、ＳＴ
Ｎ（スーパーツイステッドネマチック）型液晶用に用い
られる場合には、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、及び、
６５０ｎｍにおけるレターデーション値をＲｅ（４５
０）、Ｒｅ（５５０）、及び、Ｒｅ（６５０）としたと
き、液晶の波長分散特性及びその広帯域における補償の
点で、Ｒｅ（４５０）＞Ｒｅ（５５０）＞Ｒｅ（６５
０）を満たすことが必要である。

【００４５】従って、本発明の表示装置用基板をＳＴＮ
（スーパーツイステッドネマチック）型液晶用に用いる
場合には、前記プラスチック基板のレターデーション
（Ｒｅ）を適宜調整し位相差板として用いるのが好まし
い。

【００４６】又、本発明の表示装置用基板としては、光
学的等方性の要求される各種用途に用いられる場合に
は、波長６３２．８ｎｍにおけるレターデーション（Ｒ
ｅ）の値が、１５ｎｍ以下であることが必要であり、１
０ｎｍ以下であるのが好ましい。

【００４７】本発明の表示装置用基板の構成としては、
ガスバリヤ性、強度及びカール防止等の点で、前記プラ
スチック基板の両方の面上に、前記透光性薄ガラス層を
有するのが好ましい。また、本発明の表示装置用基板を
液晶表示装置に用いる場合、少なくとも、液晶セルに接
する側の面に、前記透光性薄ガラス層を配置するのが特
に好ましい。

【００４８】＜表示装置用基板の用途等＞以上述べた本
発明の表示装置用基板では、従来のガラス基板及びプラ
スチック基板を、実質一枚のプラスチックフィルムに置
き換えることから、軽量化・薄型化が容易で、衝撃に強
く、平面性、ＩＴＯ電極との密着性、強度、液晶セルの
セル厚の均一化が容易で、耐熱・耐薬品性に優れ、不純
物の混入の可能性が低く、製造が容易で、更に、ガスバ
リヤ性に優れ、広帯域において高性能を示すことから、
ＳＴＮ（スーパーツイステッドネマチック）型液晶表示
装置のほか、各種液晶表示装置に特に好適に利用可能で
ある。又、プラスチック差板において、固有複屈折値が
正の材料及び負の材料を複合させることにより、単独素
材を用いる場合や、固有複屈折値が同符号の素材を用い
て積層構造とする場合には得られない波長分散の大きい
特性が得られ、特に高速応答用のＳＴＮ型液晶等に好適
に対応できる。更に又、固有複屈折値が正の材料及び負
の材料の構成比等を適宜変更することにより、波長分散
性を連続的に制御できるため、ＳＴＮ型液晶等とのマッ
チング性に優れる。

【００４９】

【実施例】以下、本発明の実施例を説明するが、本発明
はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。

【００５０】（実施例１） −プラスチック基板の作製− シクロオレフィン系ノルボルネン樹脂（日本ゼオン社
製；「ゼオノア１４２０Ｇ」）（固有複屈折値が正の材
料）と、スチレン−無水マレイン酸共重合樹脂（ノバケ
ミカル社製、「ダイラークＤ３３２」）(固有複屈折値
が負の材料)とを用いた。これらの樹脂については、予
め窒素パージ下で乾燥させ、水分量を低下させたものを
使用した。

【００５１】図１に示す構成の共押出装置２０（東洋精
機社製；「ＬＡＢＯＰＬＡＳＴＯＭＩＬＩ」、押出ダ
イ２２の幅２５０ｍｍ）を用いた。本実施例において、
押出器２６には２つの開口部があり、押出ダイ２２内部
（図２に内部構造を示す。）では、押出器２６の２つの
開口部から押出された樹脂ホッパーが、押出器２４から
押し出された樹脂ホッパーの両側から合流する構造とな
っている。押出ダイ２２の下部における張架ロール２
８、３０及び３２により、押出ダイ２２から押出された
３層構造のフィルム（積層体）３４の厚みが調整され
る。

【００５２】押出器２４に前記スチレン−無水マレイン
酸共重合樹脂のホッパーを、押出器２６に前記シクロオ
レフィン系ノルボルネン樹脂のホッパーを、それぞれ格
納し、ノルボルネン樹脂／スチレン−無水マレイン酸共
重合樹脂／ノルボルネン樹脂からなる３層構造の溶融成
形フィルム（積層体）３４を得た。積層体３４の厚みに
ついては、張架ロール２８、３０、及び３２の周速制御
により調整を試みた。得られた積層体について、１３０
℃の雰囲気で、６０％の延伸処理を施し、３層構成の延
伸フィルム（プラスチック基板）を得た。得られた延伸
フィルムの概略断面図を図３に示す。得られた延伸フィ
ルム（プラスチック基板）５０は、スチレン−無水マレ
イン酸共重合樹脂からなる層５４が、ノルボルネン樹脂
からなる層５２及び５２’の２層に挟持された構造であ
った。厚みは、ノルボルネン樹脂からなる層５２／スチ
レン−無水マレイン酸共重合樹脂からなる層５４／ノル
ボルネン樹脂からなる層５２’＝１０／１００／１０
（μｍ）であった。得られたプラスチック基板の光弾性
は、２０ブルースターであった。

【００５３】−表示装置用基板の作製・波長分散の測定
・評価− 前記プラスチック基板、アクリル系接着剤、及び、透光
性薄ガラス（低アルカリガラスのマイクロシート、コー
ニング社製；厚み：０．０５０ｍｍ）２枚を用意し、プ
ラスチック基板の両面に、アクリル系接着剤を介して透
光性薄ガラスを配して表示装置用基板を作製し、レター
デーション測定器（王子計測社製；「ＫＯＢＲＡ−２１
ＡＤＨ」）を用いて、レターデーション（Ｒｅ）の波長
分散を測定した。結果を表１及び図４に示す。尚、波長
６３２．８ｎｍにおけるレターデーション（Ｒｅ）の値
は、３６８．０ｎｍであった。

【００５４】表１及び図４に示すように、実施例１にお
ける表示装置用基板は、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及
び６５０ｎｍにおけるレターデーション（Ｒｅ）値をそ
れぞれＲｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）及びＲｅ（６５
０）としたとき、Ｒｅ（４５０）＞Ｒｅ（５５０）＞Ｒ
ｅ（６５０）を満たしており、特にＳＴＮ用に好適で、
広帯域で優れた波長分散特性を有することがわかる。

【００５５】−ガスバリヤ性の評価− 得られた表示装置用基板について、ＯＸ−ＴＲＡＮ２／
２０（ＭＯＫＯＮ社製）によりガス（酸素）バリヤ性を
測定したところ、０．０１ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ
以下であった。

【００５６】（実施例２）実施例１の「プラスチック基
板の作製」において、延伸処理における延伸倍率を６２
％に代えたほかは、実施例１と同様にして、厚み（ノル
ボルネン樹脂からなる層５２／スチレン−無水マレイン
酸共重合樹脂からなる層５４／ノルボルネン樹脂からな
る層５２’）が３０／１４０／３０（μｍ）で光弾性が
１６ブルースターのプラスチック基板を得、実施例１と
同様にして表示装置用基板を作製し、波長分散の測定・
評価を行なった。結果を表１及び図４に示す。尚、波長
６３２．８ｎｍにおけるレターデーション（Ｒｅ）の値
は、３６５．０ｎｍであった。

【００５７】表１及び図４に示すように、実施例２にお
ける表示装置用基板は、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及
び６５０ｎｍにおけるレターデーション（Ｒｅ）値をそ
れぞれＲｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）及びＲｅ（６５
０）としたとき、Ｒｅ（４５０）＞Ｒｅ（５５０）＞Ｒ
ｅ（６５０）を満たしており、特にＳＴＮ用に好適で、
広帯域で優れた波長分散特性を有することがわかる。

【００５８】−ガスバリヤ性の評価− 得られた表示装置用基板について、ＯＸ−ＴＲＡＮ２／
２０（ＭＯＫＯＮ社製）によりガス（酸素）バリヤ性を
測定したところ、０．０１ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ
以下であった。

【００５９】（実施例３）実施例１の「プラスチック基
板の作製」において、延伸処理における延伸倍率を１３
１％に代えたほかは、実施例１と同様にして、厚み（ノ
ルボルネン樹脂からなる層５２／スチレン−無水マレイ
ン酸共重合樹脂からなる層５４／ノルボルネン樹脂から
なる層５２’）が２５／９０／２５（μｍ）で光弾性が
１１ブルースターのプラスチック基板を得、実施例１と
同様にして表示装置用基板を作製し、波長分散の測定・
評価を行なった。結果を表１及び図４に示す。尚、波長
６３２．８ｎｍにおけるレターデーション（Ｒｅ）の値
は、３５９．０ｎｍであった。

【００６０】表１及び図４に示すように、実施例３にお
ける表示装置用基板は、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及
び６５０ｎｍにおけるレターデーション（Ｒｅ）値をそ
れぞれＲｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）及びＲｅ（６５
０）としたとき、Ｒｅ（４５０）＞Ｒｅ（５５０）＞Ｒ
ｅ（６５０）を満たしており、特にＳＴＮ用に好適で、
広帯域で優れた波長分散特性を有することがわかる。

【００６１】−ガスバリヤ性の評価− 得られた表示装置用基板について、ＯＸ−ＴＲＡＮ２／
２０（ＭＯＫＯＮ社製）によりガス（酸素）バリヤ性を
測定したところ、０．０１ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ
以下であった。

【００６２】（比較例１〜２）前記シクロオレフィン系
ノルボルネン樹脂製のプラスチック基板（延伸後の厚
み：１３７μｍ）（比較例１）及び前記スチレン−無水
マレイン酸共重合樹脂製のプラスチック基板（延伸後の
厚み：１５０μｍ）（比較例２）について、前記レター
デーション測定器を用いて、実施例と同様にレターデー
ション（Ｒｅ）の波長分散を測定した。比較例１及び２
として、結果を表１及び図４に示す。

【００６３】

【表１】

【００６４】尚、表１において、Ｎ／Ｓ比は、プラスチ
ック基板におけるノルボルネン樹脂層及びスチレン−無
水マレイン酸共重合樹脂層の厚み比を表す。

【００６５】

【発明の効果】本発明によれば、軽量化・薄型化が容易
で、衝撃に強く、平面性、ＩＴＯ電極との密着性、強
度、液晶セルのセル厚の均一化が容易で、耐熱・耐薬品
性に優れ、不純物の混入の可能性が低く、製造が容易
で、更に、ガスバリヤ性に優れ、広帯域において高性能
を示す表示装置用基板、及び、これを用い、製造、軽量
化・薄型化が容易で、表示品質に優れる液晶表示装置を
提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、共押出しに好適に用いられる共押出装
置の概略構成図である。

【図２】図２は、共押出しに好適に用いられる共押出装
置の概略構成図である。

【図３】図３は、実施例１〜３において作製したプラス
チック基板を概略的に示す図である。

【図４】図４は、実施例１〜３及び比較例１〜２におい
て測定したレターデーション（Ｒｅ）の波長分散の結果
を示す図である。

【符号の説明】

２０共押出装置２２押出ダイ２４押出器２６押出器２８張架ロール３０張架ロール３２張架ロール５０位相差板５２ノルボルネン樹脂からなる層５２' ノルボルネン樹脂からなる層５４スチレン−無水マレイン酸共重合樹脂からなる
層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】固有複屈折値が正の材料及び負の材料を
含有するプラスチック基板の少なくとも一方の表面に、
厚み０．００１５〜０．５０ｍｍの透光性薄ガラス層を
有し、波長６３２．８ｎｍにおけるレターデーション
（Ｒｅ）の値が２５０〜４５０ｎｍであって、波長４５
０ｎｍ、５５０ｎｍ、及び、６５０ｎｍにおけるレター
デーション値をＲｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）、及
び、Ｒｅ（６５０）としたとき、Ｒｅ（４５０）＞Ｒｅ
（５５０）＞Ｒｅ（６５０）を満たすことを特徴とする
表示装置用基板。
【請求項２】固有複屈折値が正の材料及び負の材料を
含有するプラスチック基板の少なくとも一方の表面に、
厚み０．００１５〜０．５０ｍｍの透光性薄ガラス層を
有し、波長６３２．８ｎｍにおけるレターデーション
（Ｒｅ）の値が５００〜６５０ｎｍであって、波長４５
０ｎｍ、５５０ｎｍ、及び、６５０ｎｍにおけるレター
デーション値をＲｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）、及
び、Ｒｅ（６５０）としたとき、Ｒｅ（４５０）＞Ｒｅ
（５５０）＞Ｒｅ（６５０）を満たすことを特徴とする
表示装置用基板。
【請求項３】固有複屈折値が正の材料及び負の材料を
含有するプラスチック基板の少なくとも一方の表面に、
厚み０．００１５〜０．５０ｍｍの透光性薄ガラス層を
有し、波長６３２．８ｎｍにおけるレターデーション
（Ｒｅ）の値が、１５ｎｍ以下であることを特徴とする
表示装置用基板。
【請求項４】固有複屈折値が正の材料及び負の材料
が、ポリマーである請求項１から３のいずれかに記載の
表示装置用基板。
【請求項５】プラスチック基板が、ノルボルネン系ポ
リマーを含有する請求項１から４のいずれかに記載の表
示装置用基板。
【請求項６】プラスチック基板が、スチレン系ポリマ
ーを含有する請求項１から５のいずれかに記載の表示装
置用基板。
【請求項７】プラスチック基板の光弾性が、２０ブル
ースター以下である請求項１から６のいずれかに記載の
表示装置用基板。
【請求項８】プラスチック基板が、位相差板である請
求項１又は２に記載の表示装置用基板。
【請求項９】ＳＴＮ（スーパーツイステッドネマチッ
ク）型液晶表示装置に用いられる請求項１又は２に記載
の表示装置用基板。