JP2002261198A - 自動車用電子回路装置及びそのパッケージ製造方法 - Google Patents
自動車用電子回路装置及びそのパッケージ製造方法Info
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Abstract
と部材との剥離やクラックのない、安価な自動車用電子
回路装置の構造を提供する。 【解決手段】電子回路素子5を載置した回路基板6から
なる電子回路4と、電子回路4を搭載するリードフレー
ム2と、リードフレーム2の一部に設けられたフランジ
部2cと、リード2aとを備える。電子回路4とリード
2aとが電気的に接続される。このリード及びフランジ
の一部を除いて回路基板,リードフレーム,リード,フラ
ンジが一括してモールド樹脂に埋設される。リードフレ
ーム2の中央付近の上面に回路基板の中央部のみを支持
する突起7が形成され、突起7に回路基板6の中央部裏
面が接着される。リードフレーム2には、樹脂流通孔2
hが複数設けてある。
Description
路装置のパッケージ構造及びその製造方法に係る。例え
ば自動車のエンジンルーム、トランスミッション等に装
着され、エンジン、自動変速機等の制御を行う電子回路
装置などに好適なものである。
子回路で行う方式は広く採用されている。その電子回路
の実装構造は各種ある。トランスミッション直付けの電
子回路装置では、水、油等の浸入で電子回路がダメージ
を受けないように、装着場所の選定し、また、それらが
浸入しないような構造がとられている。
子回路基板を装着し、このベースとカバーを抵抗溶接、
レーザ溶接する等して電子回路装置内部を気密的に封止
するとともに、窒素等の不活性ガスを封入する、いわゆ
るハーメチックシール構造が知られている。
ースに設けたスルーホールを通して外部に引き出し、ス
ルーホールは、絶縁抵抗の高いガラスで封止される。し
たがって、ベース、ガラス、端子の線膨張係数を最適に
選定する必要がある。すなわち数100℃〜1000℃
の高温でガラスを融解し、常温に戻したときに前記三者
の部品間で、お互いに残留圧縮応力が作用するようにす
る必要があるためである。
にソーダ・バリウムガラスを用いたとき、ベース材質と
しては鋼板、端子は鉄ニッケル合金(鉄50%−ニッケ
ル50%)の組み合わせとなる。
ースは溶融温度の高いニッケルメッキ等が必要となる。
また前記溶接ではカバーの組み合わせ材質が限定さ
れ、ベースと同じ鋼板が使用される。電子回路に発熱素
子が多い場合には、放熱し易くするためベース材質とし
てはアルミ、銅等が好適であるが、上記したように鋼板
を使用せざるを得ず、鋼板では放熱性が悪い。
の電気的接触抵抗が均一となるよう、両者の平面度精度
を高くする必要がある等、コストアップ要因がある。
ッケルメッキの厚さのばらつきが溶接に影響し、溶接部
分のビードが露出する。それによる錆発生を防止するた
めの保護コーティングが必要である。外観では確実に
溶接の良否判定を行うことが難しく、気密性を確認する
ためにはヘリウムガスを用いたチェック法、不活性液体
中に入れて気泡の発生有無をチェックするバブルリーク
チェック法等が必要であった。
回路素子を搭載した回路基板を熱伝導のよい材質で製作
したベースに接着し、このベースの片面を露出しつつ、
回路基板及びベースをエポキシ樹脂(モールド樹脂)で
封止するパッケージ技術が提案されている。
素子としてシリコンチップを使用し、回路基板として前
記シリコンチップに近似した線膨張係数を有するガラス
・セラミック基板を用い、これらの部材をエポキシ樹脂
で封止する構造においては、次のような課題があった。
るエポキシ樹脂のモールド工程(トランスファモールド
工程)時に、そのモールド樹脂(エポキシ樹脂)を硬化
工程を経て型から取出した後の冷却中に、エポキシ樹脂
の硬化収縮と前記基板やベースに対する線膨張係数差と
によって、エポキシ樹脂と基板やベースとの境界面で剥
離、または樹脂クラックが生じる。
樹脂等価線膨張係数(エポキシ樹脂等価線膨張係数は、
そのモールド樹脂が型から取り出されて室温に冷却され
るまでの成形温度時の樹脂の化学的収縮と、成形温度〜
ガラス転移温度Tgまでの線膨張係数α1と、ガラス転
移温度Tg〜室温までの線膨張係数α2とを合成したも
のであり、常温の線膨張係数に比べて約4倍の値であ
る)がベースのそれより大きく、かつ基板の線膨張係数
もベースよりさらに小さいため、基板に密着したエポキ
シ樹脂の収縮応力によって基板とベースとが反り、密着
されていないエポキシ樹脂の部分、または密着力の弱い
部分に引張り応力が働き、境界面で剥離が発生するもの
である。
端面部分に密着性のよい皮膜処理を形成すると、境界面
付近のエポキシ樹脂にクラックが発生してしまう問題が
あった。
線膨張係数の小さいエポキシ樹脂を使用する、あるいは
前記ベースの端面に線膨張係数差を吸収する柔軟な樹脂
コーティング処理を施す、等が考えられる。しかしなが
らいずれもコストアップが避けられず、安価な構造が望
まれていた。
7−240493号公報のように半導体素子をリードフ
レームに搭載してこれらの部品をモールド樹脂中に埋設
してパッケージ化したものや、特開平1−205556
号公報のようにICチップとそのマウント部材および放
熱板をパッケージ化したものがある。これらの従来技術
は、電子回路基板やそのベースまでをもモールド樹脂で
パッケージしようとするものではない。ICパッケージ
や半導体素子よりもはるかに面積の大きい電子回路基板
やベースまでも一つのモールド樹脂で実装してしまうと
いう技術は、新たな試みである。
装技術を実現するにあたって、上記したように回路基板
やベースの面積の大きさ故にそれを包むエポキシ樹脂
(モールド樹脂)の収縮応力が大きくなり、それにより
回路基板やエポキシ樹脂間の境界面で剥離が発生すると
いった課題が新たに生じた。
装技術、すなわち電子回路基板やそのリードフレーム
(ベース)までをもモールド樹脂によりパッケージ化す
る場合に、上記課題を低コストでしようとするものであ
る。そして、放熱性、防水性に優れ、しかも熱応力によ
るモールド樹脂と回路基板,ベースとの剥離やクラック
のない、安価な自動車用電子回路装置を提供しようとす
るものである。
ケージを歩留まり良く製造できるパッケージ構造及び製
造方法を提供しようとするものである。
成するために、基本的には次のように構成する。
子回路素子を載置した回路基板からなる電子回路と、前
記電子回路を搭載するリードフレームと、前記リードフ
レームの一部に設けられたフランジ部と、リードとを備
え、前記電子回路とリードとが電気的に接続され、この
リード及び前記フランジの一部を除いて前記回路基板,
リードフレーム,リード,フランジが一括してモールド樹
脂に埋設され、かつ前記リードフレームには、中央付近
の上面に前記回路基板より小面積で該回路基板の中央部
を支持する突起が形成されており、この突起の周辺に複
数の樹脂流通孔が設けられ、前記突起に前記回路基板の
中央部裏面が接着されていることを特徴とする。
が前記リードフレームに突起を介して支持された状態
で、これらの部品がモールド成形に供せられ、モールド
成形の型は、樹脂を注入するためのランナゲート部とは
反対側に、モールド成形時に余分の樹脂を受け入れるよ
うにしたオーバーフローキャビティを設置し、前記型内
およびオーバーフローキャビティに樹脂を流しつつモー
ルド成形を行うことを特徴とする。
示す。図1は本実施例に係る自動車用電子回路装置(コ
ントロールユニット)1の平面図、図2及び図3はその
見る方向を変えた一部断面側面図である。
に、回路素子5および回路基板6からなる電子回路4が
搭載されている。この搭載は、回路基板6をリードフレ
ーム2上に接着することで行われる。その接着態様につ
いては後述する。
て形成されたリード(端子)である。リード2aと外部
の接続対象物(図示せず)を電気的に接続する場合に
は、リード2aが外部対象物のハーネス・コネクタ、ま
たはハーネス端子に溶接等で接続される。
音波等のワイヤボンディング法でアルミ細線8を介して
電気的に接続されている。
し、電子回路4とリード2aとを接続した後、これらの
部品(回路素子5,回路基板6,リードフレーム2,リ
ード2a)を一括してモールド樹脂(以下、封止樹脂と
称する)3中にリード2aの一部やフランジ2cの一部
を除いて埋設する。
によって製作する。トランスファモールド成形は、一般
に封止樹脂としてエポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂を使用
する方法で、粉末を圧縮成形したタブレット状のエポキ
シ樹脂を、型内で所定の温度、圧力を印加することによ
り融解および固化させるものである。LSI(大規模集
積回路)等のチップのパッケージとして広く採用されて
いる。
とし、内部部品を全体的に包む。また、樹脂3は、内部
部品との密着力を常に保持するため、また、はんだ付け
部や半導体チップと基板との細線ワイヤボンディング接
続部等に熱応力によっての剥れ及び断線が生じないよう
にするため、最適な物性値が選定される。
力繰返しにより、樹脂3とリード2a,リードフレーム
2とのそれぞれの密着界面からの水,油等の浸入が懸念
される。その点については、リード2aおよびリードフ
レーム2と封止樹脂3との線膨張係数差を極力小さく
し、それら部材間での熱応力を低減したり、リード2a
およびリードフレーム2に特殊な表面処理(例えばアル
ミキレート処理)を施し、樹脂と部材との境界部分で共
有結合させる手法により解決可能である。
導の良い銅、または銅系の合金材が選定される。回路基
板6はセラミック、ガラス・セラミック、エポキシ・ガ
ラス板等、適宜の材質が選定され、所定の回路パターン
が形成されている。
断面図であり、図3に対応するものである。
央付近の上面には、回路基板6より小面積で該回路基板
6の中央部のみを支持する突起7が形成され、突起7に
回路基板6の中央部裏面が接着される基板支持構造をな
している。
ンが形成され、また、基板上に回路素子5とボンディン
グパッド9がはんだ接続されている。
板6の中央を接着剤10を介して支持する突起7を設け
るほかに、基板6の四隅を支持する突起11が配設され
ている。これらの突起7及び11は、リードフレーム2
をプレス加工することで形成される。
が、回路基板6の大きさ、形状、回路パターンのレイア
ウト等により、任意の個数を選定できる。この突起11
を設けないと、中央付近のみの接着領域では、基板6の
平面度誤差やリードフレーム2と平面と突起7の上面と
の平行度誤差等により、基板6が傾いて接着されてしま
うことになる。
熱圧着,超音波等のワイヤボンディング法によりアルミ
の細線8が接続されている。
ば、それは熱伝導率の高いリン青銅の板を選定して、プ
レス加工し、図4を参照すれば、厚さ(t)は0.64
mm、突起7の外径(d)は5mm、高さ(h)1.4
4mmである。線膨張係数は、17.5ppmである。
また、突起7の存在により形成された回路基板6・リー
ドフレーム2間の間隙(g)は、0.8mmである。ち
なみに、封止樹脂3に混入される充填剤の平均粒径は、
30μm(0.03mm)である。したがって、この隙
間には充填剤を含む封止樹脂3が充分に流入可能な空間
を確保している。
路基板6をリードフレーム2に接着した構造の、有限要
素法による解析用2次元数値モデルである。Oは、基板
6およびリードフレーム2の中心位置である。
ードフレーム2に接着剤10を用いて接着する構造がと
られていた。この接着構造で回路基板6全体を封止樹脂
3中に埋設してしまうと、接着剤10の硬化時に微小な
気泡が多数接着剤中に残り、トランスファモールド工程
の熱により気泡が膨張しそれが潰れ、リードフレーム2
や回路基板6の接着部と封止樹脂3との密着界面付近で
界面剥離する問題が発生しやすかった。
ールド樹脂)3を型から取出して常温まで冷却する過程
において、エポキシ樹脂等価線膨張係数がリードフレー
ム2のそれより大きく、かつ回路基板6の線膨張係数も
リードフレームよりさらに小さいため、基板に密着した
エポキシ樹脂の収縮応力が基板6やリードフレーム2に
作用し、これが上記気泡の膨張と相俟って、エポキシ樹
脂と基板,リードフレームの密着力の弱い部分に引張り
応力が働き、境界面で剥離が発生する。
による熱応力(剥離せん断応力)集中が、形状の急変す
る基板6の四隅付近に生じ、この部分で剥離が発生する
ものである。この部分で剥離が起きると、使用時の温度
変化により更に剥離が進展する。剥離が遂には封止樹脂
3のクラック、そして回路素子5の電気的接続部である
はんだ付け部、ワイヤボンディング部の断線に至る。
ムについてより詳細に説明する。
3とリードフレーム2とは一体化されているが、電子部
品5、基板6、リード2a等との材料物性値の組み合わ
せ、とくに線膨張係数の差により、封止樹脂3には反り
が生じる。
型から取出して冷却したとき、下側が凸方向に発生す
る。その理由は、一般にエポキシ樹脂の融解温度は15
0〜200℃、ガラス転移温度Tgは150℃前後であ
り、型内で硬化する際の収縮があることと、融解温度〜
Tg間の線膨張係数がTg以下に比べて大きく(約4
倍)、エポキシ樹脂等価線膨張係数が基板6の線膨張係
数より大きいためである。
の線膨張係数を5.2ppm、リードフレーム2の線膨
張係数を17.5ppm、封止樹脂3のみかけの線膨張
係数(すなわち、前記収縮率と、溶解温度〜ガラス転移
温度Tg間の線膨張係数と、ガラス転移温度Tg〜室温
までの線膨張係数とを合成したエポキシ樹脂等価線膨張
係数)を30ppmとすると、それぞれの線膨張係数差
により、封止樹脂3に大きな収縮応力が生じる。また、
基板6の上面には回路素子5を搭載するスペースが必要
なため、基板6の位置は封止樹脂3の高さ方向において
中央或いはそれより下側に配置される。このため樹脂3
の厚さは、基板上部の方が下部より厚く、その結果、樹
脂3の収縮による引張り力も基板6の上部の方が大きく
なり、下側が凸となる。それによって基板6とリードフ
レーム2は、密着したまま下側に凸となるものである。
3との線膨張係数差による熱応力(剥離せん断応力)集
中が基板6の四隅付近に生じるものである。
形状等が異なるときには、反りは下側に凹となる場合も
ある。
剥離が発生、進展しない構造とすることが非常に重要な
課題である。
めるシリコンチップに近い線膨張係数を有したもので、
かつ封止樹脂3との線膨張係数差が少ないものが好まし
く、回路規模が大きくなると、小型化するには多層の回
路基板が好ましく、例えば積層ガラス・セラミック基
板、もしくはセラミック基板が好適である。しかしなが
ら前記接着構造では、既述したように基板の部分的な剥
離を防止することが困難であった。
にして対処し得る。以下、本発明による界面剥離防止メ
カニズムを図6を参照して説明する。
よる解析用2次元数値モデルを示す。図5と同じくO
は、基板6およびリードフレーム2の中心位置である。
ム2全体を封止樹脂3で包み込むが、リードフレーム2
は、回路基板6のうち熱応力が非常に小さい中央付近の
一部のみを突起7を介して接着する。したがって、接着
剤10の硬化時に微小な気泡が多数接着剤中に残り、ト
ランスファモールド工程の熱により気泡が膨張しても、
それは熱応力の小さい個所で生じているもので問題がな
く、また、封止樹脂3は、リードフレーム2・基板6間
にも介在することで基板下側と基板上側の肉厚のバラン
スがとれ、それにより基板6の四隅付近の樹脂による熱
応力集中を緩和し、これらが相俟って、封止樹脂3と基
板6の四隅との剥離ひいては封止樹脂3のクラック発生
をなくすことができる。
に係る構造において、基板6の接着部の剥離せん断応力
を、有限要素法を用いてシミュレーション解析した結果
の比較図であり、基板6と接着剤10との夫々の界面A
−A’,B−B’のせん断応力分布を比較したものであ
る。
A、Bに対応している。これらの応力は原点に近づくに
従い増加する分布を示しているため、点A,Bを起点と
して界面の剥離を引き起こそうとする作用を持つが、本
実施例の構造では、常に従来構造の応力より著しく小さ
いことが分かる。
ほかに、次のような効果も奏し得る。
が使用されるが、回路素子5のうち高発熱素子について
は、図4に示すように基板中央すなわち突起7がある位
置に相当する箇所に配置すれば、突起7を介しての放熱
効果も高めることができる。
基板6に実装された回路素子5の表面から封止樹脂3の
熱伝導で上部に放熱され、他の一部は、基板6の下側封
止樹脂3を介し、リードフレーム2の平面方向にフラン
ジ部2cを経由して、フランジと結合される外部の相手
部材(電子回路装置の取付け位置)に逃げる。
部に、基板6を介して回路素子5の高発熱素子を配置す
るほかに、基板6のうち突起7上の箇所を熱伝導の良い
部材、いわゆるサーマルビア30を貫通して設け、この
サーマルビアを介して高発熱素子5と突起7とを接触さ
せ、リードフレーム2に熱が伝導するようにすれば、回
路素子5の温度上昇を低減することができる。
レーム2の詳細を示すものである。
グ部2b、フランジ部2c、孔部2d、つなぎ部2e、
フレーム部2f、切り欠き2g、樹脂流通溝2h、突起
11をプレス成形する。突起11は複数であり、突起1
1の周辺に設けられている。
するための表面部分(ボンディングパッド)2bには、
表面が酸化されないようにニッケルメッキ、銀メッキ等
が部分的に施される。フランジ部2cは相手部材に固定
するためのもの、孔2dは組立時の治具を位置決めする
ために設けたものである。
作誤差で生じるトランスファモールド成形時の型合わせ
誤差を少なくする目的で設けている。また、この型に図
11で示すサブアッセンブリをセットする際、逆方向に
ならないようにする目的も兼ねている。この切り欠き2
gは、リードフレーム2が対称形状の場合、表裏が識別
できる任意の形状、位置を選定すればよい。
ランジ部2cとで閉ループ構成となっている理由は、こ
の部分をトランスファモールド成形型で上下間を締め付
けることにより、型内でエポキシ樹脂が融解して液状に
なった際でも、この閉ループ部により液状樹脂が外側に
洩れないようにするためである。
間には、製作誤差による隙間ができるため、この部分で
液状のエポキシ樹脂が外部に洩れるが、閉ループ構成と
なっていることにより、そのループ内で硬化後に薄いバ
リとして残り、そしてこのバリは後工程で除去される。
ードフレーム2に載置し、この電子回路4を基板6介し
て突起7に接着したサブアッセンブリ状態を示すもので
ある。
脂、アクリル樹脂等の材質で、突起7の上部に塗布した
後、基板6を載置する。基板6は、接着剤10の硬化の
加熱工程で液状化した際、自重で突起7の端面に接す
る。接着剤10は、基板6とボス7とが隙間なく結合で
きるよう、最適な粘度を有したものが選定される。
図11はその断面図で、ワイヤボンディング作業する治
具の状態を示す図である。
ム2のリード2aの上下部を上治具12、下治具13で
挟み込むとともに、基板6の下部を吸着治具14で真空
吸着し、サブアッセンブリが動かないように保持する。
そしてアルミ細線8を熱圧着、超音波等のワイヤボンデ
ィング法により電子回路4とリード2aとを電気的に接
続する。
10の点線で示す部分の封止樹脂3でトランスファモー
ルド成形する。この成形後、リードフレーム2のつなぎ
部2e、フレーム部2fを切断し、複数の独立したリー
ド2aを形成するとともに、フランジ部2cを所定の形
状に窓抜き加工、および折り曲げ加工することにより、
コントロールユニット1が完成する。
外部の相手部材に装着する構造を示す部分平面図、図1
3はその断面図、図14はその部分断面図である。
自動車のトランスミッションに取り付けるものを例示し
ており、電子回路装置1を取り付ける場合には、以下に
述べるようにブラケットでフランジ部2cを押えて固定
する。
ラケット、17は座金、18はボルトである。第一のブ
ラケット15には、図示していないセンサ、コネクタ、
ワイヤハーネス等の部品が搭載される。第一のブラケッ
ト15の一部に舌片15aを複数設け、第二のブラケッ
ト16の小孔16aに挿入して先端部を折り曲げ、両者
を一体化している。
ト15,16間に挟まれる。ボルト18はフランジ部2
cを回避して、ブラケット15,16を通して締め付け
られる。これによって、フランジ部2cはブラケット1
5,16により挟持され、座金17、第二のブラケット
16、第一のブラケット15とともに相手部材、例えば
トランミッションのボディに共締めされる形となる。
うな点を改善できる。
の孔を設ける構造では、フランジ部2cの面積をその分
大きくしなければならず、それによってリードフレーム
2の外側を大きくする必要があり、トランスファモール
ド成形で製品を一度に多数個取りする場合に、その取り
数が少なくなる欠点がある。最小限のフランジ大きさと
し、後述するように、これをブラケットで固定する方式
により、この欠点をなくすことができる。
ールド成形時に熱収縮応力により下側などの凸状態にな
ることもある。相手部材が平面状態のとき、例えば下側
に凸状態で封止樹脂3の下面が直接この面に接したま
ま、リードフレーム2のフランジ部2cを固定すると、
封止樹脂3の中央部が相手部材に拘束される。それによ
り、封止樹脂3の反りを矯正するような形となるため、
封止樹脂3とリードフレーム2との接着界面に過大な応
力が働き、両者間が剥離する恐れがある。
スペーサとしての機能もなすことで、相手部材と封止樹
脂3下面との間に隙間を設け、リードフレーム2の最外
形付近に設けたフランジ部2cのみを押えるようにでき
る。したがって、上記したような過大な応力は回避でき
剥離の不具合は生じない。また、第一のブラケット15
と第二のブラケット16により、リードフレーム2のフ
ランジ部2cを挟み、舌片15aを折り曲げて一体化し
たため、相手部材に装着する際、取扱いが容易となる利
点も有する。
のパッケージ製造方法について説明する。
ド成形する際の説明用の平面図、図17はその断面図で
ある。
はその上型である。封止樹脂3を成形するための下側キ
ャビティ21と、上側キャビティ31を夫々下型20、
上型30に形成している。
ナゲート部、3bはこのランナゲート部3aとは反対側
に設けたオーバーフローキャビティで、夫々上型30に
彫り込んで形成し、型分割面は、リードフレーム2の上
面としている。オーバーフローキャビティ3bは、封止
樹脂3のモールド成形時に余分の樹脂を受け入れるよう
にしたものである。
11で示したワイヤボンディング作業が終了した後、こ
のアッセンブリ部品を所定の温度に設定された下型20
に挿入する。次いで所定の温度に設定された上型30を
載せ、型締め保持する。
のエポキシ樹脂が流入し、上下キャビティ21、22に
充満した後、オーバーフローキャビティ3bに流入し、
この部分に充満する。充満したエポキシ樹脂は徐々に粘
度が上がり、所定の時間が経過した後、固化して封止樹
脂3が形成される。
空洞いわゆるボイドが生じやすい。とくに本発明の構
造、すなわちリードフレーム2の中央付近に突起7を設
け、その上部に基板6の中央付近を接着固定したことを
特徴とする構造においては、基板6の下側とリードフレ
ーム2の上側との間に介在する樹脂3Bが、下側キャビ
ティ21の樹脂3Aと上側キャビティ31の樹脂3Cに
比べて流動性が悪く、ボイドが発生しやすい。この理由
を以下説明する。
流入する樹脂は、樹脂3A、樹脂3B、樹脂3Cに分れ
てオーバーフローキャビティ3b側に向かって流動す
る。3者の樹脂が同一の流動抵抗を持っていれば、ボイ
ドは発生しにくい。ボイドが発生するのは、3者の樹脂
の流動抵抗が異なるからである。樹脂3Aはリードフレ
ーム2の下側で、流動を阻害する部品がないが、樹脂3
Bは基板6とリードフレーム2との間の狭い部分のた
め、樹脂3Aに比較して流動抵抗が大きい。樹脂3Cは
基板6の回路素子5が搭載される部分であり、流動性が
悪くなる要因はあるが、回路素子5は基板6の上面全体
に搭載されている訳ではなく、高さもまちまちであり、
樹脂3Bに比べると流動抵抗は小さい。実施例では、樹
脂3Aと3Cとは、ほぼ同じ流動抵抗であった。
バランスしているが、樹脂3Bの流動抵抗が大きく、オ
ーバーフローキャビティ3bがないと仮定した場合に
は、樹脂3Bが遅れて流入するため、樹脂3A、3Cが
樹脂3Bの周囲を取り囲むことになり、内部の空気の逃
げ場がなく、ボイドとして封止樹脂3の内部に残ること
となる。
充填完了時点の加圧力により、基板6が樹脂3Cで押さ
れ、クラックや変形が生じたりする。また、クラックが
生じない程度のボイドであっても、発生部位によっては
使用時の温度変化で封止樹脂3に微小クラックが生じ、
最悪の場合には回路素子、素子結合部のはんだ、ワイヤ
ボンディング接続部等の断線に進展する場合があり、ボ
イド発生を防止することは、非常に重要な課題である。
樹脂3Bの厚さを厚くすればよいが、全体の封止樹脂3
が厚くなり、このため基板6の下側の樹脂3Bとリード
フレーム2の上側との間の熱抵抗が増加し、電子回路4
の放熱効果が悪くなる問題が生じる。したがって樹脂3
Bは極力薄い方が、放熱性の点からは好ましい。
4、図8、図9、図15で示したように、リードフレー
ム2に複数の窓2hを設けている。ランナゲート3aか
らエポキシ樹脂が流入すると、樹脂3Aが形成される
際、同時に窓2hに向かって流れる分が樹脂3Bに加わ
り、実質的に樹脂3Bの流動抵抗が小さくなるように作
用する。したがって樹脂3A、3B、3Cの流動バラン
スがよくなり、ボイド発生が防止できるものである。
せることは実用上困難であり、オーバーフローキャビテ
ィ3bでその補正を行う。すなわち、エポキシ樹脂がま
だ固まらない液の状態で、残留空気とエポキシ樹脂とを
オーバーフローキャビティ3bに流入させ、充満した後
にエポキシ樹脂が固化するようにしたものである。
よいが、ボイド発生防止の点からその形状、大きさ、個
数、オーバフローキャビティ3bの大きさ、深さ等は流
動解析や実験により最適な仕様を決定する。また、説明
ではランナゲート部3aとオーバーフローキャビティ3
bを上型30に設けたが、下型20に設けてもよく、さ
らには両者を夫々互い違いに上下型20、30に設けて
もよい。
て、リードフレームの中央付近に突起を設け、この突起
に電子回路基板を接着する構造としたため、基板と封止
樹脂との界面剥離やクラック発生を防止できる。そのた
め、電子回路基板やそのリードフレームまでをもモール
ド樹脂によりパッケージ化することを低コストで実現で
きた。さらに、放熱性、防水性に優れに優れた自動車用
電子回路装置を提供することができる。
いて、ボイド発生のないパッケージを製造することがで
きる。
の一部を断面して示す平面図。
数値モデル。
元数値モデル。
剥離せん断応力を、有限要素法を用いてシミュレーショ
ン解析した結果を示す説明図。
着したサブアッセンブリ状態を示す断面図。
作業する状態を示す図。
る構造を示す部分平面図。
の説明用平面図。
ドフレーム、2a…リード、2c…フランジ部、3…封
止樹脂、4…電子回路、6…基板、7…突起。
Claims (4)
- 【請求項1】 電子回路素子を載置した回路基板からな
る電子回路と、前記電子回路を搭載するリードフレーム
と、前記リードフレームの一部に設けられたフランジ部
と、リードとを備え、 前記電子回路とリードとが電気的に接続され、このリー
ド及び前記フランジの一部を除いて前記回路基板,リー
ドフレーム,リード,フランジが一括してモールド樹脂に
埋設され、かつ前記リードフレームには、中央付近の上
面に前記回路基板より小面積で該回路基板の中央部を支
持する突起が形成されており、この突起の周辺に複数の
樹脂流通孔が設けられ、前記突起に前記回路基板の中央
部裏面が接着されていることを特徴とする自動車用電子
回路装置。 - 【請求項2】 前記リードフレームには、中央部の突起
の他に前記回路基板の隅部を支える突起が形成され、こ
れらの突起及び前記樹脂流通孔がプレス成形されている
請求項記載の自動車用電子回路装置。 - 【請求項3】 少なくとも、電子回路素子を載置した回
路基板と、この回路基板を支持するリードフレームと、
リードとを、そのリードの一部を残して一括してモール
ド樹脂中に埋設するパッケージ製造方法であって、 前記リードフレームには、中央付近の上面に前記回路基
板より小面積で該回路基板の中央部を支持する突起が形
成され、前記突起に前記回路基板の中央部裏面が接着さ
れた状態で、これらの部品がモールド成形に供せられ、 前記モールド成形の型は、樹脂を注入するためのランナ
ゲート部とは反対側に、モールド成形時に余分の樹脂を
受け入れるようにしたオーバーフローキャビティを設置
し、前記型内およびオーバーフローキャビティに樹脂を
流しつつモールド成形を行うことを特徴とする自動車用
電子回路装置のパッケージ製造方法。 - 【請求項4】 前記リードフレームの前記突起周辺に樹
脂流通孔を設けて、前記モールド成形を行うようにした
請求項3記載の自動車用電子回路装置のパッケージ製造
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2002261198A true JP2002261198A (ja) | 2002-09-13 |
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CN107535060A (zh) * | 2015-04-29 | 2018-01-02 | 罗伯特·博世有限公司 | 电子组件、尤其是用于传动装置控制模块的电子组件 |
-
2001
- 2001-03-06 JP JP2001061708A patent/JP3550100B2/ja not_active Expired - Fee Related
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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