JP2002250875A - 光変調装置及びその光変調装置の製造方法並びにその光変調装置を具備する画像形成装置及びその光変調装置を具備する画像投影表示装置 - Google Patents

光変調装置及びその光変調装置の製造方法並びにその光変調装置を具備する画像形成装置及びその光変調装置を具備する画像投影表示装置

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JP2002250875A
JP2002250875A JP2001049485A JP2001049485A JP2002250875A JP 2002250875 A JP2002250875 A JP 2002250875A JP 2001049485 A JP2001049485 A JP 2001049485A JP 2001049485 A JP2001049485 A JP 2001049485A JP 2002250875 A JP2002250875 A JP 2002250875A
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thin
light
thin film
film
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JP2001049485A
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Seiichi Kato
静一 加藤
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Ricoh Co Ltd
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Ricoh Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 入射光の反射方向を変えて光変調を行う構造
が簡単で応答も速く、使用する入射光の波長が制限され
ることなく、駆動電圧が低く作動が安定で信頼性も高
く、製造工程が少なく低コストの光変調装置を提供す
る。 【解決手段】 反射手段1を側面に組み合わせ構成する
薄膜で形成され両端が固定されて静電力で変形する薄膜
両端固定梁2と、薄膜両端固定梁2に対向して駆動電圧
を印加する基板電極3と、基板電極3を凹形状部に形成
して薄膜両端固定梁2の両端の被保持部2aを保持する
基板4と、基板4に保持される上記薄膜両端固定梁2の
一方の被保持部2a1端側が他方の被保持部2a2端側よ
り変位し易く形成された変位促進手段5とを備えた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光変調装置及びそ
の光変調装置の製造方法並びにその光変調装置を具備す
る画像形成装置及びその光変調装置を具備する画像投影
表示装置に関し、詳しくは、入射光の反射方向を変えて
光変調を行う光変調装置及びその光変調装置の製造方法
並びにその光変調装置を具備する電子写真プロセスで光
り書き込みを行って画像を形成する画像形成装置及びそ
の光変調装置を具備する画像を投影して表示する画像投
影表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】静電力を利用した光スイッチデバイスの
入射光の反射方向を変えて光変調を行う光変調装置は、
電子写真プロセスで光り書き込みを行って画像を形成す
る画像形成装置、画像を投影して表示する画像投影表示
装置等に使用されている。静電力を利用した光スイッチ
デバイスの入射光の反射方向を変えて光変調を行う光変
調装置では、片持ち梁を静電力で撓ませて、入射光の反
射方向を変えてスイッチするデバイス、及び、それを用
いた光変調システムは、既に公知である。片持ち梁は、
静電力が解放されて梁の撓みが回復するときに振動す
る。これは、梁の一端のみが固定されていることによ
る、梁の自由振動が発生するためである。また、梁を薄
膜で形成する場合には、残留応力が発生する。片持ち梁
の場合、残留応力により梁が変形する。しかも、残留応
力は時間を経て緩和されるために、片持ち梁の変形状態
が経時変化する。以上の理由で片持ち梁は安定性が悪
い。また、片持ち梁の場合は、自由振動に起因して、信
号応答性が悪くなる。したがって、片持ち梁の安定性の
確保が難しく、片持ち梁の固有振動数が低いために、応
答速度を速くすることができなかった。
【0003】ミラーを細いねじり棒で保持し、静電力に
よりミラーの向きを変え、光の反射方向を変えてスイッ
チするデバイスも既に公知であるが、その構造が複雑に
なり、歩留まりを高くすることが困難であるだけでな
く、ミラーの保持が細いねじり棒によるために、その寿
命を長くすることができなかった。回折格子を静電力で
駆動して、光スイッチするデバイスも公知である(特許
第2941952号、特許第3016871号、特表平
10−510374号等の公報を参照)。然し、このよ
うな、回折格子を静電力で駆動して、光スイッチするデ
バイスは、使用する入射光の波長が制限されると言う欠
点があった。静電力により梁を湾曲させ、反射光の焦点
を合わせて、スリットを通過させることで光スイッチす
るデバイスも公知である(特開2000−002842
の公報を参照)。然し、このような、静電力により梁を
湾曲させ、反射光の焦点を合わせて、スリットを通過さ
せることで光スイッチするデバイスは、梁を湾曲する駆
動電圧が高く、梁の湾曲の度合いが不安定になり易く信
頼性が低くなっていた。したがって、従来の入射光の反
射方向を変えて光変調を行う光変調装置及びその光変調
装置を具備する画像形成装置及びその光変調装置を具備
する画像投影表示装置は、入射光の反射方向を変えて光
変調を行う構造が複雑で応答も遅く、使用する入射光の
波長が制限され、駆動電圧が高く作動が不安定で信頼性
も低くいと言う不具合が生じていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来の入射光束の反射
方向を変えて光変調を行う光変調装置及びその光変調装
置を具備する画像形成装置及びその光変調装置を具備す
る画像投影表示装置は、入射光束の反射方向を変えて光
変調を行う構造が複雑で応答も遅く、使用する入射光の
波長が制限され、駆動電圧が高く作動が不安定で信頼性
も低くいと言う問題が発生していた。そこで本発明の課
題は、このような問題点を解決するものである。すなわ
ち、入射光の反射方向を変えて光変調を行う構造が簡単
で応答も速く、使用する入射光の波長が制限されること
なく、駆動電圧が低く作動が安定で信頼性も高く、製造
工程が少なく低コストの光変調装置及びその光変調装置
の製造方法並びにその光変調装置を具備する画像形成装
置及びその光変調装置を具備する画像投影表示装置を提
供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1記載の発明は、入射光の反射方向を変えて
光変調を行う光変調装置において、入射光を正反射する
反射手段と、上記反射手段を側面に組み合わせ構成する
薄膜で形成され両端が固定されて静電力で変形する薄膜
両端固定梁と、上記薄膜両端固定梁の他方側面に形成さ
れる空隙を介して上記薄膜両端固定梁に対向して駆動電
圧を印加する基板電極と、上記基板電極を凹形状部に形
成して上記薄膜両端固定梁の両端の被保持部を保持する
基板と、上記基板に保持される上記薄膜両端固定梁の一
方の被保持部端側が他方の被保持部端側より変位し易く
形成された変位促進手段とからなる光変調装置であるこ
とを最も主要な特徴とする。請求項2記載の発明は、請
求項1に記載の光変調装置において、反射手段は、薄膜
両端固定梁の一方の被保持部端側に形成された変位促進
手段側と反対側の他方の被保持部端側に形成された光変
調装置であることを主要な特徴とする。請求項3記載の
発明は、請求項1又は2に記載の光変調装置において、
薄膜両端固定梁は、単結晶シリコンからなる光変調装置
であることを主要な特徴とする。請求項4記載の発明
は、請求項1又は2に記載の光変調装置において、薄膜
両端固定梁は、多結晶シリコンからなる光変調装置であ
ることを主要な特徴とする。請求項5記載の発明は、請
求項1又は2に記載の光変調装置において、薄膜両端固
定梁は、窒化シリコンからなる光変調装置であることを
主要な特徴とする。
【0006】請求項6記載の発明は、請求項1〜5のい
ずれかに記載の光変調装置において、薄膜両端固定梁と
基板電極が対向して形成する空隙の形状は、最大深さ位
置に対して非対象の形状である光変調装置であることを
主要な特徴とする。請求項7記載の発明は、請求項1〜
6のいずれかに記載の光変調装置において、基板電極
は、空隙を介して対向する薄膜両端固定梁と非平行であ
る光変調装置であることを主要な特徴とする。請求項8
記載の発明は、請求項1〜7のいずれかに記載の光変調
装置において、基板電極は、駆動電圧の印加による薄膜
両端固定梁の変位を当接により規制して反射手段の入射
光の光変調を行う光変調装置であることを主要な特徴と
する。請求項9記載の発明は、請求項1〜8のいずれか
に記載の光変調装置において、変位促進手段は、薄膜両
端固定梁と基板電極が対向して形成する空隙の最大深さ
位置に近い上記薄膜両端固定梁の一方の被保持部側に形
成した光変調装置であることを主要な特徴とする。請求
項10記載の発明は、請求項1〜9のいずれかに記載の
光変調装置において、変位促進手段は、薄膜両端固定梁
の一方の被保持部側が他方の被保持部側より狭い狭隘部
からなる光変調装置であることを主要な特徴とする。
【0007】請求項11記載の発明は、請求項10に記
載の光変調装置において、狭隘部は、伸縮が自在の伸縮
形状である光変調装置であることを主要な特徴とする。
請求項12記載の発明は、請求項10又は11に記載の
光変調装置において、狭隘部は、複数個からなる光変調
装置であることを主要な特徴とする。請求項13記載の
発明は、請求項12に記載の光変調装置において、複数
個の狭隘部は、各々が対象位置に形成した光変調装置で
あることを主要な特徴とする。請求項14記載の発明
は、請求項1〜13のいずれかに記載の光変調装置にお
いて、変位促進手段は、薄膜両端固定梁の一方の被保持
部側を穿った穴部からなる光変調装置であることを主要
な特徴とする。請求項15記載の発明は、請求項14に
記載の光変調装置において、穴部は、複数個を形成した
光変調装置であることを主要な特徴とする。
【0008】請求項16記載の発明は、請求項14又は
15に記載の光変調装置において、穴部は、薄膜両端固
定梁の長辺方向に複数個を形成した光変調装置であるこ
とを主要な特徴とする。請求項17記載の発明は、入射
光束の反射方向を変えて光変調を行う上記請求項1〜1
6のいずれかに記載の光変調装置の製造方法において、
基板上に空隙となる凹計上部を形成した後に、犠牲材料
からなる犠牲材料層を形成して上記基板を平坦化して、
薄膜両端固定梁と変位促進手段を形成後に、上記犠牲材
料層を除去して光変調装置を製造する光変調装置の製造
方法であることを最も主要な特徴とする。請求項18記
載の発明は、請求項17に記載の光変調装置の製造方法
において、基板上に薄膜形成方法又は微細加工方法によ
り上記基板上に空隙となる凹形状部を形成する凹形状部
形成工程と、上記基板上の凹形状部に基板電極の全部又
は一部を形成する基板電極形成工程と、上記基板上の凹
形状部に犠牲材料からなる犠牲材料層を形成する犠牲材
料層形成工程と、上記犠牲材料層を研磨して平坦化する
平坦化工程と、上記犠牲材料層上に薄膜両端固定梁を形
成する薄膜両端固定梁成膜形成工程と、上記薄膜両端固
定梁に変位促進手段を形成する変位促進手段工程と、反
射手段を形成する反射手段形成工程と、上記基板電極の
パッド開口部を形成するパッド開口部形成工程と、凹形
状部の上記犠牲材料層を除去する犠牲材料層除去工程と
からなる光変調装置の製造方法であることを主要な特徴
とする。請求項19記載の発明は、電子写真プロセスで
光り書き込みを行って画像を形成する画像形成装置にお
いて、回動可能に保持されて形成画像を担持する画像担
持体と、画像担持体上を光り書き込みを行って潜像を形
成する請求項1〜16のいずれかに記載の光変調装置か
らなる潜像形成手段と、上記潜像形成手段の上記光変調
装置によって形成された潜像を顕像化してトナー画像を
形成する現像手段と、上記現像手段で形成されたトナー
画像を被転写体に転写する転写手段とからなる画像形成
装置であることを最も主要な特徴とする。請求項20記
載の発明は、画像を投影して表示する画像投影表示装置
において、画像投影データの入射光の反射方向を変えて
光変調を行って画像を投影して表示する請求項1〜16
のいずれかに記載の光変調装置からなる光スイッチ手段
と、上記光スイッチ手段の上記光変調装置が投影する画
像を表示する投影スクリーンとからなる画像投影表示装
置であることを最も主要な特徴とする。
【0009】
【作用】上記のように構成された光変調装置及びその光
変調装置の製造方法並びにその光変調装置を具備する画
像形成装置及びその光変調装置を具備する画像投影表示
装置は、請求項1においては、入射光を正反射する反射
手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成され両端が
固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁の他方側面
に形成される空隙を介して薄膜両端固定梁に対向して駆
動電圧を印加する基板電極を凹形状部に形成して薄膜両
端固定梁の両端の被保持部を保持する基板に保持される
薄膜両端固定梁の一方の被保持部側が他方の被保持部側
より変位促進手段により変位し易いようにして、入射光
の反射方向を変えて光変調を行う構造が簡単で応答も速
く、使用する入射光の波長が制限されることなく、駆動
電圧が低く、製造工程が少なく低コストの光変調装置を
提供することができるようにする。請求項2において
は、入射光を正反射する反射手段を側面に組み合わせ構
成する薄膜で形成され両端が固定されて静電力で変形す
る薄膜両端固定梁の他方側面に形成される空隙を介して
薄膜両端固定梁に対向して駆動電圧を印加する基板電極
を凹形状部に形成して薄膜両端固定梁の両端の被保持部
を保持する基板に保持される薄膜両端固定梁の一方の被
保持部側が他方の被保持部側より変位促進手段により変
位し易いようにすると共に反射手段は薄膜両端固定梁の
一方の被保持部端側に形成された変位促進手段側と反対
側の他方の被保持部端側に形成されるようにして、反射
手段の有効面積が広くなり、入射光の反射方向を変えて
光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射光
の波長が制限されることなく、駆動電圧が低く、製造工
程が少なく低コストの光変調装置を提供することができ
るようにする。
【0010】請求項3においては、入射光を正反射する
反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成され両
端が固定されて静電力で変形する単結晶シリコンからな
る薄膜両端固定梁の他方側面に形成される空隙を介して
薄膜両端固定梁に対向して駆動電圧を印加する基板電極
を凹形状部に形成して薄膜両端固定梁の両端の被保持部
を保持する基板に保持される薄膜両端固定梁の一方の被
保持部側が他方の被保持部側より変位促進手段により変
位し易いようにして、単結晶シリコンで形成した薄膜両
端固定梁は欠陥が少なく寿命が長くなり、入射光の反射
方向を変えて光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使
用する入射光の波長が制限されることなく、駆動電圧が
低く、製造工程が少なく低コストの光変調装置を提供す
ることができるようにする。請求項4においては、入射
光を正反射する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄
膜で形成され両端が固定されて静電力で変形する多結晶
シリコンからなる薄膜両端固定梁の他方側面に形成され
る空隙を介して薄膜両端固定梁に対向して駆動電圧を印
加する基板電極を凹形状部に形成して薄膜両端固定梁の
両端の被保持部を保持する基板に保持される薄膜両端固
定梁の一方の被保持部側が他方の被保持部側より変位促
進手段により変位し易いようにして、多結晶シリコンで
形成した薄膜両端固定梁はCVD等の手法を用いること
ができるのでコストが低くなり、入射光の反射方向を変
えて光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用する入
射光の波長が制限されることなく、駆動電圧が低く、製
造工程が少なく更に低コストの光変調装置を提供するこ
とができるようにする。
【0011】請求項5においては、入射光を正反射する
反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成され両
端が固定されて静電力で変形する窒化シリコンからなる
薄膜両端固定梁の他方側面に形成される空隙を介して薄
膜両端固定梁に対向して駆動電圧を印加する基板電極を
凹形状部に形成して薄膜両端固定梁の両端の被保持部を
保持する基板に保持される薄膜両端固定梁の一方の被保
持部側が他方の被保持部側より変位促進手段により変位
し易いようにして、窒化シリコンの薄膜で形成した薄膜
両端固定梁はシリコン薄膜の引っ張り応力の作用により
スイッチングの応答速度を速くなり、入射光の反射方向
を変えて光変調を行う構造が簡単で応答も更に速く、使
用する入射光の波長が制限されることなく、駆動電圧が
低く、製造工程が少なく更に低コストの光変調装置を提
供することができるようにする。請求項6においては、
入射光を正反射する反射手段を側面に組み合わせ構成す
る薄膜で形成され両端が固定されて静電力で変形する薄
膜両端固定梁の他方側面に形成される空隙を介して薄膜
両端固定梁に対向して駆動電圧を印加する基板電極を凹
形状部に形成して薄膜両端固定梁の両端の被保持部を保
持する基板に保持される薄膜両端固定梁の一方の被保持
部側が他方の被保持部側より変位促進手段により変位し
易いようにすると共に薄膜両端固定梁と基板電極が対向
して形成する空隙の形状は最大深さ位置に対して非対象
の形状であるようにして、反射手段の有効面積が更に広
くなり、入射光の反射方向を変えて光変調を行う構造が
簡単で応答も速く、使用する入射光の波長が制限される
ことなく、駆動電圧が低く、製造工程が少なく低コスト
の光変調装置を提供することができるようにする。
【0012】請求項7においては、入射光を正反射する
反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成され両
端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁の他方
側面に形成される空隙を介して薄膜両端固定梁に対向し
て駆動電圧を印加する基板電極を凹形状部に形成して薄
膜両端固定梁の両端の被保持部を保持する基板に保持さ
れる薄膜両端固定梁の一方の被保持部側が他方の被保持
部側より変位促進手段により変位し易いようにすると共
に基板電極は空隙を介して対向する薄膜両端固定梁と非
平行であるようにして、入射光の反射方向を変えて光変
調を行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射光の波
長が制限されることなく、駆動電圧が更に低く、製造工
程が少なく低コストの光変調装置を提供することができ
るようにする。請求項8においては、入射光を正反射す
る反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成され
両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁の他
方側面に形成される空隙を介して薄膜両端固定梁に対向
して駆動電圧を印加する基板電極を凹形状部に形成して
薄膜両端固定梁の両端の被保持部を保持する基板に保持
される薄膜両端固定梁の一方の被保持部側が他方の被保
持部側より変位促進手段により変位し易いようすると共
に基板電極は駆動電圧の印加による薄膜両端固定梁の変
位を当接により規制して反射手段の入射光の光変調を行
うようにして、光変調が確実に行なわれ、入射光の反射
方向を変えて光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使
用する入射光の波長が制限されることなく、駆動電圧が
低く、製造工程が少なく低コストの光変調装置を提供す
ることができるようにする。
【0013】請求項9においては、入射光を正反射する
反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成され両
端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁の他方
側面に形成される空隙を介して薄膜両端固定梁に対向し
て駆動電圧を印加する基板電極を凹形状部に形成して薄
膜両端固定梁の両端の被保持部を保持する基板に保持さ
れる薄膜両端固定梁の一方の被保持部側が他方の被保持
部側より変位促進手段により変位し易いようにすると共
に変位促進手段は薄膜両端固定梁と基板電極が対向して
形成する空隙の最大深さ位置に近い薄膜両端固定梁の一
方の被保持部側に形成するようにして、反射手段の有効
面積が更に広くなり、入射光の反射方向を変えて光変調
を行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射光の波長
が制限されることなく、駆動電圧が低く、製造工程が少
なく低コストの光変調装置を提供することができるよう
にする。請求項10においては、入射光を正反射する反
射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成され両端
が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁の他方側
面に形成される空隙を介して薄膜両端固定梁に対向して
駆動電圧を印加する基板電極を凹形状部に形成して薄膜
両端固定梁の両端の被保持部を保持する基板に保持され
る薄膜両端固定梁の一方の被保持部側が他方の被保持部
側より変位促進手段により変位し易いようにすると共に
変位促進手段は薄膜両端固定梁の一方の被保持部側が他
方の被保持部側より狭い狭隘部からなるようにして、入
射光の反射方向を変えて光変調を行う構造が更に簡単で
応答も速く、使用する入射光の波長が制限されることな
く、駆動電圧が低く、製造工程が少なく低コストの光変
調装置を提供することができるようにする。
【0014】請求項11においては、入射光を正反射す
る反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成され
両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁の他
方側面に形成される空隙を介して薄膜両端固定梁に対向
して駆動電圧を印加する基板電極を凹形状部に形成して
薄膜両端固定梁の両端の被保持部を保持する基板に保持
される薄膜両端固定梁の一方の被保持部側が他方の被保
持部側より変位促進手段により変位し易いようにすると
共に変位促進手段は薄膜両端固定梁の一方の被保持部側
が他方の被保持部側より狭い伸縮が自在の伸縮形状であ
る狭隘部からなるようにして、薄膜両端固定梁の伸び量
を増やして変位量と偏向角を増加して、入射光の反射方
向を変えて光変調を行う構造が更に簡単で更に応答も速
く、使用する入射光の波長が制限されることなく、駆動
電圧が低く、製造工程が少なく低コストの光変調装置を
提供することができるようにする。請求項12において
は、入射光を正反射する反射手段を側面に組み合わせ構
成する薄膜で形成され両端が固定されて静電力で変形す
る薄膜両端固定梁の他方側面に形成される空隙を介して
薄膜両端固定梁に対向して駆動電圧を印加する基板電極
を凹形状部に形成して薄膜両端固定梁の両端の被保持部
を保持する基板に保持される薄膜両端固定梁の一方の被
保持部側が他方の被保持部側より変位促進手段により変
位し易いようにすると共に変位促進手段は薄膜両端固定
梁の一方の被保持部側が他方の被保持部側より狭い複数
個からなる狭隘部からなるようにして、薄膜両端固定梁
の伸び量を増やして変位量と偏向角を更に増加して、入
射光の反射方向を変えて光変調を行う構造が更に簡単で
応答も速く、使用する入射光の波長が制限されることな
く、駆動電圧が低く、製造工程が少なく低コストの光変
調装置を提供することができるようにする。
【0015】請求項13においては、入射光を正反射す
る反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成され
両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁の他
方側面に形成される空隙を介して薄膜両端固定梁に対向
して駆動電圧を印加する基板電極を凹形状部に形成して
薄膜両端固定梁の両端の被保持部を保持する基板に保持
される薄膜両端固定梁の一方の被保持部側が他方の被保
持部側より変位促進手段により変位し易いようにすると
共に変位促進手段は薄膜両端固定梁の一方の被保持部側
が他方の被保持部側より狭い各々が対象位置に形成した
複数個からなる狭隘部からなるようにして、丈夫で耐久
性に優れ捩れなどの発生が防止されて正確に変位する薄
膜両端固定梁の伸び量を増やして変位量と偏向角を更に
増加して、入射光の反射方向を変えて光変調を行う構造
が更に簡単で応答も速く、使用する入射光の波長が制限
されることなく、駆動電圧が低く、製造工程が少なく低
コストの光変調装置を提供することができるようにす
る。請求項14においては、入射光を正反射する反射手
段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成され両端が固
定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁の他方側面に
形成される空隙を介して薄膜両端固定梁に対向して駆動
電圧を印加する基板電極を凹形状部に形成して薄膜両端
固定梁の両端の被保持部を保持する基板に保持される薄
膜両端固定梁の一方の被保持部側が他方の被保持部側よ
り変位促進手段により変位し易いようにすると共に変位
促進手段は薄膜両端固定梁の一方の被保持部側を穿った
複数個の穴部からなるようにして、入射光の反射方向を
変えて光変調を行う構造が更に簡単で応答も速く、使用
する入射光の波長が制限されることなく、駆動電圧が低
く、製造工程が少なく低コストの光変調装置を提供する
ことができるようにする。
【0016】請求項15においては、入射光を正反射す
る反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成され
両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁の他
方側面に形成される空隙を介して薄膜両端固定梁に対向
して駆動電圧を印加する基板電極を凹形状部に形成して
薄膜両端固定梁の両端の被保持部を保持する基板に保持
される薄膜両端固定梁の一方の被保持部側が他方の被保
持部側より変位促進手段により変位し易いようにすると
共に変位促進手段は薄膜両端固定梁の一方の被保持部側
を穿った複数個の穴部からなるようにして、薄膜両端固
定梁の伸び量を増やして変位量と偏向角を更に増加し
て、入射光の反射方向を変えて光変調を行う構造が更に
簡単で応答も速く、使用する入射光の波長が制限される
ことなく、駆動電圧が低く、製造工程が少なく低コスト
の光変調装置を提供することができるようにする。請求
項16においては、入射光を正反射する反射手段を側面
に組み合わせ構成する薄膜で形成され両端が固定されて
静電力で変形する薄膜両端固定梁の他方側面に形成され
る空隙を介して薄膜両端固定梁に対向して駆動電圧を印
加する基板電極を凹形状部に形成して薄膜両端固定梁の
両端の被保持部を保持する基板に保持される薄膜両端固
定梁の一方の被保持部側が他方の被保持部側より変位促
進手段により変位し易いようにすると共に変位促進手段
は薄膜両端固定梁の一方の被保持部側を薄膜両端固定梁
の長辺方向に穿った複数個の穴部からなるようにして、
薄膜両端固定梁の伸び量を増やして変位量と偏向角を更
に増加して、入射光の反射方向を変えて光変調を行う構
造が更に簡単で応答も速く、使用する入射光の波長が制
限されることなく、駆動電圧が低く、製造工程が少なく
低コストの光変調装置を提供することができるようにす
る。
【0017】請求項17においては、基板上に空隙とな
る凹計上部を形成した後に犠牲材料からなる犠牲材料層
を形成して基板を平坦化して薄膜両端固定梁と変位促進
手段を形成後に犠牲材料層を除去して光変調装置を製造
するようにして、入射光の反射方向を変えて光変調を行
う構造が簡単で応答も速く、使用する入射光の波長が制
限されることなく、駆動電圧が低く作動が安定で信頼性
も高く、製造工程が少なく低コストの光変調装置の製造
方法を提供することができるようにする。請求項18に
おいては、基板上に空隙となる凹計上部を形成した後に
犠牲材料からなる犠牲材料層を形成して基板を平坦化し
て薄膜両端固定梁と変位促進手段を形成後に犠牲材料層
を除去基板上に空隙となる凹計上部を形成した後に犠牲
材料からなる犠牲材料層を形成して基板を平坦化して薄
膜両端固定梁と変位促進手段を形成後に犠牲材料層を除
去するために、基板上に薄膜形成方法又は微細加工方法
により基板上に空隙となる凹形状部を形成する凹形状部
形成工程と、基板上の凹形状部に基板電極の全部又は一
部を形成する基板電極形成工程と、基板上の凹形状部に
犠牲材料からなる犠牲材料層を形成する犠牲材料層形成
工程と、上記犠牲材料層を研磨して平坦化する平坦化工
程と、犠牲材料層上に薄膜両端固定梁を形成する薄膜両
端固定梁成膜形成工程と、薄膜両端固定梁に変位促進手
段を形成する変位促進手段工程と、反射手段を形成する
反射手段形成工程と、基板電極のパッド開口部を形成す
るパッド開口部形成工程と、凹形状部の犠牲材料層を除
去する犠牲材料層除去工程とからなる光変調装置を製造
するようにして、入射光の反射方向を変えて光変調を行
う構造が簡単で応答も速く、使用する入射光の波長が制
限されることなく、駆動電圧が低く作動が安定で信頼性
も高く、製造工程が少なく低コストの光変調装置の製造
方法を提供することができるようにする。
【0018】請求項19においては、回動可能に保持さ
れて形成画像を担持する画像担持体上を光り書き込みを
行って潜像を形成する請求項1〜16のいずれかに記載
の光変調装置からなる潜像形成手段の光変調装置によっ
て形成された潜像を顕像化してトナー画像を形成する現
像手段で形成されたトナー画像を転写手段で被転写体に
転写して画像を形成するようにして、入射光の反射方向
を変えて光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用す
る入射光の波長が制限されることなく、駆動電圧が低く
作動が安定で信頼性も高く、製造工程が少なく低コスト
の光変調装置を具備する画像形成装置を提供することが
できるようにする。請求項20においては、画像投影デ
ータの入射光の反射方向を変えて光変調を行って画像を
投影して表示する請求項1〜16のいずれかに記載の光
変調装置からなる光スイッチ手段の光変調装置が投影す
る画像を投影スクリーンに表示するようにして、入射光
の反射方向を変えて光変調を行う構造が簡単で応答も速
く、使用する入射光の波長が制限されることなく、駆動
電圧が低く作動が安定で信頼性も高く、製造工程が少な
く低コストの光変調装置を具備する画像投影表示装置を
提供することができるようにする。
【0019】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を図面
を参照して詳細に説明する。図1と図2においては、入
射光の反射方向を変えて光変調を行う光変調装置0は、
入射光を正反射する反射手段1と、反射手段1を側面に
組み合わせ構成する薄膜で形成され両端が固定されて静
電力で変形する薄膜両端固定梁2と、薄膜両端固定梁2
の他方側面に形成される空隙(G)を介して薄膜両端固
定梁2に対向面3cで対向して駆動電圧を印加する基板
電極3と、基板電極3を凹形状部に形成して薄膜両端固
定梁2の両端の被保持部2aを保持する基板4と、基板
4に保持される薄膜両端固定梁2の一方の被保持部2a
1側が他方の被保持部2a2側より変位し易く形成された
変位促進手段5とからなり、入射光の反射方向を変えて
光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射光
の波長が制限されることなく、駆動電圧が低く、製造工
程が少なく低コストである。入射光を正反射する反射手
段1は、光反射面を有する鏡材であり、薄膜両端固定梁
2にCrやNiなどの金属薄膜を用いることも可能であ
る。薄膜両端固定梁2は、単結晶シリコン、多結晶シリ
コン、又は、窒化シリコンの薄膜で形成されている。
【0020】単結晶シリコンで形成した薄膜両端固定梁
2は、欠陥が少なく、寿命が長い。多結晶シリコンで形
成した薄膜両端固定梁2は、CVD等の手法を用いるこ
とができるのでコストが低くできる。窒化シリコンの薄
膜で形成した薄膜両端固定梁2は、シリコン薄膜の引っ
張り応力の作用によりスイッチングの応答速度を速める
ことができる。基板電極3は、AL、Au、Ti、Ti
N、Cr等の金属や、ITO等の導電性薄膜や、不純物
が注入されて低抵抗化された基板シリコンを用いてお
り、薄膜両端固定梁2を駆動するための一方の電極とな
る。保護膜3aは、基板電極3を保護する保護膜であ
り、基板電極3が薄膜両端固定梁2と接触し、短絡する
ことを防ぐ役割をする。また、保護膜3aには、基板電
極3と外部信号とを接続する部分としてパッド開口部3
bを形成されている。薄膜両端固定梁2は、一方の被保
持部2a1端側に形成された変位促進手段5側と反対側
の他方の被保持部2a2端側の反射手段1の光反射層を
薄膜で側面に形成され、両端の被保持部2aの一方の被
保持部2a1と他方の被保持部2a2が基板4に固定して
保持されて静電力で変形するようになっている。薄膜両
端固定梁2の側面に組み合わせ構成する反射手段1の光
反射層は、別途堆積された膜に限る訳ではなく、デバイ
スの性能に寄与する光反射領域が薄膜両端固定梁2に形
成されている場合も含まれる。
【0021】パッド2bは、薄膜両端固定梁2として導
電性膜を用いた場合に、薄膜両端固定梁2に駆動電圧を
印加するために設けられ、薄膜両端固定梁2を駆動する
ための他方の電極を取り出す役割を果し、薄膜両端固定
梁2を駆動するための図示しない他方の電極を省略する
ことができる。薄膜両端固定梁2が非導電性の場合に
は、反射手段1の光反射層として用いられるAL、A
u、Ti、TiN、Cr等の金属膜に、駆動電圧を印加
するための図示しないパッドを設け、薄膜両端固定梁2
を駆動するための他方の電極を取り出す役割を果し、薄
膜両端固定梁2を駆動するための図示しない他方の電極
を省略して入射光の反射方向を変えて光変調を行う構造
が、更に、簡単になる。薄膜両端固定梁2を撓ませる静
電力は、薄膜両端固定梁2の他方側面に形成される空隙
(G)を介して薄膜両端固定梁2と対向面3cで対向し
て形成された基板電極3と、図示しない他方の電極、薄
膜両端固定梁2、又は、反射手段1との間に駆動電圧を
印可することにより発生するようになっている。更に、
薄膜両端固定梁2が、単結晶シリコン薄膜、又は、多結
晶シリコン薄膜で形成されている場合には、単結晶シリ
コン薄膜又は多結晶シリコン薄膜を不純物により低抵抗
化して導電性として、薄膜両端固定梁2を駆動するため
の図示しない他方の電極を省略することができる。
【0022】基板4上に形成された基板電極3は、基板
4の任意の空隙(G)下面に形成されており、且つ、薄
膜両端固定梁2は、基板4の基板表面4a上に平行に形
成されている。また、薄膜両端固定梁2は、引張応力を
有する材料、例えば、シリコン窒化膜などを用いた場
合、通常若干張られた状態にある。薄膜両端固定梁2
は、基板4の基板表面4a上に平行に形成されて、若干
張られた状態にあるから、薄膜両端固定梁2と基板電極
3の対向面3cで形成される空隔(G)は、駆動電圧が
印加されない状態では絶えず同位置にあることが容易と
なり、且つ、薄膜両端固定梁2が撓んだ後に元に戻る位
置も安定して、光変調性の制御が容易となる利点を有し
ている。基板4に保持される薄膜両端固定梁2の一方の
被保持部2a1端側が他方の被保持部2a2端側よりも変
位し易く形成された変位促進手段5は、静電力で変位し
た薄膜両端固定梁2の他方側面の変位促進手段5端側の
反対側に形成され組み合わせ構成する反射手段1の光反
射面角度が変化し反射光が偏向され、薄膜両端固定梁2
の両端の被保持部2aの一方の被保持部2a1と他方の
被保持部2a2は固定して保持されているが、一方の被
保持部2a1端側の幅を穴部5bを穿って狭め、各々が
2個が対象的に形成された狭隘部5aであって、薄膜両
端固定梁2を容易に変形して変位する構造になってい
る。したがって、反射手段1は、薄膜両端固定梁2に形
成された変位促進手段5側端の反対側端に形成され、薄
膜両端固定梁2と基板電極3の対向面3cが対向して形
成する空隙(G)の形状は最大深さ位置に対して非対象
の形状で、薄膜両端固定梁2と基板電極3の対向面3c
が対向して形成する空隙(G)の最大深さ位置を薄膜両
端固定梁2に形成された変位促進手段5側に形成してあ
るから、反射手段1の有効面積が広くなっている。複数
個の狭隘部5aは、各々が対象位置に形成されているの
で、丈夫で耐久性に優れ、捩れなどの発生が防止されて
正確に変位するようになっている。入射光の反射方向を
変えて光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用する
入射光の波長が制限されることなく、薄膜両端固定梁2
と基板電極3で形成される空隙(G)の形状が平行、非
平行によらず、光の偏向に必要な薄膜両端固定梁2の傾
斜が低い駆動電圧で容易に得られる、低コストの光変調
装置0を提供することができるようになった。
【0023】図3と図4において、薄膜両端固定梁2
は、空隙(G)を介して非平行の基板電極3の対向面3
cと対向している。薄膜両端固定梁2に静電力が作用し
ていない時には、薄膜両端固定梁2の一方の被保持部2
1端側と他方の被保持部2a2は、相対する両端部の被
保持部2aの2辺を基板4の固定保持部4bに固定して
保持されている。その時の入射光束(R)は、薄膜両端
固定梁2の側面に組み合わせ構成する反射手段1の表面
で正反射して、図示の矢印で示される方向に進行する。
入射光束(R)を反射した方向から眺めると、薄膜両端
固定梁2の側面に組み合わせ構成する反射手段1での正
反射により明るくなりON状態となる。薄膜両端固定梁
2と基板電極3の対向面3c間に駆動電圧を印可し、薄
膜両端固定梁2に静電力を作用させると、薄膜両端固定
梁2は基板電極3の対向面3c側に引きつけられるよう
に撓み変位して、基板電極3の対向面3cに当接して変
形が確実に規制されて、薄膜両端固定梁2の側面に組み
合わせ構成する反射手段1の表面での入射光束(R)の
反射光の方向が確実に乱れる。したがって、入射光束
(R)を反射した方向から眺めると、入射光束(R)の
偏向が行なわれて暗くなりOFF状態となり、光変調が
確実に行なわれる。
【0024】薄膜両端固定梁2は、空隙(G)を介して
非平行の基板電極3の対向面3cと対向しているから、
薄膜両端固定梁2の変形に要する駆動電圧を、更に、小
さくするために有効で省資源である。薄膜両端固定梁2
に作用する静電力は、薄膜両端固定梁2と基板電極3の
対向面3cとの間の距離の2乗に反比例する。すなわち
距離が小さいほど作用する静電力が大きい。そのため駆
動電圧を印可すると、薄膜両端固定梁2は基板4に保持
される薄膜両端固定梁2の一方の被保持部2a1端側が
他方の被保持部2a2端側より変位し易く形成された変
位促進手段5側端の空隙(G)の狭い部分より変形を始
める。また、薄膜両端固定梁2の変形により順次に空隙
(G)が狭くなり、平行な空隙の場合より低い駆動電圧
で薄膜両端固定梁2の変形が進行する。薄膜両端固定梁
2の相対する両端部の被保持部2aの2辺の一方の被保
持部2a1と他方の被保持部2a2は、基板4の固定保持
部4bに固定して保持されているから、片持ち梁に比べ
て、薄膜両端固定梁2は、安定性、応答速度の2点で優
れている。まず、薄膜両端固定梁2の安定性は、両端が
拘束されているので、自由振動が発生し難く、残留応力
があっても、両端の拘束点で決められているので変形す
る事も無く、また経時変化が少ない。次に、薄膜両端固
定梁2の応答速度は、自由振動の問題が無いので、応答
速度も速くなる。
【0025】図5と図6において、光変調装置10にお
いて、薄膜両端固定梁2は、基板4の基板表面4a上に
平行に形成されて、若干張られた状態にあるから、薄膜
両端固定梁2と基板電極3の対向面で形成される空隔
(G)は、駆動電圧が印加されない状態では絶えず同位
置にあることが容易となり、且つ、薄膜両端固定梁2が
撓んだ後に元に戻る位置も安定して、光変調性の制御が
容易となる利点を有している。光変調装置10におい
て、基板4に保持される薄膜両端固定梁2の一方の被保
持部2a1端側が他方の被保持部2a2端側より変位し易
く形成された変位促進手段5は、静電力で変位した薄膜
両端固定梁2の側面に組み合わせ構成する反射手段1の
光反射面角度が変化し反射光が偏向され、薄膜両端固定
梁2の両端の被保持部2aの被保持部2a1と被保持部
2a2は固定して保持されているが、一方の被保持部2
1端側の幅を穴部5bを穿って狭め、各々が2個を対
象的に形成された狭隘部5aが伸縮が自在の伸縮形状で
あって、薄膜両端固定梁2の変位を容易にすると共に変
位する量を増やす構造になっている。したがって、入射
光の反射方向を変えて光変調を行う構造が簡単で応答も
速く、使用する入射光の波長が制限されることなく、薄
膜両端固定梁2と基板電極3で形成される空隙(G)の
形状が平行、非平行によらず、光の偏向に必要な薄膜両
端固定梁2の傾斜が低い駆動電圧で容易に得られ、薄膜
両端固定梁2の伸び量を増やして変位量と偏向角を増加
する、低コストの光変調装置10を提供することができ
るようになった。
【0026】図7において、光変調装置20において、
基板4に保持される薄膜両端固定梁2の一方の被保持部
2a1端側が他方の被保持部2a2端側より変位し易く形
成された変位促進手段5は、静電力で変位した薄膜両端
固定梁2の側面に組み合わせ構成する反射手段1の光反
射面角度が変化し反射光が偏向され、薄膜両端固定梁2
の両端の被保持部2aの一方の被保持部2a1と他方の
被保持部2a2は固定して保持されているが、一方の被
保持部2a1端側の幅を穴部5bを穿って狭め、各々が
2個を対象的に形成された狭隘部5aが伸縮が自在の伸
縮形状で薄膜両端固定梁2の長辺方向に複数個を形成し
ので、薄膜両端固定梁2の変位を容易にすると共に薄膜
両端固定梁2の変位する量を、更に、増やす構造になっ
ている。したがって、入射光の反射方向を変えて光変調
を行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射光の波長
が制限されることなく、薄膜両端固定梁2と基板電極3
で形成される空隙(G)の形状が平行、非平行によら
ず、光の偏向に必要な薄膜両端固定梁2の傾斜が低い駆
動電圧で容易に得られ、薄膜両端固定梁2の伸び量を増
やして変位量と偏向角を更に増加する、低コストの光変
調装置20を提供することができるようになった。
【0027】図8と図9において、薄膜両端固定梁2の
両端の被保持部2aの一方の被保持部2a1と他方の被
保持部2a2は固定して保持されて、一方の被保持部2
1端側の幅を穴部5bを穿って狭め、各々が2個を対
象的に形成された狭隘部5aの伸縮が自在の伸縮形状
は、例えば、ABCDの辺で構成される場合、AC間の
距離よりAB+BC間やAD+DC間の距離は大きい。
引っ張り力(X)が働くと、BD間の距離が接近し、角
ABCや角ADCの角度が大きくなり、AC間の距離が
増加できる構造と成る。形は矩形に限らない。引っ張り
前の構造でAC間よりAB+BC間やAD+DC間の距
離が大きければ曲線形状でも同様になる。薄膜両端固定
梁2の長さを70μm、薄膜両端固定梁2の幅を20μ
m、薄膜両端固定梁2と基板電極3で形成される空隙
(G)の最大深さ9.5μmで、30μの範囲に対角8
μmの矩形の穴部5bを穿って狭め、薄膜両端固定梁2
の長辺方向に対象的に二段形成した。その結果、6μm
の伸びが確保でき、偏向角10度が得られた。
【0028】図10乃至22において、基板4に保持さ
れる薄膜両端固定梁2の一方の被保持部2a1端側が他
方の被保持部2a2端側より変位し易く形成された変位
促進手段5とからなる光変調装置0は、次のように、基
板4上に最大深さ9.5μmの空隙(G)となる凹形状
部を形成した後に、犠牲材料からなる犠牲材料層6を形
成して基板4上を平坦化して、長さ70μmで幅20μ
mの薄膜両端固定梁2と、変位促進手段5の長さ20μ
mで幅4μの狭隘部5aを各2個を対象的に形成後に、
犠牲材料層6を除去するから、入射光の反射方向を変え
て光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射
光の波長が制限されることなく、駆動電圧が低く作動が
安定で信頼性も高く、製造工程が少なく低コストの光変
調装置0の製造方法を提供することができるようになっ
た。凹形状部形成工程(a)において、基板4は、シリ
コン基板4cに有機フォトレジストで空隙(G)となる
溝をパターン形成して、SF6ガスのリアクティブ・イ
オン・エッチング(RIE)でドライエッチングして、
溝を掘る。溝に傾斜を形成する場合は、フォトマスクに
階調を設け、レジストパターンの厚さ方向に傾斜を形成
する。SF6ガスのリアクティブ・イオン・エッチング
(RIE)でドライエッチングを行うと、フォトマスク
の階調にしたがった構造がシリコン基板4cの溝に転写
される。溝が深い場合は、SF6ガスのリアクティブ・
イオン・エッチング(RIE)でドライエッチングを行
う際に、基板温度を−40℃程度以下の低温にするこで
側面への広がりを抑制できる。
【0029】次に、酸化し溝を1μm程度の熱酸化膜4
dで覆う(図10を参照)。基板電極形成工程(b)に
おいて、例えば、TiNなどの導体薄膜をスパッタ法で
成膜して、基板電極3のパターンを有機レジストのフォ
トリソグラフィでパターンニングし、C12ガスのリアク
ティブ・イオン・エッチング(RIE)によりエッチン
グして基板電極3を形成する。保護膜3aとなるSiN
をSiH4とNH3の混合ガスの熱CVD法で形成する
(図11を参照)。犠牲材料層形成工程(c)におい
て、犠牲材料層6は、酸化膜をPH3、B2 2、SiH4
とN20の混合ガスの熱CVDを行い成膜する。4000
℃でリフロー処理を行いより平坦化する(図12を参
照)。平坦化工程(d)において、ケミカル・メカニカ
ル・ポリシング(CMP)技術を用い研磨して平坦化す
る(図13を参照)。薄膜両端固定梁成膜形成工程
(e)において、薄膜両端固定梁2は、SiH4とNH3
の混合ガスの熱CVD法でSiNを成膜して形成する
(図14を参照)。
【0030】変位促進手段形成工程(f)において、薄
膜両端固定梁2を有機レジストのフォトリソグラフィで
パターンニングし、CHF3のリアクティブ・イオン・
エッチング(RIE)でエッチングして、SiNの形状
を製作する。この場合、薄膜両端固定梁2の一方の被保
持部2a1端側が他方の被保持部2a2端側より変位し易
く形成する構造の位促進手段5は、平面的であるので、
マスクパターンの設計により、図1と図2、図5と図
6、図7の構造を同様に形成して製作できる(図15と
図16を参照)。反射手段形成工程(g)において、反
射手段1の鏡となる金属薄膜、例えば、Cyをスパッタ
法で成膜し、フォトリソグラフィで有機レジストをパタ
ーンニングし、CI2とO2の混合ガスのリアクティブ・
イオン・エッチング(RIE)でエッチングする(図1
7と図18を参照)。パッド開口部形成工程(h)にお
いて、フォトリソグラフィで、パッド開口部3bのパタ
ーンを有機レジストで形成し、CHF3のリアクティブ
・イオン・エッチング(RIE)でSINをエッチング
し、パッド開口部3bを形成する(図19と図20を参
照)。犠牲材料層除去工程(i)において、ふっ酸によ
り犠牲層酸化膜をエッチングし除去して、犠牲材料層6
を除去する(図21と図22を参照)。以上で、光変調
装置0が完成する。
【0031】図23において、電子写真プロセスで光り
書き込みを行って画像を形成する画像形成装置100
は、図示の矢印E方向に回動可能に保持されて形成画像
を担持する画像担持体101のドラム形状の感光体と、
帯電手段105で均一に帯電された画像担持体101の
ドラム形状の感光体上を光変調装置0からなる潜像形成
手段102で光り書き込みを行って潜像を形成し、潜像
形成手段102の光変調装置0によって形成された潜像
を現像手段103で顕像化してトナー画像を形成し、現
像手段103で形成されたトナー画像を転写手段104
で被転写体(P)に転写して、被転写体(P)に転写さ
れたトナー画像を定着手段106で定着した後に、被転
写体(P)を排紙トレイ107に排紙して収納される。
他方、トナー画像を転写手段104で被転写体(P)に
転写した後の画像担持体101のドラム形状の感光体
は、クリーニング手段108でクリーニングされて次工
程の画像形成に備えるようになっている。潜像形成手段
102は、光源102aからの入射光束(R)を、第1
のレンズシステム102bを介してアレー状に複数個配
置された光変調装置0に照射し、各々光変調装置0は画
像情報に応じて、反射手段1を通じて入射光束(R)を
第2のレンズシステム102cを通じて画像担持体10
1のドラム形状の感光体上の表面に結像させるようにな
っている。。したがって、入射光の反射方向を変えて光
変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射光の
波長が制限されることなく、駆動電圧が低く作動が安定
で信頼性も高く、製造工程が少なく低コストの光変調装
置0を具備する画像形成装置100を提供することがで
きるようになった。
【0032】図24において、画像を投影して表示する
画像投影表示装置200は、投影画像データの入射光束
(R)の反射方向を変えて光変調を行って画像を投影す
る光変調装置0からなる光スイッチ手段201の光変調
装置0が画像を投影スクリューン202に投影して表示
するようになっている。光スイッチ手段201は、光源
201aからの入射光束(R)を光変調装置0に照射さ
れ、光変調装置0の反射手段1のミラーにより反射し、
投影レンズ201b、及び、絞り201cを介して投影
スクリューン202に投影する。カラー表示を行うため
には、光源201aの前に回転カラーホール201dを
設けたり、また、性能向上のためにマイクロレンズアレ
ー201eを用いることもできる。したがって、入射光
の反射方向を変えて光変調を行う構造が簡単で応答も速
く、使用する入射光(R)の波長が制限されることな
く、駆動電圧が低く作動が安定で信頼性も高く、製造工
程が少なく低コストの光変調装置0を具備する画像投影
表示装置200を提供することができるようになった。
【0033】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので、請求項1の発明によれば、入射光を正反射
する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成さ
れ両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁の
他方側面に形成される空隙を介して薄膜両端固定梁に対
向して駆動電圧を印加する基板電極を凹形状部に形成し
て薄膜両端固定梁の両端の被保持部を保持する基板に保
持される薄膜両端固定梁の一方の被保持部側が他方の被
保持部側より変位促進手段により変位し易いようにした
ので、入射光の反射方向を変えて光変調を行う構造が簡
単で応答も速く、使用する入射光の波長が制限されるこ
となく、駆動電圧が低く、製造工程が少なく低コストの
光変調装置を提供することができるようになった。請求
項2の発明によれば、入射光を正反射する反射手段を側
面に組み合わせ構成する薄膜で形成され両端が固定され
て静電力で変形する薄膜両端固定梁の他方側面に形成さ
れる空隙を介して薄膜両端固定梁に対向して駆動電圧を
印加する基板電極を凹形状部に形成して薄膜両端固定梁
の両端の被保持部を保持する基板に保持される薄膜両端
固定梁の一方の被保持部側が他方の被保持部側より変位
促進手段により変位し易いようにすると共に反射手段は
薄膜両端固定梁の一方の被保持部端側に形成された変位
促進手段側と反対側の他方の被保持部端側に形成される
ようにしたので、反射手段の有効面積が広くなり、入射
光の反射方向を変えて光変調を行う構造が簡単で応答も
速く、使用する入射光の波長が制限されることなく、駆
動電圧が低く、製造工程が少なく低コストの光変調装置
を提供することができるようになった。
【0034】請求項3の発明によれば、入射光を正反射
する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成さ
れ両端が固定されて静電力で変形する単結晶シリコンか
らなる薄膜両端固定梁の他方側面に形成される空隙を介
して薄膜両端固定梁に対向して駆動電圧を印加する基板
電極を凹形状部に形成して薄膜両端固定梁の両端の被保
持部を保持する基板に保持される薄膜両端固定梁の一方
の被保持部側が他方の被保持部側より変位促進手段によ
り変位し易いようにしたので、単結晶シリコンで形成し
た薄膜両端固定梁は欠陥が少なく寿命が長くなり、入射
光の反射方向を変えて光変調を行う構造が簡単で応答も
速く、使用する入射光の波長が制限されることなく、駆
動電圧が低く、製造工程が少なく低コストの光変調装置
を提供することができるようになった。請求項4の発明
によれば、入射光を正反射する反射手段を側面に組み合
わせ構成する薄膜で形成され両端が固定されて静電力で
変形する多結晶シリコンからなる薄膜両端固定梁の他方
側面に形成される空隙を介して薄膜両端固定梁に対向し
て駆動電圧を印加する基板電極を凹形状部に形成して薄
膜両端固定梁の両端の被保持部を保持する基板に保持さ
れる薄膜両端固定梁の一方の被保持部側が他方の被保持
部側より変位促進手段により変位し易いようにしたの
で、多結晶シリコンで形成した薄膜両端固定梁はCVD
等の手法を用いることができるのでコストが低くなり、
入射光の反射方向を変えて光変調を行う構造が簡単で応
答も速く、使用する入射光の波長が制限されることな
く、駆動電圧が低く、製造工程が少なく更に低コストの
光変調装置を提供することができるようになった。
【0035】請求項5の発明によれば、入射光を正反射
する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成さ
れ両端が固定されて静電力で変形する窒化シリコンから
なる薄膜両端固定梁の他方側面に形成される空隙を介し
て薄膜両端固定梁に対向して駆動電圧を印加する基板電
極を凹形状部に形成して薄膜両端固定梁の両端の被保持
部を保持する基板に保持される薄膜両端固定梁の一方の
被保持部側が他方の被保持部側より変位促進手段により
変位し易いようにしたので、窒化シリコンの薄膜で形成
した薄膜両端固定梁はシリコン薄膜の引っ張り応力の作
用によりスイッチングの応答速度を速くなり、入射光の
反射方向を変えて光変調を行う構造が簡単で応答も更に
速く、使用する入射光の波長が制限されることなく、駆
動電圧が低く、製造工程が少なく更に低コストの光変調
装置を提供することができるようになった。請求項6の
発明によれば、入射光を正反射する反射手段を側面に組
み合わせ構成する薄膜で形成され両端が固定されて静電
力で変形する薄膜両端固定梁の他方側面に形成される空
隙を介して薄膜両端固定梁に対向して駆動電圧を印加す
る基板電極を凹形状部に形成して薄膜両端固定梁の両端
の被保持部を保持する基板に保持される薄膜両端固定梁
の一方の被保持部側が他方の被保持部側より変位促進手
段により変位し易いようにすると共に薄膜両端固定梁と
基板電極が対向して形成する空隙の形状は最大深さ位置
に対して非対象の形状であるようにしたので、反射手段
の有効面積が更に広くなり、入射光の反射方向を変えて
光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射光
の波長が制限されることなく、駆動電圧が低く、製造工
程が少なく低コストの光変調装置を提供することができ
るようになった。
【0036】請求項7の発明によれば、入射光を正反射
する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成さ
れ両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁の
他方側面に形成される空隙を介して薄膜両端固定梁に対
向して駆動電圧を印加する基板電極を凹形状部に形成し
て薄膜両端固定梁の両端の被保持部を保持する基板に保
持される薄膜両端固定梁の一方の被保持部側が他方の被
保持部側より変位促進手段により変位し易いようにする
と共に基板電極は空隙を介して対向する薄膜両端固定梁
と非平行であるようにしたので、入射光の反射方向を変
えて光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用する入
射光の波長が制限されることなく、駆動電圧が更に低
く、製造工程が少なく低コストの光変調装置を提供する
ことができるようになった。請求項8の発明によれば、
入射光を正反射する反射手段を側面に組み合わせ構成す
る薄膜で形成され両端が固定されて静電力で変形する薄
膜両端固定梁の他方側面に形成される空隙を介して薄膜
両端固定梁に対向して駆動電圧を印加する基板電極を凹
形状部に形成して薄膜両端固定梁の両端の被保持部を保
持する基板に保持される薄膜両端固定梁の一方の被保持
部側が他方の被保持部側より変位促進手段により変位し
易いようすると共に基板電極は駆動電圧の印加による薄
膜両端固定梁の変位を当接により規制して反射手段の入
射光の光変調を行うようにしたので、光変調が確実に行
なわれ、入射光の反射方向を変えて光変調を行う構造が
簡単で応答も速く、使用する入射光の波長が制限される
ことなく、駆動電圧が低く、製造工程が少なく低コスト
の光変調装置を提供することができるようになった。
【0037】請求項9の発明によれば、入射光を正反射
する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成さ
れ両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁の
他方側面に形成される空隙を介して薄膜両端固定梁に対
向して駆動電圧を印加する基板電極を凹形状部に形成し
て薄膜両端固定梁の両端の被保持部を保持する基板に保
持される薄膜両端固定梁の一方の被保持部側が他方の被
保持部側より変位促進手段により変位し易いようにする
と共に変位促進手段は薄膜両端固定梁と基板電極が対向
して形成する空隙の最大深さ位置に近い薄膜両端固定梁
の一方の被保持部側に形成するようにしたので、反射手
段の有効面積が更に広くなり、入射光の反射方向を変え
て光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射
光の波長が制限されることなく、駆動電圧が低く、製造
工程が少なく低コストの光変調装置を提供することがで
きるようになった。請求項10の発明によれば、入射光
を正反射する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜
で形成され両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端
固定梁の他方側面に形成される空隙を介して薄膜両端固
定梁に対向して駆動電圧を印加する基板電極を凹形状部
に形成して薄膜両端固定梁の両端の被保持部を保持する
基板に保持される薄膜両端固定梁の一方の被保持部側が
他方の被保持部側より変位促進手段により変位し易いよ
うにすると共に変位促進手段は薄膜両端固定梁の一方の
被保持部側が他方の被保持部側より狭い狭隘部からなる
ようにしたので、入射光の反射方向を変えて光変調を行
う構造が更に簡単で応答も速く、使用する入射光の波長
が制限されることなく、駆動電圧が低く、製造工程が少
なく低コストの光変調装置を提供することができるよう
になった。
【0038】請求項11の発明によれば、入射光を正反
射する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成
され両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁
の他方側面に形成される空隙を介して薄膜両端固定梁に
対向して駆動電圧を印加する基板電極を凹形状部に形成
して薄膜両端固定梁の両端の被保持部を保持する基板に
保持される薄膜両端固定梁の一方の被保持部側が他方の
被保持部側より変位促進手段により変位し易いようにす
ると共に変位促進手段は薄膜両端固定梁の一方の被保持
部側が他方の被保持部側より狭い伸縮が自在の伸縮形状
である狭隘部からなるようにしたので、薄膜両端固定梁
の伸び量を増やして変位量と偏向角を増加して、入射光
の反射方向を変えて光変調を行う構造が更に簡単で更に
応答も速く、使用する入射光の波長が制限されることな
く、駆動電圧が低く、製造工程が少なく低コストの光変
調装置を提供することができるようになった。請求項1
2の発明によれば、入射光を正反射する反射手段を側面
に組み合わせ構成する薄膜で形成され両端が固定されて
静電力で変形する薄膜両端固定梁の他方側面に形成され
る空隙を介して薄膜両端固定梁に対向して駆動電圧を印
加する基板電極を凹形状部に形成して薄膜両端固定梁の
両端の被保持部を保持する基板に保持される薄膜両端固
定梁の一方の被保持部側が他方の被保持部側より変位促
進手段により変位し易いようにすると共に変位促進手段
は薄膜両端固定梁の一方の被保持部側が他方の被保持部
側より狭い複数個からなる狭隘部からなるようにしたの
で、薄膜両端固定梁の伸び量を増やして変位量と偏向角
を更に増加して、入射光の反射方向を変えて光変調を行
う構造が更に簡単で応答も速く、使用する入射光の波長
が制限されることなく、駆動電圧が低く、製造工程が少
なく低コストの光変調装置を提供することができるよう
になった。
【0039】請求項13の発明によれば、入射光を正反
射する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成
され両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁
の他方側面に形成される空隙を介して薄膜両端固定梁に
対向して駆動電圧を印加する基板電極を凹形状部に形成
して薄膜両端固定梁の両端の被保持部を保持する基板に
保持される薄膜両端固定梁の一方の被保持部側が他方の
被保持部側より変位促進手段により変位し易いようにす
ると共に変位促進手段は薄膜両端固定梁の一方の被保持
部側が他方の被保持部側より狭い各々が対象位置に形成
した複数個からなる狭隘部からなるようにしたので、丈
夫で耐久性に優れ捩れなどの発生が防止されて正確に変
位する薄膜両端固定梁の伸び量を増やして変位量と偏向
角を更に増加して、入射光の反射方向を変えて光変調を
行う構造が更に簡単で応答も速く、使用する入射光の波
長が制限されることなく、駆動電圧が低く、製造工程が
少なく低コストの光変調装置を提供することができるよ
うになった。請求項14の発明によれば、入射光を正反
射する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成
され両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁
の他方側面に形成される空隙を介して薄膜両端固定梁に
対向して駆動電圧を印加する基板電極を凹形状部に形成
して薄膜両端固定梁の両端の被保持部を保持する基板に
保持される薄膜両端固定梁の一方の被保持部側が他方の
被保持部側より変位促進手段により変位し易いようにす
ると共に変位促進手段は薄膜両端固定梁の一方の被保持
部側を穿った複数個の穴部からなるようにしたので、入
射光の反射方向を変えて光変調を行う構造が更に簡単で
応答も速く、使用する入射光の波長が制限されることな
く、駆動電圧が低く、製造工程が少なく低コストの光変
調装置を提供することができるようになった。
【0040】請求項15の発明によれば、入射光を正反
射する反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成
され両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁
の他方側面に形成される空隙を介して薄膜両端固定梁に
対向して駆動電圧を印加する基板電極を凹形状部に形成
して薄膜両端固定梁の両端の被保持部を保持する基板に
保持される薄膜両端固定梁の一方の被保持部側が他方の
被保持部側より変位促進手段により変位し易いようにす
ると共に変位促進手段は薄膜両端固定梁の一方の被保持
部側を穿った複数個の穴部からなるようにしたので、薄
膜両端固定梁の伸び量を増やして変位量と偏向角を更に
増加して、入射光の反射方向を変えて光変調を行う構造
が更に簡単で応答も速く、使用する入射光の波長が制限
されることなく、駆動電圧が低く、製造工程が少なく低
コストの光変調装置を提供することができるようになっ
た。請求項16の発明によれば、入射光を正反射する反
射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成され両端
が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁の他方側
面に形成される空隙を介して薄膜両端固定梁に対向して
駆動電圧を印加する基板電極を凹形状部に形成して薄膜
両端固定梁の両端の被保持部を保持する基板に保持され
る薄膜両端固定梁の一方の被保持部側が他方の被保持部
側より変位促進手段により変位し易いようにすると共に
変位促進手段は薄膜両端固定梁の一方の被保持部側を薄
膜両端固定梁の長辺方向に穿った複数個の穴部からなる
ようにしたので、薄膜両端固定梁の伸び量を増やして変
位量と偏向角を更に増加して、入射光の反射方向を変え
て光変調を行う構造が更に簡単で応答も速く、使用する
入射光の波長が制限されることなく、駆動電圧が低く、
製造工程が少なく低コストの光変調装置を提供すること
ができるようになった。
【0041】請求項17の発明によれば、基板上に空隙
となる凹計上部を形成した後に犠牲材料からなる犠牲材
料層を形成して基板を平坦化して薄膜両端固定梁と変位
促進手段を形成後に犠牲材料層を除去して光変調装置を
製造するようにしたので、入射光の反射方向を変えて光
変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用する入射光の
波長が制限されることなく、駆動電圧が低く作動が安定
で信頼性も高く、製造工程が少なく低コストの光変調装
置の製造方法を提供することができるようになった。請
求項18の発明によれば、基板上に空隙となる凹計上部
を形成した後に犠牲材料からなる犠牲材料層を形成して
基板を平坦化して薄膜両端固定梁と変位促進手段を形成
後に犠牲材料層を除去基板上に空隙となる凹計上部を形
成した後に犠牲材料からなる犠牲材料層を形成して基板
を平坦化して薄膜両端固定梁と変位促進手段を形成後に
犠牲材料層を除去するために、基板上に薄膜形成方法又
は微細加工方法により基板上に空隙となる凹形状部を形
成する凹形状部形成工程と、基板上の凹形状部に基板電
極の全部又は一部を形成する基板電極形成工程と、基板
上の凹形状部に犠牲材料からなる犠牲材料層を形成する
犠牲材料層形成工程と、犠牲材料層を研磨して平坦化す
る平坦化工程と、犠牲材料層上に薄膜両端固定梁を形成
する薄膜両端固定梁成膜形成工程と、薄膜両端固定梁に
変位促進手段を形成する変位促進手段工程と、反射手段
を形成する反射手段形成工程と、基板電極のパッド開口
部を形成するパッド開口部形成工程と、凹形状部の犠牲
材料層を除去する犠牲材料層除去工程とからなる光変調
装置を製造するようにしたので、入射光の反射方向を変
えて光変調を行う構造が簡単で応答も速く、使用する入
射光の波長が制限されることなく、駆動電圧が低く作動
が安定で信頼性も高く、製造工程が少なく低コストの光
変調装置の製造方法を提供することができるようになっ
た。
【0042】請求項19の発明によれば、回動可能に保
持されて形成画像を担持する画像担持体上を光り書き込
みを行って潜像を形成する請求項1〜16のいずれかに
記載の光変調装置からなる潜像形成手段の光変調装置に
よって形成された潜像を顕像化してトナー画像を形成す
る現像手段で形成されたトナー画像を転写手段で被転写
体に転写して画像を形成するようにしたので、入射光の
反射方向を変えて光変調を行う構造が簡単で応答も速
く、使用する入射光の波長が制限されることなく、駆動
電圧が低く作動が安定で信頼性も高く、製造工程が少な
く低コストの光変調装置を具備する画像形成装置を提供
することができるようになった。請求項20の発明によ
れば、画像投影データの入射光の反射方向を変えて光変
調を行って画像を投影して表示する請求項1〜16のい
ずれかに記載の光変調装置からなる光スイッチ手段の光
変調装置が投影する画像を投影スクリーンに表示するよ
うにしたので、入射光の反射方向を変えて光変調を行う
構造が簡単で応答も速く、使用する入射光の波長が制限
されることなく、駆動電圧が低く作動が安定で信頼性も
高く、製造工程が少なく低コストの光変調装置を具備す
る画像投影表示装置を提供することができるようになっ
た。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態の一例を示す光変調装置の
要部断面図である。
【図2】図1に示す光変調装置の平面図である。
【図3】本発明の実施の形態の一例を示す光変調装置の
主要部の状態の説明図である。
【図4】本発明の実施の形態の一例を示す光変調装置の
主要部の他の状態の説明図である。
【図5】本発明の他の実施の形態を示す光変調装置の要
部断面図である。
【図6】図5に示す光変調装置の平面図である。
【図7】本発明の他の実施の形態を示す光変調装置の説
明図である。
【図8】本発明の他の実施の形態を示す光変調装置の主
要部の状態の説明図である。
【図9】本発明の他の実施の形態を示す光変調装置の主
要部の他の状態の説明図である。
【図10】本発明の実施の形態の一例を示す光変調装置
の製造方法の工程説明図である。
【図11】本発明の実施の形態の一例を示す光変調装置
の製造方法の他の工程説明図である。
【図12】本発明の実施の形態の一例を示す光変調装置
の製造方法の他の工程説明図である。
【図13】本発明の実施の形態の一例を示す光変調装置
の製造方法の他の工程説明図である。
【図14】本発明の実施の形態の一例を示す光変調装置
の製造方法の他の工程説明図である。
【図15】本発明の実施の形態の一例を示す光変調装置
の製造方法の他の工程説明図である。
【図16】図15の平面図である。
【図17】本発明の実施の形態の一例を示す光変調装置
の製造方法の他の工程説明図である。
【図18】図17の平面図である。
【図19】本発明の実施の形態の一例を示す光変調装置
の製造方法の他の工程説明図である。
【図20】図19の平面図である。
【図21】本発明の実施の形態の一例を示す光変調装置
の製造方法の他の工程説明図である。
【図22】図21の平面図である。
【図23】本発明の実施の形態の一例を示す画像形成装
置の構成図である。
【図24】本発明の実施の形態の一例を示す画像投影表
示装置の構成図である。
【符号の説明】
0 光変調装置、1 反射手段、2 薄膜両端固定梁、
2a 被保持部、2a1 一方の被保持部、2a2 他方
の被保持部、2b パッド、3 基板電極、3a 保護
膜、3b パット開口部、3c 対向面、4 基板、4
a 基板表面、4b 固定保持部、4c シリコン基
板、4d 熱酸化膜、5 変位促進手段、5a 狭隘
部、5b 穴部、6 犠牲材料層、10 光変調装置、
20 光変調装置、100 画像形成装置、101 画
像担持体、102 潜像形成手段、102a 光源、1
02b 第1のレンズシステム、102c 第2のレン
ズシステム、103 現像手段、104 転写手段、1
05 帯電手段、106 定着手段、107 排紙トレ
イ、108 クリーニング手段、200 画像投影表示
装置、201 光スイッチ手段、201a 光源、20
1b 投影レンズ、201c 絞り、201d 回転カ
ラーホール、201e マイクロレンズアレー、202
投影スクリーン。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H04N 1/113 B41J 3/21 V 5/74 H04N 1/04 104Z Fターム(参考) 2C162 AE21 AE28 AE73 FA09 FA49 FA50 2H041 AA16 AB14 AC06 AZ01 AZ05 AZ08 5C051 AA02 CA11 DA03 DB02 DB04 DB26 DB35 DC01 DC07 EA09 FA01 5C058 BA23 BA35 EA27 5C072 AA03 BA02 BA03 BA06 BA13 DA19 DA21 XA01

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 入射光の反射方向を変えて光変調を行う
    光変調装置において、入射光を正反射する反射手段と、
    上記反射手段を側面に組み合わせ構成する薄膜で形成さ
    れ両端が固定されて静電力で変形する薄膜両端固定梁
    と、上記薄膜両端固定梁の他方側面に形成される空隙を
    介して上記薄膜両端固定梁に対向して駆動電圧を印加す
    る基板電極と、上記基板電極を凹形状部に形成して上記
    薄膜両端固定梁の両端の被保持部を保持する基板と、上
    記基板に保持される上記薄膜両端固定梁の一方の被保持
    部端側が他方の被保持部端側より変位し易く形成された
    変位促進手段とからなることを特徴とする光変調装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の光変調装置において、
    反射手段は、薄膜両端固定梁の一方の被保持部端側に形
    成された変位促進手段側と反対側の他方の被保持部端側
    に形成されていることを特徴とする光変調装置。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2に記載の光変調装置にお
    いて、薄膜両端固定梁は、単結晶シリコンからなること
    を特徴とする光変調装置。
  4. 【請求項4】 請求項1又は2に記載の光変調装置にお
    いて、薄膜両端固定梁は、多結晶シリコンからなること
    を特徴とする光変調装置。
  5. 【請求項5】 請求項1又は2に記載の光変調装置にお
    いて、薄膜両端固定梁は、窒化シリコンからなることを
    特徴とする光変調装置。
  6. 【請求項6】 請求項1〜5のいずれかに記載の光変調
    装置において、薄膜両端固定梁と基板電極が対向して形
    成する空隙の形状は、最大深さ位置に対して非対象の形
    状であることを特徴とする光変調装置。
  7. 【請求項7】 請求項1〜6のいずれかに記載の光変調
    装置において、基板電極は、空隙を介して対向する薄膜
    両端固定梁と非平行であることを特徴とする光変調装
    置。
  8. 【請求項8】 請求項1〜7のいずれかに記載の光変調
    装置において、基板電極は、駆動電圧の印加による薄膜
    両端固定梁の変位を当接により規制して反射手段の入射
    光の光変調を行うことを特徴とする光変調装置。
  9. 【請求項9】 請求項1〜8のいずれかに記載の光変調
    装置において、変位促進手段は、薄膜両端固定梁と基板
    電極が対向して形成する空隙の最大深さ位置に近い上記
    薄膜両端固定梁の一方の被保持部側に形成したことを特
    徴とする光変調装置。
  10. 【請求項10】 請求項1〜9のいずれかに記載の光変
    調装置において、変位促進手段は、薄膜両端固定梁の一
    方の被保持部側が他方の被保持部側より狭い狭隘部から
    なることを特徴とする光変調装置。
  11. 【請求項11】 請求項10に記載の光変調装置におい
    て、狭隘部は、伸縮が自在の伸縮形状であることを特徴
    とする光変調装置。
  12. 【請求項12】 請求項10又は11に記載の光変調装
    置において、狭隘部は、複数個からなることを特徴とす
    る光変調装置。
  13. 【請求項13】 請求項12に記載の光変調装置におい
    て、複数個の狭隘部は、各々が対象位置に形成したこと
    を特徴とする光変調装置。
  14. 【請求項14】 請求項1〜13のいずれかに記載の光
    変調装置において、変位促進手段は、薄膜両端固定梁の
    一方の被保持部側を穿った穴部からなることを特徴とす
    る光変調装置。
  15. 【請求項15】 請求項14に記載の光変調装置におい
    て、穴部は、複数個を形成したことを特徴とする光変調
    装置。
  16. 【請求項16】 請求項14又は15に記載の光変調装
    置において、穴部は、薄膜両端固定梁の長辺方向に複数
    個を形成したことを特徴とする光変調装置。
  17. 【請求項17】 入射光束の反射方向を変えて光変調を
    行う請求項1〜16のいずれかに記載の光変調装置の製
    造方法において、基板上に空隙となる凹計上部を形成し
    た後に、犠牲材料からなる犠牲材料層を形成して上記基
    板を平坦化して、薄膜両端固定梁と変位促進手段を形成
    後に、上記犠牲材料層を除去して光変調装置を製造する
    ことを特徴とする光変調装置の製造方法。
  18. 【請求項18】 請求項17に記載の光変調装置の製造
    方法において、基板上に薄膜形成方法又は微細加工方法
    により上記基板上に空隙となる凹形状部を形成する凹形
    状部形成工程と、上記基板上の凹形状部に基板電極の全
    部又は一部を形成する基板電極形成工程と、上記基板上
    の凹形状部に犠牲材料からなる犠牲材料層を形成する犠
    牲材料層形成工程と、上記犠牲材料層を研磨して平坦化
    する平坦化工程と、上記犠牲材料層上に薄膜両端固定梁
    を形成する薄膜両端固定梁成膜形成工程と、上記薄膜両
    端固定梁に変位促進手段を形成する変位促進手段工程
    と、反射手段を形成する反射手段形成工程と、上記基板
    電極のパッド開口部を形成するパッド開口部形成工程
    と、凹形状部の上記犠牲材料層を除去する犠牲材料層除
    去工程とからなる光変調装置の製造方法。
  19. 【請求項19】 電子写真プロセスで光り書き込みを行
    って画像を形成する画像形成装置において、回動可能に
    保持されて形成画像を担持する画像担持体と、上記画像
    担持体上を光り書き込みを行って潜像を形成する請求項
    1〜16のいずれかに記載の光変調装置からなる潜像形
    成手段と、上記潜像形成手段の上記光変調装置によって
    形成された潜像を顕像化してトナー画像を形成する現像
    手段と、上記現像手段で形成されたトナー画像を被転写
    体に転写する転写手段とからなることを特徴とする画像
    形成装置。
  20. 【請求項20】 画像を投影して表示する画像投影表示
    装置において、画像投影データの入射光の反射方向を変
    えて光変調を行って画像を投影して表示する請求項1〜
    16のいずれかに記載の光変調装置からなる光スイッチ
    手段と、上記光スイッチ手段の上記光変調装置が投影す
    る画像を表示する投影スクリーンとからなることを特徴
    とする画像投影表示装置。
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