KR100635589B1 - 자기-제한 정밀기계소자를 가진 2중 기판 반사형의 공간 광 변조기 및 이의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
Description
SLM(10)을 제조하기 위한 한 처리공정이 도 2a 내지 도 2f의 저면 사시도에 도시되어 있다. 간단히, 화소 셀(12)의 제조만이 설명된다. 그러나, 이 설명으로부터, 화소 셀(12a, 12b, 12c)과 SLM(10) 내에 있는 다른 화소 셀은 화소 셀(12)이 제조되는 것과 동시에 그리고 동일한 방법으로 제조될 수 있음이 명백할 것이다.
이와 같은 보강은 힌지(50, 50a) 내에서 유연성을 유지하면서도 기계적으로 미러(48,48a)를 강화한다. 동양의 보강이 도 8b 내지 도 8e에 도시되어 있다.
Claims (339)
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- 청구항 56은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.상부 표면과 하부 표면을 가지는 광 전송 기판;상기 광 전송 기판의 상기 하부 표면에 부착된 편향가능한 소자; 및상기 광 전송 기판의 하부 표면 아래에 이격 위치된 회로 기판을 구비하고,상기 편향가능한 소자는 제1 부분과 제2 부분을 구비하되,상기 편향가능한 소자의 편향 동안에 상기 제1 부분이 상기 하부 표면으로부터 멀어지게 움직일 때 상기 제2 부분은 상기 하부 표면을 향하여 움직이고, 상기 편향은 상기 제2 부분과 상기 하부 표면 사이의 접촉에 의하여 제한되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 57은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항에 있어서,상기 회로 기판은 상기 편향가능한 소자와 상기 회로 기판 사이에서 정전인력을 발생하기 위한 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 58은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항에 있어서,상기 회로 기판 내에 형성된 어드레싱 회로와, 상기 어드레싱 회로에 접속된 전극을 더 구비하고, 상기 전극은 바이어스 전압이 상기 전극과 상기 편향가능한 소자 사이에 인가될 때, 상기 편향가능한 소자를 선택적으로 편향시키도록 위치되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 59은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 58 항에 있어서,상기 변조기는 제1 전위차가 상기 편향가능한 소자와 상기 전극 사이에 인가될 때, 상기 편향가능한 소자가 고정된 편향 위치로 이동하여 제1 전위차보다 작은 제2 전위차가 상기 편향가능한 소자와 전극 사이에 인가될 때까지 상기 고정된 편향 위치에 남아있도록 구성되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 60은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 59 항에 있어서,상기 어드레싱 회로의 동작 전압은 5볼트를 초과하지 않는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 61은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 59 항에 있어서,상기 어드레싱 회로는 메모리 어레이를 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 62은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 61 항에 있어서,상기 메모리 어레이는 DRAM 회로를 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 63은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 61 항에 있어서,상기 메모리 어레이는 SRAM 회로를 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 64은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항에 있어서,상기 회로 기판은 실리콘 다이(die)의 일부인 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 65은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항에 있어서,상기 광 전송 기판은 석영을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 66은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항에 있어서,상기 광 전송 기판은 광이 상기 광 전송 기판의 하부 표면 일부를 통해야만 지나갈 수 있도록 패터닝된 개구층을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 67은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항에 있어서,상기 광 전송 기판은 고정된 광학 소자를 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 68은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항에 있어서,상기 하부 표면은 상기 제2 부분과 상기 하부 표면 사이의 접촉 영역을 최소화하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 69은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항에 있어서,상기 편향가능한 소자는 도전층을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 70은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항에 있어서,상기 편향가능한 소자는 반사성 및 도전성인 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 71은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항에 있어서,상기 편향가능한 소자는 전기 도전성 부분을 포함하고 정전기력에 의하여 편향가능한 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 72은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항에 있어서,상기 편향가능한 소자는 상기 회로 기판에 전기적으로 결합되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 73은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항에 있어서,상기 편향가능한 소자는 구조 지지층을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 74은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항에 있어서,상기 편향가능한 소자는 광 투과성 지지층과 반사층을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 75은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 74 항에 있어서,상기 광 투과성 지지층은 질화 실리콘을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 76은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 74 항에 있어서,상기 반사층은 알루미늄을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 77은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항에 있어서,상기 편향가능한 소자의 제1 부분은 제2 편향가능한 소자의 일부분이 상기 제1 부분 내에 끼워지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 78은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항에 있어서,상기 편향가능한 소자는 실질적으로 강성(rigid)이고 유연한(flexible) 힌지에 의하여 상기 광 전송 기판에 부착되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 79은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 78 항에 있어서,상기 힌지는 비틀림 힌지인 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 80은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 78 항에 있어서,상기 힌지는 상기 편향가능한 소자에 비하여 상대적으로 탄성이 있는(elastic) 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 81은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 78 항에 있어서,상기 힌지는 상기 편향가능한 소자 내의 적어도 하나의 물질보다 더 작은 탄성 계수를 가지는 물질을 구비하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 82은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 78 항에 있어서,상기 힌지는 상기 편향가능한 소자보다 더 얇은 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 83은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 78 항에 있어서,상기 힌지는 실질적으로 투과성 물질로 구성되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 84은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 78 항에 있어서,상기 힌지는 상기 편향가능한 소자와 다른 평면에 위치하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 85은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 78 항에 있어서,상기 힌지는 상기 편향가능한 소자와 상기 광 전송 기판 사이에 위치되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 86은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 78 항에 있어서,상기 편향가능한 소자는 상기 힌지와 상기 광 전송 기판 사이에 위치되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 87은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항에 있어서,상기 편향가능한 소자는 하나 이상의 소정 각에 대응하는 전위를 상기 회로 기판의 관련 전극에 인가함으로써 상기 소정 각으로 편향되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 88은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항에 있어서,상기 편향가능한 소자는 비-편향 위치로부터 편향 위치로 이동하도록 구성되고,상기 편향가능한 소자가 상기 편향 위치에 있고 광원과 결상 광학 장치 모두가 상기 광 전송 기판의 동일 측에 위치될 때, 상기 편향가능한 소자의 일부분이 상기 광원으로부터 상기 결상 광학 장치로 광을 반사시키는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 89은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 88 항에 있어서,상기 편향가능한 소자는 상기 비-편향 위치에서 제2 편향 위치로 이동하도록 구성되고,상기 편향가능한 소자가 상기 제2 편향 위치에 있고, 광원과 제2 결상 광학 장치 모두가 상기 광 전송 기판의 동일 측에 위치될 때, 상기 편향가능한 소자의 일부분이 상기 광원으로부터 상기 제2 결상 광학 장치로 광을 반사시키는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 90은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항에 있어서,상기 편향가능한 소자는 비-편향 위치에서 편향 위치로 이동하도록 구성되고,상기 편향가능한 소자가 비-편향 위치에 있고, 광원과 결상 광학 장치 모두가 상기 광 전송 기판의 동일 측에 위치될 때, 상기 편향가능한 소자의 일부분이 상기 광원으로부터 상기 결상 광학 장치로 광을 반사시키는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 91은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 90 항에 있어서,상기 편향가능한 소자는 상기 비-편향 위치에서 제2 편향 위치로 이동하도록 구성되고,상기 편향가능한 소자가 제2 편향 위치에 있고, 광원과 제2 결상 광학 장치 모두가 상기 광 전송 기판의 동일 측에 위치될 때, 상기 편향가능한 소자의 일부분이 상기 광원으로부터 상기 제2 결상 광학 장치로 광을 반사시키는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 92은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항에 있어서,상기 제2 부분은 제1 부분보다 더 좁고 제1 부분으로부터 연장된 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 93은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항에 있어서,상기 제2 부분의 형상은 상기 제2 부분과 상기 광 전송 기판 사이의 접촉 영역을 최소화하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 94은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항에 있어서,상기 제2 부분은 상기 편향가능한 소자가 최대 편향 위치에 있을 때 상기 광 전송 기판을 접촉되도록 구성된 날카로운 접촉단을 구비하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 95은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항에 있어서,상기 제2 부분은 상기 제1 부분과 동일 평면상에 있는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 96은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항에 있어서,상기 제2 부분과 상기 하부 표면은 전기적으로 접속되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 97은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항에 있어서,상기 편향가능한 소자에 바이어스 전압을 인가하도록 구성된 전원을 더 포함하는 공간 광 변조기.
- 청구항 98은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항에 있어서,상기 공간 광 변조기는 공간 광 변조기 어레이의 일부분인 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 99은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항에 있어서,각각 상기 편향가능한 소자와 유사한 구조를 갖는 복수의 편향가능한 반사 소자를 더 구비하고, 상기 복수의 편향가능한 반사 소자 내에서 선택된 편향가능한 소자가 복수의 서브세트(subset)로 그룹 지워지고 각 서브세트는 소정 각도에서 입사광을 선택적으로 조사시키도록 배향되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 100은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항에 있어서,상기 광 전송 기판의 하부 표면에 부착되는 제2 편향가능한 소자를 더 포함하고,상기 제2 편향가능한 소자는 제3 부분과 제4 부분을 구비하며, 상기 제2 편향가능한 소자의 편향 동안, 상기 제3 부분이 상기 하부 표면으로부터 멀어지도록움직임에 따라 상기 제4 부분은 상기 하부 표면을 향하여 움직이고, 상기 제2 편향가능한 소자의 편향은 상기 제4 부분과 상기 하부 표면 사이의 접촉에 의하여 제한되도록 하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 101은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 100 항에 있어서,상기 편향가능한 소자와 상기 제2 편향가능한 소자는 각각 상기 제2 부분과 상기 제4 부분이 상기 하부 표면에 접촉할 때 실질적으로 동일한 편향각을 가지도록 구성되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 102은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.표면을 가지는 광 전송 기판을 제공하는 단계;상기 기판 표면에 연결되는 실질적으로 강성의 편향가능한 소자를 제공하는 단계;상기 편향가능한 소자를 비-편향 상태로 위치시키는 단계;상기 편향가능한 소자가 상기 비-편향 상태에 있을 때, 광선이 상기 기판을 통하여 제1 방향으로 반사되도록 광원으로부터 상기 광선을 상기 기판을 통하여 반사 표면상에 조사시키는 단계; 및상기 편향가능한 소자가 상기 편향 상태에 있을 때, 상기 광선이 상기 기판을 통하여 제2 방향에서 반사되도록 상기 편향가능한 소자를 상기 편향 상태로 위치시키는 단계를 포함하고,상기 편향가능한 소자는 제1 부분, 제2 부분 및 반사 표면을 포함하며, 상기 편향 상태와 비편향 상태에 위치되도록 구성되고, 상기 제2 부분은 상기 제1 부분이 상기 기판표면으로부터 멀어지게 움직일 때 상기 기판 표면을 향하여 결국 접촉할 수 있도록 움직이는 광을 지향시키기 위한 방법.
- 청구항 103은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 102 항에 있어서,상기 제1 방향으로 반사된 광선은 결상 광학 장치에 부딪히는 것을 특징으로 하는 광을 지향시키기 위한 방법.
- 청구항 104은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 102 항에 있어서.상기 제2 방향으로 반사된 광선은 결상 광학 장치에 부딪히는 것을 특징으로 하는 광을 지향시키기 위한 방법.
- 청구항 105은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 102 항에 있어서,상기 광 전송 기판 아래에 이격 위치된 회로 기판을 제공하는 단계를 더 포함하고,상기 편향가능한 소자를 상기 편향 상태로 위치시키는 단계는 상기 편향가능한 소자와 상기 회로 기판 사이에 제1 전위차를 형성함으로써 수행되고, 상기 편향가능한 소자는 상기 제1 전위차보다 작은 제2 전위차가 상기 편향가능한 소자와 상기 회로 기판 사이에 존재할 때까지 상기 편향 상태에 남아 있도록 하는 것을 특징으로 하는 광선을 지향시키기 위한 방법.
- 청구항 106은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.광 전송 기판 위에 희생층을 형성하는 단계;상기 희생층을 관통하는 홀을 형성하는 단계;상기 편향가능한 소자의 편향 동안, 제1 부분이 상기 기판으로부터 멀어지게 움직일 때 제2 부분은 상기 기판을 향하여 움직이며, 상기 편향은 상기 제2 부분과 상기 기판 사이의 접촉에 의하여 제한되도록, 제1 부분과 제2 부분을 갖는 편향가능한 소자를 정의하기 위하여 상기 희생층 위에 지지층을 형성 및 패터닝하는 단계;힌지의 일부분이 상기 홀을 통하여 연장하고 상기 기판에 상기 편향가능한 소자를 부착하도록 상기 힌지를 정의하기 위하여, 상기 편향가능한 소자의 일부분에 힌지층을 형성 및 패터닝하는 단계; 그리고상기 편향가능한 소자가 편향될 수 있도록 상기 희생층을 제거하는 단계를 포함하는 공간 광 변조기의 제조방법.
- 청구항 107은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 106 항에 있어서,상기 힌지층을 형성 및 패터닝하는 단계 후에, 상기 편향가능한 소자의 제1 부분과 상기 기판의 일부분의 모두 위에 반사 도전층을 형성하되, 상기 제1 부분 위에 있는 상기 반사 도전층의 적어도 일부분은 상기 기판 위에 있는 상기 반사도전층의 적어도 일부분과 전기적으로 결합되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기의 제조방법.
- 청구항 108은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 106 항에 있어서,상기 홀을 통하여 연장하는 상기 힌지의 일부분이 노출되도록 상기 희생층의 일부분을 제거하는 단계; 및상기 편향가능한 소자가 제2 편향가능한 소자에 전기적으로 결합되도록 상기 편향가능한 소자 위에 도전성의 반사층을 형성하는 단계를 더 포함하는 공간 광 변조기의 제조방법.
- 청구항 109은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 106 항에 있어서,상기 편향이 상승부와 상기 제2 부분 사이의 접촉에 의하여 제한되도록 상기 상승부를 정의하기 위하여 상기 기판을 패터닝하는 단계를 더 포함하는 공간 광 변조기의 제조방법.
- 청구항 110은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.광 전송 기판 위에 제1 희생층을 형성하는 단계;제1 부분과 제2 부분을 가지는 편향가능한 소자를 정의하고, 상기 제1 희생층의 일부가 노출되도록 상기 제1 희생층 위에 지지층을 형성 및 패터닝하는 단계;상기 제1 희생층의 노출된 부분과 상기 편향가능한 소자 위에 제2 희생층을 형성하는 단계;상기 제2 희생층을 관통하고 상기 편향가능한 소자 위에 위치되는 제1 홀과, 상기 제1 희생층과 상기 제2 희생층 모두를 관통하고 상기 편향가능한 소자로부터 이격 위치되는 제2 홀을 형성하는 단계;힌지의 제1 부분은 상기 제1 홀을 통하여 연장하여 상기 편향가능한 소자와 결합되고, 상기 힌지의 제2 부분은 상기 제2 홀을 통하여 연장하여 상기 편향가능한 소자를 상기 기판에 부착시키도록 상기 기판에 결합된 상기 힌지를 정의하기 위하여 힌지층을 형성 및 패터닝하는 단계; 그리고상기 제1 희생층과 제2 희생층을 제거하는 단계를 포함하고,상기 편향가능한 소자의 편향 동안, 상기 제1 부분이 상기 기판으로부터 떨어지게 움직일 때 상기 제2 부분은 상기 기판을 향하여 움직이고, 상기 편향은 상기 제2 부분과 상기 기판 사이의 접촉에 의하여 제한되는 공간 광 변조기의 제조방법.
- 청구항 111은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.광 전송 기판 위에 희생층을 증착하는 단계;상기 희생층을 관통하는 홀을 형성하는 단계;상기 희생층 위에 반사층을 증착하는 단계;상기 편향가능한 소자의 편향 동안, 제1 부분이 상기 광 전송 기판으로부터 멀어지게 운동할 때 제2 부분은 상기 광 전송 기판을 향하여 운동하며, 상기 편향은 상기 제2 부분과 상기 광 전송 기판 사이의 접촉에 의하여 제한되도록 상기 제1 부분과 상기 제2 부분을 가지는 편향가능한 소자를 정의하기 위하여 상기 반사층을 패터닝하는 단계;상기 편향가능한 소자를 상기 홀을 통하여 상기 광 전송 기판에 연결시키는 단계;상기 편향가능한 소자가 자유롭게 편향하도록 상기 희생층을 제거하는 단계;회로 기판상에 전극을 포함하는 어드레싱 회로를 형성하는 단계; 및상기 편향가능한 소자가 상기 전극에 인가되는 전위에 의하여 선택적으로 편향될 수 있도록 상기 광 전송 기판과 상기 회로 기판을 정렬하고 결합하는 단계를 포함하는 공간 광 변조기의 제조방법.
- 청구항 112은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 111 항에 있어서,상기 희생층을 증착하기 전에 상기 광 전송 기판상에 개구층을 증착하는 단계; 및광선이 상기 광 전송 기판의 일부분만 지나가도록 상기 개구층을 패터닝하는 단계를 더 포함하는 공간 광 변조기의 제조방법.
- 청구항 113은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 111 항에 있어서,상기 희생층을 제거하는 단계는 XeF2 가스상 에칭으로 상기 희생층을 에칭하는 단계를 포함하는 공간 광 변조기의 제조방법.
- 청구항 114은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 111 항에 있어서,상기 반사층을 증착하는 단계는,제1 굴절율의 제1 유전체층을 증착하는 단계; 및상기 제1 굴절율과는 다른 제2 굴절율의 제2 유전체층을 증착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기의 제조방법.
- 청구항 115은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 111 항에 있어서,상기 반사층을 증착 및 패터닝하는 단계는광 전송층을 증착하는 단계;상기 광 전송층을 패터닝하는 단계; 및상이 제2 부분이 상기 광 전송 기판과 접촉할 때 도전성 물질이 상기 광 전송 기판에 접촉하지 않도록 상기 도전성 물질을 상기 제2 부분에 증착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기의 제조방법.
- 청구항 116은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 115 항에 있어서,상기 도전성 물질을 증착하는 단계는,상기 편향가능한 소자의 제1 방향에서 제2 방향을 향하여 배향된 구성부재 방향을 포함하는 방향으로 상기 도전성 물질을 증착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광 변조기의 제조방법.
- 청구항 117은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.편향가능한 소자를 갖는 광 전송 기판을 포함하고,상기 편향가능한 소자는 제1 부분 및 제2 부분을 포함하되,상기 편향가능한 소자의 편향 동안에, 상기 제1 부분이 상기 광 전송 기판에서 멀어지도록 움직일 때, 상기 제2 부분은 상기 광 전송 기판을 향하도록 움직이는 공간 광 변조기.
- 청구항 118은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 117 항에 있어서,상기 광 전송 기판의 하부에 이격 위치하는 회로 기판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 119은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 118 항에 있어서,상기 편향가능한 소자는 광 전송 기판의 하부 표면상에 고정되고, 상기 편향가능한 소자의 제2 부분은, 제1 부분이 하부 표면에서 멀어지도록 움직일 때, 하부 표면을 향하도록 움직이는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 120은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 118 항에 있어서,상기 회로 기판은 상기 편향가능한 소자 및 회로 기판 사이에 인력을 발생시키기 위한 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 121은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 120 항에 있어서,힌지는 상기 전극 및 편향가능한 소자 사이에 상기 편향가능한 소자를 가로질러 연장되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 122은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 118 항에 있어서,회로 기판 내에 형성되는 어드레싱 회로와, 어드레싱 회로에 연결되는 전극을 더 포함하고,상기 전극은, 바이어스 전압이 상기 전극과 편향가능한 소자 사이에 인가될 때,상기 편향가능한 소자를 선택적으로 편향시키도록 위치되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 123은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 117 항에 있어서,상기 편향가능한 소자의 제2 부분은 상기 광 전송 기판에 접하도록 구성되어 상기 편향가능한 소자의 편향을 제한하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 124은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.편향가능한 소자를 갖는 광 전송 기판을 포함하고,상기 편향가능한 소자는 편향 동안에 광 전송 기판을 향하여 움직이는 부분을 가지고, 상기 부분은 상기 광 전송 기판에 접촉하여 상기 편향가능한 소자의 편향을 제한하는 공간 광 변조기.
- 청구항 125은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 124 항에 있어서,상기 광 전송 기판의 하부에 이격 위치하는 회로 기판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 126은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 124 항에 있어서,상기 편향가능한 소자는 상기 광 전송 기판의 하부 표면상에 고정되고, 상기 편향가능한 소자의 일부는 편향 동안 하부 표면을 향하도록 움직이는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 127은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 125 항에 있어서,상기 회로 기판은 상기 편향가능한 소자 및 회로 기판 사이에 인력을 발생시키기 위한 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 128은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 124 항에 있어서,상기 편향가능한 소자는 힌지를 통하여 상기 광 전송 기판 상에 고정되고, 상기 힌지는 상기 전극과 편향가능한 소자 사이에 편향가능한 소자를 가로질러 연장되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 129은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 128 항에 있어서,상기 힌지는 비틀림 힌지인 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 130은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.상부 및 하부 기판을 포함하고, 상기 상부 기판은 광 투과성이고 하부 기판 상에 고정되며, 정전기적으로 편향가능한 미러가 광 전송 기판으로부터의 힌지들에 의해 유지되고, 하부 기판은 전자 회로 및 하부 전극을 포함하는 공간 광 변조기를 제공하는 단계;광 전송 기판을 통과하고 정전기적으로 편향가능한 미러에 의해 반사되는 입사광을 제공하는 단계;정전기적 인력에 의해 미러를 편향시키도록 상기 미러와 하부 전극 사이에 바이어스 전압를 인가하는 단계; 및편향 위치에 있는 미러에 의해 광 전송 기판을 통과한 광선을 다시 결상 광학 장치로 편향시키는 단계를 포함하는 광 변조 방법.
- 청구항 131은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 130 항에 있어서,상기 하부 기판은 실리콘 기판이고, 상기 전자 회로는 전기적 어드레싱 회로인 것을 특징으로 하는 광 변조 방법.
- 청구항 132은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 131 항에 있어서,상기 실리콘 기판은 저밀도 DRAM과 유사한 것을 특징으로 하는 광 변조 방법.
- 청구항 133은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 131 항에 있어서,상기 편향가능한 미러는 하부 기판 상의 MOS 트랜지스터를 이용하여 편향되는 것을 특징으로 하는 광 변조 방법.
- 청구항 134은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 130 항에 있어서,상기 하부 기판은 하나 이상의 보호층(passivation layer)을 포함하는 것을 특징으로 하는 광 변조 방법.
- 청구항 135은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 130 항에 있어서,편향가능한 미러는 질화 실리콘, 산화 실리콘, 비결정질 실리콘 또는 폴리실리콘으로 구성되는 LPCVD로 증착된 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 광 변조 방법.
- 청구항 136은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.상부 및 하부 기판; 및상부 기판은 광 투과성의 광 전송 기판으로 하부 기판 상에 고정되며 상기 광 전송 기판으로부터 힌지들에 의해 유지되는 정전기적으로 편향가능한 미러를 포함하고, 하부 기판은 전자 회로 및 하부 전극을 포함하고,상기 미러는 바이어스 전압이 상기 미러 및 하부 전극 사이에 인가될 때 편향가능하도록 구성되고, 편향 상태에 있을 때, 상기 광 전송 기판을 통한 입사광을 상기 광 전송 기판을 통해 다시 밖으로 편향시켜 결상 광학 장치로 향하는 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 137은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 136 항에 있어서,상기 하부 기판은 실리콘 기판이고, 상기 전자 회로는 전기적 어드레싱 회로인 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 138은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 137 항에 있어서,상기 실리콘 기판은 저밀도 DRAM과 유사한 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 139은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 137 항에 있어서,상기 편향가능한 미러는 하부 기판 상의 MOS 트랜지스터를 이용하여 편향되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 140은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제2 기판에 부착되는 제1 기판을 포함하고,제1 기판은 광 전송 기판이고 그 위에 복수의 편향가능한 마이크로미러 소자들을 가지고,제2 기판은 제1 기판 상의 편향가능한 마이크로미러 소자들을 편향시키기 위한 복수의 전극들 및 어드레싱 회로를 갖는 실리콘 기판인 공간 광 변조기.
- 청구항 141은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 140 항에 있어서,상기 각 편향가능한 소자들은 반사성이고 금속층을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 142은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 140 항에 있어서,상기 편향가능한 소자들은 실질적으로 강성인 판을 더 포함하고,상기 판은 판의 가장자리를 따라 위치하는 하나 이상의 비틀림 힌지들에 의하여 광 전송 기판에 부착되고, 상기 판은 가장자리 주위를 회전하도록 작동될 수 있는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 143은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 142 항에 있어서,상기 각 편향가능한 소자 및 광 전송 기판 간의 접촉 영역을 제한하기 위한 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 144은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 140 항에 있어서,상기 광 전송 기판은 개구층을 포함하여, 광이 광 전송 기판의 일부를 통과할 수 있는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 145은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 140 항에 있어서,상기 각 편향가능한 소자들은 금속층을 포함하는 박층(laminate)으로 구성되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 146은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 140 항에 있어서,상기 전극들은 상기 광 전송 기판 상에 상기 편향가능한 소자들의 정전기적 인력을 만들도록 위치되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 147은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 140 항에 있어서,상기 편향가능한 소자들은 행 방향으로 전기적으로 연결되고,상기 전극들은 픽셀 위치에서 행을 가로지르는 열 방향으로 전기적으로 연결되어,소정 행 및 열 바이어스들을 선택적으로 인가하여 정전기적 인력을 생성시킴으로써 개별 픽셀들을 온 및 오프시킬 수 있는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 148은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 140 항에 있어서,상기 광 전송 기판은 개구층을 포함하고, 상기 개구층은 광이 기판 영역의 일부만을 통과하도록 하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 149은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 140 항에 있어서,상기 각 편향가능한 소자들은 미러에 단단하게 연결된 미러 정지부를 더 포함하여, 각도가 증가할수록 미러 정지부의 자유단이 광 전송 기판에 더 가깝게 움직이는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 150은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 149 항에 있어서,상기 미러 정지부는, 미러 정지부의 자유단이 광 전송 기판과 접촉할 때 미러의 자유단이 실리콘 기판에서 분리되도록 구성되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 151은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 149 항에 있어서,상기 미러 정지부는, 각도가 최대치일 때 광 전송 기판에 접촉하도록 구성되는 날카로운 접촉단을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 152은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.상부 표면 및 하부 표면을 갖는 광 전송 기판;상기 광 전송 기판의 하부 표면에 부착되는 다수의 편향가능한 반사 소자들;상기 광 전송 기판의 하부 표면의 아래에 평행으로 이격 위치하는 실리콘 기판을 포함하고,상기 실리콘 기판은 상기 광 전송 기판에 부착된 반사성의 편향가능한 소자들의 선택적인 작동을 위한 전자 회로 및 다수의 전극들을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 153은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 152 항에 있어서,상기 전극들은 전자 회로와 연결되고, 각 전극은 바이어스 전압이 전극 및 대응 편향가능한 소자들 간에 인가될 때 대응 편향가능한 소자를 선택적으로 편향시키도록 위치하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 154은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 152 항에 있어서,상기 각 편향가능한 소자들은 반사성이고 금속층을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 155은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 152 항에 있어서,상기 각 편향가능한 소자들 및 광 전송 기판 간의 접촉 영역을 제한하기 위한 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 156은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 152 항에 있어서,상기 광 전송 기판은 개구층을 포함하여, 광이 광 전송 기판의 하부의 일부만을 통과할 수 있도록 하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 157은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 152 항에 있어서,상기 광 전송 기판 상의 상기 편향가능한 소자들을 편향시키기 위해 실리콘 기판 상에 알루미늄 전극을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 158은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 152 항에 있어서,상기 편향가능한 소자는 도전성이고,상기 편향가능한 소자는 행 방향으로 전기적으로 연결되어 있고,상기 전극들은 픽셀 위치에서 행을 가로지르는 열 방향으로 전기적으로 연결되어, 소정 행 및 열 바이어스들을 선택적으로 인가하여 정전기적 인력을 생성시킴으로써 개별 픽셀들은 온 및 오프시킬 수 있는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 159은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 152 항에 있어서,상기 각 편향가능한 소자들은 미러에 단단하게 연결된 미러 정지부를 더 포함하여, 각도가 증가함에 따라 미러 정지부의 자유단이 광 전송 기판에 더 가깝게 움직이는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 160은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 159 항에 있어서,상기 미러 정지부는, 미러 정지부의 자유단이 광 전송 기판에 접촉할 때 미러의 자유단이 실리콘 기판에 접촉하지 않도록 구성되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 161은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.회로에 연결된 어드레싱 전극들 및 반사성 편향가능한 소자들 사이에 바이어스 전압을 인가하는 단계를 포함하고,어드레싱 회로는 실리콘 기판에 포함되고,상기 반사성 편향가능한 소자들은 상기 광 전송 기판의 하부 표면에 부착되고, 상기 실리콘 기판은 광 전송 기판의 아래에 이격 배치되는 공간 광 변조기 작동 방법.
- 편향가능한 소자를 갖는 광 전송 기판을 포함하고,상기 편향가능한 소자는 광 전송 기판의 측면과 대향하는 편향가능한 소자의 측면 상에 배치되는 힌지를 포함하는 공간 광 변조기.
- 제 162 항에 있어서,상기 광 전송 기판은 대응하는 적어도 하나의 비틀림 힌지를 통해 적어도 하나의 편향가능한 소자들을 하부 표면을 유지하고,상기 편향가능한 소자는 상부 및 하부 표면들과 이들 사이에 하나 이상의 가장자리들을 갖고,상기 적어도 하나의 비틀림 힌지는 상기 편향가능한 소자의 하부 표면의 중앙부를 향해서 편향가능한 소자에 연결되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 162 항에 있어서,상기 광 전송 기판은 상부 표면 및 하부 표면을 갖고,상기 편향가능한 소자는 상부 표면, 하부 표면 및 하나 이상의 가장자리 표면들을 갖고,상기 힌지는 상기 광 전송 기판의 하부 표면 상에서만 광 전송 기판에 연결되고, 상기 힌지는 편향가능한 소자의 하부 표면 상에서만 편향가능한 소자에 연결되는 공간 광 변조기.
- 제 162 항에 있어서,상부에서 하부까지의 단면에 있어서,광 전송 기판;상기 광 전송 기판 아래의 제1 간격;상기 제1 간격 아래의 편향가능한 소자;상기 편향가능한 소자 아래의 제2 간격; 및상기 제2 간격 아래의 힌지를 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 166은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.실질적으로 수평하게 면(plane)으로 연장되는 광 전송 기판;실질적으로 수평하게 면으로 연장되고, 상기 광 전송 기판에 대해 실질적으로 평행하게 이격 위치된 편향가능한 소자;상기 광 전송 기판에 대해 상기 편향가능한 소자를 편향가능하게 연결하는 커넥터를 포함하고,상기 커넥터는 상기 광 전송 기기에 부착되는 제1 단을 포함하고, 수직부는 상기 제1 단에서 연장되어 편향가능한 소자의 면을 지나고, 힌지부는 상기 편향가능한 소자와 실질적으로 평행하게 이격되도록 면으로 연장되고, 제2 단은 힌지 부분을 편향가능한 소자에 연결시키는 공간 광 변조기.
- 청구항 167은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항 내지 제 101 항, 제 117 항 내지 제 129 항, 제 136 항 내지 제 160 항, 및 제1 62 항 내지 제166 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 힌지는 유연한(flexible) 부분을 포함하고, 상기 유연한 부분은 상기 광 전송 기판을 통해 볼 때 편향가능한 소자에 의해 시야가 가려지는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 168은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항 내지 제 101 항, 제 117 항 내지 제 129 항, 제 136 항 내지 제 160 항, 및 제 162 항 내지 제 166 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 힌지는, 광 전송 기판의 하부 표면에서 연장되어 편향가능한 소자를 지나는 지주들을 통해 광 전송 기판에 연결되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 169은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항 내지 제101 항, 제 117 항 내지 제 129 항, 제 136 항 내지 제 160 항, 및 제 162 항 내지 제 166 항 중 어느 한 항에 있어서,힌지는, 지주들에 연결되고 편향가능한 소자를 가로질러 연장되고 편향가능한 소자의 하부 표면에 연결되는 플렉시블 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 170은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항 내지 제 101 항, 제 117 항 내지 제 129 항, 제 136 항 내지 제 160 항, 및 제 162 항 내지 제 166 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 편향가능한 소자는 광 전송 기판의 하부 기판에 고정되고, 상기 편향가능한 소자는 제1 부분 및 제2 부분을 가지고, 편향가능한 소자의 편향 동안에 상기 제1 부분이 하부 표면에서 멀어지도록 움직일 때 상기 제2 부분은 하부 표면을 향하여 움직이는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 171은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 170 항에 있어서,상기 편향가능한 소자의 제2 부분은 광 전송 기판에 접하도록 구성되어 편향가능한 소자의 편향을 제한하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 172은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 56 항 내지 제 101 항, 제 117 항 내지 제 129 항, 제 136 항 내지 제 160 항, 및 제 162 항 내지 제 166 항 중 어느 한 항에 따른 공간 광 변조기 및 광원을 포함하는 투사 디스플레이 시스템.
- 청구항 173은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.기판을 제공하는 단계;상기 기판 위에 제1 희생층을 형성하는 단계;상기 제1 희생층 위에 편향가능한 소자층을 형성하는 단계;상기 편향가능한 소자층 위에 제2 희생층을 형성하는 단계;상기 제2 희생층 위에 힌지를 형성하는 단계; 및상기 제1 및 제2 희생층을 제거하는 단계;를 포함하는 공간 광 변조기 제조방법.
- 청구항 174은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 173 항에 있어서,상기 힌지는 상기 기판 및 편향가능한 소자층 모두에 연결되도록 형성되어, 상기 제1 및 제2 희생층 제거시 편향가능한 소자가 기판에 편향 가능하게 결합되도록 하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 제조방법.
- 청구항 175은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 174 항에 있어서,상기 기판은 광을 통과시키기 위한 광 전송 기판이고, 상기 편향가능한 소자는 광을 편향시키도록 위치되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 제조방법.
- 청구항 176은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 173 항에 있어서,상기 힌지를 형성하는 단계 전에 상기 제2 희생층의 일부를 제거하는 단계를 더 포함하여,상기 힌지를 형성하는 단계에서 상기 힌지는 상기 제거된 부분을 통해 편향가능한 소자에 연결되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 제조방법.
- 청구항 177은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 173 항에 있어서,상기 편향가능한 소자층은 각각 반사성 물질을 포함하는 편향가능한 소자들의 어레이를 형성하도록 패터닝되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 제조방법.
- 청구항 178은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 173 항 내지 제 177 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제1 및 제2 희생층은 실리콘을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 제조방법.
- 청구항 179은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 173 항에 있어서,상기 제2 희생층을 형성하는 단계 전에 상기 편향가능한 소자를 패터닝하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 제조방법.
- 청구항 180은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 179 항에 있어서,상기 희생층들을 제거하는 단계 전에 상기 힌지를 패터닝하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 제조방법.
- 청구항 181은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 173 항에 있어서,회로 기판을 형성하고, 상기 회로 기판을 편향가능게 결합된 편향가능한 소자를 갖는 기판에 결합시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 제조방법.
- 상부에서 하부까지 단면에 있어서 차례로,광 전송 기판;상기 광 전송 기판 아래의 제1 간격;상기 제1 간격 아래의 편향가능한 소자;상기 편향가능한 소자 아래의 제2 간격; 및상기 간격 아래의 힌지;를 포함하고,상기 편향가능한 소자는 상기 힌지를 통해 상기 광 전송 기판에 연결되는 공간 광 변조기.
- 제 182 항에 있어서,상기 힌지는 유연한(flexible) 부분을 포함하고, 상기 유연한 부분은 상기 광 전송 기판을 통해 볼 때 상기 편향가능한 소자에 의해 시야가 가려지는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 182 항에 있어서,상기 광 전송 기판 및 상기 편향가능한 소자 모두는 상부 표면 및 하부 표면을 포함하고, 상기 힌지는 상기 광 전송 기판 및 상기 편향가능한 소자 모두의 하부 표면에 연결되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 182 항에 있어서,상기 광 전송 기판의 하부에 이격 위치하는 회로 기판을 더 포함하고, 상기 회로 기판은 상기 편향가능한 소자와 상기 회로 기판 사이의 인력을 발생하기 위한 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 185 항에 있어서,상기 힌지는 상기 전극 및 상기 편향가능한 소자 사이에서 상기 편향가능한 소자를 가로질러 연장되고, 상기 편향가능한 소자의 중앙부를 향해서 상기 편향가능한 소자에 연결되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 182 항에 있어서,상기 편향가능한 소자는 도전층을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 182 항에 있어서,상기 힌지는 비틀림 힌지인 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 189은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.편향가능한 소자를 갖는 광 전송 기판을 포함하고, 상기 편향가능한 소자는 상기 광 전송 기판의 측면에 대향하는 상기 편향가능한 소자의 측면 상에 배치되는 힌지를 포함하는 공간 광 변조기.
- 청구항 190은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 189 항에 있어서,상기 힌지는 유연한(flexible) 부분을 포함하고, 상기 유연한 부분은 상기 광 전송 기판을 통해 볼 때 상기 편향가능한 소자에 의해 시야가 가려지는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 191은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 189 항에 있어서,상기 힌지는, 상기 광 전송 기판의 하부 표면으로부터 연장되는 지주(post)를 통해 상기 광 전송 기판에 연결되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 192은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 189 항에 있어서,상기 힌지와 상기 편향가능한 소자 사이에 간격이 형성되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 193은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 192 항에 있어서,상기 광 전송 기판의 하부에 이격 위치하는 회로 기판을 더 포함하고, 상기 회로 기판은 상기 편향가능한 소자와 상기 회로 기판 사이의 인력을 발생하기 위한 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 194은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 189 항에 있어서,상기 편향가능한 소자는 반사층 및 도전성의 전극층을 포함하고, 상기 전극층은 상기 반사층에서 이격 위치하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 195은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 194 항에 있어서,상기 편향가능한 소자는 실질적으로 직사각형 또는 정사각형이고, 상기 힌지는 상기 편향가능한 소자의 대각선을 따라서 가로질러 연장되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 196은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 195 항에 있어서,상기 편향가능한 소자는 알루미늄을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 197은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.편향가능한 소자를 갖는 광 전송 기판을 구비하고,상기 편향가능한 소자는 편향가능한 소자는 제1 부분 및 제2 부분을 포함하여, 상기 편향가능한 소자의 반사 동안에, 상기 제1 부분이 상기 광 전송 기판에서 멀어지도록 움직일 때, 제2 부분은 상기 광 전송 기판을 향하도록 움직이는 공간 광 변조기.
- 청구항 198은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 197 항에 있어서,상기 힌지는 유연한(flexible) 부분을 포함하고, 상기 유연한 부분은 상기 광 전송 기판을 통해 볼 때 상기 편향가능한 소자에 의해 시야가 가려지는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 199은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 197 항에 있어서,상기 힌지는, 상기 광 전송 기판의 하부 표면으로부터 연장되는 지주(post)를 통해 상기 광 전송 기판에 연결되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 200은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 197 항에 있어서,상기 힌지와 상기 편향가능한 소자 사이에 간격이 형성되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 201은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 197 항에 있어서,상기 광 전송 기판의 하부에 이격 위치하는 회로 기판을 더 포함하고, 상기 회로 기판은 상기 편향가능한 소자와 상기 회로 기판 사이의 인력을 발생하기 위한 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 202은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 201 항에 있어서,상기 편향가능한 소자는 반사층 및 도전성의 전극층을 포함하고, 상기 전극층은 상기 반사층으로부터 이격 위치되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 203은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 202 항에 있어서,상기 편향가능한 소자는 실질적으로 직사각형 또는 정사각형이고, 상기 힌지는 상기 편향가능한 소자의 대각선을 따라서 가로질러 연장되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 204은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 203 항에 있어서,상기 편향가능한 소자는 알루미늄을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 205은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.적어도 하나의 편향가능한 소자를 적어도 하나의 해당 비틀림 힌지를 통해 하부 표면상에 지지하는 광 전송 기판을 포함하고,상기 편향가능한 소자는 상부 표면 및 하부 표면과 그 사이에 있는 하나 이상의 가장자리들을 구비하고, 상기 적어도 하나의 비틀림 힌지는 상기 편향가능한 소자의 하부 표면의 중앙부를 향해서 상기 편향가능한 소자에 연결되는 공간 광 변조기.
- 청구항 206은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 205 항에 있어서,상기 힌지는 유연한(flexible) 부분을 포함하고, 상기 유연한 부분은 상기 광 전송 기판을 통해 볼 때 상기 편향가능한 소자에 의해 시야가 가려지는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 207은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 205 항에 있어서,상기 광 전송 기판 및 상기 편향가능한 소자 모두는 상부 표면 및 하부 표면을 포함하고, 상기 힌지는 상기 광 전송 기판 및 상기 편향가능한 소자 모두의 하부 표면에 연결되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 208은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 205 항에 있어서,상기 광 전송 기판의 하부에 이격 위치하는 회로 기판을 더 포함하고, 상기 회로 기판은 상기 편향가능한 소자와 상기 회로 기판 사이의 인력을 발생하기 위한 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 209은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 208 항에 있어서,상기 힌지는 상기 전극 및 상기 편향가능한 소자 사이에서 상기 편향가능한 소자를 가로질러 연장되고, 상기 편향가능한 소자의 중앙부를 향해서 상기 편향가능한 소자에 연결되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 210은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 207 항에 있어서,상기 편향가능한 소자는 도전층을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 211은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 210 항에 있어서,상기 힌지는 비틀림 힌지인 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 소정 간격으로 제2 기판에 접합되는 제1 기판을 포함하고,상기 제1 기판은 그 위에 복수의 편향가능한 소자들을 갖는 광 전송 기판이고,상기 제2 기판은 그 위에, 상기 제1 기판 상의 상기 편향가능한 소자들의 편향을 일으키기 위한 CMOS 회로 및 전극들을 갖는 공간 광 변조기.
- 제 212 항에 있어서,상기 제2 기판은 상기 편향가능한 소자들을 편향하기 위해 해당 편향가능한 소자들에 인접하여 배치되는 전극들을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 212 항에 있어서,상기 편향가능한 소자들은 광 반사층을 포함하는 마이크로미러들인 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 212 항에 있어서,상기 편향가능한 소자들은 비틀림 힌지들을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 213 항에 있어서,상기 편향가능한 소자들은 질화 실리콘을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 212 항에 있어서,상기 인접한 소자들은 0.5마이크론 이하의 거리를 갖는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 212 항에 있어서,상기 제1 기판 및 제2 기판 사이의 거리는 1 내지 5 마이크론인 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 212 항에 있어서,상기 기판들은 접착제를 사용하여 이들 사이의 있는 간격자(spacer)와 함께 접착되고, 상기 간격자는 이산화 실리콘 또는 질화 실리콘인 세라믹 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 212 항에 있어서,상기 복수의 편향가능한 소자들 바깥쪽에 간격자가 위치하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 소정 간격으로 제2 기판에 접합되는 제1 기판을 포함하고,상기 제1 기판은 그 위에 복수의 편향가능한 소자들을 갖는 광 전송 기판이고,상기 제2 기판은 상기 제1 기판 상의 상기 편향가능한 소자들의 편향을 일으키기 위한 회로 및 알루미늄 전극들을 갖는 공간 광 변조기.
- 제 221 항에 있어서,상기 제2 기판은 상기 편향가능한 소자들을 편향시키기 위해 해당 편향가능한 소자들에 인접하여 배치되는 전극들을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 221 항에 있어서,상기 편향가능한 소자들은 광 반사층을 포함하는 마이크로미러들인 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 221 항에 있어서,상기 편향가능한 소자들은 비틀림 힌지들을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 221 항에 있어서,상기 편향가능한 소자들은 질화 실리콘을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 221 항에 있어서,상기 인접한 소자들은 0.5마이크론 이하의 거리를 갖는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 221 항에 있어서,상기 제1 기판 및 제2 기판 사이의 거리는 1 내지 5 마이크론인 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 221 항에 있어서,상기 기판들은 접착제를 사용하여 이들 사이의 간격자와 함께 접착되고, 상기 간격자는 이산화실리콘 또는 질화 실리콘인 세라믹 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 221 항에 있어서,상기 복수의 편향가능한 소자들 바깥쪽에 간격자가 위치하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 소정 간격으로 제2 기판에 접합되는 제1 기판을 포함하고,상기 제1 기판은 그 위에 복수의 편향가능한 소자들을 갖는 광 전송 기판이고,상기 제2 기판은 상기 제1 기판 상의 상기 편향가능한 소자들의 편향을 일으키기 위한 회로 및 상기 회로보다 상기 제1 기판에 가까이 배치되는 전극들을 갖는 실리콘 기판인 공간 광 변조기.
- 제 230 항에 있어서,상기 실리콘 기판은 상기 편향가능한 소자들을 편향시키기 위해 해당 편향가능한 소자들에 인접하여 배치되는 전극들을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 230 항에 있어서,상기 편향가능한 소자들은 광 반사층을 포함하는 마이크로미러들인 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 230 항에 있어서,상기 편향가능한 소자들은 비틀림 힌지들을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 230 항에 있어서,상기 편향가능한 소자들은 질화 실리콘을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 230 항에 있어서,상기 인접한 소자들은 0.5마이크론 이하의 거리를 갖는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 230 항에 있어서,제1 기판 및 제2 기판 간의 거리는 1 내지 5 마이크론인 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 230 항에 있어서,상기 기판들은 접착제를 사용하여 이들 사이의 간격자와 함께 접착되고, 상기 간격자는 이산화실리콘 또는 질화 실리콘인 세라믹 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 230 항에 있어서,상기 복수의 편향가능한 소자들 바깥쪽에 간격자가 위치하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 소정 간격으로 제2 기판에 접합되는 제1 기판을 포함하고,상기 제1 기판은 그 위에 복수의 편향가능한 소자들을 구비하고,상기 제2 기판은 제1 기판 상의 상기 편향가능한 소자들의 편향을 일으키기 위한 전극들을 갖는 실리콘 기판인 공간 광 변조기.
- 제 239 항에 있어서,상기 실리콘 기판은 상기 편향가능한 소자들을 편향시키 위해 해당 편향가능한 소자들에 인접하여 배치되는 전극들을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 240 항에 있어서,상기 편향가능한 소자들은 광 반사층을 포함하는 마이크로미러들인 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 241 항에 있어서,상기 편향가능한 소자들은 비틀림 힌지들을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 242 항에 있어서,상기 편향가능한 소자들은 질화 실리콘을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 241 항에 있어서,상기 인접한 소자들은 0.5마이크론 이하의 거리를 갖는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 241 항에 있어서,상기 제1 기판 및 제2 기판 간의 거리는 1 내지 5 마이크론인 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제242 항에 있어서,상기 기판들은 접착제를 사용하여 이들 사이의 간격자와 함께 접착되고, 상기 간격자는 이산화실리콘 또는 질화 실리콘인 세라믹 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 242 항에 있어서,상기 복수의 편향가능한 소자들 바깥쪽에 간격자가 위치하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 가시광선을 투과하는 기판;실리콘 기판; 및복수의 편향가능한 소자들을 포함하고,상기 실리콘 기판 및 상기 가시광선을 투과하는 기판은 이들 사이에 간격을 형성하기 위해 개재되는 간격자와 함께 서로 접합되고,상기 복수의 편향가능한 소자들은 상기 간격 내에서 포위되고, 상기 간격자는 상기 복수의 편향가능한 소자들이 점유하는 영역 내에 배치되는 공간 광 변조기.
- 제 248 항에 있어서,상기 실리콘 기판은 상기 편향가능한 소자들을 편향시키기 위해 해당 편향가능한 소자들에 인접하여 배치되는 전극들을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 249 항에 있어서,상기 편향가능한 소자들은 광 반사층을 포함하는 마이크로미러들인 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 248 항에 있어서,상기 편향가능한 소자들은 비틀림 힌지들을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 251 항에 있어서,상기 편향가능한 소자들은 질화 실리콘을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 251 항에 있어서,상기 인접한 소자들은 0.5마이크론 이하의 거리를 갖는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 251 항에 있어서,제1 기판 및 제2 기판 간의 거리는 1 내지 5 마이크론인 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 251 항에 있어서,상기 기판들은, 이산화실리콘 또는 질화 실리콘인 세라믹 물질을 포함하는 접착제를 사용하여 이들 사이의 간격자와 함께 서로 접합되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 255 항에 있어서,상기 간격자는 상기 복수의 편향가능한 소자들 바깥쪽에 위치하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 복수의 마이크로미러들 및 상기 복수의 마이크로미러들 내에 위치하는 간격자를 갖는 제1 기판; 및회로 및 전극들의 어레이를 갖는 제2 기판을 포함하고,상기 제1 기판 및 제2 기판은 이들 사이에 개재되는 상기 간격자와 함께 서로 접합되는 공간 광 변조기.
- 제 257 항에 있어서,상기 제2 기판은 상기 편향가능한 소자들을 편향시키기 위해 해당 편향가능한 소자들에 인접하여 배치되는 전극들을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 257 항에 있어서,상기 편향가능한 소자들은 광 반사층을 포함하는 마이크로미러들인 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 259 항에 있어서,상기 편향가능한 소자들은 비틀림 힌지들을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 260 항에 있어서,상기 편향가능한 소자들은 질화 실리콘을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 260 항에 있어서,상기 인접한 편향가능한 소자들은 0.5마이크론 이하의 거리를 갖는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 261 항에 있어서,제1 기판 및 제2 기판 간의 거리는 1 내지 5 마이크론인 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 261 항에 있어서,상기 기판들은, 이산화실리콘 또는 질화 실리콘인 세라믹 물질을 포함하는 접착제를 사용하여 이들 사이의 상기 간격자와 함께 서로 접합되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 264 항에 있어서,상기 간격자는 상기 복수의 편향가능한 소자들 바깥쪽에 위치하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 266은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제1 기판;제2 기판; 및복수의 마이크로미러들을 포함하고,상기 제1 기판 및 제2 기판은 이들 사이에 개재되는 간격자와 함께 서로 접합되어 상기 기판들 사이에 간격을 형성하고, 상기 복수의 마이크로미러들은 상기 간격 내에 위치하며, 상기 각 마이크로미러는 미러 판을 더 포함하고,상기 미러 판은 제1 부분 및 제2 부분과 힌지를 더 포함하고,상기 제2 부분은 상기 제1 부분이 제1 기판을 향하여 움직일 때 상기 제1 기판으로부터 멀어지도록 움직이고, 상기 힌지는 상기 미러 판과는 다른 면에 위치하고,상기 미러 판은 회전 가능하도록 상기 힌지에 부착되며,상기 간격자는 상기 복수의 마이크로미러들이 점유하는 영역 내에 배치되는 공간 광 변조기.
- 청구항 267은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 266 항에 있어서,상기 제2 기판은 상기 편향가능한 소자들을 편향시키기 위해 해당 편향가능한 소자들에 인접하여 배치되는 전극들을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 268은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 266 항에 있어서,상기 편향가능한 소자들은 광 반사층을 포함하는 마이크로미러들인 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 269은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 266 항에 있어서,상기 힌지들은 비틀림 힌지들인 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 270은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 269 항에 있어서,상기 편향가능한 소자들은 질화 실리콘을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 271은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 269 항에 있어서,상기 인접한 소자들은 0.5마이크론 이하의 거리를 갖는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 272은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 269 항에 있어서,상기 제1 기판 및 제2 기판 사이의 거리는 1 내지 5 마이크론인 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 273은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 269 항에 있어서,상기 기판들은, 이산화실리콘 또는 질화 실리콘인 세라믹 물질을 포함하는 접착제를 사용하여 이들 사이에 있는 간격자와 함께 서로 접합되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 청구항 274은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 273 항에 있어서,상기 간격자는 상기 복수의 편향가능한 소자들 바깥쪽에 위치하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 회로 및 전극들의 어레이를 구비하는 반도체 기판인 제1 기판; 및편향가능한 소자들의 어레이를 구비하는 제2 기판을 포함하고,상기 전극들은 상기 편향가능한 소자들을 편향시키기 위해 상기 편향가능한 소자들과 연관되는 공간 광 변조기 장치.
- 제 275 항에 있어서,상기 제1 기판 및 제2 기판은 이들 사이에 공간을 형성하도록 서로 접합되고, 상기 공간 내에서 상기 편향가능한 소자들이 포위되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 장치.
- 제 275 항에 있어서,상기 기판들 간의 거리는 1 내지 5마이크론인 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 장치.
- 제 276 항에 있어서,상기 기판들은 접착제를 사용하여 이들 사이에 있는 간격자와 함께 서로 접합되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 장치.
- 제 278 항에 있어서,상기 간격자는 상기 복수의 편향가능한 소자들의 바깥쪽에 위치하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 장치.
- 제 278 항에 있어서,상기 편향가능한 소자는 이산화실리콘 또는 질화 실리콘인 세라믹 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 장치.
- 제 278 항에 있어서,각 미러 판은 회전가능하도록 비틀림 힌지에 부착되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 장치.
- 영사광(illumination light)을 제공하는 광원;상기 영사광을 변조하기 위한 제 275 항의 공간 광 변조기; 및소정 이미지를 형성하기 위해 상기 변조된 광이 투사되는 디스플레이 타겟;을 포함하는 프로젝터.
- 전극들 및 회로의 어레이를 갖는 제1 기판; 및반도체 기판인 제2 기판 상에 제조되는 편향가능한 소자들의 어레이;를 포함하고,상기 제1 기판 및 제2 기판은 상기 편향가능한 소자가 상기 전극들에 의해 구동되도록 서로 결합되는 공간 광 변조기 장치.
- 제 283 항에 있어서,상기 복수의 편향가능한 소자들 내에 위치하는 간격자를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 장치.
- 제 283 항에 있어서,상기 제 1 기판 및 제2 기판은 이들 사이의 간격자와 함께 서로 접합되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 장치.
- 제 283 항에 있어서,상기 기판들 사이의 거리는 1 내지 5마이크론인 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 장치.
- 소정 간격을 사이에 형성하는 제1 기판 및 제2 기판; 및온 상태일 때 소정 이미지를 형성하기 위해 입사광을 디스플레이 타겟으로 반사시키도록 상기 간격 내에 배치되는 편향가능한 소자들의 어레이를 포함하는 이중 기판 장치.
- 제 287 항에 있어서,상기 편향가능한 소자들을 구동하기 위한 전극들의 어레이를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이중 기판 장치.
- 제 287 항에 있어서,상기 제 1 기판 및 제2 기판은 에폭시를 포함하는 접합 물질을 사용하여 서로 접합되는 것을 특징으로 하는 이중 기판 장치.
- 제 287 항에 있어서,상기 제1 기판 및 제2 기판은 상기 간격 사이에 배치되는 간격자와 함께 접합되는 것을 특징으로 하는 이중 기판 장치.
- 제 290 항에 있어서,상기 간격자는 상기 기판들의 파라미터들(parameters) 주위에 배치되는 것을 특징으로 하는 이중 기판 장치.
- 제 287 항에 있어서,상기 기판들 간의 거리는 1 내지 5 마이크론인 것을 특징으로 하는 이중 기판 장치.
- 제 290 항에 있어서,상기 제1 기판은 유전층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이중 기판 장치.
- 제 290 항에 있어서,상기 편향가능한 소자들은 편향가능한 반사 마이크로미러들이고, 이들 각각은 마이크로미러가 상기 기판에 대해 회전할 수 있도록 비틀림 힌지에 부착되는 것을 특징으로 하는 이중 기판 장치.
- 편향가능한 소자들의 어레이; 및실리콘 기판을 포함하고,상기 편향가능한 소자들은 상기 실리콘 기판 상에서 상기 실리콘 기판 외의 또 다른 기판에 의해 지지되어, 상기 편향가능한 소자들이 소정 이미지를 형성하기 위하여 입사광을 반사하도록 동작할 수 있는 공간 광 변조기 장치.
- 제 295 항에 있어서,상기 두 기판들은 접합 물질로 서로 접합되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 장치.
- 제 295 항에 있어서,상기 두 기판들은 이들 사이에 배치되는 간격자와 함께 서로 접합되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 장치.
- 제 297 항에 있어서,상기 간격자는 상기 마이크로미러들 내에 있는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 장치.
- 이미지를 형성하기 위해 입사광을 반사하기 위한 제1 기판 상에 지지되는 편향가능한 반사 소자들의 어레이를 포함하고,상기 어레이 내의 인접한 소자들은 0.5 마이크론 이하의 거리를 갖는 공간 광 변조기 장치.
- 제 299 항에 있어서,제2 기판; 및상기 제1 기판과 상기 제2 기판 사이의 간격을 더 포함하고,상기 편향가능한 소자들은 상기 간격 내에 포위되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 장치.
- 제 300 항에 있어서,상기 편향가능한 반사 소자들을 정전기적으로 구동하기 위하여 상기 편향가능한 반사 소자에 인접 배치되는 회로 및 전극들의 어레이를 더 포함하는 공간 광 변조기 장치.
- 제 300 항에 있어서,상기 제1 기판은 광 투과성이고,상기 제2 기판은 그 위에 상기 회로 및 전극들의 어레이를 갖는 반도체 기판인 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 300 항에 있어서,상기 편향가능한 반사 소자들은 마이크로 전기-기계적 편향가능한 소자인 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 300 항에 있어서,상기 제1 기판 및 제2 기판 사이의 거리는 1 내지 5 마이크론인 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 300 항에 있어서,상기 기판들은 접착제를 사용하여 이들 사이의 간격자와 함께 서로 접합되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 300 항에 있어서,상기 편향가능한 소자들의 바깥쪽에 간격자가 위치하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 300 항에 있어서,상기 편향가능한 소자들은 이산화실리콘 또는 질화 실리콘인 세라믹 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 300 항에 있어서,각 미러 판은 회전가능하도록 힌지에 부착되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 제 308 항에 있어서,상기 힌지는 비틀림 힌지인 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 영사광(illumination light)을 제공하는 광원;상기 영사광을 변조하기 위한 제 182 항의 공간 광 변조기; 및소정 이미지를 형성하기 위해 상기 변조된 광이 투사되는 디스플레이 타겟;을 포함하는 프로젝터.
- 청구항 311은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.마이크로미러들이 온 상태 및 오프 상태 사이의 회전에 의해 스위칭하도록 동작가능한, 제1 기판 상에 지지되는 반사 마이크로미러들의 어레이를 제공하는 단계;정전기장이 상기 마이크로미러 및 이와 연관된 전극 사이에 형성되도록 각 마이크로미러를 전극에 연관시키는 단계;영사광을 상기 마이크로미러들 상에 조사하는 단계;모든 마이크로미러들이 동일한 전기적 전위를 갖도록 상기 마이크로미러들에 전압을 인가하는 단계; 및상기 마이크로미러들 및 전극들 간의 정전기장을 변화시킴으로써 상기 마이크로미러들을 온 및 오프 상태 사이에서 편향시키는 단계를 포함하는 소정 이미지를 형성하기 위한 영사광 변조 방법.
- 청구항 312은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 311 항에 있어서,상기 마이크로미러들을 편향시키는 단계는,상기 영사광이 디스플레이 타겟 상으로 반사되도록 상기 마이크로미러를 온 상태로 편향시키는 단계; 및상기 영사광이 상기 디스플레이 타겟으로부터 멀어지는 곳으로 반사되도록 상기 마이크로미러를 오프 상태로 편향시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 영사광 변조 방법.
- 청구항 313은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 311 항에 있어서,각 마이크로미러는 회전가능하도록 힌지에 부착되는 것을 특징으로 하는 영사광 변조 방법.
- 청구항 314은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 313 항에 있어서,상기 힌지는 비틀림 힌지인 것을 특징으로 하는 영사광 변조 방법.
- 청구항 315은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 311 항에 있어서,상기 영사광을 상기 마이크로미러 상에 조사하는 단계는 상기 영사광을 상기 마이크로미러의 반사 표면 상에 조사하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 영사광 변조 방법.
- 청구항 316은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 311 항에 있어서,상기 반사 표면은 알루미늄층을 포함하는 것을 특징으로 하는 영사광 변조 방법.
- 실리콘 기판에 지지되지만 직접 연결되지는 않는 편향가능한 반사 소자들의 어레이를 포함하고,상기 실리콘 기판은 편향가능한 소자들을 편향하기 위한 회로 및 전극들의 어레이를 갖는 공간 광 변조기 장치.
- 제 317 항에 있어서,상기 편향가능한 소자들은, 광 전송 기판 및 간격자를 통해 상기 실리콘 기판에 연결되고, 상기 간격자는 상기 실리콘 기판 및 상기 광 전송 기판 간에 배치되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 장치.
- 제 317 항에 있어서,상기 두 기판들은, 상기 편향가능한 소자들을 포위하는 간격이 형성되도록 서로 접합되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 장치.
- 제 317 항에 있어서,상기 마이크로미러들은 상기 실리콘 기판에 대해 회전가능하도록 힌지에 부착되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 장치.
- 청구항 321은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.광 전송 기판 상에 제조되는 편향가능한 반사 마이크로미러들의 어레이; 및상기 편향가능한 소자들을 편향시키기 위해 편향가능한 소자들에 연관되는 전극 어레이;를 포함하고,상기 각 편향가능한 소자는 하나의 전극과 연관되어 편향되고,상기 각 편향가능한 소자는 비-편향 상태에서 마이크로미러와 동일한 평면에 있는 힌지에, 상기 마이크로미러가 상기 광 전송 기판에 대해 회전가능하도록 부착되는 공간 광 변조기 장치.
- 청구항 322은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 321 항에 있어서,상기 힌지는 비틀림 힌지인 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 장치.
- 청구항 323은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 321 항에 있어서,상기 광 전송 기판 및 상기 실리콘 기판은 소정 간격을 두고 서로 접합되며, 상기 간격 내에는 상기 편향가능한 소자가 포위되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 장치.
- 청구항 324은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 321 항에 있어서,상기 각 마이크로미러는 작동 중에 온 상태 및 오프 상태 사이에서 스위칭되도록 동작하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 장치.
- 청구항 325은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.기판 상에 지지되는 편향가능한 반사 마이크로미러들의 어레이를 포함하고, 각 마이크로미러는 상기 마이크로미러와는 별도의 평면에 배치되는 변형가능한 힌지에 부착되어, 상기 마이크로미러가 온 상태 또는 오프 상태로 회전하도록 동작가능하고, 상기 오프 상태는 상기 마이크로미러가 상기 기판에 평행인 상태인 공간 광 변조기 장치.
- 청구항 326은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 325 항에 있어서,상기 힌지는 비틀림 힌지인 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 장치.
- 청구항 327은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 325 항에 있어서,상기 힌지는 상기 마이크로미러와, 상기 마이크로미러가 연결되는 기판 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 장치.
- 청구항 328은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 325 항에 있어서,상기 마이크로미러들을 편향시키기 위하여 상기 편향 마이크로미러들에 인접하여 배치되는 회로 및 전극들의 어레이를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 장치.
- 청구항 329은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 325 항에 있어서,상기 마이크로미러들이 지지되는 기판은 광 전송 기판인 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 장치.
- 청구항 330은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 325 항에 있어서,상기 전극들 및 회로는 상기 광 전송 기판에 접합되는 실리콘 기판 상에 형성되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 장치.
- 각 마이크로미러가 온 및 오프 상태로 회전되도록 동작가능한, 한 세트의 어레이 가장자리들을 갖는 편향가능한 반사 마이크로미러 어레이를 제공하는 단계;상기 마이크로미러 어레이의 가장자리에 수직인 상기 마이크로미러 어레이 상으로의 투사 방향을 따라 영사광을 상기 마이크로미러들로 조사하는 단계;온 상태 및 오프 상태로 상기 마이크로미러 어레이의 마이크로미러들을 개별적으로 편향시키는 단계; 및온 상태에 있는 마이크로미러로부터 반사된 영사광은 디스플레이 타겟으로, 그리고 오프 상태에 있는 마이크로미러로부터 반사된 영사광은 디스플레이 타겟에서 떨어진 곳으로 투사시키는 단계를 포함하는 소정 이미지를 형성하기 위한 영사광 변조 방법.
- 제 331 항에 있어서,상기 마이크로미러들을 개별적으로 편향시키는 단계는,상기 마이크로미러를 전극에 연관시키는 단계; 및상기 마이크로미러와 이에 연관된 전극 사이에 정전기장을 형성시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 영사 광 변조 방법.
- 제 332 항에 있어서,상기 마이크로미러 어레이의 마이크로미러들을 한 전위에서 유지하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 영사 광 변조 방법.
- 각각 변형가능한 힌지에 부착되는 편향가능한 반사 마이크로미러들의 어레이; 및각각 하나의 전극에 연관되어 편향되는 마이크로미러들을 편향시키기 위해, 상기 마이크로미러들에 인접하여 배치되는 실리콘 기판 상의 회로 및 전극들의 어레이를 포함하고,상기 힌지는 상기 마이크로미러 및 이에 연관되는 전극들 사이에 배치되는 공간 광 변조기 장치.
- 제 334 항에 있어서,상기 마이크로미러들은 광 전송 기판 상에 형성되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기.
- 가시광선 투과성의 기판;실리콘 기판;복수의 편향가능한 소자들; 및광 차단막을 포함하고,상기 실리콘 기판 및 상기 가시광선 투과성의 기판은 상기 기판들 사이에 간격을 형성하는 이들 사이의 간격자와 함께 서로 접합되고,상기 복수의 편향가능한 소자들은 상기 간격 내에서 포위되고,상기 광 차단막은 상기 광 투과 기판의 선택된 영역에 배치되는 공간 광 변조기 장치.
- 제 336 항에 있어서,상기 광 차단막은 상기 광 투과성 기판의 파라미터 주위에 배치되는 것을 특징으로 하는 공간 광 변조기 장치.
- 청구항 338은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.기판 상에 비결정질 실리콘층인 하나 이상의 희생층을 도포하는 단계;상기 희생층의 제거 후에 마이크로미러가 힌지에 부착되도록, 상기 도포된 희생층 상에서 힌지 및 마이크로미러를 형성하는 단계; 및디플루오르화 크세논(xenon difluoride)을 포함하는 증기상 에칭 물질(vapor phase etchant)을 사용하여 상기 희생층을 제거하는 단계를 포함하는 마이크로미러 장치 제조방법.
- 청구항 339은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제 338 항에 있어서,상기 에칭 물질은 비활성 가스를 포함하는 희석 가스를 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로미러 장치 제조 방법.
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