JP2002250699A - ウエハ欠陥検査装置およびそのウエハ欠陥検査方法 - Google Patents
ウエハ欠陥検査装置およびそのウエハ欠陥検査方法Info
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- JP2002250699A JP2002250699A JP2001050815A JP2001050815A JP2002250699A JP 2002250699 A JP2002250699 A JP 2002250699A JP 2001050815 A JP2001050815 A JP 2001050815A JP 2001050815 A JP2001050815 A JP 2001050815A JP 2002250699 A JP2002250699 A JP 2002250699A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】検査すべきウエハのパターン形状、目ズレによ
る上地、下地の位置関係の差をなくし、疑似欠陥を発生
させないようにしたウエハ欠陥検査装置およびそのウエ
ハ欠陥検査方法を提供する。 【解決手段】検査すべきウエハ３を露光した光学露光機
のショット配列情報を取り出して記憶するウエハ情報記
憶手段１と、このウエハ情報記憶手段からのショット配
列情報とリンクさせて、前記ウエハの検査時に、同じ上
地、下地の露光における、同一のレンズポジションで、
同一方向にスキャン露光されたショットを割り出して、
同一条件のショット同士で比較検査を行うウエハ欠陥検
査手段２とを有することを特徴とする。
る上地、下地の位置関係の差をなくし、疑似欠陥を発生
させないようにしたウエハ欠陥検査装置およびそのウエ
ハ欠陥検査方法を提供する。 【解決手段】検査すべきウエハ３を露光した光学露光機
のショット配列情報を取り出して記憶するウエハ情報記
憶手段１と、このウエハ情報記憶手段からのショット配
列情報とリンクさせて、前記ウエハの検査時に、同じ上
地、下地の露光における、同一のレンズポジションで、
同一方向にスキャン露光されたショットを割り出して、
同一条件のショット同士で比較検査を行うウエハ欠陥検
査手段２とを有することを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ウエハ検査時のウ
エハ欠陥検査装置およびその欠陥検査方法に関し、特に
ショット同士で高精度な画像比較検査ができる欠陥検査
装置および欠陥検査方法に関する。
エハ欠陥検査装置およびその欠陥検査方法に関し、特に
ショット同士で高精度な画像比較検査ができる欠陥検査
装置および欠陥検査方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のウエハ欠陥検査装置としては、図
２のウエハの部分平面図に示すように、光学露光装置
（４）により照射される各ショット１０が、左からのス
キャン方向４１または右からのスキャン方向４２に従っ
てそれぞれの画像データを取得する。この場合各ショッ
ト毎の、ショット配列情報を認識したなら、ウエハをス
キャンしながら画像データを取得している。この露光装
置内のショット配列情報よりウエハ面内の各ショットの
同一ポイント３０がどこであるかを認識し、そこで取得
した画像データとリンクさせ、同一ポイント３０同士に
て画像を比較し、欠陥を検出していた。
２のウエハの部分平面図に示すように、光学露光装置
（４）により照射される各ショット１０が、左からのス
キャン方向４１または右からのスキャン方向４２に従っ
てそれぞれの画像データを取得する。この場合各ショッ
ト毎の、ショット配列情報を認識したなら、ウエハをス
キャンしながら画像データを取得している。この露光装
置内のショット配列情報よりウエハ面内の各ショットの
同一ポイント３０がどこであるかを認識し、そこで取得
した画像データとリンクさせ、同一ポイント３０同士に
て画像を比較し、欠陥を検出していた。
【０００３】この欠陥検出は、各ショット１０の同一ポ
イント３０同士を比較するが、その比較の基準のなるも
のは、比較ポイントを３点ごとに比較しで２点同じもの
があれば、それを正しいとして比較することになる。
イント３０同士を比較するが、その比較の基準のなるも
のは、比較ポイントを３点ごとに比較しで２点同じもの
があれば、それを正しいとして比較することになる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述したウエハ欠陥検
査装置では、比較すべきショット同士が違った顔（上
地、下地の露光において、同一のレンズポジション、同
一方向スキャン露光されていないショット）のため、画
像比較検査にて、高精度比較の阻害要因（誤検出）とな
り、検出感度を低下させるという問題があった。
査装置では、比較すべきショット同士が違った顔（上
地、下地の露光において、同一のレンズポジション、同
一方向スキャン露光されていないショット）のため、画
像比較検査にて、高精度比較の阻害要因（誤検出）とな
り、検出感度を低下させるという問題があった。
【０００５】この問題を、図３の図２を拡大した図によ
り説明する。下地ショット１０と、上地ショット２１，
２２があった場合、上地ショット２１は下から上にスキ
ャンされ、下地ショット２２は上から下にスキャンされ
るとすると、上地ショット２１のポイント３１上の画像
データ３３と上地ショット２２で対応する同じ上地ショ
ットのポイント３２上の画像データ３４とは、異った画
像を示すことになる。すなわち、図３のように、ポイン
ト３１上の画像データ３３は、棒状体の右側にスポット
があるが、ポイント３２上の画像データ３４は、棒状体
の左側にスポットがある画像を示している。
り説明する。下地ショット１０と、上地ショット２１，
２２があった場合、上地ショット２１は下から上にスキ
ャンされ、下地ショット２２は上から下にスキャンされ
るとすると、上地ショット２１のポイント３１上の画像
データ３３と上地ショット２２で対応する同じ上地ショ
ットのポイント３２上の画像データ３４とは、異った画
像を示すことになる。すなわち、図３のように、ポイン
ト３１上の画像データ３３は、棒状体の右側にスポット
があるが、ポイント３２上の画像データ３４は、棒状体
の左側にスポットがある画像を示している。
【０００６】このようにウエハ欠陥検査装置の画像比較
検査において、上地、下地の露光において、露光装置の
同一のレンズポジションで、同一方向にスキャン露光さ
れていないショット同士を比較するため、違った顔、様
相を呈することになる。すなわち、同じ位置の良品を比
較したとしても、そのパターン形状、目ズレによる上
地、下地の位置関係の差が生じ、疑似欠陥を発生するこ
とになる。
検査において、上地、下地の露光において、露光装置の
同一のレンズポジションで、同一方向にスキャン露光さ
れていないショット同士を比較するため、違った顔、様
相を呈することになる。すなわち、同じ位置の良品を比
較したとしても、そのパターン形状、目ズレによる上
地、下地の位置関係の差が生じ、疑似欠陥を発生するこ
とになる。
【０００７】本発明の目的は、このような問題を解決
し、パターン形状、目ズレによる上地、下地の位置関係
の差をなくし、疑似欠陥を発生させないようにしたウエ
ハ欠陥検査装置およびそのウエハ欠陥検査方法を提供す
ることにある。
し、パターン形状、目ズレによる上地、下地の位置関係
の差をなくし、疑似欠陥を発生させないようにしたウエ
ハ欠陥検査装置およびそのウエハ欠陥検査方法を提供す
ることにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明のウエハ欠陥検査
装置の構成は、検査すべきウエハを露光した光学露光機
のショット配列情報を取り出して記憶するウエハ情報記
憶手段と、このウエハ情報記憶手段からのショット配列
情報とリンクさせて、前記ウエハの検査時に、同じ上
地、下地の露光における、同一のレンズポジションで、
同一方向にスキャン露光されたショットを割り出して、
同一条件のショット同士で比較検査を行うウエハ欠陥検
査手段とを有することを特徴とする。
装置の構成は、検査すべきウエハを露光した光学露光機
のショット配列情報を取り出して記憶するウエハ情報記
憶手段と、このウエハ情報記憶手段からのショット配列
情報とリンクさせて、前記ウエハの検査時に、同じ上
地、下地の露光における、同一のレンズポジションで、
同一方向にスキャン露光されたショットを割り出して、
同一条件のショット同士で比較検査を行うウエハ欠陥検
査手段とを有することを特徴とする。
【０００９】本発明において、同一条件のショット同士
で比較検査は、少なくとも３個所の各ショットの画像が
同じかとうかを比較して行うことができ、また光学露光
機として、上地または下地の露光にスキャン露光機が、
下地または上地の露光に一括露光機が用いられ、また上
地または下地の露光にスキャン露光機が、下地または上
地の露光に広フィールド一括露光機が用いられ、また上
地または下地の露光に一括露光機が、下地または上地の
露光に広フィールド一括露光機が用いることができる。
で比較検査は、少なくとも３個所の各ショットの画像が
同じかとうかを比較して行うことができ、また光学露光
機として、上地または下地の露光にスキャン露光機が、
下地または上地の露光に一括露光機が用いられ、また上
地または下地の露光にスキャン露光機が、下地または上
地の露光に広フィールド一括露光機が用いられ、また上
地または下地の露光に一括露光機が、下地または上地の
露光に広フィールド一括露光機が用いることができる。
【００１０】本発明のウエハ欠陥検査方法の構成は、検
査すべきウエハを露光した光学露光機のショット配列情
報を取り出して記憶手段に記憶し、この記憶手段からの
ショット配列情報とリンクさせて、ウエハ欠陥検査装置
による前記ウエハの検査時に、同じ上地、下地の露光に
おける、同一のレンズポジションで、同一方向にスキャ
ン露光されたショットを割り出して、同一条件のショッ
ト同士で比較検査を行うようにしたことを特徴とする。
査すべきウエハを露光した光学露光機のショット配列情
報を取り出して記憶手段に記憶し、この記憶手段からの
ショット配列情報とリンクさせて、ウエハ欠陥検査装置
による前記ウエハの検査時に、同じ上地、下地の露光に
おける、同一のレンズポジションで、同一方向にスキャ
ン露光されたショットを割り出して、同一条件のショッ
ト同士で比較検査を行うようにしたことを特徴とする。
【００１１】本発明において、検査すべきウエハの露光
は、上地ショットの露光条件と下地ショットの露光条件
がそれぞれ同じもの同士を、ショット配列情報から取り
出して比較検査することができ、また、上地ショットま
たは下地ショットは、スキャン露光機を用いた状態で、
そのスキャン露光の正または逆方向の情報から同一条件
のショット同士を見つけて検査することが出来る。
は、上地ショットの露光条件と下地ショットの露光条件
がそれぞれ同じもの同士を、ショット配列情報から取り
出して比較検査することができ、また、上地ショットま
たは下地ショットは、スキャン露光機を用いた状態で、
そのスキャン露光の正または逆方向の情報から同一条件
のショット同士を見つけて検査することが出来る。
【００１２】
【発明の実施の形態】次に図面により本発明の実施形態
を詳細に説明する。図１は本発明の一実施形態を説明す
るブロック図である。本実施形態は、光学露光機４から
のデータを記憶するウエハ情報記憶手段（１）と、この
ウエハ情報記憶手段１からのデータによりウエハ３の欠
陥検査をし、そのショット比較をするウエハ欠陥検査手
段２とからなる。
を詳細に説明する。図１は本発明の一実施形態を説明す
るブロック図である。本実施形態は、光学露光機４から
のデータを記憶するウエハ情報記憶手段（１）と、この
ウエハ情報記憶手段１からのデータによりウエハ３の欠
陥検査をし、そのショット比較をするウエハ欠陥検査手
段２とからなる。
【００１３】このウエハ欠陥検査装置における画像比較
検査において、装置内部もしくは外部に、図１のよう
に、ウエハ情報記憶手段としてウエハ情報データベース
１を有し、ウエハ欠陥検査時のショット比較をする時
に、同一のショット履歴をもつショットを割り出してウ
エハ欠陥検査手段２により画像比較検査を行っってい
る。
検査において、装置内部もしくは外部に、図１のよう
に、ウエハ情報記憶手段としてウエハ情報データベース
１を有し、ウエハ欠陥検査時のショット比較をする時
に、同一のショット履歴をもつショットを割り出してウ
エハ欠陥検査手段２により画像比較検査を行っってい
る。
【００１４】図１におけるウエハ情報データベース１と
は、ウエハ露光履歴情報の保存及び画像比較検査ショッ
トの割り出し機能を有し、ウエハ露光履歴情報とは、上
地と下地の露光機のショット配列（ショットマップ）情
報を記録し、上地と下地で同一のレンズディストーショ
ン（同一のレンズポジション）で露光されたショット及
び同一スキャンショットを割り出すことができる。
は、ウエハ露光履歴情報の保存及び画像比較検査ショッ
トの割り出し機能を有し、ウエハ露光履歴情報とは、上
地と下地の露光機のショット配列（ショットマップ）情
報を記録し、上地と下地で同一のレンズディストーショ
ン（同一のレンズポジション）で露光されたショット及
び同一スキャンショットを割り出すことができる。
【００１５】本実施形態の動作として、図１を使用して
説明を行う。図１において、点線の下地ショット１０は
一括露光機によるショットであり、実線の上地ショット
２１，２２はスキャン露光機によるショットでり、下地
の４倍の露光エリアを有するものである。
説明を行う。図１において、点線の下地ショット１０は
一括露光機によるショットであり、実線の上地ショット
２１，２２はスキャン露光機によるショットでり、下地
の４倍の露光エリアを有するものである。
【００１６】ウエハ毎（もしくはロット毎）に、図１の
ように、ウエハ情報データベース１の上にウエハ露光履
歴情報を保存しておき、ウエハ欠陥検査装置（２）に
て、ウエハ検査時にウエハ情報データベース１から該当
するウエハ情報を引き出す。この引き出した情報（露光
機のショット配列情報、露光号機履歴等）により、ウエ
ハ３の面内で上地、下地の露光における、同一のレンズ
ディストーション（レンズポジション）、同一方向スキ
ャン露光されたショットを割り出す。
ように、ウエハ情報データベース１の上にウエハ露光履
歴情報を保存しておき、ウエハ欠陥検査装置（２）に
て、ウエハ検査時にウエハ情報データベース１から該当
するウエハ情報を引き出す。この引き出した情報（露光
機のショット配列情報、露光号機履歴等）により、ウエ
ハ３の面内で上地、下地の露光における、同一のレンズ
ディストーション（レンズポジション）、同一方向スキ
ャン露光されたショットを割り出す。
【００１７】本実施形態では、図１のウエハ３のショッ
トマップに示すように、上地と下地で同一のレンズディ
ストーション（レンズポジション）は、上地ショットが
下地ショットの４倍のショット面積を有するため、検査
される領域は、上地ショットが４分割のエリアに分割さ
れる。また同一方向スキャン露光されたショットを考慮
すると、図１のように、ショットをＡ、Ｂ、Ｃ、…Ｈグ
ループの８分割分けすることとなる。
トマップに示すように、上地と下地で同一のレンズディ
ストーション（レンズポジション）は、上地ショットが
下地ショットの４倍のショット面積を有するため、検査
される領域は、上地ショットが４分割のエリアに分割さ
れる。また同一方向スキャン露光されたショットを考慮
すると、図１のように、ショットをＡ、Ｂ、Ｃ、…Ｈグ
ループの８分割分けすることとなる。
【００１８】これらショットを、同一ショット（同一グ
ループ）同士にて画像比較検査を実施する。もしくは、
事前に露光履歴情報を検査装置に入力（データベースと
リンクさせず）し、画像比較検査を実施する。従って、
ウェハ３のショットマップのうち同一の顔をもつショッ
トＡ〜Ｈを、ショットＡはショットＡ同士と、ショット
ＢはショットＢ同士と、……ショットＨはショットＨ同
士と互に画像比較検査を行う。この画像比較検査は、従
来例で説明したように、３点の画像データを相互に比較
することにより行われる。
ループ）同士にて画像比較検査を実施する。もしくは、
事前に露光履歴情報を検査装置に入力（データベースと
リンクさせず）し、画像比較検査を実施する。従って、
ウェハ３のショットマップのうち同一の顔をもつショッ
トＡ〜Ｈを、ショットＡはショットＡ同士と、ショット
ＢはショットＢ同士と、……ショットＨはショットＨ同
士と互に画像比較検査を行う。この画像比較検査は、従
来例で説明したように、３点の画像データを相互に比較
することにより行われる。
【００１９】以上の説明では、上地ショットがスキャン
露光機で下地ショットが一括露光機の多面付けの場合の
例であるが、スキャン露光機だけでなく広フィールド一
括露光機に関しても同様の効果が得られる。この場合
は、図１における、各ショットがＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄのグル
ープの４分割分けすることとなり、この場合も、ショッ
トマップのうち同一の顔をもつショットＡ〜Ｈを、ショ
ットＡはショットＡ同士と、ショットＢはショットＢ同
士と、……ショットＤはショットＤ同士と互に画像比較
検査を行う。
露光機で下地ショットが一括露光機の多面付けの場合の
例であるが、スキャン露光機だけでなく広フィールド一
括露光機に関しても同様の効果が得られる。この場合
は、図１における、各ショットがＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄのグル
ープの４分割分けすることとなり、この場合も、ショッ
トマップのうち同一の顔をもつショットＡ〜Ｈを、ショ
ットＡはショットＡ同士と、ショットＢはショットＢ同
士と、……ショットＤはショットＤ同士と互に画像比較
検査を行う。
【００２０】なお、これら実施形態では、光学露光機の
組み合わせを、上地、下地の露光をスキャン露光機と、
一括露光機および広フィールド一括露光機について説明
したが、これら実施形態の露光機を入れ替えることもで
き、また、上地、下地の露光を一括露光機および広フィ
ールド一括露光機の組み合わせを用いて露光することも
出来る。
組み合わせを、上地、下地の露光をスキャン露光機と、
一括露光機および広フィールド一括露光機について説明
したが、これら実施形態の露光機を入れ替えることもで
き、また、上地、下地の露光を一括露光機および広フィ
ールド一括露光機の組み合わせを用いて露光することも
出来る。
【００２１】さらに、上地ショットまたは下地ショット
は、スキャン露光機を用いた状態で、そのスキャン露光
の正または逆方向の情報から同一条件のショット同士を
見つけて検査することが出来る。
は、スキャン露光機を用いた状態で、そのスキャン露光
の正または逆方向の情報から同一条件のショット同士を
見つけて検査することが出来る。
【００２２】また、ステップアンドリピートにて、露光
を行う右ステップと左ステップによる行ズレ、及びウエ
ハ面内に多品種露光を行う場合においても、同様に目ズ
レ等の影響を排除し、高精度の画像比較検査が可能とな
る。
を行う右ステップと左ステップによる行ズレ、及びウエ
ハ面内に多品種露光を行う場合においても、同様に目ズ
レ等の影響を排除し、高精度の画像比較検査が可能とな
る。
【００２３】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、半
導体ウェハの上地、下地の露光において、同一のレンズ
ポジション及び同一方向スキャン露光されたショット等
の同一な露光履歴をもつショット同士にて画像比較検査
をするため、製品上問題のない目ズレがあった場合で
も、同一の履歴をもつショット同士の画像比較すること
により目ズレ、パターン形状等の影響を受けずに高精度
の画像比較検査が可能となる効果がある。
導体ウェハの上地、下地の露光において、同一のレンズ
ポジション及び同一方向スキャン露光されたショット等
の同一な露光履歴をもつショット同士にて画像比較検査
をするため、製品上問題のない目ズレがあった場合で
も、同一の履歴をもつショット同士の画像比較すること
により目ズレ、パターン形状等の影響を受けずに高精度
の画像比較検査が可能となる効果がある。
【００２４】すなわち、広フィールド及びスキャン露光
機の導入により多面付け露光が可能となるが、レンズデ
ィストーション、スキャン露光誤差により発生する目ズ
レがあった場合にでも、画像情報が異なっているので、
本発明のように、同一の履歴をもつショット同士の画像
比較することにより、目ズレ、パターン形状等の影響を
受けずに高精度の画像比較検査が可能となる。
機の導入により多面付け露光が可能となるが、レンズデ
ィストーション、スキャン露光誤差により発生する目ズ
レがあった場合にでも、画像情報が異なっているので、
本発明のように、同一の履歴をもつショット同士の画像
比較することにより、目ズレ、パターン形状等の影響を
受けずに高精度の画像比較検査が可能となる。
【図１】本発明の一実施形態を説明するウエハ欠陥検査
装置の模式的ブロック図。
装置の模式的ブロック図。
【図２】従来例のウエハ欠陥検査装置の模式的ブロック
図。
図。
【図３】従来例での問題点を説明するウェハの平面図。
１ ウェハ情報データベース ２ ウエハ欠陥検査手段 ３ ウエハ ４ 光学露光装置 １０ 下地ショット ２１，２２ 上地ショット ３０，３１，３２ ポイント ３３，３４ 画像データ ４１，４２ スキャン方向
Claims (12)
- 【請求項１】 検査すべきウエハを露光した光学露光機
のショット配列情報を取り出して記憶するウエハ情報記
憶手段と、このウエハ情報記憶手段からのショット配列
情報とリンクさせて、前記ウエハの検査時に、同じ上
地、下地の露光における、同一のレンズポジションで、
同一方向にスキャン露光されたショットを割り出して、
これら同一条件のショット同士で比較検査を行うウエハ
欠陥検査手段とを有することを特徴とするウエハ欠陥検
査装置。 - 【請求項２】 同一条件のショット同士で比較検査は、
少なくとも３個所の各ショットの画像が同じかとうかを
比較して行う請求項１記載のウエハ欠陥検査装置。 - 【請求項３】 光学露光機として、上地または下地の露
光にスキャン露光機が、下地または上地の露光に一括露
光機が用いられた請求項１または２記載のウエハ欠陥検
査装置。 - 【請求項４】 光学露光機として、上地または下地の露
光にスキャン露光機が、下地または上地の露光に広フィ
ールド一括露光機が用いられた請求項１または２記載の
ウエハ欠陥検査装置。 - 【請求項５】 光学露光機として、上地または下地の露
光に一括露光機が、下地または上地の露光に広フィール
ド一括露光機が用いられた請求項１または２記載のウエ
ハ欠陥検査装置。 - 【請求項６】 上地ショットまたは下地ショットは、ス
キャン露光機を用いた状態で、そのスキャン露光の正ま
たは逆方向の情報から同一条件のショット同士を見つけ
て検査される請求項３または４記載のウエハ欠陥検査装
置。 - 【請求項７】 検査すべきウエハを露光した光学露光機
のショット配列情報を取り出して記憶手段に記憶し、こ
の記憶手段からのショット配列情報とリンクさせて、ウ
エハ欠陥検査装置による前記ウエハの検査時に、同じ上
地、下地の露光における、同一のレンズポジションで、
同一方向にスキャン露光されたショットを割り出して、
同一条件のショット同士で比較検査を行うようにしたこ
とを特徴とするウエハ欠陥検査方法。 - 【請求項８】 検査すべきウエハの露光は、上地ショッ
トの露光条件と下地ショットの露光条件がそれぞれ同じ
もの同士を、ショット配列情報から取り出して比較検査
する請求項７記載のウエハ欠陥検査方法。 - 【請求項９】 上地ショットまたは下地ショットは、ス
キャン露光機を用いて、下地ショットまたは上地ショッ
トの露光は、一括露光機を用いてそれぞれ露光された請
求項７または８記載のウエハ欠陥検査方法。 - 【請求項１０】 上地ショットまたは下地ショットは、
スキャン露光機を用いて、下地ショットまたは上地ショ
ットの露光は、広フィールド一括露光機を用いてそれぞ
れ露光された請求項７または８記載のウエハ欠陥検査方
法。 - 【請求項１１】 上地ショットまたは下地ショットは、
一括露光機を用いて、下地ショットまたは上地ショット
の露光は、広フィールド一括露光機を用いてそれぞれ露
光された請求項７または８記載のウエハ欠陥検査方法。 - 【請求項１２】 上地ショットまたは下地ショットは、
スキャン露光機を用いた状態で、そのスキャン露光の正
または逆方向の情報から同一条件のショット同士を見つ
けて検査する請求項９または１０記載のウエハ欠陥検査
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001050815A JP5075306B2 (ja) | 2001-02-26 | 2001-02-26 | ウエハ欠陥検査装置およびそのウエハ欠陥検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001050815A JP5075306B2 (ja) | 2001-02-26 | 2001-02-26 | ウエハ欠陥検査装置およびそのウエハ欠陥検査方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002250699A true JP2002250699A (ja) | 2002-09-06 |
| JP5075306B2 JP5075306B2 (ja) | 2012-11-21 |
Family
ID=18911722
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001050815A Expired - Fee Related JP5075306B2 (ja) | 2001-02-26 | 2001-02-26 | ウエハ欠陥検査装置およびそのウエハ欠陥検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5075306B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7733473B2 (en) | 2007-03-28 | 2010-06-08 | Hitachi High-Technologies Corporation | Inspection apparatus and inspection method |
| JP2012208128A (ja) * | 2012-07-10 | 2012-10-25 | Hitachi High-Technologies Corp | 検査装置 |
Citations (3)
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| JPH10173019A (ja) * | 1996-12-13 | 1998-06-26 | Hitachi Ltd | 半導体の検査方法 |
| JPH11145040A (ja) * | 1997-11-10 | 1999-05-28 | Nec Corp | 走査型露光装置及びアライメント方法 |
-
2001
- 2001-02-26 JP JP2001050815A patent/JP5075306B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
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