JP2002248322A - 排ガス処理方法 - Google Patents
排ガス処理方法Info
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- JP2002248322A JP2002248322A JP2001049264A JP2001049264A JP2002248322A JP 2002248322 A JP2002248322 A JP 2002248322A JP 2001049264 A JP2001049264 A JP 2001049264A JP 2001049264 A JP2001049264 A JP 2001049264A JP 2002248322 A JP2002248322 A JP 2002248322A
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- oxidation catalyst
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 排ガス中に含まれるＣＯおよび／または有機
物質を高効率で無害化することができる排ガス処理方法
を提供する。 【解決手段】 ダストを除去した排ガスを酸化触媒に通
すようにする。
物質を高効率で無害化することができる排ガス処理方法
を提供する。 【解決手段】 ダストを除去した排ガスを酸化触媒に通
すようにする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ダストを含む排ガ
ス、具体的には、紙、スラッジ焼却炉、廃液燃焼炉、汚
泥焼却炉および廃棄物の焼却炉等から発生する排ガス
や、高炉およびボイラー等の排ガス中の、ＣＯ（一酸化
炭素）および／または有機物質を除去することができる
排ガス処理方法に関する。
ス、具体的には、紙、スラッジ焼却炉、廃液燃焼炉、汚
泥焼却炉および廃棄物の焼却炉等から発生する排ガス
や、高炉およびボイラー等の排ガス中の、ＣＯ（一酸化
炭素）および／または有機物質を除去することができる
排ガス処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】焼却炉などから発生する排ガス中には、
ダストとともに、ダイオキシン類や窒素酸化物等の有害
物質が含まれており、その除去対策が広く行われてい
る。しかし、近い将来、排ガス中に含まれるＣＯを無害
化することも求められるようになってくる。ＣＯは、特
に、紙やスラッジなどを焼却する際に排出される排ガス
に多く含まれるため、少なくとも、この排ガス中のＣＯ
濃度が１００ｐｐｍ以下であることが求められるように
なってくる。排ガスはまた、有機物質も含むので、その
除去も求められる。ダイオキシン類を分解する触媒によ
って有機物質を除去することもできるが、除去効率をよ
り一層高めることも求められる。
ダストとともに、ダイオキシン類や窒素酸化物等の有害
物質が含まれており、その除去対策が広く行われてい
る。しかし、近い将来、排ガス中に含まれるＣＯを無害
化することも求められるようになってくる。ＣＯは、特
に、紙やスラッジなどを焼却する際に排出される排ガス
に多く含まれるため、少なくとも、この排ガス中のＣＯ
濃度が１００ｐｐｍ以下であることが求められるように
なってくる。排ガスはまた、有機物質も含むので、その
除去も求められる。ダイオキシン類を分解する触媒によ
って有機物質を除去することもできるが、除去効率をよ
り一層高めることも求められる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明の課題
は、焼却炉等から発生する排ガス中のＣＯを効果的に除
去することができる排ガス処理方法を提供することであ
る。本発明の課題はまた、合わせて、排ガス中の有機物
質を除去することも出来る排ガス処理方法を提供するこ
とである。
は、焼却炉等から発生する排ガス中のＣＯを効果的に除
去することができる排ガス処理方法を提供することであ
る。本発明の課題はまた、合わせて、排ガス中の有機物
質を除去することも出来る排ガス処理方法を提供するこ
とである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決すべく鋭意検討を行った結果、ダストを除去した排
ガスを酸化触媒に通せば、排ガス中の中のＣＯおよび／
または有機物質を効果的に除去することができることを
見出し、本発明を完成した。上記の有機物質とは、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、スチレンなどの芳香族化合
物；アセトアルデヒドなどのアルデヒド類；エチレン、
プロピレンなどの不飽和炭化水素；アセトン、メチルエ
チルケトンなどのケトン類；トリエチルアミン、アセト
ニトリル、アクリロニトリルなどの含窒素化合物；イオ
ン酸化物、硫化水素、メチルメルカプタン、硫化メチル
などのイオウ化合物；アンモニア、ＨＣｌ、Ｃｌ2など
である。
解決すべく鋭意検討を行った結果、ダストを除去した排
ガスを酸化触媒に通せば、排ガス中の中のＣＯおよび／
または有機物質を効果的に除去することができることを
見出し、本発明を完成した。上記の有機物質とは、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、スチレンなどの芳香族化合
物；アセトアルデヒドなどのアルデヒド類；エチレン、
プロピレンなどの不飽和炭化水素；アセトン、メチルエ
チルケトンなどのケトン類；トリエチルアミン、アセト
ニトリル、アクリロニトリルなどの含窒素化合物；イオ
ン酸化物、硫化水素、メチルメルカプタン、硫化メチル
などのイオウ化合物；アンモニア、ＨＣｌ、Ｃｌ2など
である。
【０００５】ダイオキシン類を分解する触媒によって有
機物質を除去することもできるが、除去効率をより一層
高めることも求められる。排ガスを酸化触媒に通せば、
上記有機物質を除去することも出来る。したがって、本
発明にかかる排ガス処理方法は、排ガス中のＣＯおよび
／または有機物質を処理するにあたり、ダストを除去し
た排ガスを酸化触媒に通すようにする。上記において、
前記ダストの除去をバグフィルタおよび／またはセラミ
ックフィルタで行うことが好ましい。また、前記酸化触
媒として、排ガス通過路の目開き２〜７ｍｍ、排ガスと
の接触面積４００〜１５００ｍ2／ｍ3のハニカム型触媒
を用いることが好ましい。
機物質を除去することもできるが、除去効率をより一層
高めることも求められる。排ガスを酸化触媒に通せば、
上記有機物質を除去することも出来る。したがって、本
発明にかかる排ガス処理方法は、排ガス中のＣＯおよび
／または有機物質を処理するにあたり、ダストを除去し
た排ガスを酸化触媒に通すようにする。上記において、
前記ダストの除去をバグフィルタおよび／またはセラミ
ックフィルタで行うことが好ましい。また、前記酸化触
媒として、排ガス通過路の目開き２〜７ｍｍ、排ガスと
の接触面積４００〜１５００ｍ2／ｍ3のハニカム型触媒
を用いることが好ましい。
【０００６】本発明の実施に際しては、従来から用いら
れているダイオキシン類分解用触媒や脱硝触媒を併用し
て、ダイオキシン類や窒素化合物を同時に除去するよう
にしてもよい。
れているダイオキシン類分解用触媒や脱硝触媒を併用し
て、ダイオキシン類や窒素化合物を同時に除去するよう
にしてもよい。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明にかかる排ガス処理方法に
おいては、対象となる排ガスは、ダストを含むととも
に、少なくともＣＯおよび／または有機物質を含むもの
であるが、少なくともＣＯを含むものが好ましく、少な
くともＣＯと有機物質とを含むものがより好ましい。本
発明にかかる排ガス処理方法は、まず、排ガス中のダス
トを除塵装置で除去した後に、酸化触媒に通して酸化処
理することによりＣＯを無害化する。この際、合わせ
て、ベンゼンなどの有機物質をも酸化処理し無害化す
る。
おいては、対象となる排ガスは、ダストを含むととも
に、少なくともＣＯおよび／または有機物質を含むもの
であるが、少なくともＣＯを含むものが好ましく、少な
くともＣＯと有機物質とを含むものがより好ましい。本
発明にかかる排ガス処理方法は、まず、排ガス中のダス
トを除塵装置で除去した後に、酸化触媒に通して酸化処
理することによりＣＯを無害化する。この際、合わせ
て、ベンゼンなどの有機物質をも酸化処理し無害化す
る。
【０００８】本発明では、ダイオキシン分解触媒を併用
して、ダイオキシン類を除去してもよい。そのため、例
えば、ＣＯおよび／または有機物質除去用の酸化触媒を
前段に、ダイオキシン分解触媒を後段に設けることやそ
の逆も可能であるが、好ましくはＣＯおよび／または有
機物質除去用の酸化触媒を前段に、ダイオキシン分解触
媒を後段に設置することである。なお、１つの反応器内
で、酸化触媒を前段に、ダイオキシン分解触媒を後段に
設置した場合において、酸化触媒での発熱により反応雰
囲気が高温度（例えば６００以上）になる場合は、酸化
触媒とダイオキシン分解触媒を別々の反応器に設置し、
２つの反応器の間で排ガスを冷却する（例えば、反応器
間に熱交換器を設置する）ようにすればよい。
して、ダイオキシン類を除去してもよい。そのため、例
えば、ＣＯおよび／または有機物質除去用の酸化触媒を
前段に、ダイオキシン分解触媒を後段に設けることやそ
の逆も可能であるが、好ましくはＣＯおよび／または有
機物質除去用の酸化触媒を前段に、ダイオキシン分解触
媒を後段に設置することである。なお、１つの反応器内
で、酸化触媒を前段に、ダイオキシン分解触媒を後段に
設置した場合において、酸化触媒での発熱により反応雰
囲気が高温度（例えば６００以上）になる場合は、酸化
触媒とダイオキシン分解触媒を別々の反応器に設置し、
２つの反応器の間で排ガスを冷却する（例えば、反応器
間に熱交換器を設置する）ようにすればよい。
【０００９】なお、ダイオキシン類がその処理が必要で
ないほど低濃度である場合は、酸化触媒のみを設置すれ
ばよい。以下に、この発明のダスト除去工程と、ＣＯお
よび／または有機物質の処理工程とを詳しく述べる。 （ダスト除去）本発明にかかる排ガス処理方法において
は、対象となる排ガスのダスト量は、５ｍｇ／Ｎｍ3以
上、好ましくは２０ｍｇ／Ｎｍ3以上である。また、ダ
ストの大きさは、０．０１μｍ以上、好ましくは０．０
５μｍ以上である。ダスト量が５ｍｇ／Ｎｍ3未満、大
きさが０．０１μｍ未満の場合は、ダストを除去しなく
てもよい。
ないほど低濃度である場合は、酸化触媒のみを設置すれ
ばよい。以下に、この発明のダスト除去工程と、ＣＯお
よび／または有機物質の処理工程とを詳しく述べる。 （ダスト除去）本発明にかかる排ガス処理方法において
は、対象となる排ガスのダスト量は、５ｍｇ／Ｎｍ3以
上、好ましくは２０ｍｇ／Ｎｍ3以上である。また、ダ
ストの大きさは、０．０１μｍ以上、好ましくは０．０
５μｍ以上である。ダスト量が５ｍｇ／Ｎｍ3未満、大
きさが０．０１μｍ未満の場合は、ダストを除去しなく
てもよい。
【００１０】ダスト除去のための除塵装置としては、電
気集塵器、サイクロン、バグフィルタおよびセラミック
フィルタなど一般に好ましく用いられ、これらのうちの
少なくとも１種以上であればよいが、なかでもバグフィ
ルタおよび／またはセラミックフィルタが好ましく、以
下の理由で、セラミックフィルタがより好ましい。排ガ
スが高温（例えば２００℃超）である場合、一旦、減温
した後にバグフィルタに通し、再度昇温して、反応器に
通すことになるが、セラミックフィルタは９００℃程度
までの耐熱性があるので、減温して通す必要がない。ま
た、排ガスが低温（例えば１２０℃未満）の場合、一
旦、１２０〜２００℃に昇温してバグフィルタに通し、
その後、もう一度昇温して酸化触媒に通す必要がある
が、セラミックフィルタでは昇温は反応温度を考慮した
１回のみでよい。セラミックフィルタは、長時間運転し
たのちダストで目詰まりを起こしたときには、噴出空気
等で洗浄して目詰まりを解消することも出来る。
気集塵器、サイクロン、バグフィルタおよびセラミック
フィルタなど一般に好ましく用いられ、これらのうちの
少なくとも１種以上であればよいが、なかでもバグフィ
ルタおよび／またはセラミックフィルタが好ましく、以
下の理由で、セラミックフィルタがより好ましい。排ガ
スが高温（例えば２００℃超）である場合、一旦、減温
した後にバグフィルタに通し、再度昇温して、反応器に
通すことになるが、セラミックフィルタは９００℃程度
までの耐熱性があるので、減温して通す必要がない。ま
た、排ガスが低温（例えば１２０℃未満）の場合、一
旦、１２０〜２００℃に昇温してバグフィルタに通し、
その後、もう一度昇温して酸化触媒に通す必要がある
が、セラミックフィルタでは昇温は反応温度を考慮した
１回のみでよい。セラミックフィルタは、長時間運転し
たのちダストで目詰まりを起こしたときには、噴出空気
等で洗浄して目詰まりを解消することも出来る。
【００１１】バグフィルタに使用するろ布は通常使用さ
れるものであれば特に限定されない。ろ布の平均目開き
は、０．１〜２００μｍが好ましく、０．３〜１００μ
ｍがより好ましい。平均目開きが０．１μｍ未満の場合
は圧力損失が大きくなる傾向があり、２００μｍを超え
る場合は０．１μｍ程度の微細粒子の除塵効率が低下す
る傾向がある。セラミックフィルタの平均細孔径は、５
〜５０μｍが好ましく、１０〜２０μｍがより好まし
い。５μｍ未満の場合は圧力損失が大きくなる傾向があ
り、５０μｍを超える場合は０．１μｍ程度の微細粒子
の除塵効率が低下する傾向がある。
れるものであれば特に限定されない。ろ布の平均目開き
は、０．１〜２００μｍが好ましく、０．３〜１００μ
ｍがより好ましい。平均目開きが０．１μｍ未満の場合
は圧力損失が大きくなる傾向があり、２００μｍを超え
る場合は０．１μｍ程度の微細粒子の除塵効率が低下す
る傾向がある。セラミックフィルタの平均細孔径は、５
〜５０μｍが好ましく、１０〜２０μｍがより好まし
い。５μｍ未満の場合は圧力損失が大きくなる傾向があ
り、５０μｍを超える場合は０．１μｍ程度の微細粒子
の除塵効率が低下する傾向がある。
【００１２】なお、セラミックフィルタにおけるろ過速
度は、０．０５〜５ｍ／ｓとするのが好ましく、より好
ましくは０．１〜２ｍ／ｓである。セラミックフィルタ
におけるろ過速度が０．０５ｍ／ｓ未満であると、充分
な除塵効果が得られず、一方、５ｍ／秒を超えると、圧
力損失が大きくなりすぎて好ましくない。本発明におい
ては、触媒層の前段に除塵手段を備えているので、触媒
の耐久性を向上させることができる。 （ＣＯおよび／または有機物質の処理）本発明におい
て、ＣＯおよび／または有機物質の処理に使用する酸化
触媒は、少なくともＣＯを処理し、さらに有機物質をも
処理し得るものであれば特に制限されないが、複数種の
触媒を用いることも可能である。
度は、０．０５〜５ｍ／ｓとするのが好ましく、より好
ましくは０．１〜２ｍ／ｓである。セラミックフィルタ
におけるろ過速度が０．０５ｍ／ｓ未満であると、充分
な除塵効果が得られず、一方、５ｍ／秒を超えると、圧
力損失が大きくなりすぎて好ましくない。本発明におい
ては、触媒層の前段に除塵手段を備えているので、触媒
の耐久性を向上させることができる。 （ＣＯおよび／または有機物質の処理）本発明におい
て、ＣＯおよび／または有機物質の処理に使用する酸化
触媒は、少なくともＣＯを処理し、さらに有機物質をも
処理し得るものであれば特に制限されないが、複数種の
触媒を用いることも可能である。
【００１３】例えば、ＣＯとベンゼンなどの炭化水素と
を処理する触媒（酸化触媒）を前段に、ダイオキシン分
解触媒を後段に設けることも可能である。ただし、ダイ
オキシン類の処理が必要でないほど低濃度である場合
は、酸化触媒のみ設置すればよい。酸化触媒は、Ｔｉ、
Ｓｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｗ、Ｖ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｃｕ、
Ｆｅ、Ｎｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｂ、Ｐｘ、Ｐｄ、Ｒ
ｈ、Ｒｕ、Ｉｒ、Ａｇ、Ａｕより選ばれる１種以上の元
素を金属または酸化物として含有すればよいが、ダスト
を含む排ガスには被毒成分を含有することが多いことか
ら、Ｔｉを含む酸化物（例えばＴｉＯ2酸化物、ＴｉＯ2
とＳｉＯ2、ＺｒＯ2、ＷＯ3等の複合酸化物あるいは混
合物）である触媒成分Ａと、Ｖ、Ｗ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｃ
ｏ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｆｅより選ばれる１種以上の金属の酸
化物である触媒成分Ｂと、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｉ
ｒより選ばれる１種以上の貴金属またはその化合物であ
る触媒成分Ｃとを含有するものが好ましい。
を処理する触媒（酸化触媒）を前段に、ダイオキシン分
解触媒を後段に設けることも可能である。ただし、ダイ
オキシン類の処理が必要でないほど低濃度である場合
は、酸化触媒のみ設置すればよい。酸化触媒は、Ｔｉ、
Ｓｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｗ、Ｖ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｃｕ、
Ｆｅ、Ｎｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｂ、Ｐｘ、Ｐｄ、Ｒ
ｈ、Ｒｕ、Ｉｒ、Ａｇ、Ａｕより選ばれる１種以上の元
素を金属または酸化物として含有すればよいが、ダスト
を含む排ガスには被毒成分を含有することが多いことか
ら、Ｔｉを含む酸化物（例えばＴｉＯ2酸化物、ＴｉＯ2
とＳｉＯ2、ＺｒＯ2、ＷＯ3等の複合酸化物あるいは混
合物）である触媒成分Ａと、Ｖ、Ｗ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｃ
ｏ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｆｅより選ばれる１種以上の金属の酸
化物である触媒成分Ｂと、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｉ
ｒより選ばれる１種以上の貴金属またはその化合物であ
る触媒成分Ｃとを含有するものが好ましい。
【００１４】ダイオキシン分解の分解触媒の一例はＴ
ｉ、Ｗ、ＭｏおよびＶから選ばれる少なくとも１種の元
素の酸化物を含有するものである。酸化触媒の代表的な
触媒調製例は以下の通りである。Ｔｉを含む酸化物は、
ＴｉＯ2の単独酸化物、ＴｉＯ2と他の酸化物との混合物
や複合酸化物のいずれであっても良く、調製法について
は特に限定されない。一例として、ＴｉとＳｉの複合酸
化物の場合は通常の共沈法により調製できる。具体的に
は、チタン源およびケイ素源を所定量とり、酸性の水溶
液またはゾル状態で１０〜１００℃に保ち、その中に中
和剤としてアンモニア水を滴下し、ｐＨ＝２〜１０で１
０分から３時間保持してチタンおよびケイ素との共沈物
を生成し、この沈殿物をろ過、充分洗浄後、８０〜２０
０℃で乾燥し、その後４００〜６００℃で１〜１０時間
焼成し、複合酸化物を得ることができる。
ｉ、Ｗ、ＭｏおよびＶから選ばれる少なくとも１種の元
素の酸化物を含有するものである。酸化触媒の代表的な
触媒調製例は以下の通りである。Ｔｉを含む酸化物は、
ＴｉＯ2の単独酸化物、ＴｉＯ2と他の酸化物との混合物
や複合酸化物のいずれであっても良く、調製法について
は特に限定されない。一例として、ＴｉとＳｉの複合酸
化物の場合は通常の共沈法により調製できる。具体的に
は、チタン源およびケイ素源を所定量とり、酸性の水溶
液またはゾル状態で１０〜１００℃に保ち、その中に中
和剤としてアンモニア水を滴下し、ｐＨ＝２〜１０で１
０分から３時間保持してチタンおよびケイ素との共沈物
を生成し、この沈殿物をろ過、充分洗浄後、８０〜２０
０℃で乾燥し、その後４００〜６００℃で１〜１０時間
焼成し、複合酸化物を得ることができる。
【００１５】次に、上記複合酸化物に触媒成分Ｂを含む
水溶液または酸化物粉体を成型助剤とともに加えて適当
量の水を加え、混合、混練り、押し出し成型機でハニカ
ム状に成型する。その後、５０〜１２０℃で乾燥し、４
００〜６００℃で１〜１０時間、好ましくは２〜６時間
焼成し、成型物を得る。あるいは触媒成分Ｂは複合酸化
物をハニカム状に成型した後に触媒Ｂ成分の水溶液中に
１〜５分浸漬した後、５０〜２００℃で乾燥し、次いで
空気中４００〜６００℃で焼成して担持しても良い。次
に、上記ハニカム成型体を触媒Ｃ成分の水溶液に１〜５
分浸漬した後、５０〜２００℃で乾燥し、次いで空気中
４００〜６００℃で焼成して完成触媒を得ることが出来
る。
水溶液または酸化物粉体を成型助剤とともに加えて適当
量の水を加え、混合、混練り、押し出し成型機でハニカ
ム状に成型する。その後、５０〜１２０℃で乾燥し、４
００〜６００℃で１〜１０時間、好ましくは２〜６時間
焼成し、成型物を得る。あるいは触媒成分Ｂは複合酸化
物をハニカム状に成型した後に触媒Ｂ成分の水溶液中に
１〜５分浸漬した後、５０〜２００℃で乾燥し、次いで
空気中４００〜６００℃で焼成して担持しても良い。次
に、上記ハニカム成型体を触媒Ｃ成分の水溶液に１〜５
分浸漬した後、５０〜２００℃で乾燥し、次いで空気中
４００〜６００℃で焼成して完成触媒を得ることが出来
る。
【００１６】なお、調製方法はこれらに限定されるもの
ではない。酸化触媒は、形状の観点からは、円筒状、円
柱状、板状、波板状、球状、ハニカム状などから適宜選
択することができるが、ダストの蓄積を抑えるという意
味でも、上述したようなハニカム状のハニカム型触媒が
好ましく、特に、上記触媒成分Ａ〜Ｃなどの触媒物質の
一体成型物からなるハニカム型触媒がより好ましい。ま
た、ハニカム型触媒としては、触媒物質をコージェライ
トやムライトなどのハニカム型担体に担持したものであ
ってもよく、セラミックフィルタなどに担持したもので
あってもよい。本発明における酸化触媒には、触媒に蓄
積したダストを除去するスーツブローなどを設けていて
もよい。
ではない。酸化触媒は、形状の観点からは、円筒状、円
柱状、板状、波板状、球状、ハニカム状などから適宜選
択することができるが、ダストの蓄積を抑えるという意
味でも、上述したようなハニカム状のハニカム型触媒が
好ましく、特に、上記触媒成分Ａ〜Ｃなどの触媒物質の
一体成型物からなるハニカム型触媒がより好ましい。ま
た、ハニカム型触媒としては、触媒物質をコージェライ
トやムライトなどのハニカム型担体に担持したものであ
ってもよく、セラミックフィルタなどに担持したもので
あってもよい。本発明における酸化触媒には、触媒に蓄
積したダストを除去するスーツブローなどを設けていて
もよい。
【００１７】ハニカム型触媒は、排ガス通路の目開きが
２〜７ｍｍであることが好ましく、より好ましくは２〜
６．５ｍｍ、さらにより好ましくは２．５〜６．５ｍｍ
である。前記目開きが２ｍｍ未満の場合は、ダスト除去
工程で除去できなかったダストが触媒に蓄積して、圧力
上昇ひいては活性低下の原因となるため好ましくなく、
７ｍｍを超える場合は、十分な活性を得るためには触媒
量が多く必要となりコストアップの原因となるので好ま
しくない。さらに、ハニカム型触媒は、排ガスとの接触
面積が４００〜１５００ｍ2／ｍ3であることが好まし
く、より好ましくは４００〜１４００ｍ2／ｍ3、さらに
より好ましくは４５０〜１４００ｍ2／ｍ3である。前記
接触面積が４００ｍ2／ｍ3未満の場合は、十分な活性を
得るためには触媒量が多く必要となりコストアップの原
因となるので好ましくなく、１５００ｍ2／ｍ3を超える
場合は、ダスト除去工程で除去できなかったダストが触
媒に蓄積して、圧力上昇ひいては活性低下の原因となる
ため好ましくない。
２〜７ｍｍであることが好ましく、より好ましくは２〜
６．５ｍｍ、さらにより好ましくは２．５〜６．５ｍｍ
である。前記目開きが２ｍｍ未満の場合は、ダスト除去
工程で除去できなかったダストが触媒に蓄積して、圧力
上昇ひいては活性低下の原因となるため好ましくなく、
７ｍｍを超える場合は、十分な活性を得るためには触媒
量が多く必要となりコストアップの原因となるので好ま
しくない。さらに、ハニカム型触媒は、排ガスとの接触
面積が４００〜１５００ｍ2／ｍ3であることが好まし
く、より好ましくは４００〜１４００ｍ2／ｍ3、さらに
より好ましくは４５０〜１４００ｍ2／ｍ3である。前記
接触面積が４００ｍ2／ｍ3未満の場合は、十分な活性を
得るためには触媒量が多く必要となりコストアップの原
因となるので好ましくなく、１５００ｍ2／ｍ3を超える
場合は、ダスト除去工程で除去できなかったダストが触
媒に蓄積して、圧力上昇ひいては活性低下の原因となる
ため好ましくない。
【００１８】ＣＯ濃度は、特に限定はしないが、１０〜
２００００ｐｐｍが好ましい。２００００ｐｐｍを超え
る場合はＣＯの燃焼熱により触媒が熱的に劣化するおそ
れがある。ただし、２００００ｐｐｍを超える場合で
も、希釈するなどの方法で２００００ｐｐｍ以下にして
処理することが可能である。ダイオキシン類以外の有機
物質の場合、その濃度は、好ましくは、全量で１０〜５
０００ｐｐｍである。前記触媒の使用温度範囲は１５０
〜６００℃とするのが好ましく、より好ましくは２００
〜５５０℃である。１５０℃より低い場合は触媒の活性
が低くなり好ましくない。６００℃を超える場合は熱的
な影響により、活性成分のシンタリングや比表面積の低
下が生じ、触媒が劣化し易くなるため好ましくない。
２００００ｐｐｍが好ましい。２００００ｐｐｍを超え
る場合はＣＯの燃焼熱により触媒が熱的に劣化するおそ
れがある。ただし、２００００ｐｐｍを超える場合で
も、希釈するなどの方法で２００００ｐｐｍ以下にして
処理することが可能である。ダイオキシン類以外の有機
物質の場合、その濃度は、好ましくは、全量で１０〜５
０００ｐｐｍである。前記触媒の使用温度範囲は１５０
〜６００℃とするのが好ましく、より好ましくは２００
〜５５０℃である。１５０℃より低い場合は触媒の活性
が低くなり好ましくない。６００℃を超える場合は熱的
な影響により、活性成分のシンタリングや比表面積の低
下が生じ、触媒が劣化し易くなるため好ましくない。
【００１９】酸化触媒における空間速度（ＳＶ）は、５
００〜５００００ｈ-1が好ましく、１０００〜３０００
０ｈ-1とすることがより好ましい。５００ｈ-1を下回る
場合は触媒量が増加し、処理装置が大きくなりすぎ、経
済的でない。５００００ｈ-1を超える場合はＣＯおよび
／または有機物質の処理効率が低下する。酸化触媒にお
ける排ガスの流速は、０．１〜２０ｍ／ｓとするのが好
ましく、より好ましくは０．５〜１５ｍ／ｓとするのが
よい。前記流速が０．１ｍ／ｓ未満であると、ダスト処
理の工程で除去しきれなかったダストが触媒に堆積して
目詰まりしやすくなり、ＣＯおよび／または有機物質の
処理効率が低下する。一方、２０ｍ／ｓを超えると、触
媒での圧力損失が大きくなりすぎて、容量の大きなファ
ンが必要となったり、消費電力も増加したりする。
００〜５００００ｈ-1が好ましく、１０００〜３０００
０ｈ-1とすることがより好ましい。５００ｈ-1を下回る
場合は触媒量が増加し、処理装置が大きくなりすぎ、経
済的でない。５００００ｈ-1を超える場合はＣＯおよび
／または有機物質の処理効率が低下する。酸化触媒にお
ける排ガスの流速は、０．１〜２０ｍ／ｓとするのが好
ましく、より好ましくは０．５〜１５ｍ／ｓとするのが
よい。前記流速が０．１ｍ／ｓ未満であると、ダスト処
理の工程で除去しきれなかったダストが触媒に堆積して
目詰まりしやすくなり、ＣＯおよび／または有機物質の
処理効率が低下する。一方、２０ｍ／ｓを超えると、触
媒での圧力損失が大きくなりすぎて、容量の大きなファ
ンが必要となったり、消費電力も増加したりする。
【００２０】
【実施例】以下、具体的に実施例と比較例を挙げて、本
発明を詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定
されるものではない。 −実施例１− 紙・スラッジ焼成炉からの排ガスをアルカリスクラバー
と電気集塵器で処理したのち、さらに、バグフィルタを
使用して、排ガス中のダストを十分に除去した。バグフ
ィルタのろ布としては、平均目開き２μｍ、ろ過面積
２．４ｍ2のメンブレンガラス織布を使用した。
発明を詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定
されるものではない。 −実施例１− 紙・スラッジ焼成炉からの排ガスをアルカリスクラバー
と電気集塵器で処理したのち、さらに、バグフィルタを
使用して、排ガス中のダストを十分に除去した。バグフ
ィルタのろ布としては、平均目開き２μｍ、ろ過面積
２．４ｍ2のメンブレンガラス織布を使用した。
【００２１】バグフィルタに通す前の排ガスは、ダスト
を１００ｍｇ／Ｎｍ3を含んでいたが、バグフィルタ通
過後の排ガス中のダスト量は、１５ｍｇ／Ｎｍ3となっ
ていた。ダストを除去した排ガスを、流量７６Ｎｍ3／
ｈ、温度３００℃で、酸化触媒とダイオキシン分解触媒
に通した。使用した酸化触媒は、組成がＰｄ：１ｇ／ｌ
・ｃａｔ、Ｖ2Ｏ5：２ｗｔ％、ＷＯ3：７ｗｔ％、Ｔｉ
Ｏ2−ＳｉＯ2複合酸化物（ＴｉＯ2：ＳｉＯ2＝４：１、
モル比）、外寸法が１５０ｍｍ角×４５０ｍｍ長さ、目
開きが４．３ｍｍ、リブ厚が０．６ｍｍ、排ガスとの接
触面積が７９４ｍ2／ｍ3（ＳＶ＝７５００ｈ-1）のハニ
カム型であった。
を１００ｍｇ／Ｎｍ3を含んでいたが、バグフィルタ通
過後の排ガス中のダスト量は、１５ｍｇ／Ｎｍ3となっ
ていた。ダストを除去した排ガスを、流量７６Ｎｍ3／
ｈ、温度３００℃で、酸化触媒とダイオキシン分解触媒
に通した。使用した酸化触媒は、組成がＰｄ：１ｇ／ｌ
・ｃａｔ、Ｖ2Ｏ5：２ｗｔ％、ＷＯ3：７ｗｔ％、Ｔｉ
Ｏ2−ＳｉＯ2複合酸化物（ＴｉＯ2：ＳｉＯ2＝４：１、
モル比）、外寸法が１５０ｍｍ角×４５０ｍｍ長さ、目
開きが４．３ｍｍ、リブ厚が０．６ｍｍ、排ガスとの接
触面積が７９４ｍ2／ｍ3（ＳＶ＝７５００ｈ-1）のハニ
カム型であった。
【００２２】ダイオキシン分解触媒は、組成がＴｉ
Ｏ2：Ｖ2Ｏ5：ＭｏＯ3＝９０：５：５（重量比）、外寸
法が１５０ｍｍ角×５００ｍｍ長さ、目開きが４．３ｍ
ｍ、リブ厚が０．６ｍｍ、排ガスとの接触面積が７９４
ｍ2／ｍ3（ＳＶ＝６６００ｈ-1）のハニカム型であっ
た。これらの触媒に通す前の排ガスは、ＣＯ：５０００
ｐｐｍ、アセトアルデヒド：５０ｐｐｍ、ベンゼン：１
００ｐｐｍ、エチレン：２００ｐｐｍ、ＨＣｌ：５０ｐ
ｐｍ、Ｈ2Ｏ：４０％、ダイオキシン類：０．８ｎｇ−
ＴＥＱ／Ｎｍ3（ＴＥＱ／Ｎｍ3：Ｔｏｘｉｃｉｔｙ Ｅ
ｑｕｉｖａｌｅｎｔ Ｑｕａｎｔｉｔｙ（毒性当量）／
ノルマル・立方メートル）を含むガスであったが、これ
らの触媒による処理の結果、ＣＯは２０ｐｐｍ（除去率
９９．６％）、アセトアルデヒドは０．５ｐｐｍ（除去
率９９％）、ベンゼンは５ｐｐｍ（除去率９５％）、エ
チレンは２ｐｐｍ（除去率９９％）、ダイオキシン類は
０．０２ｎｇ−ＴＥＱ／Ｎｍ3（除去率９７．５％）と
なった。
Ｏ2：Ｖ2Ｏ5：ＭｏＯ3＝９０：５：５（重量比）、外寸
法が１５０ｍｍ角×５００ｍｍ長さ、目開きが４．３ｍ
ｍ、リブ厚が０．６ｍｍ、排ガスとの接触面積が７９４
ｍ2／ｍ3（ＳＶ＝６６００ｈ-1）のハニカム型であっ
た。これらの触媒に通す前の排ガスは、ＣＯ：５０００
ｐｐｍ、アセトアルデヒド：５０ｐｐｍ、ベンゼン：１
００ｐｐｍ、エチレン：２００ｐｐｍ、ＨＣｌ：５０ｐ
ｐｍ、Ｈ2Ｏ：４０％、ダイオキシン類：０．８ｎｇ−
ＴＥＱ／Ｎｍ3（ＴＥＱ／Ｎｍ3：Ｔｏｘｉｃｉｔｙ Ｅ
ｑｕｉｖａｌｅｎｔ Ｑｕａｎｔｉｔｙ（毒性当量）／
ノルマル・立方メートル）を含むガスであったが、これ
らの触媒による処理の結果、ＣＯは２０ｐｐｍ（除去率
９９．６％）、アセトアルデヒドは０．５ｐｐｍ（除去
率９９％）、ベンゼンは５ｐｐｍ（除去率９５％）、エ
チレンは２ｐｐｍ（除去率９９％）、ダイオキシン類は
０．０２ｎｇ−ＴＥＱ／Ｎｍ3（除去率９７．５％）と
なった。
【００２３】上記排ガス処理を１０００時間連続して行
ったが、各成分の除去効率に変化はなく、また、触媒へ
のダストの付着も見られなかった。 −比較例１− 酸化触媒を使用しないほかは、実施例１と同様にして、
排ガス処理を行ったところ、ＣＯは５２００ｐｐｍとな
り、逆に増加していた。ちなみに、アセトアルデヒドは
１．５ｐｐｍ、ベンゼンは５５ｐｐｍ、エチレンは１２
０ｐｐｍ、ダイオキシン類は０．０２ｎｇ−ＴＥＱ／Ｎ
ｍ3となった。
ったが、各成分の除去効率に変化はなく、また、触媒へ
のダストの付着も見られなかった。 −比較例１− 酸化触媒を使用しないほかは、実施例１と同様にして、
排ガス処理を行ったところ、ＣＯは５２００ｐｐｍとな
り、逆に増加していた。ちなみに、アセトアルデヒドは
１．５ｐｐｍ、ベンゼンは５５ｐｐｍ、エチレンは１２
０ｐｐｍ、ダイオキシン類は０．０２ｎｇ−ＴＥＱ／Ｎ
ｍ3となった。
【００２４】
【発明の効果】本発明によれば、排ガス中からダストを
除いておいて、この排ガスを酸化触媒に通すようにする
ので、排ガス中のＣＯおよび／または有機物質を高効率
に無害化することができる。
除いておいて、この排ガスを酸化触媒に通すようにする
ので、排ガス中のＣＯおよび／または有機物質を高効率
に無害化することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 正木 信之 兵庫県姫路市網干区興浜字西沖992番地の １ 株式会社日本触媒内 (72)発明者 池之上 敏勝 兵庫県姫路市網干区興浜字西沖992番地の １ 株式会社日本触媒内 Ｆターム(参考） 4D019 AA01 BA04 BA05 BB03 4D048 AA11 AA13 AA17 AA19 AB01 AB03 BA06X BA07X BA23X BA26X BA27X BA31X BA41X BA42X BB02 BB17 CC32 CC46 CD02 CD03 CD05 CD08
Claims (3)
- 【請求項１】 排ガス中のＣＯおよび／または有機物質
を処理するにあたり、ダストを除去した排ガスを酸化触
媒に通す、排ガス処理方法。 - 【請求項２】 前記ダストの除去をバグフィルタおよび
／またはセラミックフィルタで行う、請求項１に記載の
排ガス処理方法。 - 【請求項３】 前記酸化触媒が、排ガス通過路の目開き
２〜７ｍｍ、排ガスとの接触面積４００〜１５００ｍ2
／ｍ3のハニカム型触媒である、請求項１または２に記
載の排ガス処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001049264A JP2002248322A (ja) | 2001-02-23 | 2001-02-23 | 排ガス処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001049264A JP2002248322A (ja) | 2001-02-23 | 2001-02-23 | 排ガス処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002248322A true JP2002248322A (ja) | 2002-09-03 |
Family
ID=18910392
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001049264A Pending JP2002248322A (ja) | 2001-02-23 | 2001-02-23 | 排ガス処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002248322A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007163079A (ja) * | 2005-12-15 | 2007-06-28 | Shinryo Corp | カドミウムの回収設備及びその回収方法 |
| WO2009113165A1 (ja) * | 2008-03-12 | 2009-09-17 | 国立大学法人名古屋工業大学 | 触媒材料、その製造方法、排ガスの浄化方法、及び焼成炉 |
| JP2011083731A (ja) * | 2009-10-16 | 2011-04-28 | Tokuyama Corp | ハロゲン化脂肪族炭化水素を含む排ガスの処理方法 |
| KR20210077532A (ko) * | 2019-12-17 | 2021-06-25 | 주식회사 포스코 | 고로 침전조 배가스 정제장치 및 정제방법 |
| US11123690B2 (en) * | 2018-12-03 | 2021-09-21 | Kunming University Of Science And Technology | Method and device for coupling-suppressing white fog by purifying CO in flue gas |
-
2001
- 2001-02-23 JP JP2001049264A patent/JP2002248322A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007163079A (ja) * | 2005-12-15 | 2007-06-28 | Shinryo Corp | カドミウムの回収設備及びその回収方法 |
| WO2009113165A1 (ja) * | 2008-03-12 | 2009-09-17 | 国立大学法人名古屋工業大学 | 触媒材料、その製造方法、排ガスの浄化方法、及び焼成炉 |
| JPWO2009113165A1 (ja) * | 2008-03-12 | 2011-07-21 | 国立大学法人 名古屋工業大学 | 触媒材料、その製造方法、排ガスの浄化方法、及び焼成炉 |
| JP2011083731A (ja) * | 2009-10-16 | 2011-04-28 | Tokuyama Corp | ハロゲン化脂肪族炭化水素を含む排ガスの処理方法 |
| US11123690B2 (en) * | 2018-12-03 | 2021-09-21 | Kunming University Of Science And Technology | Method and device for coupling-suppressing white fog by purifying CO in flue gas |
| KR20210077532A (ko) * | 2019-12-17 | 2021-06-25 | 주식회사 포스코 | 고로 침전조 배가스 정제장치 및 정제방법 |
| KR102324638B1 (ko) * | 2019-12-17 | 2021-11-11 | 주식회사 포스코 | 고로 침전조 배가스 정제장치 및 정제방법 |
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|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060228 |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060314 |
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