JP2002246358A - ウェハ検出装置、洗浄乾燥装置およびメッキ装置 - Google Patents
ウェハ検出装置、洗浄乾燥装置およびメッキ装置Info
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- JP2002246358A JP2002246358A JP2001028462A JP2001028462A JP2002246358A JP 2002246358 A JP2002246358 A JP 2002246358A JP 2001028462 A JP2001028462 A JP 2001028462A JP 2001028462 A JP2001028462 A JP 2001028462A JP 2002246358 A JP2002246358 A JP 2002246358A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 発光部からの光が反射体に反射することによ
り、ウェハを迂回して受光部に到達し、ウェハの存否を
誤認する不都合を解消する。 【解決手段】 ウェハ４の周囲に反射体１０が存在する
環境下で、ウェハ４の有無を光学的に検出するウェハ検
出装置１であって、ウェハ４を挟んだ両側に対向配置さ
れる発光部１４および受光部１５を具備するとともに、
該受光部１５を覆い、かつ、発光部１４から受光部１５
への特定の光軸に沿う貫通孔１８を有するスリット部材
１６が配置されているウェハ検出装置１を提供する。
り、ウェハを迂回して受光部に到達し、ウェハの存否を
誤認する不都合を解消する。 【解決手段】 ウェハ４の周囲に反射体１０が存在する
環境下で、ウェハ４の有無を光学的に検出するウェハ検
出装置１であって、ウェハ４を挟んだ両側に対向配置さ
れる発光部１４および受光部１５を具備するとともに、
該受光部１５を覆い、かつ、発光部１４から受光部１５
への特定の光軸に沿う貫通孔１８を有するスリット部材
１６が配置されているウェハ検出装置１を提供する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、種々のウェハの
処理工程においてウェハの有無を検出するウェハ検出装
置、該ウェハ検出装置を具備する洗浄乾燥装置およびメ
ッキ装置に関するものである。
処理工程においてウェハの有無を検出するウェハ検出装
置、該ウェハ検出装置を具備する洗浄乾燥装置およびメ
ッキ装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ウェハの処理工程は複数段階に及び、各
行程間において、ウェハはマニピュレータにより搬送さ
れる。したがって、ウェハの搬送および処理を確実に行
うには、各処理工程においてウェハの有無を検出する必
要がある。
行程間において、ウェハはマニピュレータにより搬送さ
れる。したがって、ウェハの搬送および処理を確実に行
うには、各処理工程においてウェハの有無を検出する必
要がある。
【０００３】ウェハの有無を検出するウェハ検出装置と
しては、ウェハを挟んで対向配置される発光部と受光部
とを具備し、発光部から発せられた光がウェハによって
遮られ、受光部において受光されないときにはウェハが
存在すると判断し、発光部から発せられた光がウェハに
よって遮られることなく受光部に受光された場合にはウ
ェハが存在しないと判断することにより、ウェハの有無
を検出する方法のものが一般的である。
しては、ウェハを挟んで対向配置される発光部と受光部
とを具備し、発光部から発せられた光がウェハによって
遮られ、受光部において受光されないときにはウェハが
存在すると判断し、発光部から発せられた光がウェハに
よって遮られることなく受光部に受光された場合にはウ
ェハが存在しないと判断することにより、ウェハの有無
を検出する方法のものが一般的である。
【０００４】例えば、メッキ処理されたウェハの表面を
洗浄し乾燥させるための洗浄乾燥装置を例に挙げて説明
する。洗浄乾燥装置１９は、図６に示されるように、水
平に維持したウェハ４をその中心軸回りに水平回転さ
せ、回転させられるウェハ４の表面に洗浄液、例えば、
純水を供給することにより、ウェハ４を洗浄し、洗浄液
の供給を停止して回転を係属することにより、遠心力に
よって洗浄液を半径方向外方に飛散させてウェハ４を乾
燥させる装置である。ウェハ４の上方には、洗浄液がウ
ェハ４の上方に跳ねて周囲に飛散することを防止する飛
散防止部材１０が設けられている。飛散防止部材１０
は、ウェハ４の上方に間隔を開けて配置され、下方に向
かう凹面１０ａを有するドーム状に形成されている。
洗浄し乾燥させるための洗浄乾燥装置を例に挙げて説明
する。洗浄乾燥装置１９は、図６に示されるように、水
平に維持したウェハ４をその中心軸回りに水平回転さ
せ、回転させられるウェハ４の表面に洗浄液、例えば、
純水を供給することにより、ウェハ４を洗浄し、洗浄液
の供給を停止して回転を係属することにより、遠心力に
よって洗浄液を半径方向外方に飛散させてウェハ４を乾
燥させる装置である。ウェハ４の上方には、洗浄液がウ
ェハ４の上方に跳ねて周囲に飛散することを防止する飛
散防止部材１０が設けられている。飛散防止部材１０
は、ウェハ４の上方に間隔を開けて配置され、下方に向
かう凹面１０ａを有するドーム状に形成されている。
【０００５】飛散防止部材１０は、ウェハ４の回転によ
りウェハ４表面上から跳ね上がった洗浄液１１が周囲に
飛散することを防止するとともに、この飛散防止部材１
０に付着した洗浄液１１を、下方に向かう凹面１０ａを
伝ってウェハ４の半径方向外方に落下させるように構成
されている。したがって、飛散防止手段１０は、このよ
うに、ウェハ４の上方を完全に覆うように配置される部
材であるため、作業者が外部からウェハ４の有無を確認
することができるように、例えば、透明なエンジニアリ
ングプラスチック材料を切削加工することにより構成さ
れている。
りウェハ４表面上から跳ね上がった洗浄液１１が周囲に
飛散することを防止するとともに、この飛散防止部材１
０に付着した洗浄液１１を、下方に向かう凹面１０ａを
伝ってウェハ４の半径方向外方に落下させるように構成
されている。したがって、飛散防止手段１０は、このよ
うに、ウェハ４の上方を完全に覆うように配置される部
材であるため、作業者が外部からウェハ４の有無を確認
することができるように、例えば、透明なエンジニアリ
ングプラスチック材料を切削加工することにより構成さ
れている。
【０００６】前記ウェハ検出装置２８は、ウェハ４の下
方に配置される発光部２９と、該発光部２９に対向し
て、前記飛散防止部材１０の上方に配される受光部３０
とを具備しており、発光部２９と受光部３０とを結ぶ光
軸Ｘをウェハ４の半径方向の途中位置に配置している。
これにより、ウェハ４が光軸Ｘを遮る場合にはウェハ４
が存在すると判断し、図６に示されるように、発光部２
９から発せられた光Ｌ１が、透明な飛散防止部材１０を
通過して受光部３０において受光された場合には、ウェ
ハ４が存在しないものと判断するようにしている。
方に配置される発光部２９と、該発光部２９に対向し
て、前記飛散防止部材１０の上方に配される受光部３０
とを具備しており、発光部２９と受光部３０とを結ぶ光
軸Ｘをウェハ４の半径方向の途中位置に配置している。
これにより、ウェハ４が光軸Ｘを遮る場合にはウェハ４
が存在すると判断し、図６に示されるように、発光部２
９から発せられた光Ｌ１が、透明な飛散防止部材１０を
通過して受光部３０において受光された場合には、ウェ
ハ４が存在しないものと判断するようにしている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、飛散防
止部材１０は、透明材料から構成されてはいるものの、
その表面は透明性を高めるために鏡面状に磨かれ、特に
下側表面は、付着した洗浄液１１の滴が、そこに留まる
ことなく流れ落ちるように滑らかに形成されているた
め、発光部２９からの光の一部、すなわち、発光部２９
から斜め上方に発せられた光Ｌ２をその表面において反
射する。しかも、飛散防止部材１０の下側表面は、下向
きの凹面状に形成されているため、光Ｌ２の反射方向
は、下方の発光部２９からの光Ｌ２の入射方向に対して
所定の角度をなしてウェハ４の中心方向に向けられる。
さらに、ウェハ４の表面に銅メッキ等のメッキ処理が施
されているような場合には、ウェハ４の表面においても
光Ｌ２が反射されることになる。
止部材１０は、透明材料から構成されてはいるものの、
その表面は透明性を高めるために鏡面状に磨かれ、特に
下側表面は、付着した洗浄液１１の滴が、そこに留まる
ことなく流れ落ちるように滑らかに形成されているた
め、発光部２９からの光の一部、すなわち、発光部２９
から斜め上方に発せられた光Ｌ２をその表面において反
射する。しかも、飛散防止部材１０の下側表面は、下向
きの凹面状に形成されているため、光Ｌ２の反射方向
は、下方の発光部２９からの光Ｌ２の入射方向に対して
所定の角度をなしてウェハ４の中心方向に向けられる。
さらに、ウェハ４の表面に銅メッキ等のメッキ処理が施
されているような場合には、ウェハ４の表面においても
光Ｌ２が反射されることになる。
【０００８】したがって、発光部２９および受光部３０
の位置、飛散防止部材１０の凹面１０ａの曲率、ウェハ
４の表面状態等が所定の条件を満たす場合には、図６に
示されるように、発光部２９からの光Ｌ２が飛散防止部
材１０の表面およびウェハ４の表面上で反射して受光部
３０に受光される場合があり、ウェハ４が存在するにも
かかわらず、ウェハ４が無いものと判断される不都合が
生ずる。
の位置、飛散防止部材１０の凹面１０ａの曲率、ウェハ
４の表面状態等が所定の条件を満たす場合には、図６に
示されるように、発光部２９からの光Ｌ２が飛散防止部
材１０の表面およびウェハ４の表面上で反射して受光部
３０に受光される場合があり、ウェハ４が存在するにも
かかわらず、ウェハ４が無いものと判断される不都合が
生ずる。
【０００９】すなわち、ウェハ４下方の発光部２９から
発せられて、ウェハ４の半径方向外方を通ってウェハ４
上方の飛散防止部材１０に到達し、飛散防止部材１０の
凹面１０ａによって下方に反射されることによりウェハ
４を回り込んだ光Ｌ２が、ウェハ４の表面で反射される
結果、受光部３０において感知され、ウェハ４が存在し
ないものと判断されることがある。このため、ウェハ４
が存在するにもかかわらず、ウェハ４の不在を理由とし
て、洗浄乾燥行程が実施されず、または、洗浄乾燥装置
１９からのマニピュレータによるウェハ４の取り出し行
程が実施されないことになり、処理工程の中断による歩
留まりの低下等の不都合を生ずる。
発せられて、ウェハ４の半径方向外方を通ってウェハ４
上方の飛散防止部材１０に到達し、飛散防止部材１０の
凹面１０ａによって下方に反射されることによりウェハ
４を回り込んだ光Ｌ２が、ウェハ４の表面で反射される
結果、受光部３０において感知され、ウェハ４が存在し
ないものと判断されることがある。このため、ウェハ４
が存在するにもかかわらず、ウェハ４の不在を理由とし
て、洗浄乾燥行程が実施されず、または、洗浄乾燥装置
１９からのマニピュレータによるウェハ４の取り出し行
程が実施されないことになり、処理工程の中断による歩
留まりの低下等の不都合を生ずる。
【００１０】また、このような洗浄乾燥装置１９におけ
る場合に限られず、光学的方法によってウェハ４の有無
を検出するウェハ検出装置２８を用いる全ての場合にお
いて、ウェハ４の周囲に何らかの反射体が存在するよう
な環境下では、偶然に条件が整って、ウェハ４が存在す
るにもかかわらず発光部２９から発せられた光Ｌ２が受
光部３０に到達する不都合が発生することが考えられ
る。
る場合に限られず、光学的方法によってウェハ４の有無
を検出するウェハ検出装置２８を用いる全ての場合にお
いて、ウェハ４の周囲に何らかの反射体が存在するよう
な環境下では、偶然に条件が整って、ウェハ４が存在す
るにもかかわらず発光部２９から発せられた光Ｌ２が受
光部３０に到達する不都合が発生することが考えられ
る。
【００１１】この発明は、上述した事情に鑑みてなされ
たものであって、ウェハの有無を検出するウェハ検出装
置の誤認を防止し、処理工程の中断による歩留まりの低
下を未然に防止することができるウェハ検出装置、洗浄
乾燥装置およびメッキ装置を提供することを目的として
いる。
たものであって、ウェハの有無を検出するウェハ検出装
置の誤認を防止し、処理工程の中断による歩留まりの低
下を未然に防止することができるウェハ検出装置、洗浄
乾燥装置およびメッキ装置を提供することを目的として
いる。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明は、ウェハの周囲に反射体が存在する環境
下で、ウェハの有無を光学的に検出するウェハ検出装置
であって、ウェハを挟んだ両側に対向配置される発光部
および受光部を具備するとともに、該受光部を覆い、か
つ、前記発光部から受光部への特定の光軸に沿う貫通孔
を有するスリット部材が配置されているウェハ検出装置
を提案している。上記ウエハ検出装置は、反射体の一部
が、発光部と受光部との間に配される透明部材である場
合、および／または、ウェハの表面である場合に効果的
である。
に、この発明は、ウェハの周囲に反射体が存在する環境
下で、ウェハの有無を光学的に検出するウェハ検出装置
であって、ウェハを挟んだ両側に対向配置される発光部
および受光部を具備するとともに、該受光部を覆い、か
つ、前記発光部から受光部への特定の光軸に沿う貫通孔
を有するスリット部材が配置されているウェハ検出装置
を提案している。上記ウエハ検出装置は、反射体の一部
が、発光部と受光部との間に配される透明部材である場
合、および／または、ウェハの表面である場合に効果的
である。
【００１３】また、この発明は、上記ウェハ検出装置
と、水平配置されたウェハを水平回転させる回転手段
と、ウェハの表面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段
と、ウェハの上方に間隔を開けて配置され洗浄液の飛散
を防止する透明材料からなる飛散防止部材とを具備する
洗浄乾燥装置において、前記発光部が、ウェハの下方に
配置され、前記受光部が、前記飛散防止部材の上方に前
記発光部に対向して配置されている洗浄乾燥装置を提案
している。
と、水平配置されたウェハを水平回転させる回転手段
と、ウェハの表面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段
と、ウェハの上方に間隔を開けて配置され洗浄液の飛散
を防止する透明材料からなる飛散防止部材とを具備する
洗浄乾燥装置において、前記発光部が、ウェハの下方に
配置され、前記受光部が、前記飛散防止部材の上方に前
記発光部に対向して配置されている洗浄乾燥装置を提案
している。
【００１４】上記洗浄乾燥装置では、飛散防止部材が、
ウェハに対向する下向きの凹面を具備していることが好
ましい。また、この発明は、上記洗浄乾燥装置を有する
メッキ装置をも提案している。
ウェハに対向する下向きの凹面を具備していることが好
ましい。また、この発明は、上記洗浄乾燥装置を有する
メッキ装置をも提案している。
【００１５】
【作用】この発明によれば、受光部に配置したスリット
部材によって、受光部が覆われ、発光部から発せられる
光の一部が受光部に到達することを制限され、スリット
部材に設けた貫通孔を通過する光のみが受光部に到達す
る。したがって、発光部から発せられた光の内、特定の
方向から受光部に入来する光のみを選択的に受光するこ
とが可能となり、ウェハの周囲に存在している反射体に
よって反射された光が受光部に到達して、ウェハの有無
の誤認が生ずることが未然に防止されることになる。
部材によって、受光部が覆われ、発光部から発せられる
光の一部が受光部に到達することを制限され、スリット
部材に設けた貫通孔を通過する光のみが受光部に到達す
る。したがって、発光部から発せられた光の内、特定の
方向から受光部に入来する光のみを選択的に受光するこ
とが可能となり、ウェハの周囲に存在している反射体に
よって反射された光が受光部に到達して、ウェハの有無
の誤認が生ずることが未然に防止されることになる。
【００１６】また、反射体の一部が、発光部と受光部と
の間に配される透明部材である場合には、発光部から発
せられた光の内、透明部材の表面において反射した反射
光が不特定の経路をたどって、受光部に達することがあ
る。したがって、本来的には不具合の発生が想定されな
いこのような場合においても、効果的に、ウェハの検出
誤認を防止することができる。
の間に配される透明部材である場合には、発光部から発
せられた光の内、透明部材の表面において反射した反射
光が不特定の経路をたどって、受光部に達することがあ
る。したがって、本来的には不具合の発生が想定されな
いこのような場合においても、効果的に、ウェハの検出
誤認を防止することができる。
【００１７】また、反射体の一部がウェハの表面である
場合には、発光部から発せられた光の内、他の反射体で
反射した光が、ウェハの表面で反射して受光部に達する
ことがある。ウェハがメッキ処理されている場合等、ウ
ェハ表面の反射率が高くなっている場合にも、効果的に
ウェハの検出誤認を防止することが可能である。
場合には、発光部から発せられた光の内、他の反射体で
反射した光が、ウェハの表面で反射して受光部に達する
ことがある。ウェハがメッキ処理されている場合等、ウ
ェハ表面の反射率が高くなっている場合にも、効果的に
ウェハの検出誤認を防止することが可能である。
【００１８】また、本発明に係る洗浄乾燥装置によれ
ば、洗浄液供給手段の作動により、水平配置されたウェ
ハの表面に洗浄液が供給され、回転手段の作動により、
ウェハが水平回転させられる。これにより、ウェハの表
面が洗浄され、洗浄液は、ウェハの回転に伴う遠心力に
よって、半径方向外方へと排出される。また、洗浄液供
給手段の作動を停止することにより、ウェハ上に残って
いた洗浄液は、半径方向外方に飛ばされ、ウェハが乾燥
させられる。
ば、洗浄液供給手段の作動により、水平配置されたウェ
ハの表面に洗浄液が供給され、回転手段の作動により、
ウェハが水平回転させられる。これにより、ウェハの表
面が洗浄され、洗浄液は、ウェハの回転に伴う遠心力に
よって、半径方向外方へと排出される。また、洗浄液供
給手段の作動を停止することにより、ウェハ上に残って
いた洗浄液は、半径方向外方に飛ばされ、ウェハが乾燥
させられる。
【００１９】この場合において、ウェハの表面で跳ね返
った洗浄液は、その一部が上方に飛び跳ねることになる
が、ウェハの上方には飛散防止部材が配置されているの
で、この飛散防止部材に付着することによって飛散が防
止される。飛散防止部材は透明材料から構成されている
ので、作業者が、飛散防止部材の上方からウェハを目視
により容易に確認することができる。
った洗浄液は、その一部が上方に飛び跳ねることになる
が、ウェハの上方には飛散防止部材が配置されているの
で、この飛散防止部材に付着することによって飛散が防
止される。飛散防止部材は透明材料から構成されている
ので、作業者が、飛散防止部材の上方からウェハを目視
により容易に確認することができる。
【００２０】また、飛散防止部材を挟んで上下に、ウェ
ハ検出装置の発光部と受光部とが配置されているので、
ウェハの下方の発光部から発せられた光は、ウェハがあ
る場合にはウェハに遮られて飛散防止装置上方の受光部
に到達せず、ウェハが無い場合には、透明な飛散防止部
材を通過した後に受光部に到達してウェハの不在が確認
される。
ハ検出装置の発光部と受光部とが配置されているので、
ウェハの下方の発光部から発せられた光は、ウェハがあ
る場合にはウェハに遮られて飛散防止装置上方の受光部
に到達せず、ウェハが無い場合には、透明な飛散防止部
材を通過した後に受光部に到達してウェハの不在が確認
される。
【００２１】この場合において、ウェハが存在する場合
であっても、発光部から発せられた光の一部がウェハの
半径方向外方を通って、飛散防止部材に到達し、そこ
で、一部が反射してウェハの上方に回り込み、受光部の
方向に向かう場合がある。すなわち、透明な飛散防止部
材が反射体として機能する場合がある。しかしながら、
この発明に係る洗浄乾燥装置は、上記スリット部材を有
するウェハ検出装置を具備しているので、発光部から発
せられた光の内、特定の方向から受光部に入来する光の
みを選択的に受光することが可能となり、ウェハの有無
の誤認による洗浄乾燥装置の作動停止や、ウェハを洗浄
乾燥装置に出し入れするマニピュレータの作動停止を防
止することができる。
であっても、発光部から発せられた光の一部がウェハの
半径方向外方を通って、飛散防止部材に到達し、そこ
で、一部が反射してウェハの上方に回り込み、受光部の
方向に向かう場合がある。すなわち、透明な飛散防止部
材が反射体として機能する場合がある。しかしながら、
この発明に係る洗浄乾燥装置は、上記スリット部材を有
するウェハ検出装置を具備しているので、発光部から発
せられた光の内、特定の方向から受光部に入来する光の
みを選択的に受光することが可能となり、ウェハの有無
の誤認による洗浄乾燥装置の作動停止や、ウェハを洗浄
乾燥装置に出し入れするマニピュレータの作動停止を防
止することができる。
【００２２】また、飛散防止手段がウェハに対向する下
向きの凹面を具備する場合には、該凹面の曲率によっ
て、発光部からの光が予期せぬ方向に反射させられるこ
とになるが、この場合においても、効果的にウェハの有
無の検出を行うことができる。さらに、上記洗浄乾燥装
置を有する本発明のメッキ装置によれば、ウェハの表面
がメッキされることにより、反射体の一部を構成するこ
とになるが、このような場合においても、洗浄乾燥装置
の作動停止や、洗浄乾燥装置との間でウェハをやり取り
するマニピュレータの作動停止が生じないので、処理工
程の歩留まりの低下を防止することができる。
向きの凹面を具備する場合には、該凹面の曲率によっ
て、発光部からの光が予期せぬ方向に反射させられるこ
とになるが、この場合においても、効果的にウェハの有
無の検出を行うことができる。さらに、上記洗浄乾燥装
置を有する本発明のメッキ装置によれば、ウェハの表面
がメッキされることにより、反射体の一部を構成するこ
とになるが、このような場合においても、洗浄乾燥装置
の作動停止や、洗浄乾燥装置との間でウェハをやり取り
するマニピュレータの作動停止が生じないので、処理工
程の歩留まりの低下を防止することができる。
【００２３】
【発明の実施の形態】以下、この発明に係るウェハの検
出装置、洗浄乾燥装置およびメッキ装置の一実施形態に
ついて、図面を参照して説明する。本実施形態に係るウ
ェハの検出装置１は、メッキ装置２に備えられる洗浄乾
燥装置３に設けられている。
出装置、洗浄乾燥装置およびメッキ装置の一実施形態に
ついて、図面を参照して説明する。本実施形態に係るウ
ェハの検出装置１は、メッキ装置２に備えられる洗浄乾
燥装置３に設けられている。
【００２４】このメッキ装置２は、図１に示されるよう
に、ウェハをメッキ液に浸漬する複数のメッキ槽５と、
メッキ槽５において表面をメッキ処理されたウェハを洗
浄しかつ乾燥する洗浄乾燥装置３と、該洗浄乾燥装置３
とメッキ槽５との間でウェハを移送するためのマニピュ
レータ６とを具備している。図１中、符号４０は、メッ
キ装置２にウェハを供給するローディングステーション
であり、外部からウェハを受け入れるロードポート４１
と、受け入れたウェハをメッキ装置２内に搬送するマニ
ピュレータ４２とを具備している。
に、ウェハをメッキ液に浸漬する複数のメッキ槽５と、
メッキ槽５において表面をメッキ処理されたウェハを洗
浄しかつ乾燥する洗浄乾燥装置３と、該洗浄乾燥装置３
とメッキ槽５との間でウェハを移送するためのマニピュ
レータ６とを具備している。図１中、符号４０は、メッ
キ装置２にウェハを供給するローディングステーション
であり、外部からウェハを受け入れるロードポート４１
と、受け入れたウェハをメッキ装置２内に搬送するマニ
ピュレータ４２とを具備している。
【００２５】前記洗浄乾燥装置３は、図２に示されると
おり、ウェハ４を水平状態に把持するチャック７と、チ
ャック７を垂直軸８回りに回転させるモータ９と、チャ
ック７の上方に間隔を開けて配置された飛散防止部材１
０と、チャック７に把持されたウェハ４表面に洗浄液１
１を供給する洗浄液供給手段１２と、チャック７上のウ
ェハ４の有無を検出するウェハ検出装置１とを具備して
いる。
おり、ウェハ４を水平状態に把持するチャック７と、チ
ャック７を垂直軸８回りに回転させるモータ９と、チャ
ック７の上方に間隔を開けて配置された飛散防止部材１
０と、チャック７に把持されたウェハ４表面に洗浄液１
１を供給する洗浄液供給手段１２と、チャック７上のウ
ェハ４の有無を検出するウェハ検出装置１とを具備して
いる。
【００２６】図中、符号２０は、マニピュレータ６によ
ってウェハ４を洗浄乾燥装置１９との間で受け渡しする
ときに、チャック７を昇降させる昇降機構であり、例え
ば、モータ２１、プーリ２２，２３、ベルト２４、減速
機２５、ナット２６およびボールネジ２７から構成され
ている。
ってウェハ４を洗浄乾燥装置１９との間で受け渡しする
ときに、チャック７を昇降させる昇降機構であり、例え
ば、モータ２１、プーリ２２，２３、ベルト２４、減速
機２５、ナット２６およびボールネジ２７から構成され
ている。
【００２７】前記チャック７は、例えば、図３に示され
るように、略十字状に配置された４本のアーム７ａの先
端に、ウェハ４の外周縁を把持する爪部７ｂを具備し、
爪部７ｂを半径方向に開閉することにより、ウェハ４を
把持、解放することができるようになっている。また、
後述する発光部１４からの光は、アーム７ａ間を通って
ウェハ７または飛散防止部材１０に到達するようになっ
ている。
るように、略十字状に配置された４本のアーム７ａの先
端に、ウェハ４の外周縁を把持する爪部７ｂを具備し、
爪部７ｂを半径方向に開閉することにより、ウェハ４を
把持、解放することができるようになっている。また、
後述する発光部１４からの光は、アーム７ａ間を通って
ウェハ７または飛散防止部材１０に到達するようになっ
ている。
【００２８】前記飛散防止部材１０は、図２に示される
ように、下向きの凹面１０ａを有するドーム状の部材で
あって、透明なエンジニアリングプラスチックからな
り、前記チャック７に把持されるウェハ４の上方を完全
に覆うようにフレーム１３に固定されている。これによ
り、ウェハ４表面で飛び跳ねる洗浄液１１が、周囲に飛
散することを防止するとともに、凹面１０ａに付着した
洗浄液１１が、洗浄されたウェハ４表面に落下すること
を防止すべく、凹面１０ａに沿ってウェハ４の半径方向
外方に排出するように、その外周縁をウェハ４の外縁よ
り半径方向外方に配している。また、飛散防止部材１０
が透明の材料から構成されることにより、チャック７に
把持されるウェハ４の有無を、作業者が外側から容易に
目視できるようになっている。
ように、下向きの凹面１０ａを有するドーム状の部材で
あって、透明なエンジニアリングプラスチックからな
り、前記チャック７に把持されるウェハ４の上方を完全
に覆うようにフレーム１３に固定されている。これによ
り、ウェハ４表面で飛び跳ねる洗浄液１１が、周囲に飛
散することを防止するとともに、凹面１０ａに付着した
洗浄液１１が、洗浄されたウェハ４表面に落下すること
を防止すべく、凹面１０ａに沿ってウェハ４の半径方向
外方に排出するように、その外周縁をウェハ４の外縁よ
り半径方向外方に配している。また、飛散防止部材１０
が透明の材料から構成されることにより、チャック７に
把持されるウェハ４の有無を、作業者が外側から容易に
目視できるようになっている。
【００２９】前記ウェハ検出装置１は、前記チャック７
の下方に上向きに配置される発光部１４と、該発光部１
４と対向して下向きに、前記飛散防止部材１０の上方に
配置される受光部１５と、該受光部１５と飛散防止部材
１０との間に配置されるスリット部材１６とを具備して
いる。前記発光部１４は、所定の光量を発生するＬＥＤ
等、任意の光源であり、受光部１５は、光電式センサ
等、任意の受光素子から構成されている。受光部１５
は、図４に示されるように、飛散防止部材１０を固定す
るフレーム１３に、ネジ１７によって固定されている。
の下方に上向きに配置される発光部１４と、該発光部１
４と対向して下向きに、前記飛散防止部材１０の上方に
配置される受光部１５と、該受光部１５と飛散防止部材
１０との間に配置されるスリット部材１６とを具備して
いる。前記発光部１４は、所定の光量を発生するＬＥＤ
等、任意の光源であり、受光部１５は、光電式センサ
等、任意の受光素子から構成されている。受光部１５
は、図４に示されるように、飛散防止部材１０を固定す
るフレーム１３に、ネジ１７によって固定されている。
【００３０】前記スリット部材１６は、前記受光部１５
の下面を被覆する金属製の板状部材であって、図５に示
されるように、板厚を上下方向に貫通する貫通孔１８を
具備している。この貫通孔１８は、例えば、直径０．５
〜１．５ｍｍ程度の丸孔であり、発光部１４から発せら
れた光の内、主として、発光部１４からほぼ鉛直上方に
進行して飛散防止部材１０に到達し、該飛散防止部材１
０を貫通してきた光Ｌ １のみを選択的に通過させて、受
光部１５に到達させるように構成されている。
の下面を被覆する金属製の板状部材であって、図５に示
されるように、板厚を上下方向に貫通する貫通孔１８を
具備している。この貫通孔１８は、例えば、直径０．５
〜１．５ｍｍ程度の丸孔であり、発光部１４から発せら
れた光の内、主として、発光部１４からほぼ鉛直上方に
進行して飛散防止部材１０に到達し、該飛散防止部材１
０を貫通してきた光Ｌ １のみを選択的に通過させて、受
光部１５に到達させるように構成されている。
【００３１】また、前記スリット部材１６には、該スリ
ット部材１６を前記受光部１５の下側に取り付けるため
の取付部１６ａが設けられている。この取付部１６ａ
は、例えば、前記受光部１５をフレーム１３に取り付け
るネジ１７を利用して、スリット部材１６を受光部１５
と共にフレーム１３に取り付けることができるように構
成されている。
ット部材１６を前記受光部１５の下側に取り付けるため
の取付部１６ａが設けられている。この取付部１６ａ
は、例えば、前記受光部１５をフレーム１３に取り付け
るネジ１７を利用して、スリット部材１６を受光部１５
と共にフレーム１３に取り付けることができるように構
成されている。
【００３２】このように構成された本実施形態に係るウ
ェハ検出装置１、洗浄乾燥装置３およびメッキ装置２の
作用について以下に説明する。本実施形態に係る洗浄乾
燥装置３では、ウェハ４がチャック７上に供給される前
の状態で、ウェハ検出装置１により、ウェハ４がチャッ
ク７上に存在しないことが確認される。すなわち、チャ
ック７の下方に配置された発光部１４から発せられた光
Ｌ１が、透明な飛散防止部材１０を通過して、その上方
に配されているスリット部材１６の貫通孔１８を通過す
ることにより受光部１５に達し、ウェハ４の不在が確認
される。
ェハ検出装置１、洗浄乾燥装置３およびメッキ装置２の
作用について以下に説明する。本実施形態に係る洗浄乾
燥装置３では、ウェハ４がチャック７上に供給される前
の状態で、ウェハ検出装置１により、ウェハ４がチャッ
ク７上に存在しないことが確認される。すなわち、チャ
ック７の下方に配置された発光部１４から発せられた光
Ｌ１が、透明な飛散防止部材１０を通過して、その上方
に配されているスリット部材１６の貫通孔１８を通過す
ることにより受光部１５に達し、ウェハ４の不在が確認
される。
【００３３】次いで、マニピュレータ６により搬送され
てきたウェハ４が、チャック７に引き渡されて把持さ
れ、水平状態に保持される。この状態で、ウェハ検出装
置１の発光部１４から鉛直上方に向かって発せられ、ほ
ぼ直接的に受光部１５に達していた光Ｌ１は、ウェハ４
によって遮られることになり、チャック７上にウェハ４
が存在することが確認される。
てきたウェハ４が、チャック７に引き渡されて把持さ
れ、水平状態に保持される。この状態で、ウェハ検出装
置１の発光部１４から鉛直上方に向かって発せられ、ほ
ぼ直接的に受光部１５に達していた光Ｌ１は、ウェハ４
によって遮られることになり、チャック７上にウェハ４
が存在することが確認される。
【００３４】ウェハ４の存在が確認されると、洗浄液供
給手段１２の作動により、ウェハ４表面に洗浄液１１が
供給されるとともに、モータ９の作動によって、ウェハ
４が水平回転させられて、ウェハ４表面の洗浄が行われ
る。この場合において、回転しているウェハ４の上方に
は、ドーム状の飛散防止部材１０が設けられているの
で、ウェハ４表面で跳ね上がった洗浄液１１が周囲に飛
散することが防止される。また、跳ね上がった洗浄液１
１が、飛散防止部材１０の凹面１０ａを伝ってウェハ４
の半径方向外方に排出されることによって、洗浄された
ウェハ４の表面に落下することも防止される。
給手段１２の作動により、ウェハ４表面に洗浄液１１が
供給されるとともに、モータ９の作動によって、ウェハ
４が水平回転させられて、ウェハ４表面の洗浄が行われ
る。この場合において、回転しているウェハ４の上方に
は、ドーム状の飛散防止部材１０が設けられているの
で、ウェハ４表面で跳ね上がった洗浄液１１が周囲に飛
散することが防止される。また、跳ね上がった洗浄液１
１が、飛散防止部材１０の凹面１０ａを伝ってウェハ４
の半径方向外方に排出されることによって、洗浄された
ウェハ４の表面に落下することも防止される。
【００３５】また、一定時間の洗浄後に、洗浄液供給手
段１２を停止し、モータ９を作動させ続けることによ
り、ウェハ４表面に付着していた洗浄液１１が遠心力に
よって、ウェハ４の半径方向外方に放出され、ウェハ４
が乾燥されることになる。
段１２を停止し、モータ９を作動させ続けることによ
り、ウェハ４表面に付着していた洗浄液１１が遠心力に
よって、ウェハ４の半径方向外方に放出され、ウェハ４
が乾燥されることになる。
【００３６】一方、図４に示されているように、発光部
１４から斜め上方に発せられ、ウェハ４の半径方向外方
を通過した光Ｌ２が、湾曲した飛散防止部材１０の凹面
１０ａおよびメッキ処理を施されたウェハ４の表面にお
いて反射することにより、ウェハ４を迂回して受光部１
５に向かう場合がある。しかし、このような場合であっ
ても、本実施形態に係るウェハ検出装置１には、スリッ
ト部材１６が設けられているために、該スリット部材１
６の貫通孔１８に対して斜め下方から到達する光Ｌ
２は、該貫通孔１８を通過することができず、受光部１
５に到達することが防止される。
１４から斜め上方に発せられ、ウェハ４の半径方向外方
を通過した光Ｌ２が、湾曲した飛散防止部材１０の凹面
１０ａおよびメッキ処理を施されたウェハ４の表面にお
いて反射することにより、ウェハ４を迂回して受光部１
５に向かう場合がある。しかし、このような場合であっ
ても、本実施形態に係るウェハ検出装置１には、スリッ
ト部材１６が設けられているために、該スリット部材１
６の貫通孔１８に対して斜め下方から到達する光Ｌ
２は、該貫通孔１８を通過することができず、受光部１
５に到達することが防止される。
【００３７】すなわち、本実施形態のウェハ検出装置１
によれば、発光部１４からほぼ鉛直上方に発せられた光
Ｌ１のみが、チャック７におけるウェハ４の不在を判断
するために選択的に利用される。したがって、ウェハ４
の周囲の飛散防止部材１０、ウェハ４表面、その他の反
射体が存在する環境下においても、該反射体によって反
射された光Ｌ２が受光部１５に到達することを確実に防
止することができ、ウェハ４の有無の誤認を生ずること
がない。
によれば、発光部１４からほぼ鉛直上方に発せられた光
Ｌ１のみが、チャック７におけるウェハ４の不在を判断
するために選択的に利用される。したがって、ウェハ４
の周囲の飛散防止部材１０、ウェハ４表面、その他の反
射体が存在する環境下においても、該反射体によって反
射された光Ｌ２が受光部１５に到達することを確実に防
止することができ、ウェハ４の有無の誤認を生ずること
がない。
【００３８】その結果、ウェハ４がチャック７に存在す
るにもかかわらず、不在であると判断して、洗浄乾燥装
置３の作動が停止したり、マニピュレータによるウェハ
４の取り出し作業が停止したりする不都合を未然に防止
することができる。特に、洗浄乾燥装置３がメッキ装置
２に備えられている場合のように、ウェハ４表面がメッ
キによって光を反射し易い反射体となっている場合にお
いても、ウェハ４の検出の誤認を確実に防止して、装置
の停止による歩留まりの低下を回避することができる。
るにもかかわらず、不在であると判断して、洗浄乾燥装
置３の作動が停止したり、マニピュレータによるウェハ
４の取り出し作業が停止したりする不都合を未然に防止
することができる。特に、洗浄乾燥装置３がメッキ装置
２に備えられている場合のように、ウェハ４表面がメッ
キによって光を反射し易い反射体となっている場合にお
いても、ウェハ４の検出の誤認を確実に防止して、装置
の停止による歩留まりの低下を回避することができる。
【００３９】なお、本実施形態では、受光部１５を覆う
スリット部材１６の貫通孔１８の内径を小さくすること
によって、発光部１４からほぼ直接的に入来する光Ｌ１
のみを選択的に受光させることができるが、あまりに内
径を小さくし過ぎると、受光量が足りずに、ウェハ検出
手段１の正常な作動が妨げられることが考えられる。
スリット部材１６の貫通孔１８の内径を小さくすること
によって、発光部１４からほぼ直接的に入来する光Ｌ１
のみを選択的に受光させることができるが、あまりに内
径を小さくし過ぎると、受光量が足りずに、ウェハ検出
手段１の正常な作動が妨げられることが考えられる。
【００４０】そこで、貫通孔１８の内径を比較的大きく
確保しつつ、鉛直下方からの光Ｌ１のみを選択的に受光
させるために、スリット部材１６の厚さを大きくした
り、スリット部材１６を受光部１５から離間させる等の
対策を講じることもできる。
確保しつつ、鉛直下方からの光Ｌ１のみを選択的に受光
させるために、スリット部材１６の厚さを大きくした
り、スリット部材１６を受光部１５から離間させる等の
対策を講じることもできる。
【００４１】また、本実施形態では、ウェハ４を検出対
象としているために、必然的にクリーンルーム内に設置
される装置に関連している。したがって、クリーンルー
ム内におけるパーティクルの発生を極力抑えるという観
点から、スリット部材１６をネジ１７によってフレーム
１３に固定することにした。しかしながら、これに限定
されるものではなく、上記パーティクル発生等の不都合
の発生を確実に防止することができる場合には、スリッ
ト部材１６を接着剤により受光部１５または飛散防止部
材１０に貼着してもよい。また、部品低減の観点から、
スリット部材１６を受光部１５と共締めすることにした
が、別個の締結手段によって固定しても良いことは言う
までもない。
象としているために、必然的にクリーンルーム内に設置
される装置に関連している。したがって、クリーンルー
ム内におけるパーティクルの発生を極力抑えるという観
点から、スリット部材１６をネジ１７によってフレーム
１３に固定することにした。しかしながら、これに限定
されるものではなく、上記パーティクル発生等の不都合
の発生を確実に防止することができる場合には、スリッ
ト部材１６を接着剤により受光部１５または飛散防止部
材１０に貼着してもよい。また、部品低減の観点から、
スリット部材１６を受光部１５と共締めすることにした
が、別個の締結手段によって固定しても良いことは言う
までもない。
【００４２】また、上記実施形態では、光学的方法によ
ってウェハ４を検出する際に、周囲の反射体による反射
が問題となる一例として、洗浄乾燥装置３およびこれを
備えたメッキ装置２を例に挙げて説明したが、これらに
限定されるものではない。すなわち、ウェハ４の周囲に
飛散防止部材１０のような任意の反射体が存在する環境
下で、光学的方法によってウェハ４の検出を行う他の全
てのアプリケーションに適用することができる。
ってウェハ４を検出する際に、周囲の反射体による反射
が問題となる一例として、洗浄乾燥装置３およびこれを
備えたメッキ装置２を例に挙げて説明したが、これらに
限定されるものではない。すなわち、ウェハ４の周囲に
飛散防止部材１０のような任意の反射体が存在する環境
下で、光学的方法によってウェハ４の検出を行う他の全
てのアプリケーションに適用することができる。
【００４３】なお、発光部１４および受光部１５の位置
の調整、飛散防止部材１０の形状の調整により、ウェハ
４を回り込む光Ｌ２が受光部１５に到達しないようにす
ることは可能であるが、本発明は、ウェハ４の周囲に存
在する部材が、予期せぬ反射体となって、ウェハ４の存
在を誤認する不都合を確実に防止することができる。
の調整、飛散防止部材１０の形状の調整により、ウェハ
４を回り込む光Ｌ２が受光部１５に到達しないようにす
ることは可能であるが、本発明は、ウェハ４の周囲に存
在する部材が、予期せぬ反射体となって、ウェハ４の存
在を誤認する不都合を確実に防止することができる。
【００４４】
【発明の効果】以上説明したように、この発明に係るウ
ェハ検出装置によれば、ウェハの周囲に反射体が存在し
ている環境下においても、ウェハの存否を確実に検出す
ることができる。また、発光部と受光部との間に透明部
材を介在させている場合において、当該透明部材が反射
体として機能するような場合であっても、ウェハの存在
を誤認することを回避することができる。
ェハ検出装置によれば、ウェハの周囲に反射体が存在し
ている環境下においても、ウェハの存否を確実に検出す
ることができる。また、発光部と受光部との間に透明部
材を介在させている場合において、当該透明部材が反射
体として機能するような場合であっても、ウェハの存在
を誤認することを回避することができる。
【００４５】また、このようなウェハ検出装置を備えた
洗浄乾燥装置によれば、透明な飛散防止部材が存在する
ことにより、発光部からの光がウェハを迂回して受光部
に向かう環境においても、そのような光が受光部に達す
ることを確実に防止することができる。その結果、飛散
防止部材による洗浄液の飛散の防止を図るとともに、ウ
ェハの存在の誤認による洗浄乾燥装置の停止等の不都合
の発生を防止することができる。
洗浄乾燥装置によれば、透明な飛散防止部材が存在する
ことにより、発光部からの光がウェハを迂回して受光部
に向かう環境においても、そのような光が受光部に達す
ることを確実に防止することができる。その結果、飛散
防止部材による洗浄液の飛散の防止を図るとともに、ウ
ェハの存在の誤認による洗浄乾燥装置の停止等の不都合
の発生を防止することができる。
【００４６】特に、本発明に係るメッキ装置によれば、
ウェハ表面にメッキ処理が施され、ウェハ表面において
も光が反射し易い環境下においても、ウェハの存否を確
実に検出することができ、したがって、ウェハの誤認に
基づく装置の停止による歩留まりの低下等の不都合を解
消することができるという効果を奏する。
ウェハ表面にメッキ処理が施され、ウェハ表面において
も光が反射し易い環境下においても、ウェハの存否を確
実に検出することができ、したがって、ウェハの誤認に
基づく装置の停止による歩留まりの低下等の不都合を解
消することができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明に係るメッキ装置の一実施形態を示す
平面図である。
平面図である。
【図２】 図１のメッキ装置に備えられた洗浄乾燥装置
を示す縦断面図である。
を示す縦断面図である。
【図３】 図２の洗浄乾燥装置に備えられたウェハのチ
ャックを説明する平面図である。
ャックを説明する平面図である。
【図４】 図２の洗浄乾燥装置における光の経路を示す
詳細図である。
詳細図である。
【図５】 図２の洗浄乾燥装置に設けられたスリット部
材を示す斜視図である。
材を示す斜視図である。
【図６】 従来の洗浄乾燥装置におけるウェハの誤認を
説明するための詳細図である。
説明するための詳細図である。
１ ウェハ検出装置 ２ メッキ装置 ３ 洗浄乾燥装置 ４ ウェハ（反射体） ９ モータ（回転手段） １０ 飛散防止部材（反射体、透明部材） １０ａ 凹面 １１ 洗浄液 １２ 洗浄液供給手段 １４ 発光部 １５ 受光部 １６ スリット部材 １８ 貫通孔
フロントページの続き (72)発明者 岩下 浩之 千葉県成田市新泉14−３ 野毛平工業団地 内 アプライド マテリアルズ ジャパン 株式会社内 Ｆターム(参考） 4K024 BA11 BB12 CB03 CB24 CB26 DB10 GA16
Claims (6)
- 【請求項１】 ウェハの周囲に反射体が存在する環境下
で、ウェハの有無を光学的に検出するウェハ検出装置で
あって、 ウェハを挟んだ両側に対向配置される発光部および受光
部を具備するとともに、該受光部を覆い、かつ、前記発
光部から受光部への特定の光軸に沿う貫通孔を有するス
リット部材が配置されているウェハ検出装置。 - 【請求項２】 反射体の一部が、発光部と受光部との間
に配される透明部材である請求項１記載のウェハ検出装
置。 - 【請求項３】 反射体の一部が、ウェハの表面である請
求項１または請求項２記載のウェハ検出装置。 - 【請求項４】 請求項１から請求項３記載のウェハ検出
装置と、水平配置されたウェハを水平回転させる回転手
段と、ウェハの表面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段
と、ウェハの上方に間隔を開けて配置され洗浄液の飛散
を防止する透明材料からなる飛散防止部材とを具備する
洗浄乾燥装置において、 前記発光部が、ウェハの下方に配置され、 前記受光部が、前記飛散防止部材の上方に前記発光部に
対向して配置されている洗浄乾燥装置。 - 【請求項５】 前記飛散防止部材が、ウェハに対向する
下向きの凹面を具備する請求項４記載の洗浄乾燥装置。 - 【請求項６】 請求項４または請求項５記載の洗浄乾燥
装置を有するメッキ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001028462A JP2002246358A (ja) | 2001-02-05 | 2001-02-05 | ウェハ検出装置、洗浄乾燥装置およびメッキ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001028462A JP2002246358A (ja) | 2001-02-05 | 2001-02-05 | ウェハ検出装置、洗浄乾燥装置およびメッキ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002246358A true JP2002246358A (ja) | 2002-08-30 |
Family
ID=18892962
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001028462A Withdrawn JP2002246358A (ja) | 2001-02-05 | 2001-02-05 | ウェハ検出装置、洗浄乾燥装置およびメッキ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002246358A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US7379174B2 (en) | 2004-10-26 | 2008-05-27 | Tdk Corporation | Wafer detecting device |
| JP2008535253A (ja) * | 2005-04-01 | 2008-08-28 | エフエスアイ インターナショナル インコーポレイテッド | 一つ又はそれ以上の処理流体を用いた、マイクロエレクトロニクス用の加工物に使用されるツールの障壁構造及びノズル装置 |
| US8235062B2 (en) | 2008-05-09 | 2012-08-07 | Fsi International, Inc. | Tools and methods for processing microelectronic workpieces using process chamber designs that easily transition between open and closed modes of operation |
| US8387635B2 (en) | 2006-07-07 | 2013-03-05 | Tel Fsi, Inc. | Barrier structure and nozzle device for use in tools used to process microelectronic workpieces with one or more treatment fluids |
-
2001
- 2001-02-05 JP JP2001028462A patent/JP2002246358A/ja not_active Withdrawn
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US8656936B2 (en) | 2005-04-01 | 2014-02-25 | Tel Fsi, Inc. | Barrier structure and nozzle device for use in tools used to process microelectronic workpieces with one or more treatment fluids |
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| US8967167B2 (en) | 2006-07-07 | 2015-03-03 | Tel Fsi, Inc. | Barrier structure and nozzle device for use in tools used to process microelectronic workpieces with one or more treatment fluids |
| US8668778B2 (en) | 2006-07-07 | 2014-03-11 | Tel Fsi, Inc. | Method of removing liquid from a barrier structure |
| US8387635B2 (en) | 2006-07-07 | 2013-03-05 | Tel Fsi, Inc. | Barrier structure and nozzle device for use in tools used to process microelectronic workpieces with one or more treatment fluids |
| US8978675B2 (en) | 2006-07-07 | 2015-03-17 | Tel Fsi, Inc. | Method and apparatus for treating a workpiece with arrays of nozzles |
| US9666456B2 (en) | 2006-07-07 | 2017-05-30 | Tel Fsi, Inc. | Method and apparatus for treating a workpiece with arrays of nozzles |
| US8684015B2 (en) | 2008-05-09 | 2014-04-01 | Tel Fsi, Inc. | Tools and methods for processing microelectronic workpieces using process chamber designs that easily transition between open and closed modes of operation |
| US8235062B2 (en) | 2008-05-09 | 2012-08-07 | Fsi International, Inc. | Tools and methods for processing microelectronic workpieces using process chamber designs that easily transition between open and closed modes of operation |
| US9039840B2 (en) | 2008-05-09 | 2015-05-26 | Tel Fsi, Inc. | Tools and methods for processing microelectronic workpieces using process chamber designs that easily transition between open and closed modes of operation |
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| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20080513 |