JP2002245604A

JP2002245604A - 磁気ヘッド及びその製造方法

Info

Publication number: JP2002245604A
Application number: JP2001037424A
Authority: JP
Inventors: Heikichi Sato; 平吉佐藤; Katsumi Sakata; 勝美坂田; Shigemi Chiba; 茂美千葉; Takayuki Kobayashi; 孝之小林
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 2001-02-14
Filing date: 2001-02-14
Publication date: 2002-08-30

Abstract

(57)【要約】【課題】ＭＩＧ型磁気ヘッドにおいて、ガラス泡の発
生を防止し品質向上を図る。【解決手段】磁気記録媒体が摺動する摺動面９に、磁
気ギャップｇの一端または両端に接して磁気記録媒体と
の相対摺動方向に沿う溝６を有し、この溝６の内面に非
磁性保護膜７が形成され、溝６の内面に臨み非磁性保護
膜７に接するガラス面５Ｂ₁の一部がイオンエッチング
された面である磁気ヘッド。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体に対
して音声信号や映像信号、あるいはデータ信号等の情報
信号を記録再生する磁気ヘッド、特にＭＩＧ（メタルイ
ンギャップ）型磁気ヘッドに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、磁気テープ、磁気ディスク等を磁
気記録媒体として用いる、ビデオテープレコーダ（ＶＴ
Ｒ）、デジタルオーディオテープレコーダ（ＤＡＴ）、
あるいはデジタルデータ記録再生装置等は、磁気記録媒
体の記録トラック上の情報信号を磁気信号として書き込
み、あるいは記録トラック上に記録されている情報信号
を磁気信号として読み込む磁気ヘッドを備えている。磁
気ヘッドとしては、フェライトヘッドの磁気ギャップ形
成面に高透磁率の金属磁性薄膜を形成してなるＭＩＧ型
磁気ヘッドが知られている。

【０００３】一方、情報信号の高記録密度化に伴い、磁
気ヘッドがより小型化されて来ると、磁気ギャップのエ
ッジにズレやダレが生じ、磁気ギャップのエッジから不
要な漏れ磁界が発生して磁気記録媒体の記録パターンを
乱すことになる。特に、図１３に示すような重ね書き記
録方式の場合、記録トラック５１において、その第１ア
ジマスの記録トラック５１Ａと第２アジマスの記録トラ
ック５１Ｂとの境界のエッジが滲み記録信号がぼける。
いわゆるサイドイレーズにより記録のＳ／Ｎが低下し、
磁気テープの全記録トラックを有効に利用出来ない。

【０００４】この不都合を避けるために、図１４に示す
ように、磁気記録媒体、例えば磁気テープとの摺動面６
２に磁気ギャップｇの重ね書き側の一端に接して摺動方
向に沿う溝（以下、トリミング溝という）６３を形成
し、磁気ギャップｇのエッジにズレやダレを生じないよ
うにしたＭＩＧ型磁気ヘッド６１が提案されている（特
開平２０００ー２０９１０参照）。即ち、このＭＩＧ型
磁気ヘッド６１は、夫々磁気ギャップ形成面を含む内面
に金属磁性薄膜６４を被着形成した一対のフェライトコ
ア半体６５ａ、６５ｂを、磁気ヘッド形成面にギャップ
膜となる例えばＡｕ、Ｃｒ等の非磁性金属膜を介して突
き合わせ接合合体して成る。磁気ギャップ部は、低温熱
処理での非磁性金属膜の相互拡散で接合される。コア半
体６５ａ、６５ｂからなる磁性コア６５では、トラック
幅規制溝６６〔６６Ａ，６６Ｂ〕が形成され、溝６６内
にガラス６７が充填される。そして、摺動面６２に磁気
ギャップｇの一端に接して摺動方向に沿うように、すな
わち摺動方向に平行あるいは略平行にトリミング溝６３
が形成され、トリミング溝６３内にガラス６９が充填さ
れる。なお、磁気コア６５には中央部にコイル巻線溝７
０が形成され、両コア半体６５ａ、６５ｂの外面に夫々
巻線ガイド溝７１ａ、７１ｂが形成される。このように
磁気ギャップｇの一端に接してトリミング溝６３が設け
られることにより、磁気ギャップｇの重ね書き側のエッ
ジがシャープに形成され、ギャップエッジにズレやダレ
が生じない磁気ヘッドが得られる。

【０００５】ところで、実質的にトラック幅の一端を規
制するトリミング溝６３は、約２０μｍの加工砥石で加
工される。このトリミング溝加工の際、加工により溝６
３内面（いわゆる研削面）に金属磁性薄膜６４が露出さ
れ、後にトリミング溝６３内にガラス６９を充填したと
きに、図１５に示すように、金属磁性薄膜（例えば窒素
添加の磁性合金膜）６４からのガス（Ｎ₂ガス）発生に
より、トリミング溝６３のガラス６９に、泡（いわゆる
ガラス泡）７３が発生する。ガラス泡７３が存在する
と、磁気テープ走行中にガラス泡７３に磁性粉が詰まり
ヘッドクロックが発生するという不都合があった。な
お、図１５は、トリミング溝加工後の洗浄を水洗浄で行
い、中性洗剤及びアルカリ性洗剤を使用しなかった場合
のガラス泡７３の発生状態を図解したものである。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本出願人は、先に上述
のトリミング溝６３内でのガス発生によるガラス泡７３
の発生と、露出した金属磁性薄膜６４とガラス６９との
反応による磁気ギャップエッジの乱れとを防止するため
に、図１２Ａ、Ｂに示すＭＩＧ型磁気ヘッド４０を提案
した（特願平２０００ー２３５２８１号参照）。この磁
気ヘッド４０は、トリミング溝６３を加工し、溝６３内
を中性洗剤及びアルカリ性洗剤で洗浄した後、トリミン
グ溝６３の内面にＣｒ膜等のガラスと反応しにくい非磁
性の保護膜４１を形成し、次いでトリミング溝６３内に
ガラス６９を充填して構成される。その他の構成は、図
１４と同様であるので対応する部分に同一符号を付して
重複説明を省略する。このようにトリミング溝６３の内
面に保護膜４１を被着形成することにより、金属磁性薄
膜６４とガラス６９との反応が防止され、同時にガラス
泡７３の発生が防止される。

【０００７】しかし、トリミング溝６３に接する側のト
ラック幅規制溝６６Ｂ内のガラス６７に、保護膜４１に
沿って泡（いわゆるガラス泡）４２が発生する恐れがあ
った。このガラス泡４２が発生する部分は、磁気トラッ
クより遠い位置にあるが、磁気ヘッド４０と磁気記録媒
体との当たりを長期に安定に保つためには、このガラス
泡発生部分も磁気ヘッド４０の当たり幅に加える必要が
ある。このことによって、上記ガラス泡４２も通常のガ
ラス泡７３と同様に磁気記録媒体に傷などのダメージを
与え信頼性を欠くばかりか、ガラス泡４２内に磁気記録
媒体から発生した異物が残留し、ヘッドクロックの原因
にもなる。

【０００８】図１２Ａでは、トリミング溝加工後に中性
洗剤で洗浄し、次いでアルカリ性洗剤で洗浄を行った
後、保護膜４１を形成し、ガラス充填した場合のガラス
泡４２の発生状態を図解したものである。

【０００９】本発明は、上述の点に鑑み、摺動面にガラ
ス泡が発生しない磁気ヘッド及びその製造方法を提供す
るものである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明に係る磁気ヘッド
は、磁気記録媒体が摺動する摺動面に、磁気ギャップの
一端または両端に接して磁気記録媒体との相対摺動方向
に沿う溝を有し、溝の内面に非磁性保護膜が形成され、
溝の内面に臨み非磁性保護膜に接するガラス面の一部が
イオンエッチングされた面である構成とする。

【００１１】本発明の磁気ヘッドでは、摺動面に磁気ギ
ャップの端に接して磁気記録媒体との相対摺動方向に沿
って形成された溝の内面に、非磁性保護膜が形成される
ので、この溝に充填されたガラスにガラス泡が発生しな
い。また溝の内面に臨んで非磁性保護膜と接するガラス
面の一部、即ち変質した部分の一部がイオンエッチング
により除去されているので、非磁性保護膜とトラック幅
規制溝側のガラスとの界面にガラス泡が発生せず、高品
質の磁気ヘッドが得られる。

【００１２】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、磁
気記録媒体が摺動する摺動面に、磁気ギャップの一端ま
たは両端に接して磁気記録媒体との相対摺動方向に沿う
溝を形成し、その後、溝内のガラス面にイオンエッチン
グを施し、または溝内を洗浄した後、溝内のガラス面に
イオンエッチングを施し、次いで、溝の内面に非磁性保
護膜を形成し、溝内にガラスを充填する。

【００１３】本発明の磁気ヘッドの製造方法では、摺動
面に、磁気ギャップの一端または両端に接して磁気記録
媒体との相対摺動方向に沿う溝を形成した後に、溝内に
露出するガラス面をイオンエッチングするので、研削
液、あるいは洗剤によって変質したガラス表面が除去さ
れる。その後、非磁性保護膜を形成し、溝内にガラスを
充填するので、非磁性保護膜とトラック幅規制溝側のガ
ラスとの界面でのガラス泡の発生が防止される。また、
非磁性保護膜により、溝内のガラス泡の発生が防止され
る。

【００１４】

【発明の実施の形態】本発明者らは、上述したトラック
幅規制溝６６Ｂ内に保護膜４１に沿って発生するガラス
泡４２が、次のような原因で発生することを突き止め
た。このガラス泡４２は、ガラス６７の表面（以下、ガ
ラス面という）６７ａの変質が引き金となっているが、
金属磁性薄膜６４との反応を防止する保護膜４１によっ
て発生する。これは、ガラス面６７ａの変質部分を保護
膜４１によって強固にカバーしてしまうため、後のトリ
ミング溝６３内へのガラス６９の充填工程で、温度を上
昇させた際に変質したガラス面６７ａからガスが発生
し、このガスが保護膜４１によって行き場を無くしてト
ラック幅規制溝６６Ｂ内のガラス６７に残留するために
起こる。即ち、トリミング溝６３の加工後、トリミング
溝６３内に残った加工中の研削粉等の汚れを除去するた
め、非磁性保護膜４１の成膜前に、磁性コアを洗浄す
る。これらの溝加工、洗浄等の工程において、トラック
幅規制溝６６Ｂ内のガラス面がアルカリ性の研削液や洗
浄液で侵され、変質しやすくなる。変質したガラス部
は、トリミング溝６３内にガラスを融着充填する加熱時
に泡を発生し易く、特にトリミング溝６３との界面のガ
ラス面はヘッド摺動面６２から深い部分まで侵されてい
るため、深い部分まで泡が存在し、しかもトリミング溝
６３の内面が非磁性保護膜４１で覆われてしまうため、
泡が抜けず閉じ込められて存在する。

【００１５】当然、トリミング溝６３へのガラス充填温
度がトラック幅規制溝６６のガラス６７が溶解しない低
温で行えば、ガラス泡４２の発生は起きないが、金属磁
性薄膜６４の性能維持のため６００°Ｃ以上でのトラッ
ク幅規制溝６６へのガラス充填は不可能である。トリミ
ング溝６３内のガラスとして、信頼性の高いガラスが必
要であり、５００°Ｃ以下の作業温度（いわゆる充填温
度）のガラスは使用できない。従って、トリミング溝６
３へのガラス充填工程では、上記ガラス泡４２が発生す
る。

【００１６】ガラス面６７ａの変質は、トリミング溝加
工での研削液、加工後の中性洗剤及びアルカリ性洗剤に
よって起こり、特にガラスの信頼性が悪いことが原因で
起こることが認められた。これは、上述したように金属
磁性薄膜６４の性能維持のため、トラック幅規制溝６６
へのガラス充填が６００°Ｃ以内の充填温度で行わなけ
ればならず、ガラスの性質上、鉛を主成分とした組成を
用いることになる。鉛を主成分としたガラスは、どうし
ても耐風雨性に劣るため、上述した変質が起きる。上記
洗剤を使わないで洗浄（例えば水洗浄）すれば、ガラス
面の変質を防げるが、しかし、トリミング溝に残ってい
る研削ゴミが完全に落ちず、残留ゴミとガラスが反応し
てガラス泡を発生する。

【００１７】一方、加工中には冷却と研削粉除去のため
砥石周辺へ加工と同じ研削液が必要である。ほとんどの
加工機は、鋳物で出来ており、錆防止材が含まれる。ま
た、研削粉除去には界面活性剤が一般に使用され、これ
らの組み合わせからアルカリ性の特性を有した研削液を
使用することになる。このため、長時間の加工では、ガ
ラス面の変質が起こる。また、加工後の洗浄時は、残留
する研削粉や研削液除去のため、中性洗剤及びアルカリ
性洗剤が一般に用いられる。作業温度６００°Ｃ以下の
ガラスでは、中性洗剤やアルカリ性洗剤でも短時間でガ
ラス面の変質が認められる。以上により、トリミング溝
６３に接する側のトラック幅規制溝６６Ｂのガラス６７
内に保護膜４１に沿ってガラス泡４２が発生することに
なる。

【００１８】本発明は、上述したガラス泡の発生原因を
究明した結果に基いてなされたものである。以下、図面
を参照して本発明の実施の形態を説明する。

【００１９】図１Ａ、Ｂは、本発明に係るＭＩＧ型磁気
ヘッドの一実施の形態を示す。本実施の形態に係るＭＩ
Ｇ型磁気ヘッド１は、フェライトコア、例えばＭｎーＺ
ｎフェライトコアの磁気ギャップ形成面を含む内面に高
透磁率の金属磁性薄膜３を被着形成した一対の磁性コア
半体２ａ、２ｂを、その磁気ギャップ形成面にギャップ
膜となる例えばＡｕ膜、Ｃｒ膜等の非磁性金属膜を介し
て突き合わせ接合合体して成る。金属磁性薄膜として、
本例では窒素添加の磁性合金膜、例えば、Ｆｅ，Ｒｕ，
Ｇａ、Ｓｉ，Ｔａ，Ｎからなる膜を用いることができ
る。磁気ギャップｇは、磁気記録媒体が摺動する摺動面
９に臨み、非磁性金属膜を介して突き合わされた接合部
に形成される。磁気ギャップ部は、低温熱処理での非磁
性金属膜の相互拡散で接合される。磁性コア半体２ａ、
２ｂからなる磁性コア２では、磁気ギャップｇのギャッ
プ幅、いわゆるトラック幅Ｔｗを規制するトラック幅規
制溝４〔４Ａ，４Ｂ〕が、磁気ギャップｇの両端縁近傍
から夫々ギャップデプス方向にわたって形成され、この
トラック幅規制溝４内に非磁性体のガラス５〔５Ａ、５
Ｂ〕が充填される。上記金属磁性薄膜３は、磁気ギャッ
プ形成面からトラック幅規制溝４の内面にかけて成膜さ
れる。

【００２０】摺動面９には、磁気ギャップｇの一端に接
して、例えば重ね書き記録方式の場合、重ね書きされる
側の一端に接して磁気記録媒体との相対摺動方向に沿う
ように、すなわち摺動方向に平行あるいは略平行にトリ
ミング溝６が形成され、このトリミング溝６の内面に非
磁性保護膜７が形成されると共に、トリミング溝６内に
ガラス８が充填される。非磁性保護膜７は、ガラス８と
窒素添加の金属磁性薄膜との間で反応が生じるのを防止
する膜であり、この膜７自体ガラスと反応しない、例え
ばＣｒ（クロム）膜、あるいは非磁性酸化膜とＣｒ（ク
ロム）膜の積層膜等で形成することができる。非磁性酸
化膜は、Ａｌ，Ｃｒ，Ｔｉ，Ｓｉ，Ｔａ，Ｃｕの酸化物
膜を用いることができる。なお、磁性コア２には中央部
にコイル巻線溝１１が形成され、両磁性コア半体２ａ、
２ｂの外面に夫々巻線ガイド溝１２ａ、１２ｂが形成さ
れる。

【００２１】そして、本実施の形態では、特にトリミン
グ溝６内面の非磁性保護膜７に接するトラック幅規制溝
４Ｂ側のガラス面、即ち非磁性保護膜７とトラック幅規
制溝４Ｂとの界面のガラス面５Ｂの一部をイオンエッチ
ングされた面とする。即ち、後述するトリミング溝６の
形成後に生じるガラス側面５Ｂ₁、底面５Ｂ₂の変質部
分２３（図７Ｂ参照）がエッチング除去された面とす
る．そのガラス面５Ｂ₁、５Ｂ₂のイオンエッチングに
よるエッチング厚みとしては、０．０１μｍ以上、好ま
しくは０．０５μｍ以上とする。

【００２２】上述した本実施の形態に係るＭＩＧ型磁気
ヘッド１によれば、トリミング溝６の内面に非磁性保護
膜７が形成されることにより、前述と同様にトリミング
溝６内に充填されたガラス８と金属磁性薄膜３との反応
が阻止され、トリミング溝６においてガラス泡の発生を
防止することができる。そして、特にトリミング溝６内
面の非磁性保護膜７との界面のトラック幅規制溝４Ｂ側
のガラス面５Ｂ₁，５Ｂ₂がイオンエッチングされた面
であるので、トリミング溝６の研削加工時のアルカリ性
の研削液、あるいは溝加工後の中性洗剤、アルカリ性洗
剤等による洗浄によって生じるガラス面５Ｂ₁、５Ｂ₂
の変質部分が除去されており、非磁性保護膜７とトラッ
ク幅規制溝４Ｂとの界面でのガラス泡の発生が防止され
る。従って、高品質で信頼性の高いこの種のＭＩＧ型磁
気ヘッドを提供することができる。

【００２３】次に、図３〜図１１を用いて上述したＭＩ
Ｇ型磁気ヘッド１の製造方法の一実施の形態を説明す
る。先ず、図３に示すように、磁性コア半体となる例え
ばフェライト、本例ではＭｎーＺｎフェライトを母材と
する一対の磁性コア半体ブロック２１〔２１ａ，２１
ｂ〕を設け、各磁性コア半体ブロック２１ａ、２１ｂの
突き合わせ側の面に長手方向に磁気ギャップｇのギャッ
プデプスを規制し、巻線を施すためのコイル巻線溝１１
ａ、１１ｂを夫々形成する。

【００２４】次に、図４に示すように、各磁性コア半体
ブロック２１ａ、２１ｂの突き合わせ側の面に、夫々コ
イル巻線溝１１ａ、１１ｂに交差、例えば直交してトラ
ック幅を規制するトラック幅規制溝４Ａ、４Ｂを形成す
る。その後、各磁性コア半体ブロック２１ａ、２１ｂの
コイル巻線溝１１ａ、１１ｂ及びトラック幅規制溝４
Ａ、４Ｂを含む面に高透磁率強磁性膜である金属磁性薄
膜、本例では前述した窒素添加の磁性合金膜３を、例え
ば真空薄膜形成技術などを用いて成膜する。次いで、図
示せざるも、磁性合金膜３上にギャップ膜となる非磁性
金属膜を被着形成する。非磁性金属膜として、本例では
Ｃｒ膜／Ａｕ膜による２層膜が形成される。

【００２５】次に、図５に示すように、一対の磁性コア
半体ブロック２１ａ、２１ｂを互いに突き合わせ、トラ
ック幅規制溝４〔４Ａ，４Ｂ〕内に融着用ガラス、即ち
棒状のガラス５を挿入し、５００°Ｃ〜６００°Ｃの作
業温度で接合合体して磁性コアブロック２１を形成す
る。磁気ギャップ部の接合は、ギャップ膜である非磁性
金属膜の相互拡散で行われ、ここに磁気ギャップｇが形
成される。ガラス５〔５Ａ，５Ｂ〕は溶けてトラック幅
規制溝４〔４Ａ，４Ｂ〕内に充填されると共に、一部コ
イル巻線溝１１〔１１ａ、１１ｂ〕にも充填され、磁性
コアブロック２１の接合を強固にする。磁気ギャップ部
の接合とガラス溶着を同時に行っても良く、あるいは磁
気ギャップ部の接合の後、ガラス溶着を行っても良い。
次いで、磁性コアブロック２１のその後に摺動面となる
面に、磁気ギャップｇのトラック幅方向の一端に接して
磁気記録媒体との相対摺動方向に平行、あるいは略平行
にトリミング溝６を形成する（図５、図６参照）。この
トリミング溝６により実質的なトラック幅Ｔｗが規定さ
れる。トリミング溝６は、ギャップデプス０の位置をこ
える深さに形成され、例えば２０μｍの研削砥石による
研削で形成することができる。

【００２６】次に、図７に示すように、トリミング溝６
内の研削粉等を除去するために、トリミング溝６内を洗
浄する。この洗浄は、中性洗剤を用いて洗浄した後、ア
ルカリ性洗剤で洗浄を行う。この洗浄工程の中性洗剤及
びアルカリ性洗剤により、トリミング溝６の内面（側
面、底面、反対側の側面）に露出するトラック幅規制溝
４Ｂ側のガラス面５Ｂ₁、５Ｂ₂、５Ｂ₃は変質（腐
食）する。２３はガラス面の変質層である。

【００２７】次に、図８に示すように、イオンエッチン
グ２４を施してトリミング溝６の内面に臨むガラス面の
変質層２３をエッチング除去する。イオンエッチング２
４は、少なくともトラック幅規制溝４Ｂ側のガラス側面
５Ｂ₁及びこれに連続するガラス底面５Ｂ₂の一部の変
質層２３を除去すれば良く、従って図８Ｂに示すよう
に、斜め上方からイオンビームを照射してガラス側面５
Ｂ₁及びガラス底面５Ｂ ₂の半分程度の領域の変質層２
３を完全にエッチング除去するを可とする。エッチング
厚としては、前述したように、０．０１μｍ以上、好ま
しくは０．０５μｍ以上とすることができる。本例では
厚さ０．１μｍ程度エッチング除去する。イオンエッチ
ングとしては、不活性元素のイオン粒子、例えばＡｒイ
オン等を用いる。イオンエッチングの条件の具体例を示
す。イオンエッチングは、例えば、ビーコ社製のイオン
エッチング装置Ｖｅｅｃｏ１２０１（商品名）を使用
し、トリガー圧力：１．６×１０^{- 3}Ｐａ、ガス流量：
Ａｒ４０ｓｃｃｍ、ビーム電流：５５０ｍＡ、ビーム
電圧：７５０Ｖで行う。ここで、図８Ａの領域Ｍ、即ち
フェライト部分２ａ、磁性合金膜３及びガラス５Ｂでの
イオンエッチングの状態を図８Ｃに示す。エッチングレ
ートは、フェライト部分２ａ＜磁性合金膜３＜ガラス５
Ｂの順となり、ガラス５Ｂが最もエッチングされ易い。

【００２８】次に、図９に示すように、トリミング溝６
の内面を含んで非磁性保護膜７を形成する。例えば、マ
グネトロンスパッタにより、非磁性保護膜７としてのＣ
ｒ膜を所定の膜厚、例えば１００ｎｍ程度被着形成す
る。非磁性保護膜７としては、その他、例えば下地にＣ
ｒ膜を形成し、その上に非磁性酸化膜（例えばシリコン
酸化膜、又はアルミ酸化膜等）を形成した２層膜構造と
することもできる。

【００２９】次に、図１０に示すように、内面に非磁性
保護膜７が形成されたトリミング溝６内にガラス８を上
部から充填する。

【００３０】次に、磁性コアブロック２１の摺動面側の
上面を研磨し、磁気記録媒体への当たり幅規制溝２６
（図１参照）を加工し、更に円筒研磨して磁気記録媒体
との摺動面９を形成する。その後、図１１に示すよう
に、チップ状に切り出して、目的のＭＩＧ型磁気ヘッド
１（図１参照）を得る。

【００３１】上述した本実施の形態に係るＭＩＧ型磁気
ヘッドの製造方法によれば、図７の工程でトリミング溝
６を形成した後、中性洗剤及びアルカリ性洗剤による洗
浄でトリミング溝６内面に露出するトラック幅規制溝４
Ｂ側のガラス５Ｂの表面、いわゆる側面５Ｂ₁、底面５
Ｂ₂が洗剤と反応して変質するが、洗浄後の図８の工程
において、イオンエッチングにより露出したガラス側面
５Ｂ₁、底面５Ｂ₂の変質層２３を除去するので、その
後に非磁性保護膜７を形成し、ガラス８を充填しても、
非磁性保護膜７とトラック幅規制溝４Ｂ側のガラス５Ｂ
との界面にガラス泡が発生することがない。また、トリ
ミング溝６を形成した後、図９の工程で非磁性保護膜７
を形成し、図１０の工程でトリミング溝６の内面にガラ
ス８を充填するので、ガラス８と金属磁性薄膜３とが反
応することはなく、トリミング溝６内のガラス８にガラ
ス泡が発生しない。従って、ガラス泡のない高品質で信
頼性の高いＭＩＧ型磁気ヘッドの製造歩留りを向上する
ことができる。

【００３２】因みに、トラック幅規制溝４Ｂと非磁性保
護膜７との界面に発生するガラス泡は、中性洗剤、及び
アルカリ性洗剤で洗浄を行った場合、ほとんど１００％
発生する。また、中性洗剤及びアルカリ性洗剤を使用し
ないときは、トリミング溝内に残留する汚れによりトリ
ミング溝内に５０％程度のガラス泡が発生する場合があ
る。しかし、本実施の形態のように非磁性保護膜７の成
膜前に、イオンエッチングによりガラス表面の除去を行
えば、中性洗剤、及びアルカリ性洗剤で洗浄した場合で
もトラック幅規制溝４Ｂと非磁性保護膜７との界面に
は、１００パーセントガラス泡が発生しない。また、中
性洗剤、及びアルカリ性洗剤によりトリミング溝６内の
研削粉等の汚れを除去できるため、トリミング溝６内の
ガラス泡は９９％以上発生しない。

【００３３】図２は、本発明に係わるＭＩＧ型磁気ヘッ
ドの他の実施の形態を示す。本実施の形態のＭＩＧ型磁
気ヘッド２８は、磁気ギャップｇの両端に夫々接して磁
気記録媒体との相対摺動方向に沿うトリミング溝６及び
６′を形成し、非磁性保護膜７を形成する前にトリミン
グ溝６及び６′の内面をイオンエッチングし、溝６、
６′内に露出するトラック幅規制溝４Ａ、４Ｂ側の夫々
のガラス面、即ち側面５Ａ₁、底面５Ａ₂（図示せ
ず）、側面５Ｂ₁、底面５Ｂ₂（図示せず）の変質層を
除去し、その後、トリミング溝６及び６′内に非磁性保
護膜７を介してガラス８を充填して構成する。その他の
構成は、図１と同様であるので、同一符号を付して重複
説明を省略する。この磁気ヘッド２８の製造方法は、２
つのトリミング溝６、６′を有する以外は磁気ヘッド１
と同様であるので、前述の図３〜図１１と同様の工程で
製造できる。

【００３４】このＭＩＧ型磁気ヘッド２８においても、
前述の磁気ヘッド１と同様にトリミング溝６、６′内の
ガラス泡の発生を防止できると共に、非磁性保護膜７と
トラック幅規制溝４Ａ、４Ｂとの界面のガラス泡の発生
を防止することができる。従って、高品質で信頼性の高
いこの種のＭＩＧ型磁気ヘッドを提供することができ
る。また、製造に際して、ガラス泡の発生しないＭＩＧ
型磁気ヘッドを歩留り良く製造することができる。

【００３５】本発明の磁気ヘッドの製造方法の他の実施
の形態を説明する。本実施の形態の製法は、前述の図６
のトリミング溝６を形成する工程の後、図７の中性洗剤
及びアルカリ性洗剤による洗浄工程を行わずに、直ちに
図８のイオンエッチング処理を行い、例えばトリミング
溝加工における研削液により変質したガラス面５Ｂ₁、
５Ｂ₂の変質層を除去する。これ以後は、前述と同様の
工程（図９〜図１１）を行い、目的のＭＩＧ型磁気ヘッ
ドを得る。この製法は、図２のＭＩＧ型磁気ヘッド２８
の製造にも適用できる。かかる製法においても、前述と
同様にガラス泡の発生しない高品質で信頼性の高いＭＩ
Ｇ型磁気ヘッドを歩留り良く製造することができる。

【００３６】

【発明の効果】本発明の磁気ヘッドによれば、摺動面に
その磁気記録媒体との相対摺動方向に沿って磁気ギャッ
プの一端または両端を高精度に規定する溝を有するの
で、磁気ギャップエッジにズレやダレを生じることがな
い。しかも溝内面に非磁性保護膜を形成し、且つ溝内面
の非磁性保護膜に接するガラス面の一部がイオンエッチ
ングされた面であるので、溝内、及び溝内面の非磁性保
護膜と溝外との界面でのガラス泡の発生を防止し、高品
質で信頼性の高い磁気ヘッドを提供することができる。

【００３７】本発明の磁気ヘッドの製造方法によれば、
磁気ギャップエッジにズレやダレがなく、且つ磁気ギャ
ップの一端または両端を高精度に規定する溝内、及び溝
内面の非磁性保護膜と溝外との界面でのガラス泡の発生
を防止することができ、高品質で信頼性の高い磁気ヘッ
ドの製造歩留りを著しく向上することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】Ａ本発明の磁気ヘッドの一実施の形態を示す
構成図である。Ｂその平面図である。

【図２】本発明の磁気ヘッドの他の実施の形態を示す構
成図である。

【図３】図１の磁気ヘッドの製造工程図（その１）であ
る。

【図４】図１の磁気ヘッドの製造工程図（その２）であ
る。

【図５】図１の磁気ヘッドの製造工程図（その３）であ
る。

【図６】Ａ図５の要部の拡大平面図である。Ｂ図ＡのＡーＡ線上の断面図である。

【図７】Ａ図１の磁気ヘッドの製造工程図（その４）
であって、要部の拡大平面図である。Ｂ図ＡのＡーＡ線上の断面図である。

【図８】Ａ図１の磁気ヘッドの製造工程図（その５）
であって、要部の拡大平面図である。Ｂ図ＡのＡーＡ線上の断面図である。Ｃ図ＡのＭ部の拡大断面図である。

【図９】Ａ図１の磁気ヘッドの製造工程図（その６）
であって、要部の拡大平面図である。Ｂ図ＡのＡーＡ線上の断面図である。

【図１０】Ａ図１の磁気ヘッドの製造工程図（その
７）であって、要部の拡大平面図である。Ｂ図ＡのＡーＡ線上の断面図である。

【図１１】図１の磁気ヘッドの製造工程図（その８）で
ある。

【図１２】Ａ本発明の比較例に係る磁気ヘッドを示す
平面図である。Ｂ図ＡのＢーＢ線上の断面図である。

【図１３】重ね書き記録方式の説明図である。

【図１４】従来の磁気ヘッドを示す構成図である。

【図１５】従来の磁気ヘッドでのガラス泡の発生の説明
図である。

【符号の説明】

１、２８・・・ＭＩＧ型磁気ヘッド、２・・・磁性コ
ア、２ａ，２ｂ・・・磁性コア半体、３・・・金属磁性
薄膜、４〔４Ａ，４Ｂ〕・・・トラック幅規制溝、５
〔５Ａ，５Ｂ〕・・・ガラス、６、６′・・・トリミン
グ溝、７・・・非磁性保護膜、８・・・ガラス、９・・
・摺動面、１１〔１１ａ，１１ｂ〕・・・コイル巻線
溝、１２〔１２ａ，１２ｂ〕・・・巻線ガイド溝、２１
〔２１ａ，２１ｂ〕・・・磁性コア半体ブロック、２３
・・・変質層、２４・・・イオンエッチング。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者千葉茂美宮城県登米郡中田町宝江新井田字加賀野境 30番地ソニー宮城株式会社内 (72)発明者小林孝之宮城県登米郡中田町宝江新井田字加賀野境 30番地ソニー宮城株式会社内Ｆターム(参考） 5D111 AA02 AA05 AA13 AA23 BB22 BB33 DD03 DD12 DD23 FF18 FF21 FF51 GG03 GG16 HH03 JJ05 JJ07 JJ22 JJ35 KK01 KK20

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】磁気記録媒体が摺動する摺動面に、磁気
ギャップの一端または両端に接して磁気記録媒体との相
対摺動方向に沿う溝を有し、該溝の内面に非磁性保護膜
が形成され、前記溝の内面に臨み前記非磁性保護膜に接するガラス面
の一部がイオンエッチングされた面であることを特徴と
する磁気ヘッド。
【請求項２】磁気記録媒体が摺動する摺動面に、磁気
ギャップの一端または両端に接して磁気記録媒体との相
対摺動方向に沿う溝を形成する工程と、前記溝内のガラス面にイオンエッチングを施す工程と、前記溝の内面に非磁性保護膜を形成する工程と、前記溝内にガラスを充填する工程を有することを特徴と
する磁気ヘッドの製造方法。
【請求項３】前記溝の形成後、前記イオンエッチング
工程前に前記溝内を洗浄する工程を有することを特徴と
する請求項２記載の磁気ヘッドの製造方法。
【請求項４】前記イオンエッチングを不活性元素のイ
オン粒子で行うことを特徴とする請求項２または３記載
の磁気ヘッドの製造方法。