JP2002244162A - 電気泳動装置の製造方法 - Google Patents
電気泳動装置の製造方法Info
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Abstract
より容易にする。 【解決手段】 基体11上に分離層12、薄膜素子層1
3、電気泳動分散液層14a及び保護層14b、透明電
極15aを有する透明基板15bをこの順に積層した
後、レーザー光を照射して分離層12の層内又は界面に
剥離を生じさせ、基体11を積層構造から離脱させる。
そして、薄膜素子層13側の積層構造を、第2のフレキ
シブル基板16に転写する。基体11を比較的硬いハン
ドリング性のよい材料で形成すれば、各層を積層する工
程におけるハンドリング性を確保できるため、取り扱い
を容易にすることができると共に、積層時の位置決め精
度等を確保することができる。
Description
造方法に関し、特に、その製造方法をより容易にするよ
うにした電気泳動装置の製造方法に関する。
すようなものが知られている。すなわち、基板2a及び
2bの内側それぞれに、電極4a及び4bが形成され、
これら基板2a及びこれと対応する電極4a、又は基板
2b及びこれと対応する電極4bの少なくとも何れか一
方は、透明に形成されている。そして、これら電極4a
及び4bの間に、例えば黒色に着色された着色分散媒
と、この分散媒に分散されている帯電した白色の顔料粒
子とが封入されたマイクロカプセル6が均一に塗布され
た電気泳動層が形成されている。そして、電極4a及び
4b間に所定の電圧を印加することによって、表示を行
うようにしている。
置の電子ペーパ等への応用を考えた場合、柔軟性に富ん
だフレキシブルな電気泳動装置が好ましい。このフレキ
シブルな電気泳動装置を得るためには、柔軟性に優れた
材料、例えばプラスティック材料等を基板として、電気
泳動層を形成する必要がある。しかしながら、このよう
なフレキシブルな材料を基板とした場合、電気泳動層を
精度よく配置することは困難である。
る必要がある場合には、高温処理を伴う通常の半導体素
子の形成方法を、耐熱性に劣るプラスティック材料を含
む電気泳動装置の製造方法に適用することは困難であ
る。そこで、この発明は上記従来の未解決の問題に着目
してなされたものであり、フレキシブルな材料を基板と
した場合であっても、精度よく電気泳動層を配置するこ
とができ且つ容易に製造することの可能な電気泳動装置
の製造方法を提供することを目的としている。
に、本発明の請求項1に係る電気泳動装置の製造方法
は、二つの電極間に配置された電気泳動層を備えた電気
泳動装置の製造方法であって、基体上に分離層を形成す
る工程と、当該分離層上に前記電気泳動層を含む第1の
積層体を形成する工程と、前記第1の積層体上に第1の
基板を配置する工程と、光照射又は加熱により前記分離
層の層内及び/又は界面において剥離を生じさせた後、
前記基体を前記分離層から離脱させて前記第1の積層体
と前記第1の基板とを含む第2の積層体を得る工程と、
を備えることを特徴としている。
方法は、前記第2の積層体の、前記第1の基板と反対側
に第2の基板を配置する工程を備えることを特徴として
いる。また、請求項3に係る電気泳動装置の製造方法
は、前記第2の基板は、透明電極を含むことを特徴とし
ている。
方法は、前記第1の基板及び前記第2の基板のうちの少
なくとも一方は、フレキシブル基板であることを特徴と
している。また、請求項5に係る電気泳動装置の製造方
法は、前記第1の積層体は、半導体素子層をさらに含む
ことを特徴としている。
方法は、前記半導体素子層は、マトリクス状に配置され
た走査線及び信号線に接続される薄膜トランジスタと当
該薄膜トランジスタの一端に接続された画素電極とを含
むことを特徴としている。また、請求項7に係る電気泳
動装置の製造方法は、前記半導体素子層は、マトリクス
状に配置された走査線及び信号線に接続される薄膜トラ
ンジスタと当該薄膜トランジスタの一端に接続された画
素電極とを含む画素部と、前記走査線及び前記信号線に
信号を供給するためのドライバ部と、を備えることを特
徴としている。
造方法は、前記電気泳動層は、分散媒とこの分散媒中に
分散している電気泳動粒子とが内部に封入されたマイク
ロカプセルによって形成されていることを特徴としてい
る。この請求項1乃至請求項8に記載の発明において
は、基体上に分離層を形成し、この上に電気泳動層、ま
た、必要に応じて半導体素子層等の他の層を含む第1の
積層体を形成し、この上に、例えば一方の電極を構成す
る第1の基板を配置する。そして、この状態で、分離層
に光照射或いは加熱を行うことによって、分離層から基
体を離脱させて、第1の基板と第1の積層体とを含む第
2の積層体を得ている。
反対側に、例えば他方の電極を構成する第2の基板をさ
らに配置するようにしている。ここで、前記基体として
比較的硬い基体を用いれば、この基体上に積層される、
第1の積層体及び第1の基板が共にフレキシブルであっ
たとしても、その扱いは比較的容易である。したがっ
て、これらを積層する際の位置決め誤差等を抑制するこ
とが可能となる。
含まれる場合であっても、基体として耐熱性に優れた材
質のものを用いることによって、半導体素子層を容易に
形成することが可能となる。
に基づいて説明する。この実施の形態は、本発明による
電気泳動装置を電気泳動表示装置に適用したものであ
る。また、図2及び図3は、電気泳動表示装置の製造工
程を示したものであって、図1に示す電気泳動表示装置
のA−A部の断面図である。
上に分離層12を形成する。これら基体11及び分離層
12は、公知のように、前記基体11は、後の光照射工
程において、前記分離層12に剥離を生じさせ得る程度
の透光性を有し、また、信頼性の高い材料で構成され、
また、前述の光照射工程において、前記分離層12に剥
離を生じさせ得る程度の光透過率を有する厚さであり、
且つ、当該基体11をハンドリングしやすい硬さを有す
る。
吸収し、その層内及び/又は界面において剥離、(以
下、剥離という。)を生じるような性質を有するもので
あり、光の照射によって分離層12を構成する物質の原
子間又は分子間の結合力が消失又は減少するか、気体が
発生するものが好ましい。このような物質としては、例
えば、アモルファスシリコン及び水素化アモルファスシ
リコン等を適用することができる。この他、酸化ケイ素
又はケイ酸化合物、酸化チタン又はチタン酸化合物、酸
化ランタン又はランタン酸化合物等の各種酸化物セラミ
ックス、PZT〔Pb(Zr,Ti)O1 〕、PLZT
〔Pb,La)(Tr,Ti)O3 〕等の誘電体、窒化
珪素、窒化アルミニウム、窒化チタン等の窒化物セラミ
ックス、高分子の主鎖上に、−CH−、−CO−(ケト
ン)、−CONH−(アミド)、−NH−(アミノ)、
−COO−(エステル)、−N=N−(アゾ)、−CH
=N−(イミド)等を有する有機高分子材料、又は数々
の金属或いは合金等を適用することができる。
したがって、半導体素子層としての薄膜素子層13を形
成する。この薄膜素子層13は、例えば図示しないゲー
ト線及びデータ線に接続されたTFT及びこれに接続さ
れた電極を含む画素部13aと、前記ゲート線及びデー
タ線に電圧を与えて画素部13aを駆動するためのTF
Tを含むドライバ部13bとから構成されている。
子層13の画素部13aの上に、マイクロカプセルから
なる電気泳動層としての電気泳動分散液層14aを形成
する。つまり、マイクロカプセルをバインダを含む透明
液中に混合した混合液を、例えばロールコート法を用い
て均一に塗布することによって形成する。なお、前記マ
イクロカプセルには、分散媒と、この分散媒とは異なる
色が付され、且つこの分散媒中に分散している帯電した
顔料粒子(電気泳動粒子)とが内部に封入されている。
また、マイクロカプセルは、例えばアラビアゴムとゼラ
チンとで構成され、また、バインダには、シリコン樹脂
等が用いられる。
の上には、必要に応じて保護層14bを形成する。次い
で、図2(c)に示すように、電気泳動分散液層14a
及び保護層14bの上に、被積層部材としての第1のフ
レキシブル基板15を積層する。この第1のフレキシブ
ル基板15は、透明電極15aとこの透明電極15aが
接合された透明基板15bとから構成され、透明電極1
5aが電気泳動分散液層14a及び保護層14bと対向
するように積層される。
O(Indiumu Tin Oxide)等の透明で
導電性の高い材料が用い、前記透明基板15bとして
は、例えばガラス、石英、プラスティック(合成樹脂)
等の透明な材料を用いる。なお、これら透明電極15a
及び透明基板15bの積層部分における光透過率は、内
部のマイクロカプセル内の顔料粒子を確認できる程度に
高い値である必要がある。
1側から、例えばレーザー光を分離層12に照射し、分
離層12の層内及び又は界面において剥離を生じさせ
る。次いで、図3(b)に示すように、基体11を分離
層12から離脱し、また、必要に応じて薄膜素子層13
側に残った分離層12を除去する。このとき、必要に応
じて補強用の基板を第1のフレキシブル基板15の上面
や周囲に付加するようにしてもよい。
層14a及び保護層14b、第1のフレキシブル基板1
5からなる積層構造を、被転写部材としての第2のフレ
キシブル基板16に接着或いは粘着等の方法を用いて転
写する。これによって、第1及び第2のフレキシブル基
板15及び16間に、電極を介して電気泳動分散液層1
4aが挟まれた電気泳動表示装置が形成されたことにな
る。
やすい厚さに形成されている。したがって、図3(b)
の工程で、基体11を薄膜素子層13から離脱するまで
の間は、各層は、基体11上に積層されているから、そ
の扱いが容易であり、また、各層がフレキシブルに形成
されていても、比較的平面に維持しやすい。ここで、従
来の工程のように、一方のフレキシブル基板上に薄膜素
子層を転写した後、この上に電気泳動分散液層14a等
を形成し、さらに、透明電極及び他方のフレキシブル基
板を積層するようにした場合、これは、すなわち、図2
(c)の工程で、基体11がフレキシブルな基体である
場合と同等となり、この場合、薄膜素子層14及び電気
泳動分散液層14aが共にフレキシブルであるため、電
気泳動分散液層14a側を平面に維持しにくい。また、
第1のフレキシブル基板15もフレキシブルであるた
め、積層される側及び積層する側が共にフレキシブルと
なって共に平面に維持しにくいため、これらの位置合わ
せ精度が低下することになる。
11は、比較的硬いハンドリングしやすい材質のもので
あって、この上に電気泳動分散液層14a等を積層して
おり、第1のフレキシブル基板15を積層する時点で
は、積層される側の電気泳動分散液層14aは、比較的
硬い基体11によって支持されているため比較的平面に
維持することができる。よって、この状態で、第1のフ
レキシブル基板15を積層することによって、第1のフ
レキシブル基板15を積層する際の位置決め精度をより
向上させることができる。
表示特性等の検査を行う場合等には、例えば、図2
(c)の工程で、第1のフレキシブル基板15を積層し
た時点で、行うようにすればよい。この時点では、電気
泳動表示装置として作動するための機能は全て備えてお
り、且つ、比較的硬い基体11上に積層されている状態
であるから、その扱いが容易であり、また、平面に維持
することができるから、電気泳動表示装置としての動作
確認等を的確に行うことができ、検査の測定信頼性を向
上させることができる。
するから、基体11として耐熱性の優れた材質のものを
用いることによって、高熱を伴う薄膜素子層13の形成
工程であっても容易に形成することができる。なお、上
記実施の形態においては、マイクロカプセルを用いて電
気泳動分散液層12を形成した場合について説明した
が、これに限らず、従来のように、マイクロカプセルを
用いずに構成するようにしてもよい。
による電気泳動装置を、電気泳動表示装置に適用した場
合について説明したが、これに限らず、電気泳動リライ
タブルシート等、電気泳動装置を用いたものであれば適
用することができる。また、上記実施の形態において
は、第1及び第2のフレキシブル基板15及び16間
に、電極を介して電気泳動分散液層14aを構成するよ
うにした場合について説明したが、フレキシブルな基板
でない場合であっても適用することができることはいう
までもない。
子層13及び透明電極15a間に電気泳動分散液層14
aを設ける場合について説明したが、薄膜素子層13と
電気泳動分散液層14a或いは透明電極15a及び電気
泳動分散液層14aとの間に、例えば、誘電体材料から
構成される誘電体層等、他の層が形成されている場合で
あっても適用することができることはいうまでもない。
このように、誘電体層を設けることによって、電気泳動
分散液層14aの記憶の持続性を向上させる効果を得る
ことができる。
層13と電気泳動分散液層14a及び保護層14bとの
積層構造が、第1の積層体に対応し、第1のフレキシブ
ル基板15が第1の基板に対応し、薄膜素子層13と電
気泳動分散液層14a及び保護層14bと第1のフレキ
シブル基板15との積層構造が第2の積層体に対応し、
第2のフレキシブル基板16が第2の基板に対応してい
る。
乃至請求項8に係る電気泳動装置の製造方法によれば、
基体上に、分離層と、電気泳動層を含む第1の積層体
と、第1の基板と、を積層した後、分離層から基体を離
脱するようにしたから、各積層工程におけるハンドリン
グ性を向上させると共に平面度を向上させることがで
き、容易に且つ高精度に電気泳動装置を生成することが
できる。
体素子層が含まれる場合等であっても、半導体素子層
は、後に分離する基体上に形成するから、耐熱性に優れ
た基体を用いることによって半導体素子層を容易に形成
することができる。
明するための説明図である。
部を示す、図1のA−A部の断面図である。
る。
Claims (8)
- 【請求項1】 二つの電極間に配置された電気泳動層を
備えた電気泳動装置の製造方法であって、 基体上に分離層を形成する工程と、 当該分離層上に前記電気泳動層を含む第1の積層体を形
成する工程と、 前記第1の積層体上に第1の基板を配置する工程と、 光照射又は加熱により前記分離層の層内及び/又は界面
において剥離を生じさせた後、前記基体を前記分離層か
ら離脱させて前記第1の積層体と前記第1の基板とを含
む第2の積層体を得る工程と、を備えることを特徴とす
る電気泳動装置の製造方法。 - 【請求項2】 前記第2の積層体の、前記第1の基板と
反対側に第2の基板を配置する工程を備えることを特徴
とする請求項1記載の電気泳動装置の製造方法。 - 【請求項3】 前記第2の基板は、透明電極を含むこと
を特徴とする請求項1又は請求項2記載の電気泳動装置
の製造方法。 - 【請求項4】 前記第1の基板及び前記第2の基板のう
ちの少なくとも一方は、フレキシブル基板であることを
特徴とする請求項1乃至請求項3の何れかに記載の電気
泳動装置の製造方法。 - 【請求項5】 前記第1の積層体は、半導体素子層をさ
らに含むことを特徴とする請求項1乃至請求項4の何れ
かに記載の電気泳動装置の製造方法。 - 【請求項6】 前記半導体素子層は、マトリクス状に配
置された走査線及び信号線に接続される薄膜トランジス
タと当該薄膜トランジスタの一端に接続された画素電極
とを含むことを特徴とする請求項5記載の電気泳動装置
の製造方法。 - 【請求項7】 前記半導体素子層は、マトリクス状に配
置された走査線及び信号線に接続される薄膜トランジス
タと当該薄膜トランジスタの一端に接続された画素電極
とを含む画素部と、前記走査線及び前記信号線に信号を
供給するためのドライバ部と、を備えることを特徴とす
る請求項5記載の電気泳動装置の製造方法。 - 【請求項8】 前記電気泳動層は、分散媒とこの分散媒
中に分散している電気泳動粒子とが内部に封入されたマ
イクロカプセルによって形成されていることを特徴とす
る請求項1乃至請求項7の何れかに記載の電気泳動装置
の製造方法。
Priority Applications (1)
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