JP2002241901A

JP2002241901A - シャドウマスク用素材及びその製造方法

Info

Publication number: JP2002241901A
Application number: JP2001034961A
Authority: JP
Inventors: Yasuhiro Sotani; 保博曽谷; Yukio Kimura; 幸雄木村; Masayasu Ueno; 雅康植野; Shogo Tomita; 省吾富田
Original assignee: NKK Corp; Nippon Kokan Ltd
Current assignee: JFE Engineering Corp
Priority date: 2001-02-13
Filing date: 2001-02-13
Publication date: 2002-08-28

Abstract

(57)【要約】【課題】シャドウマスクの製造工程中において、レジ
スト密着性、真空引き性、及びエッチング穿孔性に優れ
るシャドウマスク用素材、及びその製造方法を提供す
る。【解決手段】表面に概ね円形の断面形状を有する微小
なクレータ（凹部）の集合体を有し、表面粗さがＬ方向
（圧延方向）とＣ方向（圧延方向に直角な方向）でほぼ
等しく、かつ、中心線平均粗さRaが0.2〜２μｍ、凹凸
の平均間隔Smが〜200μｍであることを特徴とするシャ
ドウマスク用素材。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、シャドウマスク用
素材、より詳しくは、シャドウマスクの製造工程中にお
いて、レジスト密着性、真空引き性、及びエッチング穿
孔性に優れるシャドウマスク用素材、及びその製造技術
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、カラーテレビの高品位化に伴い、
色ずれの問題に対応できる低熱膨張のシャドウマスク用
材料としてFe-Ni系のインバー合金が採用されている。
高精度・高精細な開孔を有するシャドウマスクを得るた
めには、シャドウマスクの製造工程で、脱脂した素材両面にフォトレジストを塗付する際のレ
ジスト密着性、ついでその上に原版を密着させるための真空引き性、さらに露光・現像した後に塩化第二鉄等の溶液でエッチング
する際の穿孔性を改善することが特に重要である。

【０００３】これらに対応すべく、特公平３−７３６４
０号公報、特開平１−５６８２０号公報、特開平２−１
９２８０２号公報、特開平２−１９７３０１に号公報に
示されるように、表面粗さを付与したダルロールを用い
た圧延によって素材の表面粗さ、形態を調整した素材、
及びその製造方法が開示されている。

【０００４】特公平３−７３６４０号公報に記載される
方法は、シャドウマスク素材の表面粗度（Ra）を0.2〜
0.7μｍ、Sm（基準長さ内における断面曲線の凹凸間隔
の平均値）を100μｍ以下、結晶粒度番号を8.0以上とす
ることによりエッチング穿孔性に優れるマスクを提供す
るものである。

【０００５】特公平３−７３６４０号公報に記載される
発明は、最終圧延において、レーザ加工後にショットブ
ラストまたは液体ホーニングした圧延ロールを用いるこ
とにより、素材のRaを0.2〜1.5μm、Smを50〜200μmと
して、エッチング穿孔性に優れるようにしたマスクを得
るものである。

【０００６】特開平２−１９２８０２号公報に記載され
る発明は、ダルロールを用いた圧延を３〜５パス繰り返
すことで、素材のRaが0.2〜1.0μm、凹凸の面積占有率
が８０％以上になるようにするものである。

【０００７】特開平２−１９７３０１に号公報
に記載される発明は、レーザ加工したロールを用い
た圧延により、素材のRaが0.3〜1.2μｍ、Smが20〜300
μｍであり、微視的表面粗さの形状が台形上の凸部と椀
状凹部からなり、山頂高さが２〜１０μｍ、山頂面直径
が２〜30μｍである表面性状を得るものである。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上述した発明
は、いずれも仕上圧延工程でダルロールを用いて素材に
表面粗さを付与したり調整したりするものであり、以下
に述べるような致命的な問題がある。

【０００９】（１）特公平３−７３６４０号公報、特開
平１−５６８２０号公報、特開平２−１９２８０２号公
報に記載される技術においては、圧延でロールの粗さを
素材に転写させているが、粗さの転写率は高々５０％で
ある。そのため素材に所望のRaを付与しようとすると、
その２倍程度のRaをもった圧延ロールを用いる必要があ
る。Raが0.4〜3.0μｍ程度のダルロールをショットブラ
スト加工などによって作り、それを圧延に用いると、素
材のSmは50μｍ以下という小さい値にはできない。通常
素材のSmは100μｍ前後になる。そのためレジスト密着
性が改善されない。

【００１０】（２）特開平２−１９７３０１に号公報に
記載される技術のようにレーザ加工を用いる場合は比較
的自由にRaとSmを選択できるが、上記のような素材に微
視的な鋭い山状の凸形状を得るためにはロールに鋭い凹
状の形状を作らなければならない。実際には特開平２−
１９７３０１に示されるレーザの照射条件ではこのよう
なロール加工はできない。また素材に微視的な鋭い山が
形成されると、素材同士接触によりスリ疵が発生した
り、製造工程中に存在するゴムロールなどが削れること
により汚れが発生したりする。また凸部と凹部で電気化
学的性質が異なるために、エッチングムラを生じる。

【００１１】（３）圧延では必ず素材は圧延方向（Ｌ方
向）に伸ばされる。そのためロールにより転写される素
材の表面粗さのパターンは例えば図３に示すように、圧
延方向にうろこ状に伸びた形態となる。圧延ロールの加
工法としてショットブラスト、液体ホーニング、レー
ザ、放電加工などいずれを採用しても必ずＬ方向に延び
た形態となる。図３にＬ方向（圧延方向）とそれに垂直
なＣ方向での表面粗さの測定結果を併記する。表面粗
さ、断面曲線がＬ方向とＣ方向で異なり、Ｃ方向にくら
べＬ方向が間延びした形態となる。このため、Smは必ず
Ｃ方向に比べＬ方向が大きくなる。一般にRaについても
Ｌ方向とＣ方向では異なる。このように圧延ロールによ
る転写で素材の表面粗さを作り込む方法では、本質的に
Ｌ方向とＣ方向でSm、Raといった表面粗さのパラメータ
を等しくすることはできない。

【００１２】（４）図３に示した圧延でロールの粗さを
転写させた素材を良く観察すると、粗さの凸部と凹部の
境界に微視的なクラックが発生している場合がある。ロ
ールの凹凸部で局部的に変形ひずみが集中してクラック
が発生する。すなわちダルロールによる加工ひずみは微
視的に見れば均一ではない。またこれらのクラックは多
くはＬ方向に伸ばされている。またうろこ状のロール
の、ダル目の転写に加え、ロール研削痕の転写が生じ
る。ロールを研削する際に砥石目が円周方向に残ったも
ので、素材を圧延すると図３に示すようにＬ方向に研削
痕が転写される。これらのマイクロクラックや研削痕
は、エッチング時に微視的な欠陥を生じる原因になるだ
けでなく、Ｌ方向とＣ方向で異方性を持っているために
エッチングムラを生じる原因となる。

【００１３】（１）〜（４）の結果、前記いずれの公報
に記載された発明も、レジスト密着性、真空引き性、エ
ッチング穿孔性が充分ではない。特に圧延工程を用いる
ことによりレジスト密着性、真空引き性、エッチング穿
孔性がＬ方向とＣ方向で異なることが問題となる。エッ
チング穿孔時に孔がL方向にゆがんで開孔不良やムラを
生じたり、孔縁がいびつになりいわゆる穿孔のキレが悪
くなったりする。

【００１４】（５）圧延ロールで圧延する場合、圧延長
が長くなるに従ってロールの粗度低下が生じる。これは
ダルロールを用いる場合に顕著に生じ、避けられない事
態である。従って、圧延初期の素材と圧延終期の素材の
表面粗さが異なるという問題が生じ、これを回避するた
めに頻繁にロール組替えを行う必要がある。よって、生
産性の低下を招く。

【００１５】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、シャドウマスクの製造工程中において、レジス
ト密着性、真空引き性、及びエッチング穿孔性に優れる
シャドウマスク用素材、及びその製造方法を提供するこ
とを課題とする。

【００１６】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の第１の手段は、表面に概ね円形の断面形状を有する微
小なクレータ（凹部）の集合体を有し、表面粗さがＬ方
向（圧延方向）とＣ方向（圧延方向に直角な方向）でほ
ぼ等しく、かつ、中心線平均粗さRaが0.2〜２μｍ、凹
凸の平均間隔Smが〜200μｍであることを特徴とするシ
ャドウマスク用素材（請求項１）である。

【００１７】断面形状とは、表面から見たクレータの形
状をいう。また、概ね円形とは、楕円形とみなしたと
き、長径、短径の差が長径と短径の平均径の20％以内の
ものをいう。従って、理想形すなわち円形は、この差が
０％ということになる。本手段においては、クレータの
存在によって発生する表面粗さがＬ方向とＣ方向で当方
的であり、Ra、Smなどの表面粗さを表すパラメータがＬ
方向とＣ方向でほぼ等しい。ほぼ等しいとは、対象とす
る全面積での表面粗さを表すパラメータの計測値の95％
以上について、これらＣ方向、Ｌ方向の差が両者の平均
値の20％以内に収まることをいう。

【００１８】よって、シャドウマスクの製造工程におい
てエッチングムラが生じる可能性が小さくなる。また、
中心線平均粗さRaは0.2μｍより小さいとレジスト密着
力が弱くなって、真空引きの際に空気の流路抵抗が高く
なり真空引き性が悪化する。逆にRaが２μmより大きい
とレジスト密着力が強すぎてレジストが残存する。よっ
て、本手段においては、Raの範囲を0.2〜２μｍに限定
する。

【００１９】また、凹凸の平均間隔Smが200μmより大き
いと局部的にレジスト密着性が低下する。逆にSmが10μ
mより小さいと真空引き性が低下する。よって、本手段
においては、Smの範囲を10〜200μｍの範囲に限定す
る。なお、本手段（請求項１）及び各実施の形態におい
て、Ra、Smは、JISB0601により測定した値とする。ま
た、クレータの形状を概ね円形の断面形状とすること
で、レジスト密着性、真空引き性が向上する。

【００２０】前記課題を解決するための第２の手段は、
前記第１の手段であって、表面におけるクレータの占有
率が70％以上であることを特徴とするもの（請求項２）
である。

【００２１】クレータの占有率とは、素材の表面積をＡ
_０、その中に含まれるクレータの開口面積の総和をＡと
するとき、Ａ／Ａ_０×100 [％]をいう。本手段において
は、平滑部分の割合が小さくなるので、シャドウマスク
の製造工程において、充分なレジスト密着性、真空引き
性を確保できる。クレータの占有面積率が仮想的に100
％を越える表面も得られる。すなわち、例えばクレータ
同士が重なるように硬質粒子を投射することにより得ら
れる。クレータ同士の重なる率すなわちオーバーラップ
率は50％以下とする。50％を越えると１つのクレータで
形成される表面粗さがとなりのクレータでつぶれてしま
い、所望のRaを確保できなくなる。

【００２２】前記課題を解決するための第３の手段は、
前記第１の手段又は第２の手段であって、クレータの開
口部直径が20〜200μｍ、深さが２〜15μｍであること
を特徴とするもの（請求項３）である。

【００２３】クレータの開口部直径が200μｍを超える
と、局部的に密着性が低下する。逆に、20μｍよりも小
さくなると、真空引きの際、流路抵抗が高くなり、真空
引き性が悪化する。又、本手段でのクレータ開口部直径
の最小値は10μｍ程度である。このような理由から、本
手段においては、クレータ開口部の直径を20〜200μｍ
に限定する。

【００２４】クレータの深さが２μｍより小さいと、レ
ジスト密着性、真空引き性が十分でなくなり、エッチン
グ時にムラを生じる。逆に15μｍより大きいと、金属粉
等による汚れが除去できにくくなる。そのため、本手段
においては、クレータの深さを２〜15μｍに限定する。

【００２５】前記課題を解決するための第４の手段は、
前記第１の手段から第３の手段であって、Fe−Ni系合金
からなることを特徴とするもの（請求項４）である。

【００２６】シャドウマスク用素材としては、従来は低
炭素Alキルド鋼やリムド鋼が用いられてきたが、最近で
はパソコン用や大画面用モニター等に用いられる高精度
シャドウマスクのニーズが高く、低熱膨張性に優れるFe
−Ni系のインバー合金が主流になりつつある。Fe−Ni系
インバー合金に、前記第１の手段から第３の手段を適用
することは、これらの用途に必要とされる高精細の品質
を満足させるために好適なことである。

【００２７】本手段は、FeとNi以外の合金成分について
は特に限定していないが、例えば以下のようなものが使
用できる。すなわち、mass％で、Ni：30〜52％、Ｃ：0.
1％以下、Si：0.4％以下（０を含む）、Cr：0.1％以下
（０を含む）、Co：0.05％以下（０を含む）、Ｏ：0.01
％以下（０を含む）、Ｓ：0.005％以下（０を含む）、
Ｎ：0.01％以下（０を含む）、Al：0.05％以下（０を含
む）、Ｐ：0.01％以下（０を含む）、Ca：0.01％以下
（０を含む）、Mg：0.01％以下（０を含む）、Ti：0.1
％以下（０を含む）、Mo：0.01％以下（０を含む）、
Ｖ：0.01％以下（０を含む）、Nb：0.01％以下（０を含
む）で残部が実質的にFeからなるもの。ただし、実質的
にFeからなるとは、本手段の特性を無くさない限り、不
可避不純物をはじめ他の微量元素を含むものが、その範
囲に含まれることを意味する。

【００２８】又、必要に応じて１mass％の以下のMn、0.
03mass％以下のＢ等の合金元素を含有させても、本発明
の作用効果は損なわれない。これらMnとＢは、熱間加工
性の向上に有効である。ただし、これらMnとＢを複合的
に含有させる場合には、その合計値は１mass％以下とす
ることが好ましい。

【００２９】なお、シャドウマスク用素材として事実上
問題のない熱膨張特性は、０〜100℃の温度領域におけ
る平均熱膨張係数が2.0×１０^−６／℃以下であること
である。このような特性を満足できる組成は、Ni含有量
30〜52mass％であり、残部が実質的にFeからなるもので
ある。

【００３０】前記課題を解決するための第５の手段は、
前記第１の手段から第３の手段であって、Fe−Ni−Co系
合金からなることを特徴とするもの（請求項５）であ
る。

【００３１】本手段においても、前記第４の手段と同
様、前記第１の手段から第３の手段を適用することは、
高精度シャドウマスクとしての用途に必要とされる高精
細の品質を満足させるために好適なことである。

【００３２】Coが１mass％未満の場合は、低熱膨張性に
余り影響を与えない。又、Coが20mass％を超えると、低
熱膨張性が悪化する。よって、Coの範囲は１〜20mass％
とすることが好ましい。又、この範囲のCoを含有する場
合には、所望の低熱膨張性能（０〜100℃の温度領域に
おける平均熱膨張係数が2.0×１０^−６／℃以下）を満
足させるためには、Niの含有量は26〜38mass％となる。

【００３３】本手段は、Fe、Ni、Co以外の合金成分につ
いては特に限定していないが、例えば以下のようなもの
が使用できる。すなわち、mass％で、Ni：26〜38％、C
o：１〜20％、Ｃ：0.1％以下、Si：0.4％以下（０を含
む）、Cr：0.1％以下（０を含む）、Ｏ：0.01％以下
（０を含む）、Ｓ：0.005％以下（０を含む）、Ｎ：0.0
1％以下（０を含む）、Al：0.05％以下（０を含む）、
Ｐ：0.01％以下（０を含む）、Ca：0.01％以下（０を含
む）、Mg：0.01％以下（０を含む）、Ti：0.1％以下
（０を含む）、Mo：0.01％以下（０を含む）、Ｖ：0.01
％以下（０を含む）、Nb：0.01％以下（０を含む）で残
部が実質的にFeからなるもの。ただし、実質的にFeから
なるとは、本手段の特性を無くさない限り、不可避不純
物をはじめ他の微量元素を含むものが、その範囲に含ま
れることを意味する。

【００３４】又、必要に応じて１mass％の以下のMn、0.
03mass％以下のＢ等の合金元素を含有させても、本発明
の作用効果は損なわれない。これらMnとＢは、熱間加工
性の向上に有効である。ただし、これらMnとＢを複合的
に含有させる場合には、その合計値は１mass％以下とす
ることが好ましい。

【００３５】前記課題を解決するための第６の手段は、
前記第１の手段から第５の手段であるシャドウマスク用
素材の製造方法であって、平板上の素材の表面に硬質粒
子を投射することにより表面粗さを付与することを特徴
とするもの（請求項６）である。

【００３６】平板上の素材の表面に硬質粒子を投射する
ことにより、前記第１の手段から第５の手段であるシャ
ドウマスク用素材を容易に製造することができる。

【００３７】前記課題を解決するための第７の手段は、
前記第１の手段から第５の手段であるシャドウマスク用
素材の製造方法であって、平板上の素材をブライトロー
ルで圧延した後に、その表面に硬質粒子を投射すること
により表面粗さを付与することを特徴とするもの（請求
項７）である。

【００３８】ブライトロールとは表面粗さRaが0.15〜0.
30μｍのロールをいい、ダルロールの表面粗さRaが１〜
５μｍであるのに対してフラットな表面を有する。ブラ
イトロールを使用した場合には、ダルロールを使用した
場合に比して、圧延長が長くなることに伴う表面粗度の
低下が小さいので、必要なロール組換え回数が減少する
と共に、ブライトロールで圧延した材料の長周期のうね
り成分は極めて小さくなるため、シャドウマスク製造工
程におけるエッチング穿孔性が向上する。さらに、ブラ
イト仕上げされた材料に上記の硬質粒子を直接投射し
て、表面粗さを付与するため、所望の表面形態が精度よ
く安定して得られる。

【００３９】

【発明の実施の形態】図１に示すように、ほぼ球状の硬
質粒子１を直接素材２に対して投射することにより、素
材２の表面にクレータ３を形成する。このようにする
と、図２に示すように、微小で等方的な、断面形状がほ
ぼ円形のクレータが多数得られる。クレータによって形
成される凹凸の間隔は圧延法で得られるSmよりはるかに
小さいものが安定して得られる。

【００４０】加工に使う硬質粒子１は概ね球形のものを
用いる。硬質粒子１としては鉄系すなわち炭素鋼、ステ
ンレス鋼、ハイス等、又は、アルミナ、カーボランダム
等のセラミクス、及びガラス等を用いることができる。
粒子径は平均粒径で20〜400μｍのものを用いるが、50
〜200μｍのものを用いるのが好ましい。

【００４１】硬質粒子１を素材２に投射するときの速度
は50〜200m/secである。これを実現するためのショット
ブラスト法は、空気式の投射装置では空気圧を0.2〜1.0
Mpaの範囲で選ぶ。機械式の投射装置ではロータの回転
速度を粒子の投射速度以上になるように選ぶ。水中での
ウエットブラストすなわち液体ホーニング法を用いても
よい。

【００４２】硬質粒子１が素材２に衝突し、素材２が粒
子形状にそって変形するが、素材への硬質粒子の埋め込
みは粒子径の２〜30％である。大きすぎると素材に硬質
粒子が刺さり込んでしまう。上記の速度条件はこの条件
からきている。素材表面に形成される一つ一つのクレー
タ形状は硬質粒子形状の一部にそったものになる。すな
わちおおむね球形の部分形状である。

【００４３】クレータの開口部の直径ｄは20〜200μ
ｍ、クレータ間のｄのバラツキに関しては、平均径に対
し±50％のバラツキ範囲にあるものが70％以上存在す
る。クレータの深さｈは２〜15μｍとなる。

【００４４】

【実施例】（実施例１）表１に示すように、従来のダル
ロールを用いた圧延による方法と、本発明の直接硬質粒
子を投射する方法で素材に表面粗度を付与し、エッチン
グ性を比較した。素材として、板厚0.2mmのFe-36％Ni合
金薄板を用いた。各方法によって得られたRa、Smの値、
及びエッチングムラ、エッチング穿孔性を表１に併せて
示す。

【００４５】No.１〜５は従来のダルロールを用いた圧
延によるもの、No.６、７は本発明の直接硬質粒子を投
射するものである。仕上圧延での圧下率は10〜20％と
し、No.４は４パスの圧延を行った。No.１〜５のダルロ
ールの加工方法を表１に併せて示す。

【００４６】No.１はグリットブラスト加工をしたダル
ロールを用いて圧延を行ったもので、Smが比較的小さい
ためにレジスト密着性、真空引き性は良好であったが、
Ｌ方向とＣ方向でエッチング性に差が生じた。また孔縁
にクラックが残存しそれを起点にしみが観察された。

【００４７】No.２と３はレーザ加工後、液体ホーニン
グまたはショットブラストでダル加工をしたロールを用
いて圧延を行ったもので、Smが大きいNo.２でレジスト
密着が劣りエッチングムラがより目立った。いずれもＬ
方向とＣ方向でエッチング性に差が生じた。また孔縁に
クラックが残存しそれを起点にしみが観察された。

【００４８】No.４はショットブラスト加工したダルロ
ールを用いて圧延を行ったもので、粗度の転写が充分に
なされていた。しかしＬ方向とＣ方向でエッチング性に
差が生じた。また孔縁にクラックが多くピット状の欠陥
を生じただけでなく、開孔にゆがみを生じた。

【００４９】No.５は特開平２−１９７３０１号公報に
示す方法でレーザ加工したダルロールを用いて圧延を行
ったもので、台形状凸部と椀状凹部からなる表面形態を
有している。レジスト密着にムラを生じエッチングムラ
の原因となった。また開孔精度も悪く、ピットも観察さ
れた。

【００５０】No.６、７はブライトロールを用いて圧延
を行った素材に硬質粒子を投射して表面粗度を付与し
た。素材の結晶粒度は粒度番号でいずれも８〜９のもの
を用いた。

【００５１】No.６は平均粒径50μmのハイス粒子を用い
素材表面に直接ショットブラストして表面粗度を付与し
たものである。No.７は平均粒径100μmのアルミナ粒子
を用い素材表面に直接液体ホーニングして表面粗度を付
与したものである。いずれもレジスト密着性、真空引き
性とも良好であった。エッチングムラも生じずＬ、Ｃ方
向でエッチング性は均一であった。また開孔精度も高く
クラックやそれに起因するピットも観察されず、孔縁の
キレも良好であった。（表１）

【００５２】

【表１】

【００５３】表１において、エッチングムラ品位につい
て、Ａ：ムラが全く無く良好Ｂ：Ｌ、Ｃ方向でムラが少しあるＣ：Ｌ、Ｃ方向でムラがめだつというランク付けを行っている。

【００５４】エッチング穿孔性についてはＡ：開孔精度、孔縁のキレも良好で欠陥なしＢ：開孔のゆがみ発生Ｃ：孔縁にクラック、ピット発生というランク付けを行っている。

【００５５】（実施例２）表２に示すように硬質粒子の
投射条件を変えた場合の、エッチングムラと穿孔性を調
べた。ショット粒子にはステンレス鋼、ハイス、セラミ
クスのいずれかを用いた。粒子径は平均粒径で20〜400
μmのものを用いた。空気式の投射装置の場合は空気圧
を0.3〜0.9Mpaの範囲で選んだ。機械式の投射装置の場
合はロータ径300〜400mmのものを用い回転数を1000〜40
00rpmの範囲で選んだ。

【００５６】Raが0.2〜２μm、クレータ間平均距離Smが
10〜200μmの範囲にあり、かつクレータの面積占有率が
70％以上の符号ａ〜ｇ（本発明の実施例）については、
エッチングムラ、穿孔性とも極めて良好であった。

【００５７】ｈはRaが0.1μｍと小さいために、レジス
ト密着と真空引きが充分でなくエッチング時にムラを生
じた。ｉはRaが2.4μｍと大きいため、金属粉の汚れが
脱脂でも除去できず、エッチングムラにつながった。

【００５８】ｊはSmが220μｍと大きいために真空引き
性に劣りエッチング時にムラを生じた。ｋはクレータの
面積占有率が62％と低く、平滑部においてレジスト密着
性が低下しエッチングムラを生じた。穿孔性に関しては
いずれもＬ、Ｃ方向の差異も生じず開孔精度も優れてい
た。

【００５９】（表２）

【表２】

【００６０】表２において、エッチングムラ品位につい
ては、Ａ：ムラは全く無く良好Ｂ：ムラが少しあるＣ：ムラがめだつという区分で評価した。

【００６１】また、クレータ面積占有率が100％を越え
るものはクレータがオーバーラップしたもので、数値か
ら100％を引いたものがオーバーラップ率を表す。

【図面の簡単な説明】

【図１】硬質粒子を素材に投射して、本発明のシャドウ
マスク用素材を製造する実施の形態の例を示す模式図で
ある。

【図２】本発明のシャドウマスク素材の表面粗さ・表面
形態を示す模式図である。

【図３】従来の圧延法によって得られたシャドウマスク
素材の表面粗さ・表面形態を示す模式図である。

【符号の説明】

１…硬質粒子２…素材３…クレータ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者植野雅康東京都千代田区丸の内一丁目１番２号日本鋼管株式会社内 (72)発明者富田省吾東京都千代田区丸の内一丁目１番２号日本鋼管株式会社内Ｆターム(参考） 5C027 HH02 5C031 EE05

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】表面に概ね円形の断面形状を有する微小
なクレータ（凹部）の集合体を有し、表面粗さがＬ方向
（圧延方向）とＣ方向（圧延方向に直角な方向）でほぼ
等しく、かつ、中心線平均粗さRaが0.2〜２μｍ、前記
凹凸の平均間隔Smが10〜200μｍであることを特徴とす
るシャドウマスク用素材。
【請求項２】表面におけるクレータの占有率が70％以
上であることを特徴とする請求項１に記載のシャドウマ
スク用素材。
【請求項３】クレータの開口部直径が20〜200μｍ、
深さが２〜15μｍであることを特徴とする請求項１又は
請求項２に記載のシャドウマスク用素材。
【請求項４】 Fe−Ni系合金からなることを特徴とする
請求項１から請求項３のうちいずれか１項に記載のシャ
ドウマスク用素材。
【請求項５】 Fe−Ni−Co系合金からなることを特徴と
する請求項１から請求項３のうちいずれか１項に記載の
シャドウマスク用素材。
【請求項６】平板上の素材の表面に硬質粒子を投射す
ることにより表面粗さを付与することを特徴とする請求
項１から請求項５のうちいずれか１項に記載のシャドウ
マスク用素材の製造方法。
【請求項７】平板上の素材をブライトロールで圧延し
た後に、その表面に硬質粒子を投射することにより表面
粗さを付与することを特徴とする請求項１から請求項５
のうちいずれか１項に記載のシャドウマスク用素材の製
造方法。