JP2002239429A - 塗布装置およびこれを用いた塗布方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 安定した塗布量を得ることができる塗布装置
を得る。 【解決手段】 回転体７に塗布剤溜まり８と溶剤溜まり
６を設け、回転体７上には間隙を介してカバー５が設け
られている。カバー５は、溶剤溜まり６と塗布剤溜まり
８とが溜まりの上部で連通するように、溶剤溜まり６と
塗布剤溜まり８を被覆することにより、塗布剤溜まり８
とカバー５の間隙に溶剤のガスを供給する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、塗布装置およびこ
れを用いた塗布装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】図８は、例えば特開２０００―２８８４
４７号公報に示された、従来の接着剤の転写塗布装置の
概略図である。図において、３０は転写塗布される基
板、３１は電気的接続を行なう接着部材、３２は接着部
材３１をチャッキングする保持部材、３３は保持部材３
２を移動させるロボット、３４は接着剤が充填されてい
る接着剤容器、３５は接着剤が接着剤容器３４から露出
する接着剤露出穴部、３６は接着剤露出穴部３５上に移
動可能な蓋で、接着部材３２を接着剤に接着させる以外
は接着剤露出穴部３５を閉じる。３７は接着剤の液面位
置を制御する液面位置制御器である。即ち、蓋３６を移
動させ接着剤露出穴部３５を開放し、同時にロボット３
３によって保持部材３２が移動し、接着部材３１が接着
剤露出穴部３５より露出した導電性接着剤に接触する。
次に、ロボット３３によって保持部材３２が移動し、接
着部材３１が引き上げられて、基板３０に位置を合わせ
て押圧することにより、導電性接着剤を基板３０に転写
塗布させるもので、蓋３６を設けること等により接着剤
の揮発によっておこる転写接着工程への不具合を防止し
ようとするものである。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の塗布装置は、接着部材３１が高精度に接着剤露出部
に接触しなければならず、部材の姿勢制御や接着部材の
保持部３２を高精度に加工する必要があり、接着部材３
１が傾いて接着剤に接触すると、塗布量が不安定となる
という課題があった。

【０００４】本発明はかかる課題を解消するためになさ
れたもので、安定した塗布量を得ることができる塗布装
置およびこれを用いた塗布方法を得ることを目的とす
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明に係る第１の塗布
装置は、回転体、この回転体に設けられ、第１の溶剤を
含有する塗布剤を有する塗布剤溜まり、上記塗布剤溜り
を被覆し、上記回転体上に間隙を介し、上記回転体の回
転とは独立して設けられたカバー、上記塗布剤溜りとカ
バー間に第２の溶剤のガスを供給する溶剤ガス供給手
段、上記塗布剤溜りの上のカバーに設けられた採取孔、
および上記塗布剤溜りの塗布剤を上記採取孔から採取
し、被塗布材に転写塗布する塗布部材を備えたものであ
る。

【０００６】本発明に係る第２の塗布装置は、上記第１
の塗布装置において、第２の溶剤を有する溶剤溜まりを
回転体に設け、上記溶剤溜まりと塗布剤溜まりとが上記
溜まりの上部で連通するように、カバーが上記溶剤溜ま
りを被覆することにより、上記塗布剤溜りとカバー間に
第２の溶剤のガスを供給する溶剤ガス供給手段とするも
のである。

【０００７】本発明に係る第３の塗布装置は、上記第１
または第２の塗布装置において、間隙が０．０１〜１ｍ
ｍのものである。

【０００８】本発明に係る第４の塗布装置は、上記第２
の塗布装置において、少なくとも溶剤溜りが塗布剤溜り
より外周側に設けられているものである。

【０００９】本発明に係る第５の塗布装置は、上記第４
の塗布装置において、最外周の溶剤溜りの外周側の畝と
カバー間の間隙（ａ）と、上記最外周の溶剤溜りに隣接
する塗布剤溜りの外周側の畝とカバー間の間隙（ｂ）
が、ａ＜ｂのものである。

【００１０】本発明に係る第６の塗布装置は、上記第１
の塗布装置において、カバーの裏面に第２の溶剤を保持
する保持材を設けるものである。

【００１１】本発明に係る第７の塗布装置は、上記第６
の塗布装置において、保持材として発泡材を貼付するも
のである。

【００１２】本発明に係る第８の塗布装置は、上記第
１、第２および第６のいずれかの塗布装置において、第
２の溶剤が第１の溶剤と同一のものである。

【００１３】本発明に係る第９の塗布装置は、上記第２
の塗布装置において、カバーの一部が溶剤溜りの溶剤に
浸漬するものである。

【００１４】本発明に係る第１０の塗布装置は、上記第
１、第２および第６のいずれかの塗布装置において、塗
布剤溜りの塗布剤を引き伸ばすスキージと、塗布剤溜り
の上のカバーに設けられ上記スキージを挿入するスキー
ジ孔を設けたものである。

【００１５】本発明に係る第１１の塗布装置は、上記第
９の塗布装置において、塗布剤溜り上のカバーの内側に
摺動自在に設けた突起によりスキージを構成するもので
ある。

【００１６】本発明に係る第１２の塗布装置は、上記第
１の塗布装置において、塗布部材が採取孔に挿入自在
に、上記採取孔を包囲するようにカバー表面に包囲部材
が設けられているものである。

【００１７】本発明に係る第１３の塗布装置は、上記第
１または第１２の塗布装置において、塗布部材の採取孔
への挿入出に連動して開閉する開閉部材が、採取孔上に
設けられているものである。

【００１８】本発明に係る第１の塗布方法は、上記第１
ないし第１３のいずれかに記載の塗布装置の回転体を回
転させ上記塗布剤溜りの異なる個所の上記塗布剤を、塗
布部材により上記採取孔から採取し、被塗布材に転写塗
布する方法である。

【００１９】

【発明の実施の形態】実施の形態１．本発明の第１の実
施の形態の塗布装置は、溶剤（第１の溶剤）によって希
釈された例えば接着剤等の塗布剤を、基板等被塗布材に
転写塗布する装置で、例えば回転皿等の回転体に溶剤を
含有する塗布剤溜まりを設け、回転体を回転させること
により、塗布剤溜まりの異なる箇所から塗布剤を塗布部
材により逐次採取することにより一定量の塗布剤を被塗
布材に塗布するものである。この場合、上記回転体上に
間隙を介して、塗布剤溜まりを被覆するカバーを設ける
とともに、塗布剤溜まりとカバーの間隙に溶剤（第２の
溶剤）のガスを供給する溶剤ガス供給手段により、第１
の溶剤の揮発を抑制しながら、カバーに設けた採取孔か
ら塗布部材により塗布剤を転写塗布することができるの
で、安定した塗布量を得ることができる。また、接着剤
の揮発が防止できるため、接着剤の交換頻度が少なくな
り、接着剤の入れ替えや回転皿の清掃作業等の工数を削
減することができる。

【００２０】第１の溶剤は塗布剤の希釈剤として用いら
れているものであり、第２の溶剤が第１の溶剤と同一で
あると、塗布剤の塗布性に影響を与えることが避けられ
る。しかし、第２の溶剤が第１の溶剤と反応せず、かつ
揮発性に差異がない等、塗布剤の塗布性に影響を与えな
ければ、第１の溶剤と第２の溶剤が異なってもよい。な
お、説明に支障の無い限りは、以下溶剤を区別して記載
していない。また、溶剤ガス供給手段として下記実施の
形態にその例を示す。

【００２１】図１は、本発明の第１の実施の形態の塗布
装置を用いて、塗布剤を転写塗布する状態を示す説明図
であり、図中１はスキージ、４は塗布部材、５はカバ
ー、７は回転体、８は塗布剤溜まり、８１は塗布剤、２
０は被塗布材である。図１は、スキージ１を用い、塗布
剤溜まり８の塗布剤８１の厚さを均一にすることによ
り、一定厚の塗布剤膜を形成して一定量の安定した塗布
量を得る場合を示したが、自重により均一になる塗布剤
を用いる場合は必ずしも必要ではない。また、構造を明
確に示すためにカバー５を透明にするとともに、カバー
５に設けるスキージ１および塗布部材４を挿入するスキ
ージ孔および採取孔は省略して記載している。即ち、図
１に示すように、回転体７を回転させ、塗布剤８１をス
キージ１により引き伸ばし、ピン等接着部材４により一
定量の接着剤８１を半導体基板等被塗布材２０に移し取
り転写塗布する。なお、カバー５の材料としては、溶剤
に侵されないものを使用する。

【００２２】実施の形態２．図２（ａ）、（ｂ）は、各
々本発明の第２の実施の形態の塗布装置の平面図、およ
び（ａ）におけるＡ−Ａ線断面図であり、図において、
１はスキージ、２はスキージを支持するためのアーム、
３は回転体と回転軸（図示せず）を固定するネジ、４は
塗布部材である転写ピン、５はカバー、４１はカバー５
に設けられ塗布部材が挿入出可能な採取孔、６は溶剤溜
まり、７は回転体である回転皿、８は塗布剤溜まり、９
はカバー固定用支柱、１３はアーム支持台、１４はアー
ム固定軸、１５はバネである。図は、スキージ１の固定
にアーム２を設けてバネ１５によりスキージ１に力を加
えたものを図示したが、シリンダー等を設けて圧力を加
えてもよい。本発明の第２の実施の形態の塗布装置は、
上記第１の実施の形態の塗布装置において、回転体７に
溶剤溜まり６を設け、上記溶剤溜まり６と塗布剤溜まり
８とが上記溜まりの上部で連通するように、カバー５が
溶剤溜まり６と塗布剤溜まり８を被覆することにより、
塗布剤溜まり８とカバー５の間隙に溶剤のガスを供給す
る溶剤ガス供給手段とするものである。

【００２３】図２に示した塗布装置において、溶剤溜ま
り６および塗布剤溜まり８として各々幅７ｍｍ、深さ２
ｍｍの溝を設けた８６ｍｍφの回転皿の、上記塗布剤溜
まり８に１ｃｃ量の塗布剤（銀：８０〜９０％，ポリエ
ステル樹脂、ポリイソシアネート樹脂、エポキシ樹脂お
よびポリエチレン樹脂：４〜８％，ノルマルパラフィ
ン、芳香族炭化水素：８〜１４％，添加剤：０．１〜
１．０％）をはかり取り、上記溶剤溜まり６には塗布剤
に含まれているのと同じ溶剤をあふれない程度に入れ
る。なお、溶剤の蒸発量は表面積に比例するため、溶剤
溜まりの幅は塗布剤溜まりの幅以上が望ましい。図３
は、上記塗布装置において、塗布剤をスキージで引き延
ばし、上記のようにして半導体基板に転写塗布した際
の、回転体とカバーの間隙による、被塗布材に塗布され
た塗布剤厚の標準偏差変化を示す特性図であり、横軸は
カバーと回転皿の間隙（ｍｍ）、縦軸は塗布厚の標準偏
差（μｍ）である。図により、間隙が０．０１〜１ｍｍ
の範囲で塗布量のばらつきが小さく、安定した塗布量を
得ることができることが示される。０．０１ｍｍ未満で
は回転体の回転が困難となり、１ｍｍを越えるとばらつ
きが大きくなる。

【００２４】また、本実施の形態においては、溶剤溜ま
りおよび塗布剤溜まりは同心円状の溝として設けたが、
それに限定されず、単なる窪みであってもよい。なお、
上記塗布剤溜まりは回転軸に対して対称な形状とするこ
とにより、容易に転写塗布が可能となる。また、少なく
とも溶剤溜りが塗布剤溜りより外周側に設けられている
ことは塗布剤と大気が直接触れることが防止され、揮発
が防止されるため好ましい。さらに、図２において、最
外周の溶剤溜りの外周側の畝とカバー間の間隙（ａ）
と、上記最外周の溶剤溜りに隣接する塗布剤溜り凹部の
外周側の畝とカバー間の間隙（ｂ）が、ａ＜ｂである
と、ガスは圧力損失小さい方に流れるため、溶剤溜まり
の溶剤のガスが流通しやすくなるため好ましい。

【００２５】実施の形態３．図４は、本発明の第３の実
施の形態の塗布装置の断面図であり、図において、１７
は溶剤を保持する保持材である例えばスポンジ等の発泡
材である。本発明の第３の実施の形態の塗布装置は、上
記第１の実施の形態の塗布装置において、カバー５の裏
面に溶剤を含んだ保持材（スポンジ）１７を設けること
により、溶剤が揮発して蒸気が充満し、塗布剤溜まり８
とカバー５の間隙に溶剤ガスを供給する溶剤ガス供給手
段となるので、塗布剤の揮発を防止することができる。

【００２６】実施の形態４．図５は、本発明の第４の実
施の形態の塗布装置の断面図であり、図中、５１はカバ
ー５の裏面に設け溶剤溜まり６の溶剤に浸漬する突起部
分である。即ち、本実施の形態においては、回転皿７の
溶剤溜まり６の溶剤に、カバー５の突起部分５１を浸漬
することにより回転皿７とカバー５がより密閉され、カ
バー５と回転皿７の間の空間が小さく、溶剤溜まり６か
らの溶剤が揮発して蒸気が充満する時間の短縮にもな
り、塗布剤の揮発を防止することができる。また、図５
はカバーの固定に支柱を設けたものを示したが、本実施
の形態においては、カバーの材料が溶剤の比重よりも小
さい場合、カバーの回転を支持するだけでもよい。

【００２７】実施の形態５．図６（ａ）、（ｂ）は、各
々本発明の第５の実施の形態の塗布装置の平面図および
（ａ）におけるＢ―Ｂ線断面図であり、図中、１０は採
取孔を包囲するように設けられた包囲部材の円筒状の壁
で、塗布部材４が挿入自在に採取孔４１挿入出できるよ
うに設けられている。なお、カバー上に円筒を設けたも
のを示したが、ピンの形状に合わせて、四角柱やドーム
型でもよい。本実施の形態のように、円筒１０をカバー
５に設けることにより、転写ピンの出入口付近の溶剤の
揮発した蒸気が漏れ難くなり、また大気がカバー５内に
入るのを防止することができるため、塗布剤の揮発を防
止することができる。

【００２８】実施の形態６．図７（ａ）、（ｂ）は、本
発明の第６の実施の形態の塗布装置に係わるカバーの採
取孔周辺を拡大して示す説明図で、（ａ）は採取孔へ塗
布部材４が挿入する前、（ｂ）は挿入時であり、図中、
１１は塗布部材（転写ピン）と連動して動作する円筒、
１２は転写ピン挿入部に切り目を入れたゴム板、１６は
ゴム板の切り目で、ゴム板１２とゴム板の切り目１６で
塗布部材の挿入出に連動して開閉する開閉部材を構成す
る。なお、カバーと転写ピンの隙間を密閉するためにゴ
ムを設けたものを示したが、シャッター等で開閉しても
よい。（ａ）に示すように、転写ピンが出入しない時
は、ゴム板１２によりカバーの密閉は保たれ、（ｂ）に
示すように、転写ピンがカバー内に挿入する時は、円筒
１１をゴム板の切り目１６に挿入し、円筒１１に転写ピ
ン４を通す。これにより、転写ピン４付近の溶剤の蒸気
が漏れ難くなり、接着剤の揮発が防止できる。図７は、
実施の形態５に用いた包囲部材と併用した例を示すが、
これに限定されず、開閉部材単独での使用も可能であ
る。また、スキージを挿入するためにカバーに設けた孔
からも溶剤の蒸気が漏れる恐れがあるが、スキージを塗
布剤溜り上のカバー内面側に摺動自在に設けた突起によ
り構成することにより、溶剤の蒸気が漏れ難くなり、接
着剤の揮発が防止できる。

【００２９】

【発明の効果】本発明の第１の塗布装置は、回転体、こ
の回転体に設けられ、第１の溶剤を含有する塗布剤を有
する塗布剤溜まり、上記塗布剤溜りを被覆し、上記回転
体上に間隙を介し、上記回転体の回転とは独立して設け
られたカバー、上記塗布剤溜りとカバー間に第２の溶剤
のガスを供給する溶剤ガス供給手段、上記塗布剤溜りの
上のカバーに設けられた採取孔、および上記塗布剤溜り
の塗布剤を上記採取孔から採取し、被塗布材に転写塗布
する塗布部材を備えたもので、安定した塗布量を得るこ
とができるという効果がある。

【００３０】本発明の第２の塗布装置は、上記第１の塗
布装置において、第２の溶剤を有する溶剤溜まりを回転
体に設け、上記溶剤溜まりと塗布剤溜まりとが上記溜ま
りの上部で連通するように、カバーが上記溶剤溜まりを
被覆することにより、上記塗布剤溜りとカバー間に第２
の溶剤のガスを供給する溶剤ガス供給手段とするもの
で、安定した塗布量を得ることができるという効果があ
る。

【００３１】本発明の第３の塗布装置は、上記第１また
は第２の塗布装置において、間隙が０．０１〜１ｍｍの
もので、安定した塗布量を得ることができるという効果
がある。

【００３２】本発明の第４の塗布装置は、上記第２の塗
布装置において、少なくとも溶剤溜りが塗布剤溜りより
外周側に設けられているもので、さらに安定した塗布量
を得ることができるという効果がある。

【００３３】本発明の第５の塗布装置は、上記第４の塗
布装置において、最外周の溶剤溜りの外周側の畝とカバ
ー間の間隙（ａ）と、上記最外周の溶剤溜りに隣接する
塗布剤溜りの外周側の畝とカバー間の間隙（ｂ）が、ａ
＜ｂのもので、さらに安定した塗布量を得ることができ
るという効果がある。

【００３４】本発明の第６の塗布装置は、上記第１の塗
布装置において、カバーの裏面に第２の溶剤を保持する
保持材を設けるもので、安定した塗布量を得ることがで
きるという効果がある。

【００３５】本発明の第７の塗布装置は、上記第６の塗
布装置において、保持材として発泡材を貼付するもの
で、安定した塗布量を得ることができるという効果があ
る。

【００３６】本発明の第８の塗布装置は、上記第１、第
２および第６のいずれかの塗布装置において、第２の溶
剤が第１の溶剤と同一のもので、特に塗布性が保持でき
るという効果がある。

【００３７】本発明の第９の塗布装置は、上記第２の塗
布装置において、カバーの一部が溶剤溜りの溶剤に浸漬
するもので、さらに安定した塗布量を得ることができる
という効果がある。

【００３８】本発明の第１０の塗布装置は、上記第１、
第２および第６のいずれかの塗布装置において、塗布剤
溜りの塗布剤を引き伸ばすスキージと、塗布剤溜り上の
カバーに設けられ上記スキージを挿入するスキージ孔を
設けたもので、さらに安定した塗布量を得ることができ
るという効果がある。

【００３９】本発明の第１１の塗布装置は、上記第９の
塗布装置において、塗布剤溜り上のカバーの内側に摺動
自在に設けた突起によりスキージを構成するもので、さ
らに安定した塗布量を得ることができるという効果があ
る。

【００４０】本発明の第１２の塗布装置は、上記第１の
塗布装置において、塗布部材が採取孔に挿入自在に、上
記採取孔を包囲するようにカバー表面に包囲部材が設け
られているもので、さらに安定した塗布量を得ることが
できるという効果がある。

【００４１】本発明の第１３の塗布装置は、上記第１ま
たは第１２の塗布装置において、塗布部材の採取孔への
挿入出に連動して開閉する開閉部材が、採取孔上に設け
られているもので、さらに安定した塗布量を得ることが
できるという効果がある。

【００４２】本発明の第１の塗布方法は、上記第１ない
し第１３のいずれかに記載の塗布装置の回転体を回転さ
せ上記塗布剤溜りの異なる個所の上記塗布剤を、塗布部
材により上記採取孔から採取し、被塗布材に転写塗布す
る方法で、安定した塗布量を得ることができるという効
果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の第１の実施の形態の塗布装置を用い
て、塗布材を転写塗布する状態を示す説明図である。

【図２】 本発明の第２の実施の形態の塗布装置の平面
図および断面図である。

【図３】 本発明の第２の実施の形態の塗布装置におけ
る、回転体とカバーの間隙による、被塗布材に塗布され
た塗布剤厚の標準偏差変化を示す特性図である。

【図４】 本発明の第３の実施の形態の塗布装置の断面
図である。

【図５】 本発明の第４の実施の形態の塗布装置の断面
図である。

【図６】 本発明の第５の実施の形態の塗布装置の断面
図である。

【図７】 本発明の第６の実施の形態の塗布装置に係わ
るカバーの採取孔周辺を示す説明図である。

【図８】 従来の接着剤の転写塗布装置の概略図であ
る。

【符号の説明】

１ スキージ、５ カバー、４ 塗布部材、５ カバ
ー、７ 回転体、８ 塗布剤溜まり、８１は塗布剤、２
０ 被塗布材、４１ 採取孔、６ 溶剤溜まり、８ 塗
布剤溜まり、１７ 保持材、５１ 突起、１０ 包囲部
材、１２ゴム板、１６切り目。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 白瀬 隆史 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 後藤 慶 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 Ｆターム(参考） 4D075 AC03 AC07 AC41 AC84 AC93 BB14X BB92Z CA22 CA47 DA06 DB13 DB14 DC19 DC22 EA35 EB33 EB35 EB38 EB56 4F040 AA12 AB01 AB05 AC01 BA02 BA35 CC13 CC14 DA12 DA14 DB24 4F042 AA06 BA08 CA04 DH10 ED03

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 回転体、この回転体に設けられ、第１の
   溶剤を含有する塗布剤を有する塗布剤溜まり、上記塗布
   剤溜りを被覆し、上記回転体上に間隙を介し、上記回転
   体の回転とは独立して設けられたカバー、上記塗布剤溜
   りとカバー間に第２の溶剤のガスを供給する溶剤ガス供
   給手段、上記塗布剤溜りの上のカバーに設けられた採取
   孔、および上記塗布剤溜りの塗布剤を上記採取孔から採
   取し、被塗布材に転写塗布する塗布部材を備えた塗布装
   置。
2. 【請求項２】 第２の溶剤を有する溶剤溜まりを回転体
   に設け、上記溶剤溜まりと塗布剤溜まりとが上記溜まり
   の上部で連通するように、カバーが上記溶剤溜まりを被
   覆することにより、上記塗布剤溜りとカバー間に第２の
   溶剤のガスを供給する溶剤ガス供給手段とすることを特
   徴とする請求項１に記載の塗布装置。
3. 【請求項３】 間隙が０．０１〜１ｍｍであることを特
   徴とする請求項１または請求項２に記載の塗布装置。
4. 【請求項４】 少なくとも溶剤溜りが塗布剤溜りより外
   周側に設けられていることを特徴とする請求項２に記載
   の塗布装置。
5. 【請求項５】 最外周の溶剤溜りの外周側の畝とカバー
   間の間隙（ａ）と、上記最外周の溶剤溜りに隣接する塗
   布剤溜りの外周側の畝とカバー間の間隙（ｂ）が、ａ＜
   ｂであることを特徴とする請求項４に記載の塗布装置。
6. 【請求項６】 カバーの裏面に第２の溶剤を保持する保
   持材を設けることにより溶剤ガス供給手段とすることを
   特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
7. 【請求項７】 保持材として発泡材を貼付することを特
   徴とする請求項６に記載の塗布装置。
8. 【請求項８】 第２の溶剤が第１の溶剤と同一であるこ
   とを特徴とする請求項１、請求項２および請求項６のい
   ずれかに記載の塗布装置。
9. 【請求項９】 カバーの一部が溶剤溜りの溶剤に浸漬す
   ることを特徴とする請求項２に記載の塗布装置。
10. 【請求項１０】 塗布剤溜りの塗布剤を引き伸ばすスキ
    ージと、塗布剤溜りの上のカバーに設けられ上記スキー
    ジを挿入するスキージ孔を設けたことを特徴とする請求
    項１、請求項２および請求項６のいずれかに記載の塗布
    装置。
11. 【請求項１１】 塗布剤溜り上のカバーの内側に摺動自
    在に設けた突起によりスキージを構成することを特徴と
    する請求項９に記載の塗布装置。
12. 【請求項１２】 塗布部材が採取孔に挿入自在に、上記
    採取孔を包囲するように、カバー表面に包囲部材が設け
    られていることを特徴とする請求項１に記載の塗布装
    置。
13. 【請求項１３】 塗布部材の採取孔への挿入出に連動し
    て開閉する開閉部材が、採取孔上に設けられていること
    を特徴とする請求項１または請求項１２に記載の塗布装
    置。
14. 【請求項１４】 請求項１ないし請求項１３のいずれか
    に記載の塗布装置の回転体を回転させ上記塗布剤溜りの
    異なる個所の上記塗布剤を、塗布部材により上記採取孔
    から採取し、被塗布材に転写塗布する塗布方法。