JP2002226560A - 硬化性樹脂および硬化性樹脂組成物 - Google Patents
硬化性樹脂および硬化性樹脂組成物Info
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Abstract
プリント配線板のアルカリ現像型のソルダーレジストと
して、従来のソルダーレジストの性能を維持しつつ誘電
特性に優れたソルダーレジストを得るに適した硬化性樹
脂および硬化性樹脂組成物を提供することにある。 【解決手段】ブタジエン(共)重合体にフェノール類を
付加させたフェノール類付加ブタジエン(共)重合体又
はフェノール類とジシクロペンタジエンとの重合体とエ
ポキシ基含有エチレン性不飽和化合物との反応物に、さ
らに飽和および/または不飽和多塩基酸無水物を反応さ
せて硬化性樹脂とする。さらにこの硬化性樹脂とエポキ
シ樹脂、重合開始剤および重合性不飽和化合物および/
または溶剤を含んでなる硬化性樹脂組成物とする。
Description
化性樹脂組成物に関する。更に詳しくは、プリント配線
板ソルダーレジスト、高密度多層板層間絶縁膜、半導体
パッケージ用ソルダーレジスト等の電子材料分野に用い
られる硬化性樹脂及び硬化性樹脂組成物に関する。
マスクレジストは、熱あるいは紫外線硬化型レジストイ
ンキをスクリーン印刷する方法で製造されてきたが、現
在は生産性の面からアルカリ現像型の液状ソルダーフォ
トレジストへと移行している。例えば、特公平1−54
390号公報には、ノボラック型エポキシ化合物と不飽
和モノカルボン酸との反応物に、飽和又は不飽和多塩基
酸無水物を反応させて得られる光硬化性樹脂、光重合開
始剤、希釈剤及び、エポキシ化合物からなる弱アルカリ
水溶液で現像可能な液状レジストインキ組成物が提案さ
れ、現在主流となっている。
板においては、近年の機器の高性能化に伴い要求性能が
より高度になってきている。特に電子計算機や移動体通
信機器に代表される電子機器においては、処理速度や信
号伝播速度の高速化、使用帯域の高周波化に伴い、積層
板用材料には低誘電率化、低誘電正接化が求められてい
る。この流れはプリント配線板製造における永久マスク
レジストにも波及しつつあり、レジストにも低誘電率
化、低誘電正接化が求められてきている。しかし、現状
のアルカリ現像型のソルダーレジストでは、高周波数領
域での誘電特性が悪く、高周波数用樹脂として満足な特
性が得られていない。
の目的は、誘電率、誘電正接等の誘電特性に優れ、特
に、プリント配線板のアルカリ現像型のソルダーレジス
トとして、従来のソルダーレジストの性能を維持しつつ
誘電特性に優れたソルダーレジストを得るに適した硬化
性樹脂および硬化性樹脂組成物を提供することにある。
結果、(1)ブタジエン(共)重合体にフェノール類を
付加させたフェノール類付加ブタジエン(共)重合体
(a1)又はフェノール類とジシクロペンタジエンとの重
合体(a2)のフェノール性水酸基とエポキシ基含有エチ
レン性不飽和化合物(b)との反応物(I)に、さらに
飽和および/または不飽和多塩基酸無水物(c)を反応
させて得られる硬化性樹脂、(2)重合体(a1)又は
(a2)に対するエポキシ基含有エチレン性不飽和化合物
(b)の反応量が、重合体(a1)又は(a2)のフェノー
ル性水酸基1当量に対して0.8〜1.0モルである上
記(1)の硬化性樹脂、(3)反応物(I)に対する飽
和および/ または不飽和多塩基酸無水物の反応量が、反
応物(I)のアルコール性水酸基1モルに対して0.2
〜0.9モルである上記(1)の硬化性樹脂、
の硬化性樹脂、(B)エポキシ樹脂、(C)重合開始
剤、および(D)重合性不飽和化合物および/または溶
剤を含んでなる硬化性樹脂組成物、(5)各成分の割
合、(A):(B):(C):(D)が、100重量
部:3〜100重量部:0.1〜20重量部:10〜2
00重量部である上記(4)の硬化性樹脂組成物、並び
に(6)(C)重合開始剤が光重合開始剤である上記
(4)又は(5)の硬化性樹脂組成物を開発することに
より、上記課題を解決した。
(共)重合体にフェノール類を付加させたフェノール類
付加ブタジエン(共)重合体(a1)は、市販のものを利
用することができ、例えば、日本石油化学(株)製特殊
フェノール樹脂PPタイプ等が挙げられる。フェノール
類とジシクロペンタジエンとの重合体(a2)は、市販の
ものを利用することができ、例えば、日本石油化学
(株)製特殊フェノール樹脂DPPタイプ等が挙げられ
る。エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物(b)は、
公知のものを使用することができ、その代表的なものと
しては、グリシジル(メタ)アクリレート、アリルグリ
シジルエーテル、スチレン−p−グリシジルエーテル、
等が挙げられる。特に原料が安価であることからグリシ
ジルメタクリレートが好ましい。重合体(a1)または
(a2)に対する化合物(b)の反応量は、重合体(a1)
または(a2)のフェノール性水酸基1当量に対して、
0.8〜1.0モルが望ましく、この反応量が0.8モ
ルを下回ると誘電特性、耐水性が低下し、PCT耐性に
問題を生じ、1.0モルを超えると、未反応のエポキシ
基含有エチレン性不飽和化合物が残存し、誘電特性等が
低下する。
有エチレン性不飽和化合物(b)との反応は、前者のフ
ェノール性水酸基と後者のエポキシ基との反応であり、
有機溶剤中、触媒の存在下で行われる。触媒としては誘
電特性に悪影響を及ぼさない種および量で公知慣用のも
のが採用されれば良く、例えば、3級アミン、4級アン
モニウム塩、金属水酸化物、金属ハロゲン化物等が挙げ
られる。
ものが使用でき、アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン等のケトン類、エタノール、イソプ
ロピルアルコール、n−ブタノール、ベンジルアルコー
ル等のアルコール類、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エ
チレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレン
グリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモ
ノエチルアセテート、エチレングリコールジメチルエー
テル、1、4−ジオキサン、プロピレングリコールモノ
メチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエ
ーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プ
ロピレングリコールモノフェニルエーテル等のエーテル
類およびこれらの混合物が挙げられる。
エチレン性不飽和基を含有する反応性希釈剤を用いるこ
とも可能であり、例えば、スチレン、ビニルトルエン、
ジビニルベンゼン、ジビニルベンジルエーテル、アリル
フェノール、アリルオキシベンゼン、ジアリルフタレー
ト、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、
ビニルピロリドン等、およびこれらの混合物が挙げられ
る。共重合性が良く誘電特性の良好な反応性希釈剤であ
るスチレンが特に望ましい。
割合は、樹脂に対して15〜75重量%、好ましくは2
0〜50重量%の割合である。有機溶剤の使用量が15
重量%未満であると反応中の攪拌が困難となり、また7
5重量%を超えると反応が長時間となる。
重合禁止剤を添加することが可能である。重合禁止剤と
しては公知慣用のものが使用されれば良く、空気中の酸
素、ハイドロキノン類、キノン類、フェノール類、等が
挙げられる。反応温度および時間は、反応に使用する有
機溶剤、触媒等の種類によって異なるが、それぞれ50
〜150℃、0.5〜20時間である。
しては、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン
酸、無水フタル酸、テトラハイドロ無水フタル酸、ヘキ
サハイドロ無水フタル酸、エンドメチレンテトラハイド
ロ無水フタル酸、メチルテトラハイドロ無水フタル酸、
無水クロレンド酸等の2塩基酸無水物、無水トリメリッ
ト酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカル
ボン酸無水物、ビフェニルテトラカルボン酸無水物等の
多塩基酸無水物が挙げられ、特にテトラヒドロ無水フタ
ル酸、無水コハク酸、ヘキサハイドロ無水フタル酸の使
用が好ましい。反応物(I)に対する飽和および/また
は不飽和多塩基酸無水物(c)の反応量は、反応物
(I)のアルコール性水酸基1モルに対して0.2〜
0.9モル、好ましくは0.3〜0.7モルである。反
応量が0.2モル未満であると、十分なアルカリ現像性
が得られず、0.9モルを超えると、硬化塗膜の電気特
性が低下してしまう。
多塩基酸無水物(d)との反応温度は150℃以下で、
反応時間は1〜10時間である。反応に際しては、必要
に応じて有機溶剤を追加し、前記した重合体(a1)また
は(a2)とエポキシ基含有エチレン性不飽和化合物
(b)との反応におけると同様の量範囲に調節する。
体(a2)とエポキシ基含有エチレン性不飽和化合物
(b)との反応物(I)に、さらに飽和および/または
不飽和多塩基酸無水物(c)を反応させて得られた生成
物は、硬化性の樹脂であり、この(A)硬化性樹脂と
(B)エポキシ樹脂、(C)重合開始剤、および(D)
重合性不飽和化合物および/または溶剤とを混合するこ
とにより、優れた誘電特性を有する硬化性樹脂組成物と
することができる。
(B)エポキシ樹脂としては、例えば1分子中にエポキ
シ基を1個以上有するものであって、ビスフェノールA
型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、水
添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノールノボラ
ック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ
樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノールノボラック型
エポキシ樹脂、フェノール−クレゾールノボラック共縮
合型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポ
キシ樹脂、ビスフェノールFノボラック型エポキシ樹脂
あるいはそれらのハロゲン化エポキシ化合物、トリフェ
ニロールメタン型エポキシ樹脂、アルキル置換トリフェ
ニロールメタン型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエ
タン型エポキシ樹脂等の多官能フェノールにエピクロル
ヒドリンを反応させて得られるエポキシ樹脂、多官能ヒ
ドロキシナフタレン類にエピクロルヒドリンを反応させ
て得られるエポキシ樹脂、シリコーン変成エポキシ樹
脂、ε−カプロラクトン変成エポキシ樹脂、エピクロル
ヒドリンと一級または二級アミンとの反応によって得ら
れるグリシジルアミン型エポキシ樹脂、トリグリシジル
イソシアネート等の複素環式エポキシ樹脂等が挙げられ
る。これらエポキシ樹脂の1種もしくは2種以上を併用
しても良い。また、誘電特性を考慮すると、前記したブ
タジエン(共)重合体にフェノール類を付加させたフェ
ノール類付加ブタジエン(共)重合体(a1)又はフェノ
ール類とジシクロペンタジエンとの重合体(a2)のフェ
ノール性水酸基をグリシジルエーテル化した化合物が特
に有効である。
エポキシ樹脂の使用目的は、密着性、耐熱性、耐メッキ
性等のソルダーレジストとしての諸特性を向上させるも
のである。
は2種以上の混合物として用いられ、その使用量は、樹
脂中のカルボキシル基の当量数を目安にするが、概ね
(A)硬化性樹脂100重量部に対して、3〜100重
量部、好ましくは10〜80重量部である。この使用量
が、3重量部未満では、カルボキシル基を十分に封止で
きず誘電特性が低下し、一方100重量部を超えると、
エポキシ成分が過剰になって、やはり誘電特性が低下し
てしまう。
品、耐熱性等の特性をより一層向上するためにエポキシ
硬化剤を併用することが望ましい。このようなエポキシ
樹脂硬化剤としては、イミダゾール誘導体、フェノール
誘導体、ジシアンジアミド、ジシアンジアミド誘導体、
ヒドラジド誘導体、アミン類、酸無水物等が挙げられ
る。フェノール誘導体を使用する場合は、前記したブタ
ジエン(共)重合体にフェノール類を付加させたフェノ
ール類付加ブタジエン(共)重合体(a1)およびフェノ
ール類とジシクロペンタジエンとの重合体(a2)が特に
有効である。上記硬化剤は1種類または2種類以上混合
して使用し、その使用量は、エポキシ樹脂のエポキシ基
に対し硬化剤の活性水素量が0.5から1.2当量にな
る割合が好ましい。
(C)重合開始剤は、光重合開始剤としては、ベンゾイ
ン類、アセトフェノン類、アントラキノン類、チオキサ
ントン類、ベンゾフェノン類等が挙げられ、例えば、ベ
ンゾイン類では、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインイソプロピルエーテル等の誘導体、アセ
トフェノン類では、アセトフェノン、2,2−ジメトキ
シ−2−フェニルアセトフェノン等の誘導体、アントラ
キノン類では、2−メチルアントラキノン、2−クロロ
アントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−t−
ブチルアントラキノン等の誘導体、チオキサントン類で
は、チオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン
等の誘導体、ベンゾフェノン類では、ベンゾフェノン、
4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルサルファイ
ド、4,4’―ジクロロベンゾフェノン、N,N−ジメ
チルアミノベンゾフェノン等の誘導体、2,4,6−ト
リメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等
があり、単独あるいは2種類以上を組み合わせて用いる
ことができる。さらに、光重合開始剤は、公知の光増感
剤を併用しても良い。具体的には、トリエタノールアミ
ン、トリプロパノールアミン、トリエチルアミン、N,
N−ジメチルアミノ酸安息香酸エチルエステル、N,N
−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ペンチ
ル−4−ジメチルアミノベンゾエート等が挙げられる。
上記の光増感剤は1種類または2種類以上混合して使用
する。また、ケトンパーオキサイド、パーオキシケター
ル、ハイドロパーオキサイド、ジアリルパーオキサイ
ド、ジアシルパーオキサイド、パーオキシエステル、パ
ーオキシジカーボネートに分類される有機過酸化物触媒
やアゾ化合物等の熱重合開始剤も(C)重合開始剤とし
て使用することができる。
(D)重合性不飽和化合物および/または溶剤は、活性
エネルギー光線に対する硬化性および/または感光性樹
脂組成物をレジストインキとして使用する場合の塗工性
を向上させる目的で使用するものである。重合性不飽和
化合物としては、活性エネルギー光線硬化性のあるモノ
マー類が好ましく、2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト,2−ヒドロキシプロピルアクリレート,N−ビニル
ピロリドン,N−アクリロイルモルフォリン,N,N−
ジメチルアクリルアミド,N,N−ジエチルアクリルア
ミド,N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート,
N,N−ジメチルアミノプロピルアクリレート,メトキ
シポリエチレングリコールアクリレート,エトキシポリ
エチレングリコールアクリレート,メラミンアクリレー
ト,フェノキシエチルアクリレート,フェノキシプロピ
ルアクリレート,エチレングリコールジアクリレート,
ジプロピレングリコールジアクリレート,ポリジプロピ
レングリコールジアクリレート,トリメチロールプロパ
ントリアクリレート,ペンタエリスリトールトリアクリ
レート,ペンタエリスリトールテトラアクリレート,ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート,グリセリン
ジアクリレート,イソボロニルアクリレート,ジシクロ
ペンテニツオキシエチルアクリレートおよびこれらに対
応する各種メタクリレートが挙げられる。これら重合性
不飽和化合物(D)の1種もしくは2種以上を併用して
も良い。
メチルイソブチルケトン,シクロヘキサノン等のケトン
類,トルエン,キシレン等の芳香族炭化水素,エチルセ
ロソルブ,ブチルセロソルブ,カルビトール,ブチルカ
ルビトール等のカルビトール類,酢酸エチル,酢酸ブチ
ル,セロソルブアセテート,ブチルセロソルブアセテー
ト,エチルカルビトールアセテート等が挙げられる。勿
論、反応中に使用した有機溶媒でもよいし、目的に応じ
て使い易い沸点の溶剤に置き換えてもよい。これらの溶
剤は1種もしくは2種以上を併用しても良い。
溶剤の使用量は、(A)硬化性樹脂100重量部に対し
て、10〜200重量部、好ましくは20〜150重量
部であり、この使用量が、10重量部未満では、光感度
が低すぎ、一方200重量部を超えると感光性樹脂組成
物をレジストインキとして使用する場合に粘度が低くな
りすぎ、硬化塗膜としての耐性が不十分になる。
レジストインキとして使用する場合には、さらに必要に
応じて、シリカ,炭酸カルシウム,硫酸バリウム,クレ
ー,タルク等の無機充填剤、フタロシアニングリーン,
フタロシアニンブルー,酸化チタン,カーボンブラック
等の着色顔料、消泡剤、レベリング剤等の各種添加剤の
他、ハイドロキノン,レゾルシノール,カテコール,ピ
ロガノール,ハイドロキノンモノメチルエーテル,t−
ブチルカテコール,フェノチアジン等の重合防止剤を使
用しても良い。
詳細にするが、本発明はこれらの実施例のみに限定され
るものではない。なお、各例中の「部」は重量基準を示
す。また、エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物の反
応率の測定および誘電率、誘電正接の測定は、各々次の
方法によって行った。 (エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物の反応率の測
定)GPC測定により予め作成した検量線を用いて求め
た。GPCカラムは昭和電工(株)製KF−802、K
F−801×3、溶出液はテトラヒドロフランを用い、
溶出速度を1mL/分とした。検出は昭和電工(株)製
SE−51示差屈折計を用いて行なった。 (誘電率、誘電正接の測定)予め硬化物の両面に金属塗
料により電極を形成し、横河・ヒューレットパッカード
(株)製LCRメータ4285Aおよび誘電体測定電極
16451Bを用いて周波数1MHzで測定を行ない、
誘電率および誘電正接を求めた。
口フラスコに、フェノール類付加ブタジエン(共)重合
体(日本石油化学(株)製、商品名:PP−700−3
00、水酸基価330g/eq)を528.0g(1.
6当量)、エチルカルビトールアセテート(大阪有機化
学工業(株)製、商品名:酢酸エチルジユーキゾール)
を190.0g、それぞれ仕込み、攪拌溶解し液温を1
30℃とした。次に、グリシジルメタクリレート22
7.4g(1.6モル)、トリエチルアミンを4.04
8g(0.040モル)を投入し、液温を120℃で5
時間保持し反応を行ない反応物(I)を得た。グリシジ
ルメタクリレートの残存率は5時間で2.0モル%であ
った。次に、テトラヒドロ無水フタル酸145.9g
(0.96モル)を仕込み、100℃で3時間反応させ
IR測定により酸無水物の吸収の消失を確認し、酢酸エ
チルジユーキゾールを196g(合計で全量の30重量
%)投入し、固形分酸価60mgKOH/gの硬化性樹
脂−1を得た。
口フラスコに、フェノール類とジシクロペンタジエンと
の重合体(日本石油化学(株)製、商品名:DPP−
M、水酸基価169g/eq)を270.4g(1.6
当量)、酢酸エチルジユーキゾールを124.5g、そ
れぞれ仕込み、攪拌溶解し液温を130℃とした。次
に、グリシジルメタクリレート227.4g(1.6モ
ル)、トリエチルアミンを4.048g(0.040モ
ル)を投入し、液温を120℃で5時間保持し反応を行
ない反応物(I)を得た。グリシジルメタクリレートの
残存率は5時間で2.0モル%であった。 次に、テト
ラヒドロ無水フタル酸145.9g(0.96モル)を
仕込み、100℃で3時間反応させIR測定により酸無
水物の吸収の消失を確認し、酢酸エチルジユーキゾール
を151.3g(合計で全量の30重量%)投入し、固
形分酸価84mgKOH/gの硬化性樹脂−2を得た。
口フラスコに、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂
(東都化成(株)社製、商品名:エポトートYDCN−
704、エポキシ当量210、軟化点90℃〕210
部、アクリル酸72部(1モル)、メチルハイドロキノ
ン0.28部、酢酸エチルジューキゾール31.3部を
仕込み、95℃に加熱し、上記混合物が均一に溶解した
ことを確認後、トリフェニルホスフィン1.4部を仕込
み、100℃に加熱し、約30時間反応させ、酸価0.
5mgKOH/gの反応物を得た。これに、テトラヒド
ロ無水フタル酸91.2部(0.60モル)を仕込み、
100℃に加熱し約6時間反応させIRにて酸無水物の
吸収の消失を確認し、酢酸エチルジユーキゾールを12
8.6g(合計で全量の30重量%)投入し、固形分酸
価90mgKOH/g、固形分濃度60%の硬化性樹脂
−3を得た。
−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン
(チバスペシャルティケミカルズ社製、商品名:イルガ
キュア651)を2部、ジシクロペンタジエン骨格を有
するエポキシ樹脂(大日本インキ化学工業(株)製、商
品名:HP−7200H、エポキシ当量270g/e
q)を31.6部、2−エチル−4−メチル−イミダゾ
ール(四国化成(株)製)を0.5部を添加し撹拌後、
膜厚50μmに設定したアプリケーターで銅板に塗布
し、80℃の恒温槽中で1時間保持し溶剤を乾燥した。
これに紫外線露光装置を用いて紫外線を500mJ/c
m2 照射し、さらに140℃で1時間加熱し樹脂の硬化
塗膜を得た。測定した誘電率、誘電正接は表1に示し
た。
替え、HP−7200Hを44.3部とした以外は、実
施例−1と全く同様の操作を行なった。測定した誘電
率、誘電正接は表1に示した。
3に替え、エポキシ樹脂をHP−7200Hからエポト
ートYDCN−704:29.2部とした以外は、実施
例−1と全く同様の操作を行なった。測定した誘電率、
誘電正接は表1に示した。
い、表2に示す配合比率に従って、3本ロールミルにて
混練し硬化性樹脂組成物を調製した。次いでその硬化性
樹脂組成物を予め脱脂を行なったプリント回路基板に、
乾燥膜厚で30から40μになるようにスクリーン印刷
法により塗布し、80℃で20分間予備乾燥後、室温ま
で冷却し乾燥塗膜を得た。この塗膜に必要に応じてレジ
ストパターンを有するネガフィルムを密着させ、紫外線
露光装置を用いて、350mJ/cm3 露光し、ネガフ
ィルムをはずした後、1%炭酸ナトリウム水溶液を用
い、スプレー圧2.0kgf/cm2 で60秒間現像
し、未露光部分を溶解除去した。その後、熱風乾燥機を
用い、150℃で30分間加熱硬化を行い、試験片を得
た。
方法に従って、塗膜についての各種物性評価を行い、そ
の評価結果を表3に示す。但し、現像性は80℃予備乾
燥時間を変えた塗膜を供試体として評価した。 (現像性)予備乾燥時間を20分、40分、60分とし
た乾燥塗膜を、1%炭酸ナトリウム水溶液を用い、スプ
レー圧2.0kgf/cm2 で60秒間現像を行い、現
像後の塗膜の有無を観察し、以下の基準で評価した。 ○:現像時、完全にインキが除去され、現像できたも
の。 ×:現像時、少しでも現像できない部分があるもの。
法に従って硬化膜に碁盤目状にクロスカットを入れ、次
いでセロハンテープによるによるピーリングテスト後の
剥れの状態を目視判定した。評価は、以下の基準で行っ
た。 ○:全く剥がれの無いもの。 △:クロスカット部が少し剥がれたもの。 ×:塗膜に剥がれがあるもの。
験方法に従って、試験片を260℃の半田浴に10秒
間、3回浸漬を行ない、取り出した後、外観の変化を観
察した。評価は、以下の基準で行った。 ○:外観変化なしのもの。 △:硬化膜の変色が認められたもの。 ×:硬化膜の浮き、剥れ、半田潜りありのもの。
して、30℃の酸性脱脂液に浸漬→浸漬水洗→ソフトエ
ッチング処理→浸漬水洗→触媒を付与(30℃のニッケ
ルメッキ触媒液に7分間浸漬)→浸漬水洗工程を行なっ
た。次に無電解ニッケルメッキ工程として、試験片をニ
ッケルメッキ液(85℃、PH=4.6)に20分間浸
漬→1分間酸浸漬(室温で10vol%硫酸水溶液)→
浸漬水洗を行ない、最後に無電解金メッキ工程として試
験片を金メッキ液(95℃、PH=6、シアン化金カリ
ウム3vol%水溶液)に10分間浸漬→浸漬水洗→6
0℃の温水で浸漬湯洗→十分に水洗後→水を良く切る→
乾燥の工程で無電解金メッキを行ない、その試験片につ
いて外観の変化及びセロハンテープを用いたピーリング
試験を行ない塗膜を観察した。評価は、以下の基準で行
った。 ○:外観変化もなく、レジストの剥離も全くないもの。 △:外観の変化はないが、レジストの剥離がわずかに見
られるもの。 ×:レジストの浮きやメッキ潜りが見られ、ピーリング
試験でレジストの剥がれが大きいもの。
m、飽和蒸気雰囲気下で100時間放置後の塗膜の外観
で判断した。評価は、以下の基準で行った。 ○:塗膜にふくれ、剥れがないもの。 ×:ふくれ、剥れのあるもの。
アヌレート〔日産化学(株)製〕 *2:2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニ
ル〕−2−モルホリノプロパノン−1〔チバ・ガイギー
社製、商品名:イルガキュア907〕 *3:2,4−ジエチルチオキサントン〔日本化薬
(株)製、商品名:カヤキュアDETX−S、〕 *4:トリメチロールプロパントリアクリレート〔共栄
社化学(株)製、商品名:ライトアクリレートTMP−
A、〕 *5:微粉末シリカ粉末〔日本アエロジル(株)製、商
品名:アエロジル300〕
明の硬化性樹脂組成物は、アルカリ現像性に優れ、その
硬化物は密着性、半田耐熱性、無電解金メッキ耐性に優
れ、アルカリ現像型のソルダーレジストの性能を有して
いることを確認した。
が優れ、アルカリ現像性に優れ、且つ硬化後の塗膜は、
密着性、半田耐熱性、無電解金メッキ耐性、耐PCT性
に優れるため、特にプリント配線基板用のソルダーレジ
ストインクとして好適に用いられる。
Claims (6)
- 【請求項1】 ブタジエン(共)重合体にフェノール類
を付加させたフェノール類付加ブタジエン(共)重合体
(a1)又はフェノール類とジシクロペンタジエンとの重
合体(a2)のフェノール性水酸基とエポキシ基含有エチ
レン性不飽和化合物(b)との反応物(I)に、さらに
飽和および/または不飽和多塩基酸無水物(c)を反応
させて得られる硬化性樹脂。 - 【請求項2】 重合体(a1)又は(a2)に対するエポキ
シ基含有エチレン性不飽和化合物(b)の反応量が、重
合体(a1)又は(a2)のフェノール性水酸基1当量に対
して、0.8〜1.0モルである、請求項1に記載の硬
化性樹脂。 - 【請求項3】 反応物(I)に対する飽和および/ また
は不飽和多塩基酸無水物(c)の反応量が、反応物
(I)のアルコール性水酸基1モルに対して0.2〜
0.9モルである請求項1に記載の硬化性樹脂。 - 【請求項4】 (A)請求項1〜3の何れかに記載の硬
化性樹脂、(B)エポキシ樹脂、(C)重合開始剤、お
よび(D)重合性不飽和化合物および/または溶剤を含
んでなる硬化性樹脂組成物。 - 【請求項5】 各成分の割合(A):(B):(C):
(D)が、100重量部:3〜100重量部:0.1〜
20重量部:10〜200重量部である請求項4に記載
の硬化性樹脂組成物。 - 【請求項6】 (C)重合開始剤が光重合開始剤である
請求項4または5に記載の硬化性樹脂組成物。
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