JP2002224554A - 粒状体製造装置及び粒状体の流れ制御方法 - Google Patents
粒状体製造装置及び粒状体の流れ制御方法Info
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- JP2002224554A JP2002224554A JP2001028574A JP2001028574A JP2002224554A JP 2002224554 A JP2002224554 A JP 2002224554A JP 2001028574 A JP2001028574 A JP 2001028574A JP 2001028574 A JP2001028574 A JP 2001028574A JP 2002224554 A JP2002224554 A JP 2002224554A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 金属単体または金属塩化物や金属酸化物等の
金属化合物を主成分とする溶湯から粒状体を効率的かつ
大量に、しかも低コストで作製することが可能な粒状体
製造装置及び粒状体の流れ制御方法を提供する。 【解決手段】 本発明の粒状体製造装置は、塩化第一銅
の溶湯を輸送する樋部62と、この樋部62の先端部6
2a近傍に配設されて樋部62から落下する溶湯に空気
を吹き付ける噴射ノズル64と、空気を吹き付けること
により塩化第一銅の溶湯を粒状化した粒状体を冷却・回
収するための装置本体部61とを備え、この装置本体部
61には、内部の気体を排気するための排気口76と、
外部から空気を導入して内部の気流を制御するための外
気導入口71が形成されていることを特徴とする。
金属化合物を主成分とする溶湯から粒状体を効率的かつ
大量に、しかも低コストで作製することが可能な粒状体
製造装置及び粒状体の流れ制御方法を提供する。 【解決手段】 本発明の粒状体製造装置は、塩化第一銅
の溶湯を輸送する樋部62と、この樋部62の先端部6
2a近傍に配設されて樋部62から落下する溶湯に空気
を吹き付ける噴射ノズル64と、空気を吹き付けること
により塩化第一銅の溶湯を粒状化した粒状体を冷却・回
収するための装置本体部61とを備え、この装置本体部
61には、内部の気体を排気するための排気口76と、
外部から空気を導入して内部の気流を制御するための外
気導入口71が形成されていることを特徴とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、粒状体製造装置及
び粒状体の流れ制御方法に関し、特に、金属単体または
金属塩化物や金属酸化物等の金属化合物を主成分とする
溶湯から粒状体を効率的かつ大量に作製することが可能
な粒状体製造装置及び粒状体の流れ制御方法に関するも
のである。
び粒状体の流れ制御方法に関し、特に、金属単体または
金属塩化物や金属酸化物等の金属化合物を主成分とする
溶湯から粒状体を効率的かつ大量に作製することが可能
な粒状体製造装置及び粒状体の流れ制御方法に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】従来、金属単体または金属塩化物や金属
酸化物等の金属化合物を含む金属溶湯を粒状化する技術
として、ガスアトマイズ法が知られている。ガスアトマ
イズ法は、金属等の溶湯に気体を噴射し、飛散した溶湯
を気流中での冷却過程でその表面張力により球状化さ
せ、粒状体とする方法である。この方法によれば、比較
的粒径の揃った金属粒子を得ることができる。
酸化物等の金属化合物を含む金属溶湯を粒状化する技術
として、ガスアトマイズ法が知られている。ガスアトマ
イズ法は、金属等の溶湯に気体を噴射し、飛散した溶湯
を気流中での冷却過程でその表面張力により球状化さ
せ、粒状体とする方法である。この方法によれば、比較
的粒径の揃った金属粒子を得ることができる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したガ
スアトマイズ法においては、他の方法と比べて金属粒子
の粒度分布が比較的シャープであるという特徴があるも
のの、生産量のスケールアップが難しく、得られた金属
粒子の製造コストが高いものになってしまうという問題
点があった。上述したガスアトマイズ法では、噴射ノズ
ルから噴射される比較的径の絞られた気流中に金属等の
溶湯を少量ずつ落下させているために、一度に飛散させ
ることのできる溶湯の量が限られてしまい、一度に大量
の金属粒子を得ることが非常に難しい。
スアトマイズ法においては、他の方法と比べて金属粒子
の粒度分布が比較的シャープであるという特徴があるも
のの、生産量のスケールアップが難しく、得られた金属
粒子の製造コストが高いものになってしまうという問題
点があった。上述したガスアトマイズ法では、噴射ノズ
ルから噴射される比較的径の絞られた気流中に金属等の
溶湯を少量ずつ落下させているために、一度に飛散させ
ることのできる溶湯の量が限られてしまい、一度に大量
の金属粒子を得ることが非常に難しい。
【0004】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたものであって、金属単体または金属塩化物や金属酸
化物等の金属化合物を主成分とする溶湯から粒状体を効
率的かつ大量に、しかも低コストで作製することが可能
な粒状体製造装置及び粒状体の流れ制御方法を提供する
ことを目的とする。
れたものであって、金属単体または金属塩化物や金属酸
化物等の金属化合物を主成分とする溶湯から粒状体を効
率的かつ大量に、しかも低コストで作製することが可能
な粒状体製造装置及び粒状体の流れ制御方法を提供する
ことを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は次の様な粒状体製造装置及び粒状体の流れ
制御方法を採用した。すなわち、本発明の請求項1記載
の粒状体製造装置は、金属もしくは金属化合物を主成分
とする溶湯が輸送される樋部と、該樋部の先端部近傍に
配設され該樋部から落下する溶湯に気体を吹き付ける噴
射ノズルと、気体を吹き付けることにより前記溶湯を粒
状化した粒状体を冷却・回収するための洞部とを備えた
粒状体製造装置であって、前記洞部には、内部の気体を
排気するための排気口と、外部から気体を導入して内部
の気流を制御するための外気導入口とが形成されている
ことを特徴とする。
に、本発明は次の様な粒状体製造装置及び粒状体の流れ
制御方法を採用した。すなわち、本発明の請求項1記載
の粒状体製造装置は、金属もしくは金属化合物を主成分
とする溶湯が輸送される樋部と、該樋部の先端部近傍に
配設され該樋部から落下する溶湯に気体を吹き付ける噴
射ノズルと、気体を吹き付けることにより前記溶湯を粒
状化した粒状体を冷却・回収するための洞部とを備えた
粒状体製造装置であって、前記洞部には、内部の気体を
排気するための排気口と、外部から気体を導入して内部
の気流を制御するための外気導入口とが形成されている
ことを特徴とする。
【0006】本発明の請求項2記載の粒状体製造装置
は、請求項1記載の粒状体製造装置において、前記排気
口は、前記噴射ノズルと相対する位置に形成され、か
つ、前記粒状体の該排気口への流入を防止するための遮
蔽部材を備えてなることを特徴とする。
は、請求項1記載の粒状体製造装置において、前記排気
口は、前記噴射ノズルと相対する位置に形成され、か
つ、前記粒状体の該排気口への流入を防止するための遮
蔽部材を備えてなることを特徴とする。
【0007】本発明の請求項3記載の粒状体製造装置
は、請求項1または2記載の粒状体製造装置において、
前記外気導入口は、前記噴射ノズルの下方に形成され、
所定の粒径を超える粒状体あるいは粒状化されない溶湯
を該外気導入口より外方へ排出することを特徴とする。
は、請求項1または2記載の粒状体製造装置において、
前記外気導入口は、前記噴射ノズルの下方に形成され、
所定の粒径を超える粒状体あるいは粒状化されない溶湯
を該外気導入口より外方へ排出することを特徴とする。
【0008】本発明の請求項4記載の粒状体製造装置
は、請求項1、2または3記載の粒状体製造装置におい
て、前記洞部の底部に、堆積した粒状体を外方へ搬出す
るための搬送手段を設けてなることを特徴とする。
は、請求項1、2または3記載の粒状体製造装置におい
て、前記洞部の底部に、堆積した粒状体を外方へ搬出す
るための搬送手段を設けてなることを特徴とする。
【0009】本発明の請求項5記載の粒状体製造装置
は、請求項1ないし4のいずれか1項記載の粒状体製造
装置において、前記排気口に、排出する気体の流量を制
御するための制御部材を設けてなることを特徴とする。
は、請求項1ないし4のいずれか1項記載の粒状体製造
装置において、前記排気口に、排出する気体の流量を制
御するための制御部材を設けてなることを特徴とする。
【0010】本発明の請求項6記載の粒状体の流れ制御
方法は、洞部内に落下する金属もしくは金属化合物を主
成分とする溶湯に気体を吹き付けることにより該溶湯を
粒状化させ、この粒状化された粒状体を洞部内にて循環
させて前記粒状体を冷却・回収する粒状体の流れ制御方
法であって、前記粒状体の流れを、該洞部内に導入する
外気及び該洞部からの排気により制御することを特徴と
する。
方法は、洞部内に落下する金属もしくは金属化合物を主
成分とする溶湯に気体を吹き付けることにより該溶湯を
粒状化させ、この粒状化された粒状体を洞部内にて循環
させて前記粒状体を冷却・回収する粒状体の流れ制御方
法であって、前記粒状体の流れを、該洞部内に導入する
外気及び該洞部からの排気により制御することを特徴と
する。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明の粒状体製造装置及
び粒状体の流れ制御方法の一実施の形態について図面を
参照して説明する。本実施の形態では、本発明の粒状体
製造装置及び粒状体の流れ制御方法が適用された塩化第
一銅の製造プラントを例に採り説明するが、本発明は以
下の実施の形態に限定されるものではない。
び粒状体の流れ制御方法の一実施の形態について図面を
参照して説明する。本実施の形態では、本発明の粒状体
製造装置及び粒状体の流れ制御方法が適用された塩化第
一銅の製造プラントを例に採り説明するが、本発明は以
下の実施の形態に限定されるものではない。
【0012】図1は、本発明の一実施の形態の塩化第一
銅の製造プラントを示す構成図であり、この製造プラン
トAは、銅原料の塩素化と還元を行うための反応炉1
と、この反応炉1に接続された塩素ガス供給装置2およ
び排ガス処理装置3と、反応炉1から搬出される塩化第
一銅(金属化合物)溶湯を急冷し、粒状化するためのア
トマイズ装置(粒状体製造装置)5と、このアトマイズ
装置5から回収される塩化第一銅の粉末あるいは粒体
(粒状体)を分級するための分級装置6とを主体として
構成されている。
銅の製造プラントを示す構成図であり、この製造プラン
トAは、銅原料の塩素化と還元を行うための反応炉1
と、この反応炉1に接続された塩素ガス供給装置2およ
び排ガス処理装置3と、反応炉1から搬出される塩化第
一銅(金属化合物)溶湯を急冷し、粒状化するためのア
トマイズ装置(粒状体製造装置)5と、このアトマイズ
装置5から回収される塩化第一銅の粉末あるいは粒体
(粒状体)を分級するための分級装置6とを主体として
構成されている。
【0013】前記反応炉1は、横長の浴槽型形状の本体
の周囲および底部が冷却ジャケット装置により覆われて
いる反応炉体10と、塩素ガス供給装置2より輸送され
る塩素ガスを噴射する噴射ノズル11とを、中空の反応
炉本体12内に設けた構成とされ、反応炉体10には、
その姿勢を可変するための油圧ポンプ13が設けられて
いる。この反応炉体10で製造された塩化第一銅の溶湯
は、反応炉体10の先端に設けられたノズルから後述す
る樋部62へと流出するようになっている。この反応炉
1には、冷媒循環装置18と、塩素ガス供給装置2と排
ガス処理装置3とが接続されている。
の周囲および底部が冷却ジャケット装置により覆われて
いる反応炉体10と、塩素ガス供給装置2より輸送され
る塩素ガスを噴射する噴射ノズル11とを、中空の反応
炉本体12内に設けた構成とされ、反応炉体10には、
その姿勢を可変するための油圧ポンプ13が設けられて
いる。この反応炉体10で製造された塩化第一銅の溶湯
は、反応炉体10の先端に設けられたノズルから後述す
る樋部62へと流出するようになっている。この反応炉
1には、冷媒循環装置18と、塩素ガス供給装置2と排
ガス処理装置3とが接続されている。
【0014】冷媒循環装置18は、反応炉体10の周囲
及び底部に設けられた冷却ジャケット装置へ循環させる
冷却媒体を冷却するための冷却塔と、冷媒を循環させる
ための循環ポンプを備えた構成である。なお、図1にお
いては、図中Xの箇所は、実際には接続されている。こ
の冷媒循環装置18では、冷却塔により冷却された冷却
媒体は、循環ポンプによって冷媒管18aを介して反応
炉1の各導入管へ導入され、反応炉1の冷却ジャケット
装置の循環流路内を流動する。そして、この循環流路を
経由して各導出管から冷媒管18bを介して冷却塔へ戻
され、再び冷却される。このようにして、冷却媒体は反
応炉1の反応炉体10を冷却するようになっている。
及び底部に設けられた冷却ジャケット装置へ循環させる
冷却媒体を冷却するための冷却塔と、冷媒を循環させる
ための循環ポンプを備えた構成である。なお、図1にお
いては、図中Xの箇所は、実際には接続されている。こ
の冷媒循環装置18では、冷却塔により冷却された冷却
媒体は、循環ポンプによって冷媒管18aを介して反応
炉1の各導入管へ導入され、反応炉1の冷却ジャケット
装置の循環流路内を流動する。そして、この循環流路を
経由して各導出管から冷媒管18bを介して冷却塔へ戻
され、再び冷却される。このようにして、冷却媒体は反
応炉1の反応炉体10を冷却するようになっている。
【0015】塩素ガス供給装置2は、反応炉1に接続さ
れて反応炉体10に塩素ガスを供給する装置である。こ
の塩素ガス供給装置2においては、貯蔵されている液体
塩素を加圧・気化して塩素ガスとした後、この塩素ガス
を貯溜タンクで一時的に貯留し、この貯留された塩素ガ
スを必要に応じて反応炉1へ供給することで、反応に供
されるようになっている。この塩素ガス供給装置2にお
いては、使用されず不要になった塩素ガスはその後回収
され、塩素が取り除かれた排気ガスが外部へ放出される
ようになっている。
れて反応炉体10に塩素ガスを供給する装置である。こ
の塩素ガス供給装置2においては、貯蔵されている液体
塩素を加圧・気化して塩素ガスとした後、この塩素ガス
を貯溜タンクで一時的に貯留し、この貯留された塩素ガ
スを必要に応じて反応炉1へ供給することで、反応に供
されるようになっている。この塩素ガス供給装置2にお
いては、使用されず不要になった塩素ガスはその後回収
され、塩素が取り除かれた排気ガスが外部へ放出される
ようになっている。
【0016】また、この反応炉1には、塩素を含む反応
炉1からの排ガスを処理するための第1の排ガス処理装
置3が接続されている。この第1の排ガス処理装置3で
は、反応炉1から送られた排ガスを、段階的に設けられ
たフィルタ等を通過させて粉末及び微粉末を取り除き、
次いで水分を取り除き、その後、この排ガスに含まれる
塩素ガスを中和して取り除き、外部へ放出するようにな
っている。なお、この排ガス処理装置3は、塩素ガスお
よび微粉末を含む排ガスからこれらを取り除くためのも
のであるから、例えば、排ガスを無害化するための他の
装置に置き換えたり、あるいは該排ガス処理装置3を適
宜追加しても良いことはもちろんである。
炉1からの排ガスを処理するための第1の排ガス処理装
置3が接続されている。この第1の排ガス処理装置3で
は、反応炉1から送られた排ガスを、段階的に設けられ
たフィルタ等を通過させて粉末及び微粉末を取り除き、
次いで水分を取り除き、その後、この排ガスに含まれる
塩素ガスを中和して取り除き、外部へ放出するようにな
っている。なお、この排ガス処理装置3は、塩素ガスお
よび微粉末を含む排ガスからこれらを取り除くためのも
のであるから、例えば、排ガスを無害化するための他の
装置に置き換えたり、あるいは該排ガス処理装置3を適
宜追加しても良いことはもちろんである。
【0017】アトマイズ装置5は、前記反応炉1で製造
された塩化第一銅の溶湯を急冷して粒状化した粒状体を
冷却・回収するための装置である。このアトマイズ装置
5は、図2及び図3に示すように、箱型の金属製の装置
本体部(洞部)61と、装置本体部61の上方側端から
内部に導入される樋部62と、装置本体部61の底部に
配設されて該底部に堆積する粒状体を外方へ搬出するス
クリューコンベア(搬送手段)63とを主体として構成
されている。そして、装置本体部61内部に導入される
樋部62の先端部62aの下方には、塩化第一銅の溶湯
に気体を吹き付けるための噴射ノズル64が配設されて
いる。
された塩化第一銅の溶湯を急冷して粒状化した粒状体を
冷却・回収するための装置である。このアトマイズ装置
5は、図2及び図3に示すように、箱型の金属製の装置
本体部(洞部)61と、装置本体部61の上方側端から
内部に導入される樋部62と、装置本体部61の底部に
配設されて該底部に堆積する粒状体を外方へ搬出するス
クリューコンベア(搬送手段)63とを主体として構成
されている。そして、装置本体部61内部に導入される
樋部62の先端部62aの下方には、塩化第一銅の溶湯
に気体を吹き付けるための噴射ノズル64が配設されて
いる。
【0018】装置本体部61の内部はほぼ空洞であり、
この装置本体部61の反応炉1側の側面(図2中左側
面)の中央上端部には、樋部62及び噴射ノズル64が
設けられ、これらにより前記溶湯を急冷して粒状化した
粒状体を噴射ノズル64により外部から導入される一次
空気(気体)と共に該装置本体部61内に導入される。
この装置本体部61の反応炉1側の側面(図2中左側
面)の中央上端部には、樋部62及び噴射ノズル64が
設けられ、これらにより前記溶湯を急冷して粒状化した
粒状体を噴射ノズル64により外部から導入される一次
空気(気体)と共に該装置本体部61内に導入される。
【0019】これら樋部62及び噴射ノズル64の下方
の側面は内側に傾斜されて逆3角形の傾斜面とされ、こ
の傾斜面には外部から二次空気(気体)を導入して内部
の気流を制御するための矩形状の外気導入口71が形成
されている。この二次空気は、装置本体部61の外方に
設けられたコンプレッサ65により供給される。また、
外気導入口71は、所定の粒径を超える粒状体あるいは
粒状化されない溶湯を装置本体部61の外方へ排出する
機能を有し、この外気導入口71の下方には落下する粒
状体や溶湯を収納する容器72が配置されている。
の側面は内側に傾斜されて逆3角形の傾斜面とされ、こ
の傾斜面には外部から二次空気(気体)を導入して内部
の気流を制御するための矩形状の外気導入口71が形成
されている。この二次空気は、装置本体部61の外方に
設けられたコンプレッサ65により供給される。また、
外気導入口71は、所定の粒径を超える粒状体あるいは
粒状化されない溶湯を装置本体部61の外方へ排出する
機能を有し、この外気導入口71の下方には落下する粒
状体や溶湯を収納する容器72が配置されている。
【0020】また、装置本体部61の上面の樋部62に
近接する位置には、外部から二次空気(気体)を導入す
るための吸入口73が、その上面の樋部62に相対する
位置には、外部から二次空気(気体)を導入するための
吸入口74が複数、それぞれ形成されている。そして、
この上面の吸入口74に近接する位置には、垂直上方に
延びかつ下方が開口された箱型の頂部75が設けられ、
この頂部75の樋部62側の側面には、装置本体部61
内を排気することで該装置本体部61の内部を負圧にす
るための排気口76が複数形成されている。
近接する位置には、外部から二次空気(気体)を導入す
るための吸入口73が、その上面の樋部62に相対する
位置には、外部から二次空気(気体)を導入するための
吸入口74が複数、それぞれ形成されている。そして、
この上面の吸入口74に近接する位置には、垂直上方に
延びかつ下方が開口された箱型の頂部75が設けられ、
この頂部75の樋部62側の側面には、装置本体部61
内を排気することで該装置本体部61の内部を負圧にす
るための排気口76が複数形成されている。
【0021】これらの排気口76それぞれには、排気す
る排ガス(気体)の流量を制御するためのダンパ(制御
部材)77が設けられている。さらに、頂部75の底部
中央部には、粒状体が排気口76へ流入するのを防止す
るための矩形状の遮蔽板(遮蔽部材)78が設けられて
いる。この遮蔽板78には、排気する排ガスを通過させ
るための多数の孔79、79、…が形成されている。
る排ガス(気体)の流量を制御するためのダンパ(制御
部材)77が設けられている。さらに、頂部75の底部
中央部には、粒状体が排気口76へ流入するのを防止す
るための矩形状の遮蔽板(遮蔽部材)78が設けられて
いる。この遮蔽板78には、排気する排ガスを通過させ
るための多数の孔79、79、…が形成されている。
【0022】このアトマイズ装置5では、樋部62を介
して装置本体部61内部に導入された塩化第一銅の溶湯
は、アトマイズ装置5内部で樋部62の先端から滴下さ
れて樋部62先端の下方に設置された噴射ノズル64か
ら噴射された乾燥空気などの気体により装置本体部61
内部へ飛散され、急冷、固化される。そして、固化され
て粉末あるいは粒状体となった塩化第一銅は、装置本体
部61の底部に堆積する。堆積した塩化第一銅の粉末あ
るいは粒状体は、装置本体部61の底部に設置されたス
クリューコンベア63により装置本体部61外へ搬出さ
れる。
して装置本体部61内部に導入された塩化第一銅の溶湯
は、アトマイズ装置5内部で樋部62の先端から滴下さ
れて樋部62先端の下方に設置された噴射ノズル64か
ら噴射された乾燥空気などの気体により装置本体部61
内部へ飛散され、急冷、固化される。そして、固化され
て粉末あるいは粒状体となった塩化第一銅は、装置本体
部61の底部に堆積する。堆積した塩化第一銅の粉末あ
るいは粒状体は、装置本体部61の底部に設置されたス
クリューコンベア63により装置本体部61外へ搬出さ
れる。
【0023】この装置本体部61では、外気導入口71
及び吸入口73、74により外部から装置本体部61内
に空気を導入するとともに、排気口76により排ガスを
排気することで装置本体部61の内部を負圧に保持する
とともに、この装置本体部61内に噴射ノズル64から
排気口76に至る螺旋状の気流が形成され、噴射ノズル
64により飛散された塩化第一銅の溶湯が固化する前に
装置本体部61の内壁に衝突して変形するのを防ぐよう
になっている。
及び吸入口73、74により外部から装置本体部61内
に空気を導入するとともに、排気口76により排ガスを
排気することで装置本体部61の内部を負圧に保持する
とともに、この装置本体部61内に噴射ノズル64から
排気口76に至る螺旋状の気流が形成され、噴射ノズル
64により飛散された塩化第一銅の溶湯が固化する前に
装置本体部61の内壁に衝突して変形するのを防ぐよう
になっている。
【0024】上記アトマイズ装置5には、装置本体部6
1の排気口76から排気された排ガスを処理するための
第2の排ガス処理装置7が接続されている。この排ガス
処理装置7は、塩化第一銅の微粉末を含む排ガスから微
粉末を回収し、排ガスを無害化するためのもので、アト
マイズ装置5の排気口76から排出された排ガスを、サ
イクロン等によりやや大きめの粉末を取り除き、続いて
バグフィルタにより微粉末を取り除いた後に、外部に放
出される。
1の排気口76から排気された排ガスを処理するための
第2の排ガス処理装置7が接続されている。この排ガス
処理装置7は、塩化第一銅の微粉末を含む排ガスから微
粉末を回収し、排ガスを無害化するためのもので、アト
マイズ装置5の排気口76から排出された排ガスを、サ
イクロン等によりやや大きめの粉末を取り除き、続いて
バグフィルタにより微粉末を取り除いた後に、外部に放
出される。
【0025】分級装置6は、アトマイズ装置5において
粒状化された塩化第一銅の粒状体を、その粒径により所
望のクラスに分級するための装置である。この分級装置
6は、塩化第一銅の粒状体が導入される導入口91と、
分級された塩化第一銅粒状体が導出される導出口92
と、分級装置6内部のガスを排気するための排気口93
と、分離された規格外の塩化第一銅粒状体を排出するた
めの排出口94とを有する。
粒状化された塩化第一銅の粒状体を、その粒径により所
望のクラスに分級するための装置である。この分級装置
6は、塩化第一銅の粒状体が導入される導入口91と、
分級された塩化第一銅粒状体が導出される導出口92
と、分級装置6内部のガスを排気するための排気口93
と、分離された規格外の塩化第一銅粒状体を排出するた
めの排出口94とを有する。
【0026】分級装置6へ投入された塩化第一銅粒状体
は、分級されて規格に合致する粒径の粒状体のみが導出
口92から搬出されて、この導出口92に接続されたス
クリューコンベア95により搬出装置9へ搬送される。
また、分級により分離された規格外の塩化第一銅粒状体
は排出口94から分級装置6外へ排出、回収される。ま
た、粒径が小さすぎるために分級装置6内部を飛散して
いる塩化第一銅の微粉末は、排気口93から排出されて
アトマイズ装置5へ戻され、このアトマイズ装置5の装
置本体部61の排ガスとともに排ガス処理装置7へと排
出される。なお、分級装置6としては、図に示す分級装
置に限定されるものではなく、粒状体を分級するための
一般的なふるい分級装置を使用することが可能であり、
目的とする粒体の大きさに合わせて適宜なものを選択す
ればよい。
は、分級されて規格に合致する粒径の粒状体のみが導出
口92から搬出されて、この導出口92に接続されたス
クリューコンベア95により搬出装置9へ搬送される。
また、分級により分離された規格外の塩化第一銅粒状体
は排出口94から分級装置6外へ排出、回収される。ま
た、粒径が小さすぎるために分級装置6内部を飛散して
いる塩化第一銅の微粉末は、排気口93から排出されて
アトマイズ装置5へ戻され、このアトマイズ装置5の装
置本体部61の排ガスとともに排ガス処理装置7へと排
出される。なお、分級装置6としては、図に示す分級装
置に限定されるものではなく、粒状体を分級するための
一般的なふるい分級装置を使用することが可能であり、
目的とする粒体の大きさに合わせて適宜なものを選択す
ればよい。
【0027】図1に符号8で示す搬入装置は、原料銅を
反応炉1へ投入するための装置であり、原料銅を搬送す
るスクリューコンベア101a、101bと、原料を一
時的に貯留するためのホッパー102a〜102cと、
原料銅を切断して反応炉1へ投入するフィーダ103と
を主体として構成されている。そして、外部からホッパ
ー102aへ投入された原料銅は、ホッパー102aの
底部に接続されたスクリューコンベア101aによって
搬送されてホッパー102bへ投入され、ホッパー10
2bへ貯留された原料銅はホッパー102bの底部から
スクリューコンベア101bによって搬送されてホッパ
ー102cへ投入される。そして、ホッパー102cか
らフィーダ103へ投入され、細かく切断されて反応炉
体10の上面開口部から反応炉体10内へ投入される。
反応炉1へ投入するための装置であり、原料銅を搬送す
るスクリューコンベア101a、101bと、原料を一
時的に貯留するためのホッパー102a〜102cと、
原料銅を切断して反応炉1へ投入するフィーダ103と
を主体として構成されている。そして、外部からホッパ
ー102aへ投入された原料銅は、ホッパー102aの
底部に接続されたスクリューコンベア101aによって
搬送されてホッパー102bへ投入され、ホッパー10
2bへ貯留された原料銅はホッパー102bの底部から
スクリューコンベア101bによって搬送されてホッパ
ー102cへ投入される。そして、ホッパー102cか
らフィーダ103へ投入され、細かく切断されて反応炉
体10の上面開口部から反応炉体10内へ投入される。
【0028】図1に符号9で示す搬出装置は、分級装置
6によって分級された塩化第一銅粒状体を一時貯留する
ための複数のホッパー111と、これらのホッパー11
1へ塩化第一銅粒状体を投入した際に発生する粉塵を集
めて回収するための集塵機112とを主体として構成さ
れている。そして、ホッパー111の底部には、ホッパ
ー111に貯留されている塩化第一銅粒状体を所定量毎
に出荷用コンテナに移載するためのスクリューコンベア
113がそれぞれ設けられている。
6によって分級された塩化第一銅粒状体を一時貯留する
ための複数のホッパー111と、これらのホッパー11
1へ塩化第一銅粒状体を投入した際に発生する粉塵を集
めて回収するための集塵機112とを主体として構成さ
れている。そして、ホッパー111の底部には、ホッパ
ー111に貯留されている塩化第一銅粒状体を所定量毎
に出荷用コンテナに移載するためのスクリューコンベア
113がそれぞれ設けられている。
【0029】次に、上記構成の塩化第一銅の製造プラン
トAにおける塩化第一銅の製造プロセスについて、図1
〜図3を参照して以下に説明する。まず、搬入装置8に
より原料銅が反応炉1へ投入され、続いて塩素ガス供給
装置2により反応炉1へ供給された塩素ガスが反応炉1
内の原料銅へ吹き付けられる。これにより反応炉1の反
応炉体10の第1の反応部内では、原料銅と塩素ガスに
より塩化第二銅を含む溶湯が生成され、この塩化第二銅
が反応炉体10の第2の反応部に移動するとともに還元
されて塩化第一銅の溶湯が生成される。
トAにおける塩化第一銅の製造プロセスについて、図1
〜図3を参照して以下に説明する。まず、搬入装置8に
より原料銅が反応炉1へ投入され、続いて塩素ガス供給
装置2により反応炉1へ供給された塩素ガスが反応炉1
内の原料銅へ吹き付けられる。これにより反応炉1の反
応炉体10の第1の反応部内では、原料銅と塩素ガスに
より塩化第二銅を含む溶湯が生成され、この塩化第二銅
が反応炉体10の第2の反応部に移動するとともに還元
されて塩化第一銅の溶湯が生成される。
【0030】そして、反応炉体10内での反応の進行と
ともに塩化第一銅の溶湯の液面が次第に上昇し、この溶
湯は反応炉体10の先端に設けられたノズルから樋部6
2へ流出する。この反応炉1からの排ガスは第1の排ガ
ス処理装置3へ送られ、微粉末、塩素ガスを取り除かれ
た後、外部へ放出される。
ともに塩化第一銅の溶湯の液面が次第に上昇し、この溶
湯は反応炉体10の先端に設けられたノズルから樋部6
2へ流出する。この反応炉1からの排ガスは第1の排ガ
ス処理装置3へ送られ、微粉末、塩素ガスを取り除かれ
た後、外部へ放出される。
【0031】樋部62を通ってアトマイズ装置5内へ導
入された塩化第一銅の溶湯は、装置本体部61内で樋部
62の先端から滴下され、樋部62先端の下方に設置さ
れた噴射ノズル64から装置本体部61内へ向かって噴
射された乾燥空気などの気体により装置本体部61内へ
飛散される。
入された塩化第一銅の溶湯は、装置本体部61内で樋部
62の先端から滴下され、樋部62先端の下方に設置さ
れた噴射ノズル64から装置本体部61内へ向かって噴
射された乾燥空気などの気体により装置本体部61内へ
飛散される。
【0032】この装置本体部61では、排気口76によ
り排ガスを排気すると同時に、外気導入口71及び吸入
口73、74により外部から装置本体部61内に二次空
気を導入し、装置本体部61の内部を負圧に保持するこ
とにより、この装置本体部61の内部には、噴射ノズル
64から装置本体部61内を循環して排気口76に至る
螺旋状の気流Gが形成される。ここで、排気口76によ
り排出される排ガスの流量は、ダンパ77を調整するこ
とで最適に制御されている。また、外気導入口71から
導入される二次空気の流量は、コンプレッサ65及びそ
れに付随する流量調整機構により最適に制御されてい
る。
り排ガスを排気すると同時に、外気導入口71及び吸入
口73、74により外部から装置本体部61内に二次空
気を導入し、装置本体部61の内部を負圧に保持するこ
とにより、この装置本体部61の内部には、噴射ノズル
64から装置本体部61内を循環して排気口76に至る
螺旋状の気流Gが形成される。ここで、排気口76によ
り排出される排ガスの流量は、ダンパ77を調整するこ
とで最適に制御されている。また、外気導入口71から
導入される二次空気の流量は、コンプレッサ65及びそ
れに付随する流量調整機構により最適に制御されてい
る。
【0033】この装置本体部61内へ飛散された塩化第
一銅の粒状体は、この気流Gに乗って装置本体部61内
を循環する間に冷却・固化される。そして、固化されて
粉末あるいは粒状体となった塩化第一銅は、装置本体部
61の底部に堆積する。堆積した塩化第一銅の粉末ある
いは粒状体は、装置本体部61の底部に設置されたスク
リューコンベア63により装置本体部61外へ速やかに
搬出され、分級装置6へ投入される。
一銅の粒状体は、この気流Gに乗って装置本体部61内
を循環する間に冷却・固化される。そして、固化されて
粉末あるいは粒状体となった塩化第一銅は、装置本体部
61の底部に堆積する。堆積した塩化第一銅の粉末ある
いは粒状体は、装置本体部61の底部に設置されたスク
リューコンベア63により装置本体部61外へ速やかに
搬出され、分級装置6へ投入される。
【0034】分級装置6により分級された塩化第一銅粒
状体は、分級装置6の導出口92からスクリューコンベ
ア95へ導出され、搬出装置9へ搬送される。一方、上
記アトマイズ装置5および分級装置6の排ガスは、第2
の排ガス処理装置7へ送られて塩化第一銅の微粉末が取
り除かれた後、外部へ放出される。
状体は、分級装置6の導出口92からスクリューコンベ
ア95へ導出され、搬出装置9へ搬送される。一方、上
記アトマイズ装置5および分級装置6の排ガスは、第2
の排ガス処理装置7へ送られて塩化第一銅の微粉末が取
り除かれた後、外部へ放出される。
【0035】以上説明したように、本実施形態の塩化第
一銅の製造プラントによれば、樋部62を介してアトマ
イズ装置5の装置本体部61内に導入した塩化第一銅の
溶湯を、噴射ノズル64から噴射された乾燥空気などの
気体により装置本体部61内部へ飛散させ、その後、気
流G中を循環する間に急冷、固化することとしたので、
塩化第一銅の溶湯から粒状体を効率的かつ大量に、しか
も低コストで作製することができる。
一銅の製造プラントによれば、樋部62を介してアトマ
イズ装置5の装置本体部61内に導入した塩化第一銅の
溶湯を、噴射ノズル64から噴射された乾燥空気などの
気体により装置本体部61内部へ飛散させ、その後、気
流G中を循環する間に急冷、固化することとしたので、
塩化第一銅の溶湯から粒状体を効率的かつ大量に、しか
も低コストで作製することができる。
【0036】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明の粒
状体製造装置によれば、金属もしくは金属化合物を主成
分とする溶湯を粒状化した粒状体を冷却・回収するため
の洞部に、内部の気体を排気するための排気口と、外部
から気体を導入して内部の気流を制御するための外気導
入口とを形成したので、前記洞部内に、前記粒状体を循
環させるための気流を安定した状態で発生させることが
できる。したがって、この気流に伴って循環する粒状体
を効率的かつ大量に冷却・固化させることができ、長期
間安定して粒状体を製造することができ、しかも低コス
トである。
状体製造装置によれば、金属もしくは金属化合物を主成
分とする溶湯を粒状化した粒状体を冷却・回収するため
の洞部に、内部の気体を排気するための排気口と、外部
から気体を導入して内部の気流を制御するための外気導
入口とを形成したので、前記洞部内に、前記粒状体を循
環させるための気流を安定した状態で発生させることが
できる。したがって、この気流に伴って循環する粒状体
を効率的かつ大量に冷却・固化させることができ、長期
間安定して粒状体を製造することができ、しかも低コス
トである。
【0037】次に、本発明によれば、前記排気口を、前
記噴射ノズルと相対する位置に形成し、かつ、前記粒状
体の該排気口への流入を防止するための遮蔽部材を備え
たので、前記洞部内で得られた粒状体が前記排気口から
外方へ排出されるのを防止することができる。したがっ
て、得られた粒状体の回収効率が向上し、しかも環境対
策上極めて効果的である。
記噴射ノズルと相対する位置に形成し、かつ、前記粒状
体の該排気口への流入を防止するための遮蔽部材を備え
たので、前記洞部内で得られた粒状体が前記排気口から
外方へ排出されるのを防止することができる。したがっ
て、得られた粒状体の回収効率が向上し、しかも環境対
策上極めて効果的である。
【0038】次に、本発明によれば、前記外気導入口を
前記噴射ノズルの下方に形成し、所定の粒径を超える粒
状体あるいは粒状化されない溶湯を該外気導入口より外
方へ排出することとしたので、洞部内を循環する粒状体
に、所望の粒径の粒状体以外のものが混入するのを防止
することができる。したがって、所望の粒径以外の粒状
体等の異種の混入の少ない粒状体を効率的かつ大量に得
ることができる。
前記噴射ノズルの下方に形成し、所定の粒径を超える粒
状体あるいは粒状化されない溶湯を該外気導入口より外
方へ排出することとしたので、洞部内を循環する粒状体
に、所望の粒径の粒状体以外のものが混入するのを防止
することができる。したがって、所望の粒径以外の粒状
体等の異種の混入の少ない粒状体を効率的かつ大量に得
ることができる。
【0039】次に、本発明によれば、前記洞部の底部
に、堆積した粒状体を外方へ搬出するための搬送手段を
設けたので、前記洞部内に堆積された粒状体を速やかか
つ容易に該洞部の外方へ搬出することができる。したが
って、以降の製造工程までの時間が短縮され、製造コス
トを削減することができる。
に、堆積した粒状体を外方へ搬出するための搬送手段を
設けたので、前記洞部内に堆積された粒状体を速やかか
つ容易に該洞部の外方へ搬出することができる。したが
って、以降の製造工程までの時間が短縮され、製造コス
トを削減することができる。
【0040】次に、本発明によれば、前記排気口に、排
出する気体の流量を制御するための制御部材を設けたの
で、この制御部材を制御することにより、前記洞部内に
おける圧力を最適条件となるように制御することがで
き、したがって、粒状体の冷却・固化を速やかに行うこ
とができ、粒状体の収量を増やすことができる。
出する気体の流量を制御するための制御部材を設けたの
で、この制御部材を制御することにより、前記洞部内に
おける圧力を最適条件となるように制御することがで
き、したがって、粒状体の冷却・固化を速やかに行うこ
とができ、粒状体の収量を増やすことができる。
【0041】次に、本発明によれば、洞部内に落下する
金属もしくは金属化合物を主成分とする溶湯に気体を吹
き付けることにより該溶湯を粒状化させ、この粒状化さ
れた粒状体を洞部内にて循環させて前記粒状体を冷却・
回収する際に、前記粒状体の流れを、該洞部内に導入す
る外気及び該洞部からの排気により制御するので、前記
洞部内の気流を常に安定した状態に保持することができ
る。したがって、この気流に伴って循環する粒状体を効
率的かつ大量に冷却・固化させることができ、長期間安
定して粒状体を製造することができる。
金属もしくは金属化合物を主成分とする溶湯に気体を吹
き付けることにより該溶湯を粒状化させ、この粒状化さ
れた粒状体を洞部内にて循環させて前記粒状体を冷却・
回収する際に、前記粒状体の流れを、該洞部内に導入す
る外気及び該洞部からの排気により制御するので、前記
洞部内の気流を常に安定した状態に保持することができ
る。したがって、この気流に伴って循環する粒状体を効
率的かつ大量に冷却・固化させることができ、長期間安
定して粒状体を製造することができる。
【図1】 本発明の一実施の形態の塩化第一銅の製造プ
ラントを示す構成図である。
ラントを示す構成図である。
【図2】 本発明の一実施の形態の塩化第一銅の製造プ
ラントのアトマイズ装置を示す断面図である。
ラントのアトマイズ装置を示す断面図である。
【図3】 本発明の一実施の形態の塩化第一銅の製造プ
ラントのアトマイズ装置を示す上面図である。
ラントのアトマイズ装置を示す上面図である。
【符号の説明】 1 反応炉 2 塩素ガス供給装置 3 排ガス処理装置 5 アトマイズ装置(粒状体製造装置) 6 分級装置 8 搬入装置 9 搬出装置 10 反応炉体 11 噴射ノズル 12 反応炉本体 13 油圧ポンプ 18 冷媒循環装置 18a、18b 冷媒管 61 装置本体部(洞部) 62 樋部 62a 先端部 63 スクリューコンベア(搬送手段) 64 噴射ノズル 65 コンプレッサ 71 外気導入口 72 容器 73、74 吸入口 75 頂部 76 排気口 77 ダンパ(制御部材) 78 遮蔽板(遮蔽部材) 79 孔 91 導入口 92 導出口 93 排気口 94 排出口 101a、101b スクリューコンベア 102a〜102c ホッパー 103 フィーダ 111 ホッパー 112 集塵機 113 スクリューコンベア A 塩化第一銅の製造プラント G 気流
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村田 篤思 茨城県鹿島郡神栖町東深芝19−1 三菱マ テリアル株式会社鹿島工場内 (72)発明者 本多 一義 秋田県秋田市茨島3−1−6 株式会社ジ ェムコ第1事業所内 Fターム(参考) 4G004 CA02 4K017 AA02 CA01 EB10 EB25 EB27 FA09 FA14
Claims (6)
- 【請求項1】 金属もしくは金属化合物を主成分とする
溶湯が輸送される樋部と、該樋部の先端部近傍に配設さ
れ該樋部から落下する溶湯に気体を吹き付ける噴射ノズ
ルと、気体を吹き付けることにより前記溶湯を粒状化し
た粒状体を冷却・回収するための洞部とを備えた粒状体
製造装置であって、 前記洞部には、内部の気体を排気するための排気口と、
外部から気体を導入して内部の気流を制御するための外
気導入口とが形成されていることを特徴とする粒状体製
造装置。 - 【請求項2】 前記排気口は、前記噴射ノズルと相対す
る位置に形成され、かつ、前記粒状体の該排気口への流
入を防止するための遮蔽部材を備えてなることを特徴と
する請求項1記載の粒状体製造装置。 - 【請求項3】 前記外気導入口は、前記噴射ノズルの下
方に形成され、所定の粒径を超える粒状体あるいは粒状
化されない溶湯を該外気導入口より外方へ排出すること
を特徴とする請求項1または2記載の粒状体製造装置。 - 【請求項4】 前記洞部の底部に、堆積した粒状体を外
方へ搬出するための搬送手段を設けてなることを特徴と
する請求項1、2または3記載の粒状体製造装置。 - 【請求項5】 前記排気口に、排出する気体の流量を制
御するための制御部材を設けてなることを特徴とする請
求項1ないし4のいずれか1項記載の粒状体製造装置。 - 【請求項6】 洞部内に落下する金属もしくは金属化合
物を主成分とする溶湯に気体を吹き付けることにより該
溶湯を粒状化させ、この粒状化された粒状体を洞部内に
て循環させて前記粒状体を冷却・回収する粒状体の流れ
制御方法であって、 前記粒状体の流れを、該洞部内に導入する外気及び該洞
部からの排気により制御することを特徴とする粒状体の
流れ制御方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001028574A JP2002224554A (ja) | 2001-02-05 | 2001-02-05 | 粒状体製造装置及び粒状体の流れ制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001028574A JP2002224554A (ja) | 2001-02-05 | 2001-02-05 | 粒状体製造装置及び粒状体の流れ制御方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002224554A true JP2002224554A (ja) | 2002-08-13 |
Family
ID=18893051
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001028574A Pending JP2002224554A (ja) | 2001-02-05 | 2001-02-05 | 粒状体製造装置及び粒状体の流れ制御方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002224554A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100999195B1 (ko) * | 2010-06-08 | 2010-12-07 | 한창산업 주식회사 | 에어 분사식 알루미늄 분말 제조 장치 |
-
2001
- 2001-02-05 JP JP2001028574A patent/JP2002224554A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100999195B1 (ko) * | 2010-06-08 | 2010-12-07 | 한창산업 주식회사 | 에어 분사식 알루미늄 분말 제조 장치 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040601 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20041012 |