KR20190061316A

KR20190061316A - 가스 분무 금속 분말용 연속 회수 시스템

Info

Publication number: KR20190061316A
Application number: KR1020170159571A
Authority: KR
Inventors: 김홍물; 유창형; 박지원; 최문석; 이재혁
Original assignee: 하나에이엠티 주식회사
Priority date: 2017-11-27
Filing date: 2017-11-27
Publication date: 2019-06-05
Also published as: KR102020650B1

Abstract

본 발명은 가스 분무를 이용한 금속 분말을 제조하는 공정 및 장치에 관한 것이다. 상세하게는, 원재료에 대한 가스 분무(gas atomizing) 공정 이후 연속적으로 분말을 회수함으로써 공정 효율성을 향상시킬 수 있는 일체화된 금속 분말 제조용 연속 회수 시스템에 관한 것이다.

Description

가스 분무 금속 분말용 연속 회수 시스템{Continuous recovery system for gas-atomized metal powder}

가스 분무(gas atomizing) 공정은 금속 용탕을 고주파 유도로를 이용하여 용해를 진행하고, 턴디쉬로 이송하여 상기 턴디쉬에 부착된 오리피스 내부를 통과한 뒤 노즐을 이용하여 용탕을 하방에 위치한 챔버 내로 수직 낙하시키면서 노즐에서 분무되는 고압 가스와 충돌시킴으로써 급속 냉각 후 응고되어 입자화시킴으로써 금속 분말을 제조하는 것이다.

이러한 가스 분무 공정을 통한 금속 분말의 제조방법은 분말의 구형화에 유리하고 내부 산소 함유량을 제어할 수 있어 알루미늄, 스테인레스 스틸, 마그네슘 등과 같은 다양한 금속을 제조하는 방법으로 주목받고 있다.

하지만, 가스 분무 공정 시 가스 제어가 어렵고, 특히 가스 분무 공정으로 제조된 분말은 제조 공정에서 높은 열에 노출되어 일정 시간 동안 냉각 공정이 요구되며, 곧바로 후속 공정을 진행할 수 없어 이들 금속 분말을 별도로 보관하여 충분히 냉각시킨 다음 후속 공정을 진행해야 하므로 생산성이 크게 저하되는 문제점을 갖고 있다.

이에, 가스 분무를 이용한 금속 분말의 제조 공정 상에서 가스 분무 및 분무 이후에 분급 회수 등의 후속 공정을 연속적으로 실시할 수 있는 금속 분말의 제조 장치 및 이를 이용한 연속적인 금속 분말의 제조방법에 대한 기술 개발이 필요한 실정이다.

한국공개특허 제10-2016-0048262호(2016.05.04.)

M. Morakotjinda et al., Chiang Mai J. Sci. 2010; 37(1) : 55-63

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 가스 분무 공정 이후 곧바로 후속 공정을 연속적으로 진행할 수 있어 공정 시간을 단축시킬 수 있으며, 공정 상 분말의 손실을 최소화함으로써 고품질의 금속 분말의 생산성을 획기적으로 향상시킬 수 있는 가스 분무 금속 분말 제조용 연속 회수 장치 및 이를 이용한 가스 분무를 이용한 연속 금속 분말 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명의 일 양태는 가스 분무에 의해 금속 분말을 제조하는 가스 분무기,

상기 가스 분무기에서 생성된 분말을 안정화하는 전처리 호퍼,

상기 전처리 호퍼로부터 공급 받은 분말을 이송시키는 제1 마그네틱 피더,

상기 마그네틱 피더로부터 이송된 분말을 상향으로 수직 이송시키는 스파이럴 피더 및

상기 스파이럴 피더로부터 공급받은 분말의 분급을 실시하는 분급기

를 포함하는 가스 분무 금속 분말 제조용 연속 회수 장치에 관한 것이다.

본 발명의 일 실시예에 따른 가스 분무 금속 분말 제조용 연속 회수 장치에 있어서, 상기 스파이럴 피더는 상단 및 하단의 일측에 블로워를 구비하는 것일 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따른 가스 분무 금속 분말 제조용 연속 회수 장치에 있어서, 상기 스파이럴 피더는 폐쇄형 구조를 가지며, 내부가 비활성 가스 분위기로 제어 가능한 것일 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따른 가스 분무 금속 분말 제조용 연속 회수 장치에 있어서, 상기 가스 분무기는 사용된 가스를 순환시키는 리사이클링 유닛을 구비하는 것일 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따른 가스 분무 금속 분말 제조용 연속 회수 장치에 있어서, 상기 가스 분무기는 후단에 사이클론을 구비하는 것일 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따른 가스 분무 금속 분말 제조용 연속 회수 장치에 있어서, 상기 가스 분무기는 스파이럴 피더 후단에 제2마그네틱 피더를 구비하는 것일 수 있다.

본 발명의 다른 양태는

금속을 용해한 용탕을 수직 낙하시키며 출탕한 다음, 출탕된 용탕에 가스를 분무하여 금속 분말을 제조하는 금속 분말 생성단계,

상기 생성된 금속 분말을 안정화하는 전처리 단계,

상기 전처리된 분말을 마그네틱 피더를 이용하여 후공정에 공급하는 제1 이송단계,

상기 마그네틱 피더를 거쳐 공급된 분말을 스파이럴 피더를 이용하여 미세화 및 냉각하는 제2 이송단계 및

상기 스파이럴 피더로부터 공급 받은 분말을 분급 처리하는 분급단계

를 포함하는 가스 분무를 이용한 연속 금속 분말 제조방법에 관한 것이다.

본 발명의 일 실시예에 따른 연속 금속 분말 제조방법에 있어서, 상기 제2 이송단계는 스파이럴 피더 내부에 유체의 흐름을 제어하는 것을 포함할 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따른 연속 금속 분말 제조방법에 있어서, 상기 제2 이송단계는 비활성 가스 분위기하에서 실시되는 것일 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따른 연속 금속 분말 제조방법에 있어서, 상기 금속 분말 제조단계는 사용된 가스를 재순환시키는 것을 포함할 수 있다.

본 발명에 따른 가스 분무 금속 분말 제조용 연속 회수 장치 및 이를 이용한 연속 금속 분말 제조방법은 융점이 낮은 아연을 비롯하여 비교적 융점이 높은 스테인리스 스틸, 구리 등을 포함하는 다양한 금속 소재에 적용이 가능하며, 나아가 알루미늄 또는 마그네슘과 같은 자연 발화성 위험 물질의 분말을 안전하게 제조할 수 있으며, 분말의 산소 및 질소 함유량을 용이하게 제어할 수 있는 장점을 가진다.

또한, 본 발명은 원재료의 용융, 입자화, 분급 및 회수를 포함하는 전반적인 공정을 유기적으로 연계된 온라인 생산 시스템을 통해 운용되어 공정의 단순화, 공정 시간 단축 및 비용 절감을 통해 생산성을 극대화할 수 있는 장점을 가진다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 금속 분말 제조용 연속 회수 장치를 개략적으로 나타낸 것이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 금속 분말 제조용 연속 회수 장치의 주요 공정 장치를 개략적으로 나타낸 것이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 금속 분말 제조용 연속 회수 장치 중 분급장치를 상부에서 본 것이다.
도 4는 본 발명의 가스 분무를 이용한 연속 금속 분말 제조방법의 일 실시예에 따라 제조되어 회수된 마그네슘 분말의 SEM 사진을 나타낸 것이다.

이하 도면 및 구체예를 들어 본 발명에 따른 가스 분무 금속 분말 제조용 연속 회수 장치 및 이를 이용한 연속 금속 분말 제조방법을 더욱 상세히 설명한다. 다만 하기 구체예 또는 실시예는 본 발명을 상세히 설명하기 위한 하나의 참조일 뿐 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 여러 형태로 구현될 수 있다.

또한, 달리 정의되지 않은 한, 모든 기술적 용어 및 과학적 용어는 본 발명이 속하는 당업자 중 하나에 의해 일반적으로 이해되는 의미와 동일한 의미를 갖는다. 본원에서 설명에 사용되는 용어는 단지 특정 구체예를 효과적으로 기술하기 위함이고 본 발명을 제한하는 것으로 의도되지 않는다.

또한 다음에 소개되는 도면들은 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되는 것이다. 따라서 본 발명은 이하 제시되는 도면들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있으며, 이하 제시되는 도면들은 본 발명의 사상을 명확히 하기 위해 과장되어 도시될 수 있다. 또한 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.

또한 명세서 및 첨부된 특허청구범위에서 사용되는 단수 형태는 문맥에서 특별한 지시가 없는 한 복수 형태도 포함하는 것으로 의도할 수 있다.

본 발명자들은 종래 가스 분무법에 의해 분말을 제조 공정에서 가스 분무 공정 이후 분말 내에 남아있는 잠열로 인하여 이를 냉각시키는데 일정 시간이 소요되고, 사이클론과 같은 분급 장치에서 공정이 바로 이루어지지 못하고, 제조된 분말의 이송과정에서 장치 내벽에 쌓이거나 외부로 유출되는 등의 분말의 손실이 발생되어 최종 분말의 회수율이 저하되는 공정 한계를 인식하고, 이를 해결하기 위한 연구를 심화하던 중, 가스 분무 공정과 동시에 입자화, 이송, 냉각, 분급 및 회수를 포함하는 전반적인 공정을 유기적으로 연계된 일체화된 단일 생산 시스템을 제공함으로써 공정 단순화, 공정 시간 단축 및 비용 절감을 통한 생산성을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 고품질의 금속 분말을 연속적으로 대량 생산할 수 있음을 발견하여 본 발명을 완성하게 되었다.

본 발명의 일 양태는 가스 분무에 의해 금속 분말을 제조하는 가스 분무기, 상기 가스 분무기에서 생성된 분말을 안정화하는 전처리 호퍼, 상기 전처리 호퍼로부터 공급 받은 분말을 이송시키는 제1 마그네틱 피더, 상기 마그네틱 피더로부터 이송된 분말을 상향으로 수직 이송시키는 스파이럴 피더 및 상기 스파이럴 피더로부터 공급받은 분말의 분급을 실시하는 분급기를 포함하는 가스 분무 금속 분말 제조용 연속 회수 장치를 제공하는 것이다.

도 1 및 도 2는 본 발명의 일 양태에 따른 가스 분무 금속 분말 제조용 연속 회수 장치를 개략적으로 나타낸 것이다.

구체적으로, 상기 가스 분무 금속 분말 제조용 연속 회수 장치는 가스 분무기(10), 상기 가스 분무기(10)의 후단에 전처리 호퍼(20), 상기 전처리 호퍼(20)에 연계된 제1 마그네틱 피더(30), 상기 제1 마그네틱 피더(30)에 후단에 스파이럴 피더(40) 및 분급기(70)를 포함하여 이루어진다.

상기 가스 분무기(10)는 가스 분무법을 이용하여 금속 원재료를 분말화 하는 장치이다. 상기 분말화는 금속 용탕을 용융로에서 수용한 다음 턴디쉬(tundish)로 수직 낙하하게 하는 것과 동시에 가스를 분무함으로써 상기 낙하하는 용탕에 직접적인 접촉을 통해 분쇄 및 급속 응고로 실시된다.

이때, 가스 분무기(10)는 분무 속도 및 분무량을 노즐을 통해 조절할 수 있으며, 용탕이 급냉되지 않도록 조절되는 것이 바람직하다.

상기 용탕을 수용하는 용융로는 고주파유도로 또는 전기저항로를 구비하는 것을 포함한다.

상기 가스 분무기(10)에 사용되는 가스는 질소, 아르곤 및 헬륨으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상의 비활성 기체일 수 있으며, 반드시 이에 제한되는 것은 아니다.

본 발명에서 사용되는 금속 원재료는 그 종류에 크게 제한되지 않으며, 융점이 낮은 아연을 비롯하여 비교적 융점이 높은 스테인리스 스틸, 구리 등을 포함하는 다양한 금속 소재에 적용이 가능하다. 또한, 경금속 또는 발화성이 높은 금속 소재를 대상으로 할 수 있으며, 이에 제한되는 것은 아니다.

상기 가스 분무기(10)에 의해 생성된 분말들은 유입부(12)를 통해 가스 분무 장치 하방의 수집 용기에 수집되면서 유입부(12)를 통해 사이클론(11)의 내부 원뿔부(14)에 외부 선회류를 따라 하방으로 이송되며 하부 지점에 이른다. 상기 원뿔부(14)는 원뿔이 거꾸로 뒤집힌 형상을 가지며, 유체의 흐름이 상승하는 와류가 발생되어 입자의 분리가 가능하다.

상기 가스 분무기(10)에서 생성된 분말들은 그 비중에 따라 하단의 전처리 호퍼(20)로 이동되거나 상승 흐름을 따라 사이클론(11) 상단의 배출부(13)를 통해 2차 사이클론으로 이송될 수 있다. 배출되는 미세 분말들은 그 크기가 약 50㎛ 이하인 것이며, 별도의 회수용기를 통해 수거될 수 있다. 또한, 상기 미세 분말과 함께 이송하는 캐리어가스, 즉 비활성 기체의 경우 추가 구비되는 2차 사이클론을 통과한 다음, 연계된 가스 리사이클링 유닛(90)을 통해 가스 분무기(10)에 다시 공급될 수 있도록 할 수 있다. 상기 2차 사이클론을 통한 미세 분말 및 가스 재사용에 대한 장치 구성으로는 블로워, 버퍼 탱크, 압축기 또는 압축 저장탱크를 포함할 수 있다. 즉, 상기 가스 리사이클링 유닛(90)은 가스 분무 이후 분말의 이송 및 회수에 영향을 주지 않으면서 가스 분무에 사용된 가스를 재사용할 수 있도록 한다.

상기 가스 분무기(10)에서 생성된 분말은 사이클론(11) 하방으로 전달되면서 전처리 호퍼(20)에서 일시적으로 수집된다. 이때, 분말의 입자 크기 분포는 50㎛ 내지 300㎛인 것일 수 있다.

상기 전처리 호퍼(20)를 통해 분말은 제1 마그네틱 피더(30)로 이송된다. 이때, 상기 전처리 호퍼(20) 하단의 비스듬히 경사진 부분에 버핑(buffing) 처리를 적용하여 분말의 표면을 매끄럽게 할 수 있다. 이는 분말 이송 시 막힘 현상을 효율적으로 방지할 수 있는 효과를 가진다. 상기 버핑은 입자의 표면을 매끄럽게 가공하는 것을 의미한다.

상기 제1 마그네틱 피더(30)는 수평 방향으로 분말을 스파이럴 피더(40)로 공급하는 것으로, 이송하는 동안 분말을 균일하게 분쇄할 수 있으며, 이물질을 제거할 수 있어 고순도 제품을 선별하는 분리 작업이 동시에 진행될 수 있다. 이는 장치 전반적인 공정에서 처리 용량을 늘릴 수 있도록 한다. 또한, 상기 제1 마그네틱 피더(30)의 하단부에 위치한 자석을 이용하여 진동을 발생시킴으로써 원활한 이송 및 후단 공정으로 정량의 분말을 공급할 수 있다. 이때, 상기 제1 마그네틱 피더(30)는 공급 시 유입구에서 배출구 쪽으로 기울어져있는 것이 바람직하다. 상기 제1 마그네틱 피더(30)의 이송에 따라 분말의 냉각 공정이 진행된다. 상기 제1 마그네틱 피더(30)는 폐쇄형인 것으로 외부 물질의 유입을 효과적으로 차단할 수 있다.

상기 스파이럴 피더(40)는 스파이럴 엘리베이터로 불리우며, 수직 상향의 나선형의 형태를 가진 이송 라인, 진동 이송로(41)를 구비한다. 이는 일정한 속도로 분말을 공급할 수 있으며, 동시에 분말들을 골고루 혼합되게 하면서 공급을 정확하게 유도할 수 있는 역할을 한다. 구체적으로, 상기 스파이럴 피더(40)는 하단부에 진동 모터(43)가 구비되고, 그 중심으로부터 축인 진동 이송로 기둥(47)과 스파이럴 피더(40)를 하부의 스프링(45)과 지지대(44)가 지탱하도록 구비된다. 상기 진동 모터(43)에 의해 발생되는 진동에 의해서 분말들은 이송로를 따라 수직 상향으로 이동하게 되고, 이를 통해 보다 미세화되며, 균일한 혼합이 가능하다. 상기 스파이럴 피더(40)는 수직 상향의 엘리베이터 형태를 가지고 있어, 제한된 공간에서 기능 효율성을 높일 수 있는 효과를 가진다. 나아가, 상기 스파이럴 피더(40)는 개폐구(46)를 구비함으로써 이를 통해 냉각 기능을 부여할 수 있고, 장치 내 외부 물질이 유입되지 않도록 할 수 있으며, 분말의 산소 또는 질소 등의 성분 함량을 제어할 수 있는 효과를 가진다.

본 발명에서 상기 스파이럴 피더(40)와 함께 제1 마그네틱 피더(30) 및 제2 마그네틱 피더(60)는 폐쇄형 구조를 가지는 것을 특징으로 한다. 이는 외부 대기와 습기의 영향을 최소화 할 수 있으며, 분말 내 이물질은 물론 질소 또는 산소가 함유되는 것을 억제할 수 있다.

이와 동시에, 상기 스파이럴 피더(40)는 상단 혹은 하단의 일측에 블로워를 구비하는 것을 특징으로 한다. 상기 블로워는 하단에 유입 블로워(42)를 통한 가스를 유입시키고, 상단에 배출 블로워(48)를 가스를 배출시킬 수 있으며, 이를 통해 스파이럴 피더(40) 내부에 공급되는 가스의 유량 혹은 압력을 제어할 수 있어 분말의 균일화, 냉각 및 이송에 더욱 효과적이다. 이때, 가스는 비활성 가스를 사용하는 것이 바람직하다. 즉, 스파이럴 피더(40) 내부가 비활성 가스 분위기로 제어됨으로써 목적하는 바를 달성하기에 더욱 효과적이다.

상기 스파이럴 피더(40)는 후단에 후처리 호퍼(50)를 구비할 수 있다. 이는 연결 파이프를 통해 분말을 후처리 호퍼(50)로 이송시킴으로써 분말의 이송 속도를 효율적으로 제어할 수 있으며, 상기 후처리 호퍼(50) 또한 전처리 호퍼(20)와 마찬가지로 버핑 처리를 실시할 수 있으며, 이송되는 분말의 손실 또는 분말에 따른 막힘 현상을 방지할 수 있어 효과적이다.

상기 스파이럴 피더(40)를 통과한 분말은 제2 마그네틱 피더(60)에 공급될 수 있다. 상기 제2 마그네틱 피더(60)는 상기 제1 마그네틱 피더(30)와 마찬가지로 이송 시 진동을 가하고 공급 속도를 제어하는 측면에서 효과적이다.

상기 스파이럴 피더(40)의 후단 혹은 상기 제2 마그네틱 피더(60)의 후단에는 분급기(70)가 구비될 수 있다. 상기 분급기(70)는 공급받은 분말의 분급 및 회수를 실시할 수 있는 것으로, 좌우 병렬 구조로 분말 회수 배출관(72,73,74,75)이 구비되며, 그 사이에 분말의 입자 크기에 따라 선별작업이 가능한 메쉬(mesh)가 구비된다. 최상단에는 다중 스크린 메쉬(71)가 구비될 수 있다. 상부에서 하부로 갈수록 사이즈가 큰 메쉬를 사용하여 보다 미세한 분말의 분리 및 회수가 효율적으로 수행될 수 있다.

상기 분급기(70)는 입자 크기별로 복수의 단계를 거칠 수 있으며, 도 3에서 보이는 바와 같이 분말 1차 회수용기(91), 분말 2차 회수용기(92), 분말 3차 회수용기(93) 및 분말 최종(4차) 회수용기(94)를 구비하여 회수될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.

본 발명의 다른 양태는 가스 분무를 이용한 연속 금속 분말 제조방법에 관한 것으로, 가스 분무기(10)를 이용한 금속 분말 생성단계, 상기 생성된 금속 분말을 전처리 호퍼(20)에서 안정화시키는 전처리 단계, 상기 전처리된 분말을 마그네틱 피더(30)를 이용하여 후단의 스파이럴 피더(40)로 공급하는 제1 이송단계, 상기 스파이럴 피더(40)를 이용하여 분말의 미세화 및 냉각을 실시하는 제2 이송단계 및 상기 스파이럴 피더(40)로부터 공급 받은 분말을 분급기(70)를 이용하여 분급 처리하는 분급단계를 연속적으로 실시하는 연속 금속 분말 제조방법을 제공한다.

구체적으로, 상기 금속 분말 생성단계는 가스 분무기(10)에서 금속을 용해한 용탕을 수직 낙하시켜 출탕하면서 동시에 상기 출탕된 용탕에 가스를 분무함으로써 분쇄 및 급속 응고에 의해 금속 분말을 제조한다. 이후, 생성된 금속 분말은 전처리 호퍼(20)에 이송되어 분말의 안정화를 위한 전처리가 실시된다.

상기 전처리된 분말은 마그네틱 피더(30)를 이용하여 후속 공정에 공급되며, 이송에 따라 추가 분쇄가 실시될 수 있으며, 분말에 따른 막힘 현상이 발생하지 않으면서 후속 공정으로의 원활한 이송을 실시할 수 있다. 이와 동시에 분말의 냉각이 실시된다.

상기 마그네틱 피더(30)를 거쳐 공급된 분말은 스파이럴 피더(40)를 이용하여 미세화 및 냉각하는 제2 이송단계가 실시된다. 상기 스파이럴 피더(40)를 이용한 공정은 앞서 스파이럴 피더를 설명한 바와 같다. 특히, 상기 제2 이송단계는 스파이럴 피더(40) 내부에 유체의 흐름을 블로워를 통해 제어할 수 있는 것을 특징으로 한다. 또한, 상기 스파이럴 피더(40) 내부 환경은 일단에 구비된 개폐구(46)를 통해 제어되며, 비활성 가스 분위기 하에서 공정을 실시하는 것이 바람직하다.

상기 스파이럴 피더(40)로부터 공급 받은 분말은 후속 공정의 분급기(70)를 이용한 분급 처리된다. 이때, 분급 처리는 메쉬의 크기를 조절하여 분말 입자를 조절할 수 있으며, 분급 후 회수하는 공정을 포함한다.

상술한 바와 같은 가스 분무를 이용한 연속 금속 분말 제조방법에 따라, 도 4와 같이 고품질의 금속 분말을 회수할 수 있음을 확인할 수 있다.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였으나, 본 발명은 다양한 변화와 변경 및 균등물을 사용할 수 있으며, 상기 실시예를 적절히 변형하여 동일하게 응용할 수 있음이 명확하다. 따라서 상기 기재 내용은 하기 특허청구범위의 한계에 의해 정해지는 본 발명의 범위를 한정하는 것이 아니다.

10 : 가스 분무기(Gas atomizer)
11 : 사이클론(Cyclone)
12 : 유입부(Inlet)
13 : 배출부(Outlet)
14 : 원뿔부
15 : 연결파이프(Connection pipe)
20 : 전처리 호퍼(Pre-treatment hopper)
30 : 제1 마그네틱 피더(First magnetic feeder)
40 : 스파이럴 피더(Spiral feeder)
41 : 진동 이송로(Vibration convey line)
42 : 유입 블로워(Inlet blower)
43 : 진동 모터(Vibration motor)
44 : 지지대(Support unit)
45 : 스프링(Spring)
46 : 개폐구(Gateway)
47 : 진동 이송로 기둥(Convey line pillar)
48 : 배출 블로워(Outlet blower)
49 : 연결 파이프(Connection line)
50 : 후처리 호퍼(Post-treatment hopper)
60 : 제2 마그네틱 피더(Second magnetic feeder)
70 : 분급기(Distributor)
71 : 다중 스크린 메쉬(Multi screen mesh)
72 : 분말 1차 회수관(Powder first collector pipe)
73 : 분말 2차 회수관(Powder second collector pipe)
74 : 분말 3차 회수관(Powder third collector pipe)
75 : 분말 최종(4차) 회수관(Powder final[forth] collector pipe)
76 : 스크린 홀더(Screen holder)
77 : 분급기 스프링(Distributor spring)
78 : 분급기 모터(Distributor motor)
80 : 가스 분무기(Gas atomizer)
90 : 가스 리사이클링 유닛(Gas recycling units)
91 : 분말 1차 회수용기(Powder first collector)
92 : 분말 2차 회수용기(Powder second collector)
93 : 분말 3차 회수용기(Powder third collector)
94 : 분말 최종(4차) 회수용기(Powder final[forth] collector)

Claims

가스 분무에 의해 금속 분말을 제조하는 가스 분무기,
상기 가스 분무기에서 생성된 분말을 안정화하는 전처리 호퍼,
상기 전처리 호퍼로부터 공급 받은 분말을 이송시키는 제1 마그네틱 피더,
상기 마그네틱 피더로부터 이송된 분말을 상향으로 수직 이송시키는 스파이럴 피더 및
상기 스파이럴 피더로부터 공급받은 분말의 분급을 실시하는 분급기
를 포함하는 가스 분무 금속 분말 제조용 연속 회수 장치.
제1항에 있어서,
상기 스파이럴 피더는 상단 및 하단의 일측에 블로워를 구비하는 것인 가스 분무 금속 분말 제조용 연속 회수 장치.
제1항에 있어서,
상기 스파이럴 피더는 폐쇄형 구조를 가지며, 내부가 비활성 가스 분위기로 제어 가능한 것인 가스 분무 금속 분말 제조용 연속 회수 장치.
제1항에 있어서,
상기 가스 분무기는 사용된 가스를 순환시키는 리사이클링 유닛을 구비하는 것인 가스 분무 금속 분말 제조용 연속 회수 장치.
제1항에 있어서,
상기 가스 분무기는 후단에 사이클론을 구비하는 것인 가스 분무 금속 분말 제조용 연속 회수 장치.
제1항에 있어서,
상기 가스 분무기는 스파이럴 피더 후단에 제2마그네틱 피더를 구비하는 것인 가스 분무 금속 분말 제조용 연속 회수 장치.
금속을 용해한 용탕을 수직 낙하시키며 출탕한 다음, 출탕된 용탕에 가스를 분무하여 금속 분말을 제조하는 금속 분말 생성단계,
상기 생성된 금속 분말을 안정화하는 전처리 단계,
상기 전처리된 분말을 마그네틱 피더를 이용하여 후공정에 공급하는 제1 이송단계,
상기 마그네틱 피더를 거쳐 공급된 분말을 스파이럴 피더를 이용하여 미세화 및 냉각하는 제2 이송단계 및
상기 스파이럴 피더로부터 공급 받은 분말을 분급 처리하는 분급단계
를 포함하는 가스 분무를 이용한 연속 금속 분말 제조방법.
제7항에 있어서,
상기 제2 이송단계는 스파이럴 피더 내부에 유체의 흐름을 제어하는 것을 포함하는 가스 분무를 이용한 연속 금속 분말 제조방법.
제7항에 있어서,
상기 제2 이송단계는 비활성 가스 분위기하에서 실시되는 것인 가스 분무를 이용한 연속 금속 분말 제조방법.
제7항에 있어서,
상기 금속 분말 제조단계는 사용된 가스를 재순환시키는 것을 포함하는 가스 분무를 이용한 연속 금속 분말 제조방법.