JP2002217509A - 回路基板へのペースト充填方法およびその装置 - Google Patents

回路基板へのペースト充填方法およびその装置

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JP2002217509A
JP2002217509A JP2001006026A JP2001006026A JP2002217509A JP 2002217509 A JP2002217509 A JP 2002217509A JP 2001006026 A JP2001006026 A JP 2001006026A JP 2001006026 A JP2001006026 A JP 2001006026A JP 2002217509 A JP2002217509 A JP 2002217509A
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filling
hole
squeegee
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JP2001006026A
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Inventor
Shinji Hirata
信治 平田
Kenichiro Hori
健一郎 堀
Akio Ochi
昭夫 越智
Akira Wada
彰 和田
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 非貫通穴を有する回路基板へのペースト充填
方法およびその装置を提供する。 【解決手段】 非貫通穴を設けた回路基板10を保持す
るベース22と、非貫通穴に塗布あるいは充填するペー
スト23を供給するペースト供給部と、前記ペースト2
3を塗布あるいは充填する塗布充填部と、スキージ機構
19の掃引方向の両端に設けたペースト受14および1
5と、前記ペースト23を塗布あるいは充填するための
スキージ掃引部と、スキージ機構19の掃引方向の両端
に設けたペースト受14および15を覆い密閉自在な容
器30と、前記容器30を真空にするための真空排気系
41と、大気雰囲気への開放あるいは加圧雰囲気とする
ためのエア供給部52とを備えている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は多層の回路基板の層
間導通を形成するための回路基板へのペースト充填方法
およびその装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来における、回路基板の層間導通を形
成するために非貫通穴に導電体を形成する方法として
は、メッキ方法が使われている。図18は前記のメッキ
方法による非貫通穴への導体形成方法を説明する図であ
る。
【0003】図18(a)に示すように、あらかじめ所
定回路が形成された本体部となるコア基板1の表層に、
ドリルあるいはレーザなどにより加工された非貫通穴3
を有する表層基板2を設けている。
【0004】そして、図18(b)に示すように表層基
板2の表面に全面銅メッキを行い、層間導通の役割を果
たすためのメッキ層4を形成する。この後、図18
(c)に示すように例えばフォトリソ方法によりパター
ン5が形成される。このパターン形成された基板をコア
とし、前記方法を繰り返すことにより必要な層数の回路
基板6を形成するのであった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の方法では、繰り返して層間導通の役割を果たすメッ
キ層4を形成した場合、図19の回路基板における要部
断面図に示すように、下の層に形成された層間導通の役
割を果たすメッキ層4の直上に、層間導通の役割を果た
すメッキ層4を形成しても層間導通の役割を果たすこと
が出来ない。
【0006】すなわち、メッキによる上の層に形成すべ
き層間導通の役割を果たす上層のパターン7は、メッキ
による下の層に形成された層間導通の役割を果たす下層
のパターン8の直上ではない位置に形成しなければなら
ず回路配線の制約になる。
【0007】さらに、回路基板6の配線の高密度化に伴
い、層間導通を形成するための非貫通穴3も微細化が進
んできているが、非貫通穴3が微細(穴径が小さく)に
なるほど非貫通穴3の中にメッキ液が入りにくくなるた
め、層間導通の導電体の形成が困難になるという課題を
有していた。
【0008】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に本発明の回路基板へのペースト充填方法およびその装
置は、メッキ方法により層間導通のための導電体を形成
するのではなく、層間導通を形成することのできるペー
スト材料を、微細な非貫通穴に充填する方法およびその
装置を提供するものであり、層間導通を形成する導電体
であるペースト材料により非貫通穴を埋めるため、上部
の層間導通するための導電体を、下部の層間導通するた
めの導電体の直上に形成することが可能となる。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明の請求項1に記載の発明
は、回路基板に設けられた非貫通穴を覆うペーストの塗
布工程と、前記非貫通穴にペーストを充填するととも
に、前記ペーストの余分な部分を除去する工程を有する
回路基板へのペースト充填方法であり、任意の非貫通穴
位置に対しペースト充填を行うことができるため、安価
な生産方法で、かつ生産性が優れるという作用を有す
る。
【0010】請求項2に記載の発明は、回路基板に設け
られた非貫通穴を覆うペーストの塗布工程において、非
貫通穴の深さよりも厚くペーストを塗布することを特徴
とする請求項1に記載の回路基板へのペースト充填方法
であり、非貫通穴の深さよりも厚い膜厚でペーストを供
給あるいは塗布することにより、ペースト充填不足の発
生がなく、安定かつ信頼性を高めることができるという
作用を有する。
【0011】請求項3に記載の発明は、回路基板に設け
られた非貫通穴を覆うペーストの塗布工程において、ス
キージの掃引によりペーストを塗布することを特徴とす
る請求項1または2に記載の回路基板へのペースト充填
方法であり、直接ペースト塗布を行うことにより、簡単
かつ比較的均一なペースト塗布と、塗布膜厚の変更を容
易にできるという作用を有する。
【0012】請求項4に記載の発明は、回路基板に設け
られた非貫通穴を覆うペーストの塗布工程において、ス
キージの掃引方向の両端にペースト受けを設けてなる請
求項1〜3のいずれか一つに記載の回路基板へのペース
ト充填方法であり、回路基板の外側にペーストを搬送す
ることができるため、回路基板のほぼ全面に非貫通穴を
形成することができ、回路基板の取れ率が向上するとと
もに、回路基板を次々に取り替えて非貫通穴へペースト
充填を行うことができるという作用を有する。
【0013】請求項5に記載の発明は、回路基板に設け
られた非貫通穴を覆うペーストの塗布工程において、あ
らかじめ所定膜厚のペーストを形成したローラにより、
転写して塗布することを特徴とする請求項1または2に
記載の回路基板へのペースト充填方法であり、ローラに
塗布するペースト膜厚を変更することにより、回路基板
に塗布する膜厚を最適にすることができるという作用を
有する。
【0014】請求項6に記載の発明は、回路基板に設け
られた非貫通穴を覆うペーストの塗布工程において、ス
クリーン印刷によりペーストを塗布することを特徴とす
る請求項1または2に記載の回路基板へのペースト充填
方法であり、全面に塗布できるスクリーン版を用いるこ
とにより、回路基板のほぼ全面に非貫通穴を形成するこ
とができ、スクリーンのメッシュにより不要物をろ過し
ながらペーストを塗布することができ、回路基板の取れ
率が向上するとともに回路基板を次々に取り替えて非貫
通穴へのペースト充填を行うことができるという作用を
有する。
【0015】請求項7に記載の発明は、回路基板に設け
られた非貫通穴にペーストを充填するとともに、前記ペ
ーストの余分な部分を除去する工程において、非貫通穴
を設けた回路基板を真空中で一定時間保持した後、真空
中で前記非貫通穴を覆ってペーストを塗布し、その後大
気雰囲気に開放してスキージを掃引することによりペー
ストを充填してなる請求項1〜6のいずれか一つに記載
の回路基板へのペースト充填方法であり、非貫通穴の空
気を確実に除去でき、穴径よりも深い非貫通穴へのペー
スト充填を行うことができるという作用を有する。
【0016】請求項8に記載の発明は、回路基板に設け
られた非貫通穴にペーストを充填するとともに、前記ペ
ーストの余分な部分を除去する工程において、非貫通穴
を設けた回路基板を真空中で一定時間保持した後、真空
中で前記非貫通穴を覆ってペーストを塗布し、その後前
記回路基板を加圧雰囲気に一定時間以上保持し、その後
大気雰囲気に前記回路基板を開放しかつスキージを掃引
することによりペーストを非貫通穴に充填してなる請求
項1〜6のいずれか一つに記載の回路基板へのペースト
充填方法であり、ペーストの充填が困難な微細非貫通穴
や、粘度の高いペーストを充填するペースト流入速度を
上げることができ、工程動作時間を短縮できるとともに
確実に充填することができるという作用を有する。
【0017】請求項9に記載の発明は、回路基板に設け
られた非貫通穴にペーストを充填するとともに、前記ペ
ーストの余分な部分を除去する工程において、非貫通穴
を設けた回路基板を真空中で一定時間保持した後、真空
中で前記非貫通穴を覆ってペーストを塗布し、その後加
圧雰囲気に一定時間以上前記回路基板を保持した後、そ
の加圧雰囲気中でスキージを掃引してペーストを非貫通
穴に充填し、その後大気雰囲気に前記回路基板を開放す
ることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一つに記載
の回路基板へのペースト充填方法であり、ペーストの充
填が困難な微細非貫通穴や粘度の高いペーストを充填す
る工程動作時間をさらに短縮できるという作用を有す
る。
【0018】請求項10に記載の発明は、回路基板に設
けられた非貫通穴にペーストを充填するとともに、前記
ペーストの余分な部分を除去する工程において、非貫通
穴を設けた回路基板を真空中で一定時間保持した後、真
空中で前記非貫通穴を覆ってペーストを塗布し、その後
大気雰囲気に前記回路基板を開放しかつ、充填方向に遠
心力を一定時間以上与えた後に、前記大気雰囲気中でス
キージを掃引してペーストを非貫通穴に充填してなる請
求項1〜6のいずれか一つに記載の回路基板へのペース
ト充填方法であり、ペーストの充填が困難な微細非貫通
穴や、粘度の高いペーストに含有し残存している微細な
気泡を遠心力で放散してペーストと置換することによ
り、緻密なペースト充填ができるという作用を有する。
【0019】請求項11に記載の発明は、回路基板に設
けられた非貫通穴にペーストを充填するとともに、前記
ペーストの余分な部分を除去する工程において、非貫通
穴を設けた回路基板を真空中で一定時間保持した後、真
空中で前記非貫通穴を覆ってペーストを塗布し、その後
前記回路基板に前記真空中で充填方向に遠心力を一定時
間以上与えた後、大気雰囲気に前記回路基板を開放し、
前記大気雰囲気中でスキージを掃引してペーストを非貫
通穴に充填してなる請求項1〜6のいずれか一つに記載
の回路基板へのペースト充填方法であり、ペーストの充
填が困難な微細非貫通穴や、粘度の高いペーストに含有
し残存している微細な真空中における気泡を遠心力で放
散してペーストと置換し、大気雰囲気中に開放すること
により僅かに残った気泡も圧力差によりごく微小あるい
は排除できるため、さらに緻密なペースト充填ができる
という作用を有する。
【0020】請求項12に記載の発明は、回路基板に設
けられた非貫通穴にペーストを充填するとともに、前記
ペーストの余分な部分を除去する工程において、非貫通
穴を設けた回路基板を真空中で一定時間保持した後、真
空中で前記非貫通穴を覆ってペーストを塗布し、その後
回路基板を加圧雰囲気に一定時間以上保持し、その後前
記回路基板を加圧雰囲気中で充填方向に遠心力を一定時
間以上与え、その後加圧雰囲気中でスキージを掃引して
ペーストを非貫通穴に充填してなる請求項1〜6のいず
れか一つに記載の回路基板へのペースト充填方法であ
り、ペーストの充填が困難な微細非貫通穴や、粘度の高
いペーストを迅速に流動させて充填することができると
いう作用を有する。
【0021】請求項13に記載の発明は、回路基板に設
けられた非貫通穴にペーストを充填するとともに、前記
ペーストの余分な部分を除去する工程において、非貫通
穴を設けた回路基板を真空中で一定時間保持した後、真
空中で前記非貫通穴を覆ってペーストを塗布し、その後
前記回路基板を加圧雰囲気に一定時間以上保持し、その
後前記回路基板を加圧雰囲気中で充填方向に遠心力を一
定時間以上与えた後に大気雰囲気に開放して、前記大気
雰囲気中でスキージを掃引して非貫通穴にペーストを充
填してなる請求項1〜6のいずれか一つに記載の回路基
板へのペースト充填方法であり、ペーストの充填が困難
な微細非貫通穴や、粘度の高いペーストに含有し残存し
ている微細な真空中における気泡を遠心力で放散し、ペ
ーストとの置換をするとともに圧力により押し込むこと
により、迅速でかつ緻密なペースト充填ができるという
作用を有する。
【0022】請求項14に記載の発明は、回路基板に設
けられた非貫通穴にペーストを充填するとともに、前記
ペーストの余分な部分を除去する工程において、非貫通
穴を設けた回路基板を真空中で一定時間保持した後、真
空度を少し大気圧に近づけてから、前記非貫通穴を覆っ
てペーストを塗布することを特徴とする請求項1〜13
のいずれか一つに記載の回路基板へのペースト充填方法
であり、ペースト塗布後に発生する気泡を少なくでき、
ペーストの充填が困難な微細非貫通穴や、粘度の高いペ
ーストを充填することが容易になるという作用を有す
る。
【0023】請求項15に記載の発明は、真空中で保持
する真空度を10000Pa以下とする請求項14に記
載の回路基板へのペースト充填方法であり、ペーストの
充填が困難な微細非貫通穴や、粘度の高いペーストを安
定して非貫通穴の隅々まで充填することができるという
作用を有する。
【0024】請求項16に記載の発明は、加圧雰囲気を
0.1MPa〜1MPaとする請求項8、9、12、1
3のいずれか一つに記載の回路基板へのペースト充填方
法であり、ペーストの充填が困難な微細非貫通穴や、粘
度の高いペーストを短時間でかつ安定して非貫通穴の隅
々まで充填することができるという作用を有する。
【0025】請求項17に記載の発明は、スキージの材
質が弾性体であることを特徴とする請求項3、4、7〜
13のいずれか一つに記載の回路基板へのペースト充填
方法であり、ペーストを充填する非貫通穴を有する回路
基板の表面に凹凸がある場合や、キズなどの損傷を発生
させたくない場合、スキージを柔軟な弾性体にすること
により前記回路基板表面の凹凸の影響を吸収でき、また
表面へのキズなどの発生を低減できるという作用を有す
る。
【0026】請求項18に記載の発明は、スキージの材
質が高剛性体であることを特徴とする請求項3、4、7
〜13のいずれか一つに記載の回路基板へのペースト充
填方法であり、剛性体のスキージを使うことにより、非
貫通穴に充填されたペーストをえぐりとること無く、非
貫通穴表面の余分なペーストを除去できるという作用を
有する。
【0027】請求項19に記載の発明は、スキージの傾
斜角を45度以上としてスキージを掃引することを特徴
とする請求項3、4、7〜13、17、18のいずれか
一つに記載の回路基板へのペースト充填方法であり、非
貫通穴にペーストを押し込むために必要な力を確実に発
生できるという作用を有する。
【0028】請求項20に記載の発明は、非貫通穴を設
けた回路基板を保持するベース部と、前記非貫通穴に塗
布あるいは充填するためのペーストを供給するペースト
供給部と、前記ペーストを塗布あるいは充填する塗布充
填部と、スキージの掃引方向の両端に設けられたペース
ト受部と、前記ペーストを塗布あるいは充填するための
スキージ掃引部と、前記ペースト受部を覆い、かつ密閉
自在な容器と、前記容器を真空にするための真空排気系
と、大気雰囲気への開放あるいは加圧雰囲気とするため
のエア供給部とで構成してなる回路基板へのペースト充
填装置であり、ペーストの充填が困難な微細非貫通穴
や、粘度の高いペーストを確実に充填することができる
という作用を有する。
【0029】請求項21に記載の発明は、非貫通穴を設
けた回路基板を保持するベース部と、前記非貫通穴に塗
布あるいは充填するためのペーストを供給するペースト
供給部と、前記ペーストを塗布あるいは充填する塗布充
填部と、スキージの掃引方向の両端に設けられたペース
ト受部と、前記ペーストを塗布あるいは充填するための
スキージ掃引部と、前記ペースト受部を覆い、かつ密閉
自在な容器と、前記回路基板をあらかじめ真空中で一定
時間以上保持する予備容器と、前記容器を真空にするた
めの真空排気系と、大気雰囲気への開放あるいは加圧雰
囲気にするためのエア供給部とで構成してなる回路基板
へのペースト充填装置であり、ペーストの充填が困難な
微細非貫通穴や、粘度の高いペーストを短時間でかつ確
実に充填することができるという作用を有する。
【0030】請求項22に記載の発明は、塗布充填部と
して、スキージと非貫通穴を設けた回路基板の周囲を押
さえ保持する版枠部を備えてなる請求項20または21
に記載の回路基板へのペースト充填装置であり、ペース
トの充填動作中における回路基板の浮上やずれなどを防
止し、所定箇所に保持できるという作用を有する。
【0031】請求項23に記載の発明は、塗布充填部と
して、スキージとスキージに付着したペーストを除去し
落下させるペースト掃除部と、非貫通穴を設けた回路基
板の周囲を押さえ保持する薄板状の版枠部を備えてなる
請求項20または21に記載の回路基板へのペースト充
填装置であり、粘度の高いペーストをスキージより落下
させながら塗布できるため、ペーストに制約がなく充填
することができるという作用を有する。
【0032】請求項24に記載の発明は、塗布充填部と
して、スキージの高さ位置をペースト塗布時と、ペース
ト充填時、および余分なペーストを除去する時それぞれ
に、異なる位置に設定することのできる構成とした請求
項20または21に記載の回路基板へのペースト充填装
置であり、ペースト塗布厚みに応じたスキージ高さに設
定変更することができ、余分なペーストの除去にも対応
することができるという作用を有する。
【0033】請求項25に記載の発明は、塗布充填部と
して、予め一定膜厚のペーストを形成したローラと、非
貫通穴を設けた回路基板の周囲を押さえ保持する薄板状
の版枠部を備えてなる請求項20または21に記載の回
路基板へのペースト充填装置であり、粘度の高いペース
トを塗布することができ、また充填が困難な微細非貫通
穴にも確実に充填することができるという作用を有す
る。
【0034】請求項26に記載の発明は、塗布充填部と
して、スクリーン印刷部と、非貫通穴を設けた回路基板
の周囲を押さえ保持する版枠部を備えてなる請求項20
または21に記載の回路基板へのペースト充填装置であ
り、スクリーンによりペースト塗布したあとに、回路基
板が浮上することを防止し、保持することができるとい
う作用を有する。
【0035】請求項27に記載の発明は、回路基板に遠
心力を与える遠心力付与部を付加してなる請求項20ま
たは21に記載の回路基板へのペースト充填装置であ
り、ペーストの充填が困難な微細非貫通穴や、粘度の高
いペーストに含有され残存する微細な真空中における気
泡を、遠心力により放散してペーストとの置換をすると
ともに圧力により押し込むことができ、迅速でかつ緻密
なペースト充填をすることができるという作用を有す
る。
【0036】請求項28に記載の発明は、真空中で回路
基板に遠心力を与える遠心力付与部を付加してなる請求
項20または21に記載の回路基板へのペースト充填装
置であり、ペーストの充填が困難な微細非貫通穴や、粘
度の高いペーストに含有し残存している微細な真空中に
おける気泡を、遠心力により放散してペーストとの置換
をするとともに圧力により押し込むことになり、迅速で
かつ緻密なペースト充填をすることができるという作用
を有する。
【0037】以下、本発明の実施の形態について図面を
用いて説明する。図1、図2において、22は金属材あ
るいはセラミック材でなり平面板状のベース、10はベ
ース22の上面所定箇所に載置した単層あるいは多層で
なる回路基板であり、表面に、回路基板10の外周より
やや小さいエリアのペースト塗布エリア11と、ペース
ト塗布エリア11よりやや小さいサイズで非貫通穴を設
ける非貫通穴エリア12が形成されている。
【0038】19はペースト(図示せず)を塗布、充填
あるいはかき取るためのスキージ機構であり、一対とな
った垂直および水平に移動自在な塗布スキージ20、か
き取スキージ21により構成されており、前記スキージ
機構19の駆動動作によりペーストをペースト塗布エリ
ア11に塗布し、次にそのペーストを非貫通穴エリア1
2の非貫通穴に充填し、続いて余分(残存)となったペ
ースト塗布エリア11のペーストをかき取り、回路基板
10に設けられた非貫通穴にのみペーストを充填するの
である。
【0039】すなわち、回路基板10に設けられた非貫
通穴を覆うペーストの塗布工程と、前記非貫通穴にペー
ストを充填するとともに、前記ペーストの余分な部分を
除去する工程を有する回路基板の非貫通穴へのペースト
充填方法であり、任意の非貫通穴位置に対しペースト充
填を行うことができ、安価な生産方法であり、かつ生産
性が優れるものとなる。
【0040】なお、スキージ機構19の降下位置設定に
より非貫通穴の深さよりも厚くペーストを塗布する構成
としており、非貫通穴の深さよりも厚い膜厚でペースト
を供給あるいは塗布することにより、ペースト充填不足
の発生がなく、安定したペースト充填を行うことができ
るのである。
【0041】次にスキージを使用したペースト充填方法
についてより具体的に説明する。図3において、13は
回路基板10の表面所定箇所にレーザ加工により設けら
れた非貫通穴、23は銅や銀の導電材およびバインダー
などの混合体でなるペースト、そして13aはペースト
23が充填されたペースト充填非貫通穴である。
【0042】次に動作について説明する。まず図3
(a)に示すように、塗布スキージ20およびかき取ス
キージ21を上昇させ、ペースト23を回路基板10の
表面右端に供給する(供給機構は図示せず)。
【0043】そして、図3(b)に示すように、塗布ス
キージ20をペースト23が所定厚みとなる位置に降下
させた後、塗布スキージ20およびかき取スキージ21
を左方向に掃引(移動)させて、ペースト23を前記図
2に示したペースト塗布エリア11に塗布する。
【0044】次に図3(c)に示すように、塗布スキー
ジ20を上昇させ、かつかき取スキージ21を回路基板
10の表面に先端が当接する位置まで降下させ、塗布ス
キージ20およびかき取スキージ21を右方向に掃引
(摺動させて移動)する。
【0045】すなわち、ペースト23を所定の非貫通穴
13に埋め込むとともに、余分な残存したペースト23
を、回路基板10の表面のペースト塗布エリア11から
かき取り除去するのであり、簡単かつ比較的均一なペー
スト塗布と、塗布膜厚の変更を容易にすることができる
のである。
【0046】そして、図3(d)に示すようにペースト
23は回路基板10の非貫通穴13にのみ詰め込まれ、
ペースト充填非貫通穴13aを有する回路基板10を形
成するのである。
【0047】図4は、スキージの掃引方向の両端にペー
スト受を配設した構成を示しており、回路基板10の片
端に、金属材でなり内側端部が傾斜加工されたペースト
受14を、そして回路基板10の他端には同じくペース
ト受15を、それぞれ前記内側端部の下面が回路基板1
0の周端上面に密接するように設置している。
【0048】次に動作について説明する。まず図4
(a)に示すように、塗布スキージ20およびかき取ス
キージ21を上昇させ、ペースト23をペースト受15
の上面に供給する(供給機構は図示せず)。
【0049】そして、図4(b)に示すように、塗布ス
キージ20をペースト23が所定厚みとなる位置に降下
させた後、塗布スキージ20およびかき取スキージ21
を左方向に掃引(移動)させて、ペースト23を前記図
2に示した回路基板10のペースト塗布エリア11に塗
布するとともに、余分な残存ペースト23をペースト受
14の上面に一旦保持する。
【0050】次に図4(c)に示すように、塗布スキー
ジ20を上昇させ、かつかき取スキージ21をその先端
が回路基板10の表面に当接する位置まで降下させ、塗
布スキージ20およびかき取スキージ21を右方向に掃
引(摺動させて移動)する。
【0051】すなわち、ペースト23を所定の非貫通穴
13に埋め込むとともに、余分な残存ペースト23を回
路基板10の表面のペースト塗布エリア11からかき取
り、ペースト受15に再び供給するのである。
【0052】そして、図4(d)に示すようにペースト
23は回路基板10の非貫通穴13にのみ埋め込まれ、
不要なペースト23が回路基板10の表面に残存しな
い、ペースト充填非貫通穴13aを有する回路基板10
を形成するのである。
【0053】すなわち、前記構成および方法によれば、
回路基板10の表面以外にペースト23を搬送および保
持供給するのであり、回路基板10のほぼ全面に非貫通
穴13を形成することができ、回路基板10の取れ率が
向上するとともに、回路基板10を次々に取り替えて非
貫通穴13へペースト23の充填を行うことができるの
である。
【0054】図5はローラによるペースト塗布を説明す
る要部構成図である。図5において、25は回転かつ水
平移動自在な金属材、樹脂材あるいは硬弾性体などでな
るローラであり、外円周に必要膜厚のペースト23を付
着(付着機構は図示せず)させた後、ローラ25を回転
かつ右方向に移動させて、回路基板10の表面所定箇所
(ペースト塗布エリア11を包含する)にペースト23
を塗布するのである。
【0055】すなわち、あらかじめ所定膜厚のペースト
23を付着させて形成したローラ25により、ペースト
23を転写して塗布するのであり、ローラ25に付着
(塗布)するペースト23の膜厚を変更することによ
り、回路基板10に塗布するペースト23の膜厚を最適
にすることができるのである。
【0056】図6は、スクリーンを使用するペースト充
填方法を説明する図である。図6において、26は金属
材でなる枠27の下面に貼付されたスクリーン版であ
り、ペースト23を塗布(印刷)すべきエリアである回
路基板10のペースト塗布エリア部分(図示せず)を設
けている。
【0057】次に動作について説明する。まず図6
(a)に示すように、ペースト23を上面右端に供給さ
れたスクリーン版26を、回路基板10の上部に所定間
隙を設けて配設する。その後、塗布スキージ20および
かき取スキージ21(図示せず)を、ペースト23の上
部に配置する。
【0058】そして、図6(b)に示すように、先端が
スクリーン版26の上面に当接する位置まで、塗布スキ
ージ20を降下させた後、塗布スキージ20を下方向に
圧接しながら左方向に掃引(移動)させ、ペースト23
を前記図2に示した回路基板10のペースト塗布エリア
11に塗布する。
【0059】次に図6(c)に示すようにスクリーン版
26を除去し、塗布スキージ20(図示せず)を上昇さ
せ、かつかき取スキージ21を回路基板10の表面にそ
の先端が当接する位置まで降下させた後、かき取スキー
ジ21を右方向に掃引(摺動させて移動)する。
【0060】すなわち、ペースト23を所定の非貫通穴
13に埋め込むとともに、余分な残存ペースト23を回
路基板10の表面のペースト塗布エリア11からかき取
るのである。
【0061】そして、図6(d)に示すようにペースト
23は回路基板10の非貫通穴13にのみ埋め込まれ、
ペースト充填非貫通穴13aを有する回路基板10を形
成するのである。
【0062】以上前記構成および方法は、スクリーン印
刷によりペースト23を塗布するのであり、回路基板1
0の全面に塗布できるスクリーン版26を使用すること
により、回路基板10のほぼ全面に非貫通穴13を形成
することができ、スクリーン版26のメッシュにより不
要物をろ過しながらペースト23を塗布することがで
き、回路基板10の取れ率が向上するとともに回路基板
10を次々に取り替えて非貫通穴13へのペースト充填
を行うことができるのである。
【0063】図7は真空容器内でペーストを充填する方
法を説明する図である。図7において、30は内部を真
空雰囲気とするための真空ポンプ、駆動制御部および大
気開放機構(以上図示せず)を付属させた鋼材でなり密
閉自在な容器であり、前記図3、4および6に示し説明
した構成機構を内部に配置するのである。
【0064】次に動作について説明する。まず、前記で
説明したように回路基板10、ペースト23を配設した
構成機構を配置した後、真空ポンプの駆動により、真空
雰囲気として一定時間保持する。
【0065】その後、前記で説明した各々の方法のいず
れかにより、ペースト23を回路基板10のペースト塗
布エリア11に塗布する。続いて、大気開放機構の駆動
により、前記構成機構を大気雰囲気に開放する。
【0066】そして、スキージ機構19の駆動動作によ
りペースト23を非貫通穴13に充填して、ペースト充
填非貫通穴13aを有する回路基板10を形成するので
ある。
【0067】以上前記構成は、非貫通穴13を設けた回
路基板10を真空中で一定時間保持した後、真空中でペ
ーストを塗布し、その後大気雰囲気に開放してスキージ
機構を掃引することによりペーストを充填するものであ
り、非貫通穴13に残存する空気を確実に除去でき、穴
径よりも深い非貫通穴13へのペースト充填を確実に行
うことができるのである。
【0068】図8は加圧雰囲気を使用するペースト充填
方法を説明する図である。図8において、28は大気雰
囲気より圧力の高い加圧雰囲気である。
【0069】次に動作について説明する。前記と同じく
図8(a)に示すように非貫通穴13を設けた回路基板
10を真空雰囲気中で一定時間保持した後、図8(b)
に示すように前記真空雰囲気中でペースト23を塗布す
る。
【0070】その後、図8(c)に示すように大気雰囲
気より圧力の高い加圧雰囲気28に一定時間保持する。
そして、図8(d)に示すように、大気雰囲気中に開放
してかき取スキージ21を掃引(移動)して、ペースト
23を非貫通穴13にのみ埋め込む。
【0071】そして、図8(e)に示すようにペースト
23は回路基板10の非貫通穴13にのみ埋め込まれ、
余分な残存ペースト23が回路基板10の表面に残らな
い、ペースト充填非貫通穴13aを有する回路基板10
を形成するのである。
【0072】以上前記の構成は、非貫通穴13を設けた
回路基板10を真空雰囲気中で一定時間保持した後、真
空雰囲気中で前記非貫通穴13を覆ってペーストを塗布
し、その後前記回路基板10を大気雰囲気より圧力の高
い加圧雰囲気に一定時間以上保持し、その後大気雰囲気
に前記回路基板10を開放しかつスキージ20,21を
掃引(移動)することにより、回路基板10の非貫通穴
13へのペースト充填を行うのであり、ペースト23の
充填が困難な微細非貫通穴や、粘度の高いペーストを充
填するペースト流入速度を上げることができ、工程動作
時間を短縮でき、かつ確実にペースト23を充填するこ
とができるのである。
【0073】なお、前記で説明したペースト23を塗布
し、回路基板10を加圧雰囲気28に一定時間保持した
後、前記加圧雰囲気28中においてかき取スキージ21
を掃引(移動)してペースト23を非貫通穴13に充填
し、その後大気雰囲気に前記回路基板10を開放する構
成および方法としてもよく、ペースト23の充填が困難
な微細非貫通穴や、粘度の高いペースト23を充填する
工程動作時間を短縮することができるのである。
【0074】図9は遠心力付与部を使用するペースト充
填方法を説明する図、図10は同遠心力付与部の構成を
示す図である。
【0075】図9、図10において29は回路基板10
に遠心力を付加する遠心力付与部であり、31は軸33
により回転自在な金属製メッシュ板で構成した六角形の
回転体であり、回路基板10にペースト23が塗布され
たペースト塗布済基板32を回転体31の内壁面に配置
し、回転体31を高速回転(回転駆動機構は図示せず)
することにより、ペースト塗布済基板32のペースト2
3の充填方向に所定の遠心力を付加するのである。
【0076】次に動作について説明する。前記で説明し
たと同じく図9(a)に示すように非貫通穴13を設け
た回路基板10を真空雰囲気中で一定時間保持した後、
図9(b)に示すように前記真空雰囲気中でペースト2
3を塗布する。
【0077】その後、図9(c)に示すようにペースト
塗布済基板32を遠心力付与部29に投入配置し、一定
時間保持して遠心力を付加する。そして、図9(d)に
示すように大気雰囲気中に取出した後、かき取スキージ
21を掃引(移動)して、ペースト23を非貫通穴13
にのみ埋め込む。
【0078】そして、図9(e)に示すようにペースト
23は回路基板10の非貫通穴13にのみ埋め込まれ、
余分な残存ペースト23が回路基板10の表面に残らな
い、ペースト充填非貫通穴13aを有する回路基板10
を形成するのである。
【0079】以上前記の構成は、非貫通穴13を設けた
回路基板10を真空雰囲気中で一定時間保持した後、真
空雰囲気中で前記非貫通穴13を覆ってペースト23を
塗布し、その後大気雰囲気に前記回路基板10を開放
し、かつ充填方向に遠心力を一定時間以上与えた後に、
前記大気雰囲気中でスキージ20、21を掃引(移動)
してペースト23を非貫通穴13に充填するのであり、
ペースト23の充填が困難な微細非貫通穴や、粘度の高
いペーストに含有し残存している微細な気泡を遠心力で
放散してペースト23と置換することにより、緻密なペ
ースト充填ができるのである。
【0080】また、大気雰囲気中でなく真空雰囲気中
で、ペースト塗布済基板32を遠心力付与部29(回転
体31の内部)に投入配置し一定時間保持して遠心力を
印加する。その後、ペースト塗布済基板32を大気雰囲
気中に取り出した後、かき取スキージ21を掃引(移
動)して、ペースト23を非貫通穴13にのみ埋め込
む。
【0081】そして、図9(e)に示すようにペースト
23は回路基板10の非貫通穴13にのみ埋め込まれ、
余分な残存ペースト23が回路基板10の表面に残らな
い、ペースト充填非貫通穴13aを有する回路基板10
を形成してもよく、非貫通穴13に僅かに残った気泡も
圧力差によりごく微小、あるいは全て排除することがで
きるのである。
【0082】さらにまた、真空雰囲気中で前記非貫通穴
13を覆ってペースト23を塗布し、その後加圧雰囲気
28の中に一定時間保持し、続いてその加圧雰囲気28
中で、かつペースト塗布済基板32を遠心力付与部29
(回転体31の内部)に投入配置し一定時間保持して遠
心力を印加する。
【0083】その後、同加圧雰囲気28中においてかき
取スキージ21を掃引(移動)して、ペースト23を非
貫通穴13にのみ埋め込む。
【0084】そして、図9(e)に示すようにペースト
23は回路基板10の非貫通穴13にのみ埋め込まれ、
余分な残存ペースト23が回路基板10の表面に残らな
い、ペースト充填非貫通穴13aを有する回路基板10
を形成してもよく、ペースト23の充填が困難な微細非
貫通穴や、粘度の高いペースト23を迅速に流動させて
充填することができるのである。
【0085】そしてまた、前記と同じく加圧雰囲気28
の中でペースト塗布済基板32を遠心力付与部29(回
転体31の内部)に投入配置し一定時間保持して遠心力
を印加した後、ペースト塗布済基板32を大気雰囲気中
に取出した後、かき取スキージ21を掃引して、ペース
ト23を非貫通穴13のみに埋め込む。
【0086】そして、図9(e)に示すようにペースト
23は回路基板10の非貫通穴13のみに詰め込まれ、
不要なペースト23が回路基板10の表面に残存しな
い、ペースト充填非貫通穴13aを有する回路基板10
を形成してもよく、ペースト23の充填が困難な微細非
貫通穴や、粘度の高いペースト23に含有し残存してい
る微細な真空中における気泡を遠心力で放散し、ペース
ト23との置換をするとともに圧力により押し込むこと
により、迅速でかつ緻密なペースト充填ができるのであ
る。
【0087】また、前記における回路基板10を真空雰
囲気中に一定時間保持した後、真空度を少し下げて(す
なわち、大気雰囲気に少し近づけるのである)から、前
記非貫通穴13にペースト23を塗布してもよく、ペー
スト23の塗布後に発生する気泡を少なくでき、ペース
ト23の充填が困難な微細非貫通穴や、粘度の高いペー
スト23を充填することが容易になるのである。
【0088】なお、前記における真空雰囲気中の真空度
は10,000Pa以上とし、また同じく加圧雰囲気を
0.1〜1MPaにすれば、ペースト23の充填が困難
な微細非貫通穴や、粘度の高いペースト23を短時間で
かつ安定して非貫通穴13の隅々まで確実に充填するこ
とができるのである。
【0089】また、塗布スキージ20、かき取スキージ
21の材質を硬質ゴムや樹脂材などの弾性体にすれば、
回路基板10の表面に凹凸がある場合やキズなどの損傷
を発生させたくない場合、前記表面の凹凸の影響を吸収
でき、回路基板10の表面へのキズなどの発生を低減す
ることができるのである。
【0090】さらにまた、塗布スキージ20、かき取ス
キージ21の材質を樹脂材や金属材などの剛体にすれ
ば、非貫通穴13に充填されたペースト23をえぐりと
ること無く、非貫通穴13周辺表面の余分な残存ペース
ト23を除去することができるのである。
【0091】なおまた、塗布スキージ20、かき取スキ
ージ21の傾斜角を45度以上として掃引(移動)すれ
ば、非貫通穴13にペースト23を埋め込むために必要
な押圧力を確実に発生することができるのである。
【0092】図11にペースト充填装置の概要構成図を
示す。図11において、41は鋼材でなり密閉自在な容
器30の内部に一端を挿入したパイプ49と、パイプ4
9の他端が接続された真空ポンプ(図示せず)などで構
成された真空排気系である。
【0093】42は一端を容器30の内部に挿入したパ
イプ50と、パイプ50の他端が接続された開閉用のバ
ルブ(図示せず)で構成された大気開放系、そして43
は一端を容器30の内部に挿入したパイプ51と、パイ
プ51の他端が接続され圧縮エアを供給するコンプレッ
サー(図示せず)で構成された加圧供給系であり、以上
でエア供給部52を形成している。
【0094】すなわち、非貫通穴13を設けた回路基板
10を保持するベース22と、前記非貫通穴13に塗布
あるいは充填するためのペースト23を供給するペース
ト供給部と、前記ペースト23を塗布あるいは充填する
塗布充填部と、スキージ機構19の掃引方向の両端に設
けられたペースト受14、同15と、前記ペースト23
を塗布あるいは充填するためのスキージ掃引部と、前記
ペースト受14、同15を覆い、かつ密閉自在な容器3
0と、前記容器30を真空にするための真空排気系41
と、大気雰囲気への開放あるいは加圧雰囲気とするため
の加圧供給系43と大気開放系42でなるエア供給部と
により構成してなる装置であり、ペースト23の充填が
困難な微細非貫通穴や、粘度の高いペースト23を確実
に充填することができるのである。
【0095】なお、前記構成に、回路基板10に遠心力
を与える遠心力付与部29(回転体31)を付加してな
る構成としてもよく、ペースト23の充填が困難な微細
非貫通穴や、粘度の高いペースト23に含有され残存す
る微細な真空雰囲気中における気泡を、遠心力により放
散してペースト23との置換をするとともに圧力により
埋め込むことができ、迅速でかつ緻密なペースト23の
充填を行うことができるのである。
【0096】図12は他のペースト充填装置の概要構成
図である。図12において、44は容器30に隣接して
設けられた同じ構造でなる予備容器である。
【0097】すなわち、前記で説明した構成の装置に、
別個に前記回路基板10をあらかじめ真空雰囲気中で一
定時間以上保持する予備容器44を付加したものであ
り、ペースト23の充填が困難な微細非貫通穴や、粘度
の高いペースト23を短時間でかつ確実に充填すること
ができるのである。
【0098】なお、前記構成の装置に、真空雰囲気中で
回路基板10に遠心力を与える遠心力付与部29を付加
してなる構成としてもよく、ペースト23の充填が困難
な微細非貫通穴や、粘度の高いペースト23に含有し残
存している微細な真空中における気泡を、遠心力により
放散してペースト23との置換をするとともに圧力によ
り埋め込むことになり、迅速でかつ緻密なペースト充填
をすることができるのである。
【0099】図13は回路基板の押え枠を使用するペー
スト充填装置の構成を示す図である。図13において、
45は版枠部である押え枠であり、中央部に回路基板1
0のペースト塗布エリア11よりやや大きい孔を有し、
薄板状で金属材やセラミック材でなり、回路基板10を
ベース22に押圧し密着させるのである。
【0100】すなわち、前記で説明した塗布充填部とし
て、スキージ機構19と非貫通穴13を設けた回路基板
10の周囲を押え保持する押え枠45(版枠部)を備え
たものであり、ペースト23の充填動作中における回路
基板10の浮上やずれなどを防止し、所定箇所に保持で
きるのである。
【0101】なお、ペースト23の塗布に前記で説明し
たローラ25による構成としても同等の効果を得ること
ができる。
【0102】図14は、スキージ掃引部を示す図であ
る。図14において、46はペースト掃除部であるペー
スト除去体であり、金属材やセラミック材あるいは弾性
体などでなり、固定あるいは3次元に移動自在に配設さ
れているのである。
【0103】すなわち、前記で説明した塗布充填部とし
て、塗布スキージ20とかき取スキージ21に付着した
ペースト23を除去し落下させるペースト掃除部を備え
たものであり、スキージ機構19あるいはペースト除去
体46の移動により、粘度の高いペースト23を各々の
スキージより落下させて最適に塗布でき、ペースト23
に制約がなく充填することができるのである。
【0104】図15は他のスキージ掃引部を示す図であ
る。図15において、47は塗布スキージ20の一端に
結合された塗布スキージ高さ設定体、48はかき取スキ
ージ21の一端に結合されたかき取スキージ高さ設定体
であり、直動駆動機構やカム機構などにより駆動制御さ
れる。
【0105】すなわち、前記で説明した塗布充填部とし
て、塗布およびかき取スキージ20、21の高さ位置を
ペースト23の塗布時と、ペースト23の充填時、およ
び余分で残存したペースト23を除去する時に、それぞ
れ必要とする異なる位置に設定することのできる構成で
あり、ペースト23の塗布厚みに応じた塗布およびかき
取スキージ20、21の高さを任意に設定変更すること
ができ、余分なペーストの除去にも対応することができ
るのである。
【0106】また、前記で説明したが塗布充填部とし
て、スクリーン印刷部と、回路基板10の周囲を押さえ
保持する押え枠45(版枠部)を備えた構成としてもよ
く、スクリーン版26によりペースト23を塗布した
後、回路基板10が浮上することを防止し、保持するこ
とができるのである。
【0107】図16は本発明により形成途中の多層回路
基板を示す図、図17は同多層回路基板を示す図であ
る。図16において、36は所定配線パターンを有する
回路基板10の基となるコア基板、35はコア基板36
の片面あるいは両面に積層した表層基板、そして、34
は例えばポリエチレンテレフタレートの樹脂材でなるフ
ィルムであり、表層基板34の搬送や非貫通穴13およ
びペースト充填用の版とするのである。
【0108】そして、図17に示すように、上層のパタ
ーン37が下層のパターン38の直上に形成された回路
基板10を提供することができるのである。
【0109】
【発明の効果】以上、本発明の回路基板のペースト充填
方法およびその装置によれば、上部の層間導通するため
の導電体を、下部の層間導通するための導電体の直上に
形成することができ、回路配線に制約が無く、層間導電
体を容易に形成でき、小型高密度の回路基板ができると
いう効果を有するのである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態におけるペースト充填方法
を説明する正面図
【図2】同回路基板の平面図
【図3】(a)〜(d)はそれぞれスキージによるペー
スト充填方法を説明する断面図
【図4】(a)〜(d)はそれぞれ同ペースト受を付加
した構成の断面図
【図5】ローラによるペースト塗布を説明する断面図
【図6】(a)〜(d)はそれぞれスクリーンを使用す
るペースト充填方法を説明する断面図
【図7】真空容器内でペーストを充填する方法を説明す
る断面図
【図8】(a)〜(e)はそれぞれ加圧雰囲気を使用す
るペースト充填方法を説明する断面図
【図9】(a)〜(e)はそれぞれ遠心力付与部を使用
するペースト充填方法を説明する断面図
【図10】(a)〜(c)はそれぞれ同遠心力付与部の
平面図および側断面図、要部側断面図
【図11】ペースト充填装置の断面図
【図12】他のペースト充填装置の断面図
【図13】(a)(b)はそれぞれ回路基板の押え枠を
使用するペースト充填装置の平面図および側面図
【図14】スキージ掃引部の部分断面図
【図15】他のスキージ掃引部の部分断面図
【図16】本発明により形成途中の多層回路基板の要部
断面図
【図17】同多層回路基板の要部断面図
【図18】(a)〜(c)はそれぞれ従来における回路
基板の要部断面図
【図19】同回路基板の要部断面図
【符号の説明】
1 コア基板 2 表層基板 3 非貫通穴 4 メッキ層 5 パターン 6 回路基板 7 上層のパターン 8 下層のパターン 10 回路基板 11 ペースト塗布エリア 12 非貫通穴エリア 13 非貫通穴 13a ペースト充填非貫通穴 14 ペースト受 15 ペースト受 19 スキージ機構 20 塗布スキージ 21 かき取スキージ 22 ベース 23 ペースト 25 ローラ 26 スクリーン版 27 枠 28 加圧雰囲気 29 遠心力付与部 30 容器 31 回転体 32 ペースト塗布済基板 33 軸 34 フィルム 35 表層基板 36 コア基板 37 上層のパターン 38 下層のパターン 41 真空排気系 42 大気開放系 43 加圧供給系 44 予備容器 45 押え枠 46 ペースト除去体 47 塗布スキージ高さ設定体 48 かき取スキージ高さ設定体 49、50、51 パイプ 52 エア供給部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 越智 昭夫 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 和田 彰 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5E317 AA24 CC17 CC23 CC25 GG14 GG16 5E343 BB72 DD01 DD03 FF02 FF04 GG08 GG11 5E346 AA43 FF18 GG19 HH25

Claims (28)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 回路基板に設けられた非貫通穴を覆うペ
    ーストの塗布工程と、前記非貫通穴にペーストを充填す
    るとともに、前記ペーストの余分な部分を除去する工程
    を有する回路基板へのペースト充填方法。
  2. 【請求項2】 回路基板に設けられた非貫通穴を覆うペ
    ーストの塗布工程において、非貫通穴の深さよりも厚く
    ペーストを塗布することを特徴とする請求項1に記載の
    回路基板へのペースト充填方法。
  3. 【請求項3】 回路基板に設けられた非貫通穴を覆うペ
    ーストの塗布工程において、スキージの掃引によりペー
    ストを塗布することを特徴とする請求項1または2に記
    載の回路基板へのペースト充填方法。
  4. 【請求項4】 回路基板に設けられた非貫通穴を覆うペ
    ーストの塗布工程において、スキージの掃引方向の両端
    にペースト受けを設けてなる請求項1〜3のいずれか一
    つに記載の回路基板へのペースト充填方法。
  5. 【請求項5】 回路基板に設けられた非貫通穴を覆うペ
    ーストの塗布工程において、あらかじめ所定膜厚のペー
    ストを形成したローラにより、転写して塗布することを
    特徴とする請求項1または2に記載の回路基板へのペー
    スト充填方法。
  6. 【請求項6】 回路基板に設けられた非貫通穴を覆うペ
    ーストの塗布工程において、スクリーン印刷によりペー
    ストを塗布することを特徴とする請求項1または2に記
    載の回路基板へのペースト充填方法。
  7. 【請求項7】 回路基板に設けられた非貫通穴にペース
    トを充填するとともに、前記ペーストの余分な部分を除
    去する工程において、非貫通穴を設けた回路基板を真空
    中で一定時間保持した後、真空中で前記非貫通穴を覆っ
    てペーストを塗布し、その後大気雰囲気に開放してスキ
    ージを掃引することによりペーストを充填してなる請求
    項1〜6のいずれか一つに記載の回路基板へのペースト
    充填方法。
  8. 【請求項8】 回路基板に設けられた非貫通穴にペース
    トを充填するとともに、前記ペーストの余分な部分を除
    去する工程において、非貫通穴を設けた回路基板を真空
    中で一定時間保持した後、真空中で前記非貫通穴を覆っ
    てペーストを塗布し、その後前記回路基板を加圧雰囲気
    に一定時間以上保持し、その後大気雰囲気に前記回路基
    板を開放しかつスキージを掃引することによりペースト
    を非貫通穴に充填してなる請求項1〜6のいずれか一つ
    に記載の回路基板へのペースト充填方法。
  9. 【請求項9】 回路基板に設けられた非貫通穴にペース
    トを充填するとともに、前記ペーストの余分な部分を除
    去する工程において、非貫通穴を設けた回路基板を真空
    中で一定時間保持した後、真空中で前記非貫通穴を覆っ
    てペーストを塗布し、その後加圧雰囲気に一定時間以上
    前記回路基板を保持した後、その加圧雰囲気中でスキー
    ジを掃引してペーストを非貫通穴に充填し、その後大気
    雰囲気に前記回路基板を開放することを特徴とする請求
    項1〜6のいずれか一つに記載の回路基板へのペースト
    充填方法。
  10. 【請求項10】 回路基板に設けられた非貫通穴にペー
    ストを充填するとともに、前記ペーストの余分な部分を
    除去する工程において、非貫通穴を設けた回路基板を真
    空中で一定時間保持した後、真空中で前記非貫通穴を覆
    ってペーストを塗布し、その後大気雰囲気に前記回路基
    板を開放しかつ、充填方向に遠心力を一定時間以上与え
    た後に、前記大気雰囲気中でスキージを掃引してペース
    トを非貫通穴に充填してなる請求項1〜6のいずれか一
    つに記載の回路基板へのペースト充填方法。
  11. 【請求項11】 回路基板に設けられた非貫通穴にペー
    ストを充填するとともに、前記ペーストの余分な部分を
    除去する工程において、非貫通穴を設けた回路基板を真
    空中で一定時間保持した後、真空中で前記非貫通穴を覆
    ってペーストを塗布し、その後前記回路基板に前記真空
    中で充填方向に遠心力を一定時間以上与えた後、大気雰
    囲気に前記回路基板を開放し、前記大気雰囲気中でスキ
    ージを掃引してペーストを非貫通穴に充填してなる請求
    項1〜6のいずれか一つに記載の回路基板へのペースト
    充填方法。
  12. 【請求項12】 回路基板に設けられた非貫通穴にペー
    ストを充填するとともに、前記ペーストの余分な部分を
    除去する工程において、非貫通穴を設けた回路基板を真
    空中で一定時間保持した後、真空中で前記非貫通穴を覆
    ってペーストを塗布し、その後回路基板を加圧雰囲気に
    一定時間以上保持し、その後前記回路基板を加圧雰囲気
    中で充填方向に遠心力を一定時間以上与え、その後加圧
    雰囲気中でスキージを掃引してペーストを非貫通穴に充
    填してなる請求項1〜6のいずれか一つに記載の回路基
    板へのペースト充填方法。
  13. 【請求項13】 回路基板に設けられた非貫通穴にペー
    ストを充填するとともに、前記ペーストの余分な部分を
    除去する工程において、非貫通穴を設けた回路基板を真
    空中で一定時間保持した後、真空中で前記非貫通穴を覆
    ってペーストを塗布し、その後前記回路基板を加圧雰囲
    気に一定時間以上保持し、その後前記回路基板を加圧雰
    囲気中で充填方向に遠心力を一定時間以上与えた後に大
    気雰囲気に開放して、前記大気雰囲気中でスキージを掃
    引して非貫通穴にペーストを充填してなる請求項1〜6
    のいずれか一つに記載の回路基板へのペースト充填方
    法。
  14. 【請求項14】 回路基板に設けられた非貫通穴にペー
    ストを充填するとともに、前記ペーストの余分な部分を
    除去する工程において、非貫通穴を設けた回路基板を真
    空中で一定時間保持した後、真空度を少し大気圧に近づ
    けてから、前記非貫通穴を覆ってペーストを塗布するこ
    とを特徴とする請求項1〜13のいずれか一つに記載の
    回路基板へのペースト充填方法。
  15. 【請求項15】 真空中で保持する真空度を10000
    Pa以下とする請求項14に記載の回路基板へのペース
    ト充填方法。
  16. 【請求項16】 加圧雰囲気を0.1MPa〜1MPa
    とする請求項8、9、12、13のいずれか一つに記載
    の回路基板へのペースト充填方法。
  17. 【請求項17】 スキージの材質が弾性体であることを
    特徴とする請求項3、4、7〜13のいずれか一つに記
    載の回路基板へのペースト充填方法。
  18. 【請求項18】 スキージの材質が高剛性体であること
    を特徴とする請求項3、4、7〜13のいずれか一つに
    記載の回路基板へのペースト充填方法。
  19. 【請求項19】 スキージの傾斜角を45度以上として
    スキージを掃引することを特徴とする請求項3、4、7
    〜13、17、18のいずれか一つに記載の回路基板へ
    のペースト充填方法。
  20. 【請求項20】 非貫通穴を設けた回路基板を保持する
    ベース部と、前記非貫通穴に塗布あるいは充填するため
    のペーストを供給するペースト供給部と、前記ペースト
    を塗布あるいは充填する塗布充填部と、スキージの掃引
    方向の両端に設けられたペースト受部と、前記ペースト
    を塗布あるいは充填するためのスキージ掃引部と、前記
    ペースト受部を覆い、かつ密閉自在な容器と、前記容器
    を真空にするための真空排気系と、大気雰囲気への開放
    あるいは加圧雰囲気とするためのエア供給部とで構成し
    てなる回路基板へのペースト充填装置。
  21. 【請求項21】 非貫通穴を設けた回路基板を保持する
    ベース部と、前記非貫通穴に塗布あるいは充填するため
    のペーストを供給するペースト供給部と、前記ペースト
    を塗布あるいは充填する塗布充填部と、スキージの掃引
    方向の両端に設けられたペースト受部と、前記ペースト
    を塗布あるいは充填するためのスキージ掃引部と、前記
    ペースト受部を覆い、かつ密閉自在な容器と、前記回路
    基板をあらかじめ真空中で一定時間以上保持する予備容
    器と、前記容器を真空にするための真空排気系と、大気
    雰囲気への開放あるいは加圧雰囲気にするためのエア供
    給部とで構成してなる回路基板へのペースト充填装置。
  22. 【請求項22】 塗布充填部として、スキージと非貫通
    穴を設けた回路基板の周囲を押さえ保持する版枠部を備
    えてなる請求項20または21に記載の回路基板へのペ
    ースト充填装置。
  23. 【請求項23】 塗布充填部として、スキージとスキー
    ジに付着したペーストを除去し落下させるペースト掃除
    部と、非貫通穴を設けた回路基板の周囲を押さえ保持す
    る薄板状の版枠部を備えてなる請求項20または21に
    記載の回路基板へのペースト充填装置。
  24. 【請求項24】 塗布充填部として、スキージの高さ位
    置をペースト塗布時と、ペースト充填時、および余分な
    ペーストを除去する時それぞれに、異なる位置に設定す
    ることのできる構成とした請求項20または21に記載
    の回路基板へのペースト充填装置。
  25. 【請求項25】 塗布充填部として、予め一定膜厚のペ
    ーストを形成したローラと、非貫通穴を設けた回路基板
    の周囲を押さえ保持する薄板状の版枠部を備えてなる請
    求項20または21に記載の回路基板へのペースト充填
    装置。
  26. 【請求項26】 塗布充填部として、スクリーン印刷部
    と、非貫通穴を設けた回路基板の周囲を押さえ保持する
    版枠部を備えてなる請求項20または21に記載の回路
    基板へのペースト充填装置。
  27. 【請求項27】 回路基板に遠心力を与える遠心力付与
    部を付加してなる請求項20または21に記載の回路基
    板へのペースト充填装置。
  28. 【請求項28】 真空中で回路基板に遠心力を与える遠
    心力付与部を付加してなる請求項20または21に記載
    の回路基板へのペースト充填装置。
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