JP2002217476A - 光軸移動型レーザ加工機におけるガスレーザ発振器 - Google Patents
光軸移動型レーザ加工機におけるガスレーザ発振器Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 空気中の粉塵による出力ミラーの汚染を低減
させる光軸移動型レーザ加工機におけるガスレーザ発振
器の提供。 【解決手段】 光軸移動型レーザ加工機3におけるガス
レーザ発振器1において、前記光軸移動型レーザ加工機
の光軸カバー25に連結した発振器カバー11を設け、
前記ガスレーザ発振器に該ガスレーザ発振器の出力ミラ
ー7の大気側表面7aを含む集塵室29を備えた集塵器
35を設け、前記集塵室内の空気を前記発振器カバー内
へ排出することを特徴とする光軸移動型レーザ加工機に
おけるガスレーザ発振器。
させる光軸移動型レーザ加工機におけるガスレーザ発振
器の提供。 【解決手段】 光軸移動型レーザ加工機3におけるガス
レーザ発振器1において、前記光軸移動型レーザ加工機
の光軸カバー25に連結した発振器カバー11を設け、
前記ガスレーザ発振器に該ガスレーザ発振器の出力ミラ
ー7の大気側表面7aを含む集塵室29を備えた集塵器
35を設け、前記集塵室内の空気を前記発振器カバー内
へ排出することを特徴とする光軸移動型レーザ加工機に
おけるガスレーザ発振器。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は光軸移動型レーザ加
工機におけるガスレーザ発振器に関するものである。
工機におけるガスレーザ発振器に関するものである。
【0002】
【従来の技術】例えば図2に示す如き炭酸ガスレーザ発
振器100では、真空容器101内にレーザ媒質103
を含んだ混合ガスを封入し、このレーザ媒質103をグ
ロー放電によって励起し、誘導放出されるレーザ光LB
を放電部を挟むリアミラー105と出力ミラー107と
からなる光共振器により増幅して、増幅されたレーザ光
LBの一部を出力ミラー107から外部へ取り出す様に
構成してある。
振器100では、真空容器101内にレーザ媒質103
を含んだ混合ガスを封入し、このレーザ媒質103をグ
ロー放電によって励起し、誘導放出されるレーザ光LB
を放電部を挟むリアミラー105と出力ミラー107と
からなる光共振器により増幅して、増幅されたレーザ光
LBの一部を出力ミラー107から外部へ取り出す様に
構成してある。
【0003】上述のリアミラー105と出力ミラー10
7は、鏡面側が対向する様にして真空容器101に固定
してある。また、通常、リアミラー105と出力ミラー
107はその姿勢をマイクロメータ(図示省略)などに
よって微調整可能に設けてある。
7は、鏡面側が対向する様にして真空容器101に固定
してある。また、通常、リアミラー105と出力ミラー
107はその姿勢をマイクロメータ(図示省略)などに
よって微調整可能に設けてある。
【0004】真空容器を用いたガスレーザの場合、光共
振器を構成するリアミラー105と出力ミラー107の
鏡面側は普通真空容器内に配置されているが、レーザ光
を取り出す出力ミラー107は真空側と大気側との境界
に位置しており、出力ミラー107の鏡面でない側は大
気に接触した状態に在る。
振器を構成するリアミラー105と出力ミラー107の
鏡面側は普通真空容器内に配置されているが、レーザ光
を取り出す出力ミラー107は真空側と大気側との境界
に位置しており、出力ミラー107の鏡面でない側は大
気に接触した状態に在る。
【0005】前記炭酸ガスレーザ発振器100から出力
されたレーザ光LBは、光軸移動型レーザ加工機102
に固定された第1ミラー109によってX軸方向へ折り
曲げられ、次いで加工ヘッド位置決め装置111に設け
た第2ミラー113に導かれ、第2ミラー113で再度
直角に折り曲げられてY軸方向(X軸方向に直角)へ進
行し、第3ミラー115に導かれ、第3ミラー115に
よって加工ヘッド117の集光レンズ119に導かれる
様に設けてある。
されたレーザ光LBは、光軸移動型レーザ加工機102
に固定された第1ミラー109によってX軸方向へ折り
曲げられ、次いで加工ヘッド位置決め装置111に設け
た第2ミラー113に導かれ、第2ミラー113で再度
直角に折り曲げられてY軸方向(X軸方向に直角)へ進
行し、第3ミラー115に導かれ、第3ミラー115に
よって加工ヘッド117の集光レンズ119に導かれる
様に設けてある。
【0006】なお、上述の第2ミラー113は、通常前
記第3ミラー115および集光レンズ119と共に一体
的にX軸方向へ移動位置決め自在のX軸キャリッジ上に
設けられており、第3ミラー115と集光レンズは、第
2ミラー113に対してY軸方向へ一体的に移動位置決
め自在のY軸キャリッジ上に設けられている。
記第3ミラー115および集光レンズ119と共に一体
的にX軸方向へ移動位置決め自在のX軸キャリッジ上に
設けられており、第3ミラー115と集光レンズは、第
2ミラー113に対してY軸方向へ一体的に移動位置決
め自在のY軸キャリッジ上に設けられている。
【0007】従って、上述のX−Yキャリッジを移動位
置決めすることにより、被加工材W上の所望する位置に
レーザ光LBを照射することができる。
置決めすることにより、被加工材W上の所望する位置に
レーザ光LBを照射することができる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】前記真空容器101内
は、不純物(特に粉塵)の管理が行いやすいが、出力ミ
ラー107の接触する大気側は、レーザ加工機102に
よる切断加工から発生する粉塵が非常に多く、不純物が
出力ミラー107に近づかないようにすることは困難で
ある。従ってレーザ発振器を構成するミラーの中で最も
汚染されては困る出力ミラー107が最も汚染されやす
い環境に在る。
は、不純物(特に粉塵)の管理が行いやすいが、出力ミ
ラー107の接触する大気側は、レーザ加工機102に
よる切断加工から発生する粉塵が非常に多く、不純物が
出力ミラー107に近づかないようにすることは困難で
ある。従ってレーザ発振器を構成するミラーの中で最も
汚染されては困る出力ミラー107が最も汚染されやす
い環境に在る。
【0009】出力ミラー107の汚染を嫌うのは、エネ
ルギー密度の大きいレーザ光が出力ミラー107を透過
するので、出力ミラーの表面が汚染していると、その部
分がレーザエネルギーを吸収して発熱する。その結果出
力ミラー107が膨張して熱レンズ効果を引き起こし屈
折率が変化することになる。この屈折率の変化はレーザ
光の伝搬特性を変化させ、最終的にはレーザ加工の性能
を低下させることになるからである。
ルギー密度の大きいレーザ光が出力ミラー107を透過
するので、出力ミラーの表面が汚染していると、その部
分がレーザエネルギーを吸収して発熱する。その結果出
力ミラー107が膨張して熱レンズ効果を引き起こし屈
折率が変化することになる。この屈折率の変化はレーザ
光の伝搬特性を変化させ、最終的にはレーザ加工の性能
を低下させることになるからである。
【0010】これらの対策として、ガスレーザ発振器1
00の全体を比較的密閉度の高い発振器カバー121で
覆い粉塵の侵入を防止する。さらに発振器カバー121
内部にクリーンエアーを注入し、カバー内部を常時大気
圧より若干高い圧力(正圧)に保ち、より効果を高める
などが実施されてはいる。
00の全体を比較的密閉度の高い発振器カバー121で
覆い粉塵の侵入を防止する。さらに発振器カバー121
内部にクリーンエアーを注入し、カバー内部を常時大気
圧より若干高い圧力(正圧)に保ち、より効果を高める
などが実施されてはいる。
【0011】また、外部光路(発振器外部の光路)に
も、汚染を嫌うミラー(109,113,115)や、集光レンズ
119などがあり、同様に光軸カバー123を設けてい
る。さらに粉塵の侵入防止効果を高めるために、光軸カ
バー123内にもクリーンエアーを注入することもあ
る。
も、汚染を嫌うミラー(109,113,115)や、集光レンズ
119などがあり、同様に光軸カバー123を設けてい
る。さらに粉塵の侵入防止効果を高めるために、光軸カ
バー123内にもクリーンエアーを注入することもあ
る。
【0012】しかし、発振器カバー121を設ける方法
においては、発振器カバー121の密閉度を上げる努力
がなされているが、発振器カバー121の外部からカバ
ー内部に電源ケーブルや発振器冷却用のホースなどの出
し入れするものが多く、真空容器101の様に密閉度を
上げることは非常に困難である。
においては、発振器カバー121の密閉度を上げる努力
がなされているが、発振器カバー121の外部からカバ
ー内部に電源ケーブルや発振器冷却用のホースなどの出
し入れするものが多く、真空容器101の様に密閉度を
上げることは非常に困難である。
【0013】さらに、発振器カバー121には、ガスレ
ーザ発振器100から出力されたレーザ光LBを外部光
路に導くための開口部125が必要でありこの部分は密
閉することができない。
ーザ発振器100から出力されたレーザ光LBを外部光
路に導くための開口部125が必要でありこの部分は密
閉することができない。
【0014】また図2に示す様に、外部ミラー(113,11
5 )が移動する光軸移動タイプのレーザ加工機102に
おいては、レーザ光の照射位置をY軸方向(図2では左
右方向)へ移動させる場合、第3ミラー115と集光レ
ンズ119とが一体的にY軸方向へ移動させる。なお、
光軸カバー123は蛇腹またはテレスコピック筒体等か
らなり伸縮自在に設けてある。
5 )が移動する光軸移動タイプのレーザ加工機102に
おいては、レーザ光の照射位置をY軸方向(図2では左
右方向)へ移動させる場合、第3ミラー115と集光レ
ンズ119とが一体的にY軸方向へ移動させる。なお、
光軸カバー123は蛇腹またはテレスコピック筒体等か
らなり伸縮自在に設けてある。
【0015】上述の構成において、例えば高速度で外部
ミラー(113,115 )を左方向へ移動させる場合には、光
軸カバー123内の空気が圧縮されて内部の圧力が瞬間
的に上昇し、同様に外部ミラー(113,115 )を右方向へ
移動させる場合には内部圧力が瞬間的に減少する。
ミラー(113,115 )を左方向へ移動させる場合には、光
軸カバー123内の空気が圧縮されて内部の圧力が瞬間
的に上昇し、同様に外部ミラー(113,115 )を右方向へ
移動させる場合には内部圧力が瞬間的に減少する。
【0016】この発振器カバー121内の圧力変化は、
カバー構成のうち最も密閉性の悪い部分からカバー内外
への空気の流通となって現れる。すなわち、外部ミラー
(113,115 )を左右に移動させるたびに、光軸カバー1
23と発振器カバー121をつなぐ開口部125を介し
て外部の粉塵を含んだ空気が出力ミラー107の周囲を
流通し、出力ミラー107を汚染させる要因となってい
る。
カバー構成のうち最も密閉性の悪い部分からカバー内外
への空気の流通となって現れる。すなわち、外部ミラー
(113,115 )を左右に移動させるたびに、光軸カバー1
23と発振器カバー121をつなぐ開口部125を介し
て外部の粉塵を含んだ空気が出力ミラー107の周囲を
流通し、出力ミラー107を汚染させる要因となってい
る。
【0017】上述の出力ミラー107の汚染状況につい
てもう少し詳細に述べる。
てもう少し詳細に述べる。
【0018】レーザ加工時に加工ヘッド117を右方へ
急速に移動させるとき、すなわち、外部ミラー(113,11
5 )を急速に右方(図2において)へ移動させるとき、
例えば発振器カバー121のリアミラー105付近の隙
間から粉塵を含む外気が吸い込まれ、外気中の粉塵が第
1ミラー109付近まで侵入する。
急速に移動させるとき、すなわち、外部ミラー(113,11
5 )を急速に右方(図2において)へ移動させるとき、
例えば発振器カバー121のリアミラー105付近の隙
間から粉塵を含む外気が吸い込まれ、外気中の粉塵が第
1ミラー109付近まで侵入する。
【0019】次に、外部ミラー(113,115 )を急速に左
方へ移動させるときは、光軸カバー123に侵入した外
気中に浮遊する粉塵が空気と共に出力ミラー107に吹
き付けられることになる。
方へ移動させるときは、光軸カバー123に侵入した外
気中に浮遊する粉塵が空気と共に出力ミラー107に吹
き付けられることになる。
【0020】出力ミラー107に吹き付けられた粉塵
は、出力ミラー107の表面でレーザ光LBで焼かれて
その残留物が出力ミラー107の表面に強固に付着す
る。
は、出力ミラー107の表面でレーザ光LBで焼かれて
その残留物が出力ミラー107の表面に強固に付着す
る。
【0021】上述の如き状態がレーザ加工中に繰り返さ
れて出力ミラー107の汚染が進行する。汚染が進行す
るとついには出力ミラー107の破損に至ることもあ
る。
れて出力ミラー107の汚染が進行する。汚染が進行す
るとついには出力ミラー107の破損に至ることもあ
る。
【0022】本発明は上述の如き問題を解決するために
なされたものであり、本発明の課題は、空気中の粉塵に
よる出力ミラーの汚染を低減させた光軸移動型レーザ加
工機におけるガスレーザ発振器を提供することである。
なされたものであり、本発明の課題は、空気中の粉塵に
よる出力ミラーの汚染を低減させた光軸移動型レーザ加
工機におけるガスレーザ発振器を提供することである。
【0023】
【課題を解決するための手段】上述の課題を解決する手
段として請求項1に記載の光軸移動型レーザ加工機にお
けるガスレーザ発振器は、光軸移動型レーザ加工機にお
けるガスレーザ発振器において、前記光軸移動型レーザ
加工機の光軸カバーに連結した発振器カバーを設け、前
記ガスレーザ発振器に該ガスレーザ発振器の出力ミラー
の大気側表面を含む集塵室を備えた集塵器を設け、前記
集塵室内の空気を前記発振器カバー内へ排出することを
要旨とするものである。
段として請求項1に記載の光軸移動型レーザ加工機にお
けるガスレーザ発振器は、光軸移動型レーザ加工機にお
けるガスレーザ発振器において、前記光軸移動型レーザ
加工機の光軸カバーに連結した発振器カバーを設け、前
記ガスレーザ発振器に該ガスレーザ発振器の出力ミラー
の大気側表面を含む集塵室を備えた集塵器を設け、前記
集塵室内の空気を前記発振器カバー内へ排出することを
要旨とするものである。
【0024】請求項2に記載の光軸移動型レーザ加工機
におけるガスレーザ発振器は、請求項1に記載の光軸移
動型レーザ加工機におけるガスレーザ発振器において、
前記集塵器の集塵室に前記出力ミラーからのレーザ光が
通過可能な空気取入口を設け、該空気取入口から取り入
れた空気を前記出力ミラーからのレーザ光の光軸にほぼ
直交する方向へ吸引することを要旨とするものである。
におけるガスレーザ発振器は、請求項1に記載の光軸移
動型レーザ加工機におけるガスレーザ発振器において、
前記集塵器の集塵室に前記出力ミラーからのレーザ光が
通過可能な空気取入口を設け、該空気取入口から取り入
れた空気を前記出力ミラーからのレーザ光の光軸にほぼ
直交する方向へ吸引することを要旨とするものである。
【0025】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を図面に
よって説明する。
よって説明する。
【0026】図1は本発明に係るレーザ加工機における
ガスレーザ発振器1の基本的な構成を示すと共に、光軸
移動タイプのレーザ加工機3に本発明に係るガスレーザ
発振器1を結合した例を示したものである。
ガスレーザ発振器1の基本的な構成を示すと共に、光軸
移動タイプのレーザ加工機3に本発明に係るガスレーザ
発振器1を結合した例を示したものである。
【0027】ガスレーザ発振器1は公知の3軸直交タイ
プの炭酸ガスレーザ発振器であり、真空容器4内にはレ
ーザ媒質CO2を含む混合ガス(CO2,N2,He)が封入
してある。
プの炭酸ガスレーザ発振器であり、真空容器4内にはレ
ーザ媒質CO2を含む混合ガス(CO2,N2,He)が封入
してある。
【0028】混合ガスは放電電極5(a,b)の間を高
速で循環する様に設けてあり、この放電電極5(a,
b)の間を通過するレーザ媒質がグロー放電により励起
され、レーザ光が誘導放出される。レーザ媒質を挟んで
左右(図1において)には、出力ミラー7とリアミラー
9とで光共振器が構成してある。出力ミラー7とリアミ
ラー9とは鏡面側を対向させて真空容器4に位置調整可
能に設けてある。
速で循環する様に設けてあり、この放電電極5(a,
b)の間を通過するレーザ媒質がグロー放電により励起
され、レーザ光が誘導放出される。レーザ媒質を挟んで
左右(図1において)には、出力ミラー7とリアミラー
9とで光共振器が構成してある。出力ミラー7とリアミ
ラー9とは鏡面側を対向させて真空容器4に位置調整可
能に設けてある。
【0029】上述の出力ミラー7とリアミラー9の間を
レーザ光が往復する間にレーザ光が増幅されて、出力ミ
ラー7を介してそのうちの一部がレーザ光出力として取
り出される。前記ガスレーザ発振器1の全体は比較的密
閉度の高い発振器カバー11で覆ってある。
レーザ光が往復する間にレーザ光が増幅されて、出力ミ
ラー7を介してそのうちの一部がレーザ光出力として取
り出される。前記ガスレーザ発振器1の全体は比較的密
閉度の高い発振器カバー11で覆ってある。
【0030】上述の出力ミラー7から出たレーザ光LB
は、レーザ加工機3に固定された第1ミラー13によっ
て、X軸方向へ折り曲げられ、次いで第2ミラー15に
導かれ、この第2ミラー15で再度直角に折り曲げられ
てY軸方向(X軸方向に直角)へ進行し、第3ミラー1
7に導かれ、第3ミラー17によって加工ヘッド19の
集光レンズ21に導かれる様に設けてある。
は、レーザ加工機3に固定された第1ミラー13によっ
て、X軸方向へ折り曲げられ、次いで第2ミラー15に
導かれ、この第2ミラー15で再度直角に折り曲げられ
てY軸方向(X軸方向に直角)へ進行し、第3ミラー1
7に導かれ、第3ミラー17によって加工ヘッド19の
集光レンズ21に導かれる様に設けてある。
【0031】上述の第1〜第3ミラー(13,15,17)間の
光路、すなわち外部光路(発振器外部の光路)は、レー
ザ加工ヘッド位置決め装置23上に設けてあり、第2ミ
ラー15は、通常は第3ミラー17および集光レンズ2
1と共に一体的にX軸方向へ移動位置決め自在のX軸キ
ャリッジ(図示せず)上に設けてあり、第3ミラー17
と集光レンズ21は前記第2ミラー15に対してY軸方
向へ一体的に移動位置決め自在のY軸キャリッジ(図示
せず)上に設けてある。
光路、すなわち外部光路(発振器外部の光路)は、レー
ザ加工ヘッド位置決め装置23上に設けてあり、第2ミ
ラー15は、通常は第3ミラー17および集光レンズ2
1と共に一体的にX軸方向へ移動位置決め自在のX軸キ
ャリッジ(図示せず)上に設けてあり、第3ミラー17
と集光レンズ21は前記第2ミラー15に対してY軸方
向へ一体的に移動位置決め自在のY軸キャリッジ(図示
せず)上に設けてある。
【0032】また、前記外部光路には蛇腹またはテレス
コピック筒体等からなる伸縮自在の光軸カバー25が設
けてある。この光軸カバー25の第1ミラー13側は前
記発振器カバー11に連結してある。
コピック筒体等からなる伸縮自在の光軸カバー25が設
けてある。この光軸カバー25の第1ミラー13側は前
記発振器カバー11に連結してある。
【0033】従って、上述のX−Yキャリッジを適宜に
移動位置決めすることにより、被加工材W上の所望する
位置にレーザ光LBを照射することができる。
移動位置決めすることにより、被加工材W上の所望する
位置にレーザ光LBを照射することができる。
【0034】前記レーザ発振器3の前方(図1において
左方)に出力ミラー7の大気側表面7aを含む集塵室2
9が設けてある。この集塵室29の前側壁31には、前
記出力ミラー7からのレーザ光LBが通過可能な空気取
入口33を設けると共に、前記出力ミラー7からのレー
ザ光LBの光軸にほぼ直交する方向へ空気を吸引する集
塵器35が設けてある。
左方)に出力ミラー7の大気側表面7aを含む集塵室2
9が設けてある。この集塵室29の前側壁31には、前
記出力ミラー7からのレーザ光LBが通過可能な空気取
入口33を設けると共に、前記出力ミラー7からのレー
ザ光LBの光軸にほぼ直交する方向へ空気を吸引する集
塵器35が設けてある。
【0035】上述の集塵器35には、集塵室29内の空
気をフィルター37を介して吸引して前記発振器カバー
11内へ排出するための排気ファン39が設けてある。
気をフィルター37を介して吸引して前記発振器カバー
11内へ排出するための排気ファン39が設けてある。
【0036】上記構成の集塵器35において、排気ファ
ン39を作動させれば、集塵器35は、発振器カバー1
1内の空気を空気取入口33から取り入れてフィルター
37で濾過された空気を発振器カバー11内へ排出す
る。このときの空気の循環経路はほぼ矢印Cで示すよう
になる。
ン39を作動させれば、集塵器35は、発振器カバー1
1内の空気を空気取入口33から取り入れてフィルター
37で濾過された空気を発振器カバー11内へ排出す
る。このときの空気の循環経路はほぼ矢印Cで示すよう
になる。
【0037】次に、レーザ加工機3でレーザ加工を行っ
ているときの発振器カバー11内の空気の流通状態につ
いて説明する。
ているときの発振器カバー11内の空気の流通状態につ
いて説明する。
【0038】レーザ加工時に加工ヘッド19を左方へ移
動させるときには、光軸カバー25内に侵入した粉塵を
含む空気が出力ミラー7の方へ流れて発振器カバー11
内に流入する。そして、発振器カバー11内に流入した
この粉塵を含む空気の一部は、発振器カバー11内の比
較的に清浄な空気と共に空気取入口33から集塵室29
内へ取り込まれる。集塵室29内に流入しなかった残余
の粉塵を含む空気は、発振器カバー11内に拡散する。
動させるときには、光軸カバー25内に侵入した粉塵を
含む空気が出力ミラー7の方へ流れて発振器カバー11
内に流入する。そして、発振器カバー11内に流入した
この粉塵を含む空気の一部は、発振器カバー11内の比
較的に清浄な空気と共に空気取入口33から集塵室29
内へ取り込まれる。集塵室29内に流入しなかった残余
の粉塵を含む空気は、発振器カバー11内に拡散する。
【0039】集塵室29に流入する空気の圧力は、集塵
器35の排気ファン39により発生する圧力よりは小さ
いため、流入した空気は出力ミラー7の大気側表面7a
に到達する以前にほとんどが排気ファン39に吸引さ
れ、粉塵をフィルター37で濾過された清浄な空気が発
振器カバー11内に排出される。
器35の排気ファン39により発生する圧力よりは小さ
いため、流入した空気は出力ミラー7の大気側表面7a
に到達する以前にほとんどが排気ファン39に吸引さ
れ、粉塵をフィルター37で濾過された清浄な空気が発
振器カバー11内に排出される。
【0040】また、加工ヘッド19を右方へ移動させる
ときには、多くは集塵器35で濾過されて比較的に清浄
な発振器カバー11内の空気が第1ミラー13の方へ流
れる。
ときには、多くは集塵器35で濾過されて比較的に清浄
な発振器カバー11内の空気が第1ミラー13の方へ流
れる。
【0041】本発明によれば、出力ミラー7の大気側表
面7aは粉塵がほとんど含まれない清浄な空気中に保持
され、加工ヘッド移動時に生じる空気の流れが出力ミラ
ー7の大気側表面まで及ぶことが少ないため汚れが生じ
にくい。
面7aは粉塵がほとんど含まれない清浄な空気中に保持
され、加工ヘッド移動時に生じる空気の流れが出力ミラ
ー7の大気側表面まで及ぶことが少ないため汚れが生じ
にくい。
【0042】また、発振器カバー11内に集塵器35を
設けたのでフィルター37の目詰まりも少なく、フィル
ター37の交換周期が長くなるというメリットもある。
設けたのでフィルター37の目詰まりも少なく、フィル
ター37の交換周期が長くなるというメリットもある。
【0043】
【発明の効果】請求項1、請求項2の発明によれれば、
光軸移動型レーザ加工機におけるガスレーザ発振器にお
いて、出力ミラーの大気側表面をレーザ加工時に生じる
粉塵から保護することができる。
光軸移動型レーザ加工機におけるガスレーザ発振器にお
いて、出力ミラーの大気側表面をレーザ加工時に生じる
粉塵から保護することができる。
【0044】従って、出力ミラー表面の汚染による熱レ
ンズ効果の発生がおさえられ、熱レンズ効果に起因する
レーザ加工性能の低下を防止することができる。
ンズ効果の発生がおさえられ、熱レンズ効果に起因する
レーザ加工性能の低下を防止することができる。
【図1】本発明に係る光軸移動型レーザ加工機における
ガスレーザ発振器の基本的な構成例。
ガスレーザ発振器の基本的な構成例。
【図2】従来の光軸移動型レーザ加工機におけるガスレ
ーザ発振器の基本的な構成例。
ーザ発振器の基本的な構成例。
1 ガスレーザ発振器 3 レーザ加工機 4 真空容器 5(a,b) 放電電極 7 出力ミラー 7a 出力ミラーの大気側表面 9 リアミラー 11 発振器カバー 13 第1ミラー 15 第2ミラー 17 第3ミラー 19 加工ヘッド 21 集光レンズ 23 レーザ加工ヘッド位置決め装置 25 光軸カバー 29 集塵室 31 前側壁 33 空気取入口 35 集塵器 37 フィルター 39 排気ファン LB レーザ光 W 被加工材
Claims (2)
- 【請求項1】 光軸移動型レーザ加工機におけるガスレ
ーザ発振器において、前記光軸移動型レーザ加工機の光
軸カバーに連結した発振器カバーを設け、前記ガスレー
ザ発振器に該ガスレーザ発振器の出力ミラーの大気側表
面を含む集塵室を備えた集塵器を設け、前記集塵室内の
空気を前記発振器カバー内へ排出することを特徴とする
光軸移動型レーザ加工機におけるガスレーザ発振器。 - 【請求項2】 請求項1に記載の光軸移動型レーザ加工
機におけるガスレーザ発振器において、前記集塵器の集
塵室に前記出力ミラーからのレーザ光が通過可能な空気
取入口を設け、該空気取入口から取り入れた空気を前記
出力ミラーからのレーザ光の光軸にほぼ直交する方向へ
吸引することを特徴とする光軸移動型レーザ加工機にお
けるガスレーザ発振器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001013679A JP2002217476A (ja) | 2001-01-22 | 2001-01-22 | 光軸移動型レーザ加工機におけるガスレーザ発振器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001013679A JP2002217476A (ja) | 2001-01-22 | 2001-01-22 | 光軸移動型レーザ加工機におけるガスレーザ発振器 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002217476A true JP2002217476A (ja) | 2002-08-02 |
Family
ID=18880495
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001013679A Pending JP2002217476A (ja) | 2001-01-22 | 2001-01-22 | 光軸移動型レーザ加工機におけるガスレーザ発振器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002217476A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006334616A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Research Foundation For Opto-Science & Technology | レーザ加工装置 |
JP7387077B1 (ja) * | 2023-04-24 | 2023-11-27 | 三菱電機株式会社 | レーザ装置およびレーザ加工機 |
-
2001
- 2001-01-22 JP JP2001013679A patent/JP2002217476A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006334616A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Research Foundation For Opto-Science & Technology | レーザ加工装置 |
JP4603936B2 (ja) * | 2005-05-31 | 2010-12-22 | 財団法人光科学技術研究振興財団 | レーザ加工装置 |
JP7387077B1 (ja) * | 2023-04-24 | 2023-11-27 | 三菱電機株式会社 | レーザ装置およびレーザ加工機 |
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