JP2002212110A - 汚染物質分解方法及び装置 - Google Patents

汚染物質分解方法及び装置

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡易かつ効率的でランニングコストの低い汚
染物質の分解方法及び装置を提供する。 【解決手段】 塩素と汚染物質とを含む被処理物に対し
て光を照射することによって汚染物質を分解するための
汚染物質分解装置であって、被処理物を収めるための容
器と、容器内に収納される被処理物に対して光を照射す
るための光照射手段と、光照射手段から照射される光を
反射するための光反射部とを有し、光反射部が光照射手
段からの光を反射して被処理物に照射する位置にある。
塩素と汚染物質とを含む被処理物に対して光を照射する
ことによって汚染物質を分解する汚染物質分解方法であ
って、被処理物に対し光を照射する工程、前記工程にお
いて照射した光を反射させる反射工程、反射工程による
反射光を被処理物に照射する工程を有す。塩素に替えて
光照射によってラジカルを生成する性質を有する気体を
用いてもよい。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、汚染物質、例えば
有機ハロゲン化合物、特には有機塩素化合物などの分解
方法、及び、それに用いる分解装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年までの産業技術の発展に伴い、有機
塩素化合物（例えば塩素化エチレン、塩素化メタン等）
が膨大に使用され、その廃棄処理は深刻な問題となって
きている。また、使用済みのこれらの汚染物質が自然環
境を汚染するという環境問題が生じており、その解決に
多大な努力が払われている。
【０００３】これらを処理する方法として、例えば、塩
素化エチレンを酸化剤や触媒を用いて分解する方法が有
り、具体的には、オゾンで分解する方法（特開平３−３
８２９７号）、過酸化水素の存在下で紫外線を照射する
方法（特開昭６３−２１８２９３号）等が知られてい
る。また、次亜塩素酸ナトリウムを酸化剤として用いる
ことも示唆されており（米国特許５５２５００８号、同
５６１１６４２号）、次亜塩素酸ナトリウムと紫外線照
射とを組み合わせる手法も提案されている（米国特許５
５８２７４１号）。更には、酸化チタン等の酸化物半導
体微粒子からなる光触媒と液状の塩素化エチレンとをア
ルカリ条件下で懸濁して、光照射により分解する方法も
知られている（特開平７−１４４１３７号）。
【０００４】また上記以外にも、酸化剤を用いずに気相
で紫外線を照射する光分解法が既に試みられている。例
えば、有機ハロゲン化合物を含む排ガスを紫外線照射処
理して酸性の分解ガスとした後、アルカリで洗浄して無
害化処理する方法（特開昭６２−１９１０２５号）、有
機ハロゲン化合物を含有する排水を曝気処理し、排出さ
れるガスを紫外線照射した後、アルカリ洗浄する装置
（特開昭６２−１９１０９５号）等が提案されている。
また、鉄粉による塩素化エチレンの分解も知られており
（特開平８−２５７５７０号）、この場合、おそらく還
元分解が生じていると推測されている。また、シリコン
微粒子を用いたテトラクロロエチレン（以下、ＰＣＥと
略記）の分解については還元分解も報告されている。
【０００５】また、トリクロロエチレン（以下、ＴＣＥ
と略記）やＰＣＥなどの塩素化脂肪族炭化水素は、微生
物により好気的あるいは嫌気的に分解されることが知ら
れており、このような工程を利用して、分解あるいは浄
化を行うことも試みられている。
【０００６】
【発明が解決しようとしている課題】以上説明したよう
に、従来より種々の有機塩素化合物の分解方法が提案さ
れているが、本発明者らの検討によれば、分解の為の複
雑な装置が必要であったり、分解生成物の更なる無害化
処理等が必要である場合が多く、より問題点が少なく環
境に優しい、汚染物質（有機塩素化合物等）の分解のた
めの技術が必要であるとの結論に至った。すなわち、よ
り簡易で、より効率的な汚染物質の分解方法、及び、そ
れに用いる汚染物質分解装置、また、活性炭や微生物に
よる処理を必要とせず、効率的で、しかも２次汚染の問
題なく、また排水量の少ない汚染物質の分解ができる分
解方法及び該方法を効率的に行うことのできる汚染物質
分解装置が求められていた。
【０００７】このようなニーズに対応するため、本発明
者らが鋭意検討を行なったところ、殺菌効果（特開平１
−１８０２９３号）や、半導体ウエハー上の汚染物の洗
浄効果（特開平７−５１６７５号）を有することが報告
されている水の電気分解によって得られる機能水（例え
ば酸性水）、および／または機能水を曝気することによ
り生成した塩素を含む空気および／または液を有機塩素
化合物等の分解対象物質を含む液もしくは空気と混合し
て、光照射を行うと優れた分解能を奏するという新たな
知見を得た。
【０００８】この知見に基づき、本発明者らは既に光照
射下における機能水中もしくはその曝気により生成する
塩素を含む空気および／または液中での汚染物質の分解
方法及び装置についての様々な提案を行なっている。例
えば、特願２０００−１８１６３６号においては、汚染
物質の分解を機能水の曝気により生成する塩素を含む空
気中で行なっている。
【０００９】しかし、これら技術においては、照射光の
大半が利用されずに反応槽から外側に放射されて散逸す
るためランニングコスト、エネルギー効率の点において
なお改善の余地があり、解決が待たれていた。
【００１０】本発明者らが光照射下における塩素中での
分解方法について提案する以前の従来の光反応反応槽で
は反応液または気体自身に混合物等が混入していたり、
反応液中で不溶性の物質が生成したり、反応気体中で反
応物がミスト状になるため光触媒反応槽内の透明度は低
いことが多い。更に光触媒を使う反応槽の場合、槽内に
触媒が設置されていたり光触媒微粒子が充填されている
為、やはり光が吸収される。この為、従来の光反応反応
槽では照射光の直接光は反応槽内で効率的に利用され反
応槽から外側に透過して散逸し効率が低下する、という
ことはなかった。また、光反応で主に使われる光である
紫外線は、それ自身の波長が短く反応場では吸収され減
衰しやすい為に反応槽を透過して反対側から漏洩する光
量はほとんど無視できる量のため、特に反対側に反射板
を設置する必要はなかった。
【００１１】しかし、塩素を含む汚染水及び／または汚
染空気に３００ｎｍ以上の波長の可視光を照射して処理
する場合、塩素ガス及び／または溶存塩素は槽内の透明
度を低下させるほどの濃度ではなく槽内には透明な水ま
たは空気が充填されているだけで、特に透明度を低下さ
せる充填物はなく、また反応途中においても沈殿物や濃
厚なミストも生じない。また、使用される光が３００ｎ
ｍ以上の波長の可視光であるため、反応場を透過しても
紫外線ほどは減衰しないことがわかった。この為、今ま
での反応槽では照射光の大半が利用されずに反応槽から
外側に照射されて散逸し、効率が低下し改善の余地があ
った。
【００１２】
【課題を解決するための手段】このような状況に鑑み、
本発明者らは、さらに実用に即した形態について検討を
加え、詳細な実験を進めるうちに、よりランニングコス
トが低く効率の高い分解を実現する為には、光を効率的
に反応場に照射することが重要であることを見出し、本
発明に至った。
【００１３】すなわち本発明は、塩素と汚染物質とを含
む被処理物に対して光を照射することによって前記汚染
物質を分解するための汚染物質分解装置であって、前記
被処理物を収めるための容器と、前記容器内に収納され
る前記被処理物に対して光を照射するための光照射手段
と、前記光照射手段から照射される光を反射するための
光反射部とを有し、該光反射部が、該光照射手段からの
光を反射して被処理物に照射する位置にあることを特徴
とする汚染物質分解装置である。
【００１４】本発明の装置においては、該光反射部が、
該光照射手段から被処理物を通り抜けた光を反射し再び
被処理物に照射されるように配置されたことが好まし
い。
【００１５】上記本発明の装置の一形態として、該容器
が円筒形状であり、該光反射部は該容器に内向きに形成
され、かつ、該光照射手段が、該容器の円筒中心軸位置
に設けられた光源である装置を挙げることができる。こ
の形態において、該容器の内面が鏡面加工や金属膜の蒸
着によって該光反射部であることができる。あるいは、
該容器が可視光を透過する素材からなり、かつ、該光反
射部が、該容器の外面に設けられた反射膜または該容器
の外側に設けられた反射板であることができる。
【００１６】上記本発明の装置の他の形態として、内向
きに該光反射部が形成された楕円筒形状の反射板を有
し、可視光を透過する素材からなる該容器が該反射板の
一方の楕円焦点部に配設され、かつ、該光照射手段が該
反射板の他方の楕円焦点部に配設された光源である装置
を挙げることもできる。
【００１７】上記本発明の装置の別の形態として、内向
きに該光反射部が形成された円筒形状の反射板を有し、
該反射板の円筒中心軸位置に可視光を透過する素材から
なる該容器が配置され、該反射板と該容器との間に該光
照射手段が配された装置を挙げることもできる。この形
態において、光照射手段は例えば、反射板の円筒中心軸
を中心とする円周上に配置できる。
【００１８】上記本発明の装置の別の形態として、該反
射部と該光照射手段との間に該容器が配された装置を挙
げることができる。この形態において、該光反射部が形
成された板状の反射板を有し、該反射板と該光照射手段
の間に可視光を透過する素材からなる該容器を配しても
良いし、またあるいは、該容器の光照射手段に対向する
部分の少なくとも一部は可視光を透過する素材で形成
し、該容器の光照射手段に対向しない部分の少なくとも
一部に、鏡面加工あるいは反射膜を張り付けることなど
により、該光反射部を設けて該容器の壁面の一部が反射
板を兼用するようにしてもよい。
【００１９】反射板が容器と別に存在する場合は、反射
板は平板状であっても、曲面であってもよい。
【００２０】上記可視光を透過する素材は、３００ｎｍ
以上の波長の可視光を透過する素材であることが好まし
い。
【００２１】上記本発明の装置は、塩素を含む気体を該
容器に供給する塩素含有気供給手段と、汚染物質を含む
空気を該容器に供給する汚染空気供給手段を備えること
ができる。該塩素含有気供給手段が、塩素ガス貯蔵容器
を備えることができ、さらに、該塩塩素含有気供給手段
が、該塩素ガス貯蔵容器からの塩素ガスを減圧する減圧
装置を備えることができる。
【００２２】また、上記本発明の装置は、塩素を含む液
を該容器に供給する塩素含有液供給手段と、汚染物質を
含む液を該容器に供給する汚染液供給手段とを備えるこ
とができる。
【００２３】あるいは、上記本発明の装置は、塩素を含
む液を該容器に供給する塩素含有液供給手段と、該容器
内の塩素を含む液に空気を接触させるための曝気手段
と、該曝気手段に空気を供給する空気供給手段とを備え
ることができる。
【００２４】さらにまた、上記本発明の装置は、塩素を
含む液を該容器に供給する塩素含有液供給手段と、該容
器内の塩素を含む液に、汚染物質を含む空気を接触させ
るための曝気手段と、該曝気手段に該汚染物質を含む空
気を供給する汚染空気供給手段とを備えることができ
る。
【００２５】上記塩素含有液供給手段が、塩素ガス貯蔵
容器を有することができ、さらに、該塩素ガス貯蔵容器
からの塩素ガスを減圧する減圧装置と、該減圧された塩
素ガスを水に接触させる曝気手段を有する水槽とを備え
ることができる。
【００２６】本発明はまた、塩素と汚染物質とを含む被
処理物に対して光を照射することによって汚染物質を分
解する汚染物質分解方法であって、前記被処理物に対し
光を照射する工程と、前記工程において照射した光を反
射させる反射工程と、前記反射工程による反射光を前記
被処理物に照射する工程とを有することを特徴とする汚
染物質分解方法を含む。
【００２７】本発明の方法において、前記反射工程にお
いて、前記被処理物を通り抜けた光を反射することが好
ましい。
【００２８】上記本発明の方法において、塩素ガスと、
汚染物質を含む空気とを混合して気体状の被処理物を得
ることができる。該気体状の被処理物質中の塩素ガスの
濃度が５体積ｐｐｍから１０００体積ｐｐｍであること
が好ましく、さらには２０体積ｐｐｍから１００体積ｐ
ｐｍであることが好ましい。
【００２９】上記本発明の方法において、塩素を含む液
と、汚染物質を含む液とを混合して液状の被処理物を得
ることもできる。該混合した液状の被処理物中の溶存塩
素の濃度はが１ｍｇ／Ｌ以上であることが好ましく、
２．５ｍｇ／Ｌ以上であることがより好ましい。
【００３０】あるいは上記本発明の方法において、塩素
を含む液に、空気を接触させることにより塩素を含む空
気を得、該塩素を含む空気と、汚染物質を含む空気とを
混合して気体状の被処理物を得ることもできる。
【００３１】さらにまた、塩素を含む液に、汚染物質を
含む空気を接触させることにより気体状の被処理物を得
ることもできる。
【００３２】上記気体状の被処理物質中の塩素ガスの濃
度が５体積ｐｐｍから１０００体積ｐｐｍであることが
好ましく、さらには５０体積ｐｐｍから１００体積ｐｐ
ｍであることが好ましい。
【００３３】上記塩素を含む液中の溶存塩素の濃度が２
ｍｇ／Ｌから１５０ｍｇ／Ｌであることが好ましく、さ
らには５ｍｇ／Ｌから１１０ｍｇ／Ｌであることが好ま
しい。
【００３４】上記光が、波長３００〜５００ｎｍの波長
域の光を含む光であることが好ましく、さらには波長３
５０〜４５０ｎｍの波長域の光を含む光であることが好
ましい。
【００３５】上記光の照射量が１０μＷ／ｃｍ2〜１０
ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、さらには５０μＷ
／ｃｍ2〜５ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましい。
【００３６】上記汚染物質がハロゲン化脂肪族炭化水素
であることができる。このハロゲン化脂肪族炭化水素が
塩素化脂肪族炭化水素であることができ、この塩素化脂
肪族炭化水素がクロロエチレン、１，１−ジクロロエチ
レン、ｃｉｓ−１，２−ジクロロエチレン、ｔｒａｎｓ
−１，２−ジクロロエチレン、トリクロロエチレン、テ
トラクロロエチレン、クロロメタン、ジクロロメタン、
トリクロロメタンおよび１，１，１−トリクロロエタン
からなる群より選ばれる１種以上の化合物であることが
できる。
【００３７】さらに、本発明は、光照射によってラジカ
ルを生成する性質を有する気体と汚染物質とを含む被処
理物に対して光を照射することによって前記汚染物質を
分解するための汚染物質分解装置であって、前記被処理
物を収めるための容器と、前記容器内に収納される前記
被処理物に対して光を照射するための光照射手段と、前
記光照射手段から照射される光を反射するための光反射
部とを有し、該光反射部が、該光照射手段からの光を反
射して被処理物に照射する位置にあることを特徴とする
汚染物質分解装置を包含する。
【００３８】また本発明は、光照射によってラジカルを
生成する性質を有する気体と汚染物質とを含む被処理物
に対して光を照射することによって汚染物質を分解する
汚染物質分解方法であって、前記被処理物に対し光を照
射する工程と、前記工程において照射した光を反射させ
る反射工程と、前記反射工程による反射光を前記被処理
物に照射する工程とを有することを特徴とする汚染物質
分解方法も包含する。
【００３９】
【発明の実施の形態】以下、本願の諸形態を図面に基づ
いて説明する。各形態とも、光反射部が同様の形状の装
置で、汚染物質を含む空気（汚染空気）を処理する構成
と汚染物質を含む液を処理する構成が有る。汚染物質を
含む液としては、例えば、汚染物質を含む水（汚染水）
が挙げられる。
【００４０】光反射部は、平面状である光反射面がその
代表例であるが、表面に多数の凹凸を有する形態や回転
放物面を有する形態等、光を反射できるものであればよ
く、本明細書記載の光反射面に限定されない。
【００４１】汚染空気を処理する場合、更に分解処理槽
である容器が一体型の構成と分離型の構成が有る。また
汚染空気を処理する場合、汚染空気で塩素を含有する液
（塩素含有液）を曝気する構成と汚染空気を直接分解反
応槽に導入する構成が有る。
【００４２】塩素の供給源としては、塩素を含む液であ
る塩素含有液が有り、汚染空気を処理する場合は更に塩
素ガスを直接汚染空気と混合する構成が有る。
【００４３】塩素含有液としては、塩素を含む水（塩素
含有水）を用いることができる。塩素含有水としては、
塩素ガスを水に接触させて得られる塩素ガス曝気水、あ
るいは機能水を用いることができる。
【００４４】塩素ガス曝気水は、塩素ガスボンベ等の塩
素ガス貯蔵容器からの塩素ガスを用いて製造することが
できる。例えば、曝気手段を備える水槽に水を入れ、塩
素ガス貯蔵容器から減圧弁などの減圧装置を経て曝気手
段に塩素ガスを導入することにより、塩素ガスを水に接
触すればよい。
【００４５】機能水としては、水を電気分解して得られ
る電解機能水あるいは種々の試薬を溶解して得られる合
成機能水を用いることができる。
【００４６】塩素を含む気体としては、例えば塩素ガ
ス、塩素を含む空気を使用することができ、塩素を含む
気体を容器に供給する塩素含有気供給手段としては、塩
素ガスボンベ等の塩素ガス貯蔵容器と必要に応じて減圧
弁等の減圧装置を用いればよい。さらに空気を塩素ガス
に混合させて塩素を含む空気を得る手段を付加しても良
い。もちろん、必要に応じて配管や計装機器類を設ける
ことができる。
【００４７】［実施形態１］図１には、気体に含まれる
汚染物質を分解する場合の分解装置の一実施形態の基本
構成が示されている。また、処理対象が汚染物質が水に
溶解したものの場合でも、あらかじめ汚染水を曝気して
汚染物質をガス化した後、同様に処理することが出来
る。
【００４８】図１において、塩素含有液供給手段は塩素
含有水供給装置１０２と塩素含有水送水ポンプ１０８お
よび配管から構成される。１０１は底部に貯留した塩素
含有水を曝気するための曝気手段１０７を備え、被処理
物を収めるための円筒形状の容器である分解処理槽であ
り、その内側は光を反射するように形成され、光反射面
となっている。容器の円筒中心軸位置に設置された光照
射手段である光源１０６から照射される光および分解処
理槽１０１外殻の内側で反射した光によって分解処理槽
１０１内の液相中および気相中の分解対象物質（汚染物
質）が分解される。
【００４９】分解処理槽１０１に送水された塩素含有水
は分解処理槽１０１底部に設置された曝気手段１０７に
よって曝気され、これにより分解処理槽１０１内に塩素
を含む空気が充満する。ここでは汚染物質を含む空気
（汚染空気）が外部から供給されており、汚染空気供給
手段である汚染ガス供給管１０３から汚染空気を曝気手
段１０７に送気しているが、他の形態として、曝気手段
１０７に分解対象物質を含まない空気を空気供給手段か
ら供給し、分解対象物質を含む空気は別途不図示の供給
手段から分解処理槽１０１に送気されるようにしても良
い。前者の場合、すなわち、分解対象物質を含む空気を
曝気手段１０７に送気して、分解処理槽１０１中に塩素
と分解対象物質を含む塩素含有水及び空気を作る場合、
後者に比べて構成が簡単になるという利点がある。逆に
後者の場合、塩素含有水中に分解対象物質がとけ込みに
くくなるので、塩素含有水排水のモニタリングや後処理
が不必要になる。
【００５０】汚染空気による曝気により分解対象物質が
塩素含有水中に溶解する。この分解対象物質と塩素含有
水水及び空気が被処理物であり、この被処理物に対して
光照射手段１０６から光を所望の滞留時間照射し、これ
により分解対象物質を分解する。
【００５１】塩素含有水の供給は、バッチ的に行っても
良いし連続的に行っても良い。
【００５２】分解処理槽１０１が金属で作られている場
合は、特に何の加工が施されていなくても光を反射する
が、外殻の内側が鏡面加工されているとなお良い。槽内
に塩素ガスが充満するため、金属としてはＳＵＳ３１６
のようなさびにくい金属を用いることが好ましい。ま
た、分解処理槽が可視光を透過しない不透明プラスチッ
クなどで作られている場合は、内側に光輝金属膜を蒸着
し、その上に更に二酸化ケイ素膜のような無機系被膜を
保護膜として設けることができる。この時、光輝金属に
フルオロアルキルシランや四フッ化エチレンのようなフ
ッ素化合物を添加して耐腐食性を向上させるとなお良
い。
【００５３】また、分解処理槽１０１がガラスや透明プ
ラスチックで作られている場合は、外側に反射膜を形成
すればよい。光輝金属膜を蒸着することで反射膜を形成
することができ、この場合、蒸着の前にあらかじめ下地
を研磨すればなお良い。あるいはアルミ箔等の反射板で
容器を覆うことで反射膜を形成しても良い。
【００５４】容器を機能別に分割することもできる。例
えば、図１の分解処理槽１０１の底部の塩素含有水を曝
気する部分を塩素含有水曝気槽として独立させ、ここで
分解対象物質を含む空気で塩素含有水を曝気して、生成
した塩素と分解対象物質を含む空気を被処理物として分
解処理槽に送って光を照射する、という構成でもよい。
この構成のうち、図１からの変更部分のみ図２に示す。
２０１が容器の一部を独立させた塩素含有水曝気槽であ
る。
【００５５】更に、図示しないが、図１または２の構成
で分解処理槽に直接分解対象物質を含む空気等の気体を
送り、別途曝気手段に分解対象物質を含まない空気を空
気供給手段から送気して塩素を含む空気を生成させ、両
者の混合気を分解処理槽の気相中に作って被処理物と
し、ここに光を照射するという構成でもよい。
【００５６】あるいはまた、分解処理槽に汚染物質を含
む空気などの気体を直接送り、塩素ガス貯蔵容器から供
給される塩素ガスあるいはこの塩素ガスを含む空気等の
気体を分解処理槽に送り、両者の混合気を分解処理槽の
気相中に作って被処理物とし、ここに光を照射するとい
う構成でもよい。なお、この場合は液相は不要である。
さらには、汚染空気と塩素含有気とを別々に分解処理槽
に供給しても良いが、分解処理槽の外で、予め塩素と汚
染物質を含む気体を作り、これを分解処理槽に供給して
も良い。この場合、塩素含有気供給手段と汚染空気供給
手段は一つのものとなる。
【００５７】［実施形態２］図３には、水（汚染水）に
溶解した汚染物質を分解する場合の装置の一実施形態に
つき、その基本構成が示されている。
【００５８】装置構成は基本的に排水管３０９（図１で
は１０９）の取り付け位置、反応槽内の気液比、曝気手
段の有無が違う以外は図１と同様である。また、曝気手
段やプロペラで槽内の液を撹拌するとなお効率が高まる
が、特になくても良い。
【００５９】この分解処理は、バッチ的に行っても良い
し連続的に行っても良い。
【００６０】［実施形態３］図４には、気体に含まれる
汚染物質を分解する場合の分解装置の別の実施形態につ
き、その基本構成が示されている。また、処理対象が汚
染物質が水に溶解したものの場合でも、あらかじめ汚染
水を曝気して汚染物質をガス化した後、同様に処理する
ことが出来る。
【００６１】図４において、４００は楕円筒形状の反射
板であり、その楕円の一方の焦点の部分に円筒形状の分
解処理槽４０１が、もう一方の焦点の部分に光照射手段
である光源１０６が設置されている。分解処理槽４０１
は底部に貯留した機能水を曝気するための曝気手段１０
７を備え、３００ｎｍ以上の波長の可視光を透過する素
材で作られた被処理物を収めるための分解処理槽であ
り、光照射手段１０６から直接照射される光および反射
板４００の内側で反射した光によって内部の液相中およ
び気相中の分解対象物質が分解される。
【００６２】反射板４００が金属で作られている場合
は、特に何の加工が施されていなくても光を反射する
が、その内側が鏡面加工されていたり、光輝金属が蒸着
されているとなお良い。また、可視光を透過しない不透
明プラスチックなどで作られている場合は、内側に光輝
金属膜を蒸着することができる。反射板は直接塩素ガス
や分解対象物に接触しないので、一般的な耐腐食用の保
護膜が有れば十分である。
【００６３】また、反射板４００がガラスや透明プラス
チックで作られている場合は、外壁に内向きに光輝金属
膜を蒸着して反射膜を形成すれば良い。蒸着の前にあら
かじめ下地を研磨すればなお良い。あるいはアルミ箔等
の反射板で容器を覆うことで反射膜を形成しても良い。
反射板の内面に反射膜を形成しても構わない。
【００６４】塩素含有水の供給は、バッチ的に行っても
良いし連続的に行っても良い。
【００６５】また、実施形態１において図１から図２に
変更したように、実施形態３でも容器を機能別に分割す
ることもできる。例えば、図４の分解処理槽４０１の底
部の塩素含有水を曝気する部分を塩素含有水曝気槽とし
て独立させ、ここで分解対象物質を含む空気で塩素含有
水を曝気して、生成した塩素と分解対象物質を含む空気
を被処理物として分解処理槽に送って光を照射する、と
いう構成でもよい。
【００６６】更に、図示しないが、実施形態３または実
施形態３の容器を分離した形態で分解処理槽に直接分解
対象物質を含む空気等の気体を送り、別途曝気手段に分
解対象物質を含まない空気を空気供給手段から送気して
塩素を含む空気を生成させ、両者の混合気を分解処理槽
の気相中に作って被処理物とし、ここに光を照射すると
いう構成でもよい。
【００６７】あるいはまた、分解処理槽に汚染物質を含
む空気などの気体を直接送り、塩素ガス貯蔵容器から供
給される塩素ガスあるいはこの塩素ガスを含む空気等の
気体を分解処理槽に送り、両者の混合気を分解処理槽の
気相中に作って被処理物とし、ここに光を照射するとい
う構成でもよい。なお、この場合は液相部は不要であ
る。さらには、汚染空気と塩素含有気とを別々に分解処
理槽に供給しても良いが、分解処理槽の外で、予め塩素
と汚染物質を含む気体を作り、これを分解処理槽に供給
しても良い。この場合、塩素含有気供給手段と汚染空気
供給手段は一つのものとなる。
【００６８】［実施形態４］図５には、水（汚染水）に
溶解した汚染物質を分解する場合の分解装置の別の実施
形態につき、その基本構成が示されている。
【００６９】装置構成は、基本的に排水管５０９の取り
付け位置、反応槽内の気液比、曝気装置の有無が違う以
外は図４と同様である。また、曝気手段やプロペラで槽
内の液を撹拌するとなお効率が高まるが、特になくても
良い。
【００７０】この分解処理は、バッチ的に行っても良い
し連続的に行っても良い。
【００７１】［実施形態５］図６には、気体に含まれる
汚染物質を分解する場合の分解装置の別の実施形態につ
き、その基本構成が示されている。また、処理対象が汚
染物質が水に溶解したものの場合でも、あらかじめ汚染
水を曝気して汚染物質をガス化した後、同様に処理する
ことが出来る。
【００７２】図６において、６００は円筒形状の反射板
であり、その円の中央の部分に円筒形状の分解処理槽６
０１と分解反応槽６０１を取り囲むように光照射手段で
ある光源１０６が１本または複数本の設置されている。
分解処理槽６０１は底部に貯留した塩素含有水を曝気す
るための曝気手段１０７を備え、３００ｎｍ以上の波長
の可視光を透過する素材で作られた被処理物を収めるた
めの分解処理槽であり、光照射手段１０６から直接照射
される光および反射板６００の内側で反射した光によっ
て内部の液相中および気相中の分解対象物質が分解され
る。
【００７３】反射板６００が金属で作られている場合
は、特に何の加工が施されていなくても光を反射する
が、その内側が鏡面加工されていたり、光輝金属が蒸着
されているとなお良い。また、可視光を透過しない不透
明プラスチックなどで作られている場合は、内側に光輝
金属膜を蒸着することができる。反射板は直接塩素ガス
や分解対象物に接触しないので、一般的な耐腐食用の保
護膜が有れば十分である。
【００７４】また、反射板６００がガラスや透明プラス
チックで作られている場合は、外壁に内向きに光輝金属
膜を蒸着して反射膜を形成すれば良い。蒸着の前にあら
かじめ下地を研磨すればなお良い。あるいはアルミ箔等
の反射板で容器を覆うことで反射膜を形成しても良い。
反射板の内面に反射膜を形成しても構わない。
【００７５】塩素含有水の供給は、バッチ的に行っても
良いし連続的に行っても良い。
【００７６】また、実施形態１において図１から図２に
変更したように、実施形態５でも容器を機能別に分割す
ることもできる。例えば、図６の分解処理槽６０１の底
部の塩素含有水を曝気する部分を塩素含有水曝気槽とし
て独立させ、ここで分解対象物質を含む空気で塩素含有
水を曝気して、生成した塩素と分解対象物質を含む空気
を被処理物として分解処理槽に送って光を照射する、と
いう構成でもよい。
【００７７】［実施形態５’］また、実施形態５または
実施形態５の容器を分離した形態で分解処理槽に直接分
解対象物質を含む空気等の気体を送り、別途曝気手段に
分解対象物質を含まない空気を空気供給手段から送気し
て塩素を含む空気を生成させ、両者の混合気を分解処理
槽の気相中に作って被処理物とし、ここに光を照射する
という構成でもよい。
【００７８】あるいはまた、分解処理槽に汚染物質を含
む空気などの気体を直接送り、塩素ガス貯蔵容器から供
給される塩素ガスあるいはこの塩素ガスを含む空気等の
気体を分解処理槽に送り、両者の混合気を分解処理槽の
気相中に作って被処理物とし、ここに光を照射するとい
う構成でもよい。なお、この場合は液相部は不要であ
る。さらには、汚染空気と塩素含有気とを別々に分解処
理槽に供給しても良いが、分解処理槽の外で、予め塩素
と汚染物質を含む気体を作り、これを分解処理槽に供給
しても良い。この場合、塩素含有気供給手段と汚染空気
供給手段は一つのものとなる。
【００７９】これら２つの形態のうち、実施形態５の容
器を分離した形態の分解処理槽に直接分解対象物質を含
む空気等の気体を送る形態を図７に示す。
【００８０】装置構成は、分解処理槽６０１に直接分解
対象物質を含む空気等の気体（汚染ガス）を汚染ガス供
給管７０３から送り、別途塩素含有水曝気槽７０１内の
曝気手段１０７に分解対象物質を含まない空気を空気供
給手段（不図示）から送気して塩素を含む空気を生成さ
せ、分解対象物質と塩素を分解処理槽６０１内で混合
し、ここに光照射手段１０６から光を照射する。また、
塩素含有水曝気槽７０１内で塩素を含む空気を生成させ
る代わりに、塩素ガスボンベから供給される塩素ガスを
直接分解処理槽６０１に送って分解対象物質と混合する
構成でもよい（このとき液相部は不要）。
【００８１】［実施形態６］図８には、水（汚染水）に
溶解した汚染物質を分解する場合の分解装置の別の実施
形態につき、その基本構成が示されている。
【００８２】装置構成は、基本的に排水管８０９の取り
付け位置、反応槽内の気液比、曝気装置の有無が違う以
外は図６と同様である。汚染水供給管８０３からは汚染
水が供給される。また、曝気手段やプロペラで槽内の液
を撹拌するとなお効率が高まるが、特になくても良い。
【００８３】この分解処理は、バッチ的に行っても良い
し連続的に行っても良い。
【００８４】［実施形態７］図９には、気体に含まれる
汚染物質を分解する場合の分解装置の別の実施形態につ
き、その基本構成が示されている。また、処理対象が汚
染物質が水に溶解したものの場合でも、あらかじめ汚染
水を曝気して汚染物質をガス化した後、同様に処理する
ことが出来る。
【００８５】ここで容器として、例えば中空の柱状の容
器を使用することができる。柱状の容器としては、例え
ば図９に示されるような横断面がＲ付きの四角形状であ
るものや、円筒形状のものを挙げることができる。
【００８６】図９において、柱状の分解処理槽９０１
と、この分解反応槽９０１をはさんで片側に平面若しく
は湾曲した反射板９００が、反対側に光照射手段である
光源１０６が１本または複数本設置されている。分解処
理槽９０１は底部に貯留した塩素含有水を曝気するため
の曝気手段１０７を備え、３００ｎｍ以上の波長の可視
光を透過する素材で作られた被処理物を収めるための分
解処理槽であり、光照射手段１０６から直接照射される
光および反射板９００で反射した光によって内部の液相
中および気相中の分解対象物質が分解される。汚染ガス
は供給管９０３から供給される。
【００８７】反射板９００は分解反応槽９０１の断面と
同じかやや大きい板状でよいが、分解反応槽９０１の一
部を覆うように湾曲していても良い。また、図９では反
射板９００と分解反応槽９０１は離れているが、密着し
た構成でも良いし、分解反応槽９０１の光照射手段とは
反対側の面に金属膜を蒸着して反射板を兼ね備えた構成
にしても良い。
【００８８】反射板９００が金属で作られている場合
は、特に何の加工が施されていなくても光を反射する
が、その光源側の面が鏡面加工されていたり、光輝金属
が蒸着されているとなお良い。また、可視光を透過しな
い不透明プラスチックなどで作られている場合は、光源
側の面に光輝金属膜を蒸着することができる。反射板は
直接塩素ガスや分解対象物に接触しないので、一般的な
耐腐食用の保護膜が有れば十分である。
【００８９】また、反射板９００がガラスや透明プラス
チックで作られている場合は、片面に光輝金属膜を蒸着
して反射膜を形成すれば良い。蒸着の前にあらかじめ下
地を研磨すればなお良い。
【００９０】塩素含有水の供給は、バッチ的に行っても
良いし連続的に行っても良い。
【００９１】また、実施形態１において図１から図２に
変更したように、実施形態７でも容器を機能別に分割す
ることもできる。例えば、図９の分解処理槽９０１の底
部の塩素含有水を曝気する部分を塩素含有水曝気槽とし
て独立させ、ここで分解対象物質を含む空気で塩素含有
水を曝気して、生成した塩素と分解対象物質を含む空気
を被処理物として分解処理槽に送って光を照射する、と
いう構成でもよい。
【００９２】［実施形態７’］また、実施形態７または
実施形態７の容器を分離した形態で分解処理槽に直接分
解対象物質を含む空気等の気体を送り、別途曝気手段に
分解対象物質を含まない空気を空気供給手段から送気し
て塩素を含む空気を生成させ、両者の混合気を分解処理
槽の気相中に作って被処理物とし、ここに光を照射する
という構成でもよい。
【００９３】あるいはまた、分解処理槽に汚染物質を含
む空気などの気体を直接送り、塩素ガス貯蔵容器から供
給される塩素ガスあるいはこの塩素ガスを含む空気等の
気体を分解処理槽に送り、両者の混合気を分解処理槽の
気相中に作って被処理物とし、ここに光を照射するとい
う構成でもよい。なお、この場合は液相部は不要であ
る。さらには、汚染空気と塩素含有気とを別々に分解処
理槽に供給しても良いが、分解処理槽の外で、予め塩素
と汚染物質を含む気体を作り、これを分解処理槽に供給
しても良い。この場合、塩素含有気供給手段と汚染空気
供給手段は一つのものとなる。
【００９４】［実施形態８］図１０には、水（汚染水）
に溶解した汚染物質を分解する場合の分解装置の別の実
施形態につき、その基本構成が示されている。
【００９５】装置構成は、基本的に排水管１００９の取
り付け位置、反応槽内の気液比、曝気装置の有無が違う
以外は図９と同様である。汚染水は供給管１００３から
供給される。また、曝気手段やプロペラで槽内の液を撹
拌するとなお効率が高まるが、特になくても良い。
【００９６】この分解処理は、バッチ的に行っても良い
し連続的に行っても良い。
【００９７】実施形態３〜８は、実施形態１および２に
比べて装置全体の容積に占める分解処理槽容積の割合で
見ると不利であるが、光反射面が分解処理槽とは別個に
設けられているので、光反射面が塩素ガスや分解対象物
で劣化したり、分解反応槽内で生成した不純物によって
曇って光の反射率が低下する心配が無く、また万が一反
射率が低下しても研磨等のメィンテナンスが容易である
という点で有利である。
【００９８】また、すべての実施形態の図では円筒型の
光源から光源の中心軸に垂直に放射される光についての
み表示しているが、当然実際には反応槽や反射板の微妙
なゆがみや乱反射によって様々な方向に光は散乱する。
これらの光を反射して再び反応槽に照射するために装置
の上下も反射板で覆っても良いが、側面のみを反射板で
覆っても良い。なお、図中の光の行路を示す矢印は光の
行路の一例を示したもので、すべてを示したものでも代
表的なものを示したものでもない。
【００９９】反応槽である容器の外部から光照射手段で
光を照射し、これらを覆う形で反射板が備え付けられて
いる構成においては、反射板で囲われる範囲に、複数個
の光照射手段を配す構成が好ましく、さらに反応槽であ
る容器が複数個に分割されている場合も本発明は含む。
後述する実施例では、反応槽が一つである場合について
説明するが、装置が大型化し、光照射手段による光が反
応槽の中心部まで届きにくいときには、例えば、分割し
た反応槽を光照射手段との間に並べ、これを反射板で覆
う構成としても良い。
【０１００】本発明の分解方法は、光として波長３００
ｎｍ以下の紫外線を用いる必要がないため、実施形態
１，２の外部に反射膜を形成した場合や実施形態３〜８
において、分解反応槽をガラス製とする場合、高価な石
英ガラスを用いる必要はなく一般的なガラスでよい。分
解反応槽をプラスティック製とする場合も、ＵＶを吸収
する添加剤をあえて避けた特殊なＵＶ透過性プラスチッ
クを用いる必要はなく、一般的なプラスティック等でよ
い。
【０１０１】（反射面）反射板または容器の一部が反射
板を兼用する際の反射面は、ガラス製の鏡や金属板でも
良いし、輝度の低い素材または可視光を透過する素材に
アルミ箔のような金属箔を張り付けたり巻き付けたりし
た物や蒸着したものでも良い。更に、蒸着前の下地を研
磨したり、反射面表面が鏡面加工されたものであればな
お良い。
【０１０２】また反射板として用いられる光輝金属とし
ては、アルミニウム、銀などが挙げられる。装置製造コ
ストを考慮するとアルミニウムの方が有利だが、光の反
射率は銀の方が１０％ほど高いので、銀を利用したもの
の方がランニングコスト（電気使用量）は低くすること
が出来る。更に、クロムやチタンが添加され反射率が上
がるとなお良い。
【０１０３】（分解対象物質）本発明において分解処理
対象となる汚染物質としては、ハロゲン化脂肪族炭化水
素、特には塩素化脂肪族炭化水素、具体例としてはクロ
ロエチレン、１，１−ジクロロエチレン、ｃｉｓ−１，
２−ジクロロエチレン、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロ
エチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレ
ン、クロロメタン、ジクロロメタン、トリクロロメタン
および１，１，１−トリクロロエタンなどの有機塩素化
合物を挙げることができる。
【０１０４】本発明によれば、このような汚染物質を含
む気体、液体などの流体を被処理物として処理できる。
【０１０５】（塩素含有水）本発明における塩素含有水
は、塩素を溶解した水であるが、具体的には塩素ガスボ
ンベから供給される塩素ガスを減圧した後、適当な散気
手段を設置した水槽内の水をこの塩素ガスで曝気して得
られたもの、電解分解で得られる電解機能水、種々の試
薬を溶解して得られる合成機能水などがある。
【０１０６】いずれの場合でも、塩素含有水中の溶存塩
素の濃度は２ｍｇ／Ｌから１５０ｍｇ／Ｌが好ましく、
５ｍｇ／Ｌ〜１１０ｍｇ／Ｌがより好ましい。この濃度
範囲であれば、いずれの方法を用いても比較的容易に作
製でき、かつ、塩素ガスを発生させる場合にも汚染水と
混合した場合にも、分解に適した塩素濃度に調整しやす
い。
【０１０７】いずれの方法で作られた塩素含有水とも、
直接汚染物質を含む気体及び／または液体と接触、混合
したり、空気と接触させて塩素ガスを放出させた上で汚
染物質を含む気体及び／または液体と混合させること
で、分解に供する。
【０１０８】塩素含有水自身または塩素含有水から放出
させた塩素ガスを汚染物質を含む液体と混合または接触
させる場合は、混合比を調整して汚染物質を含む液体中
の塩素濃度が好ましくは１ｍｇ／Ｌ以上、より好ましく
は２．５ｍｇ／Ｌ以上になるようにする。
【０１０９】（塩素ガスボンベ、減圧装置及び散気手
段）本発明における塩素ガスボンベは、浄水場で水道水
の殺菌などに使用される市販の塩素ガスボンベでよい。
これを、やはり市販の塩素ガス専用の耐腐食加工された
減圧装置で数気圧程度に減圧した上で、水槽内に設置し
た散気手段に導き、水槽内の水に塩素を溶解させること
ができる。
【０１１０】散気手段の素材は特に指定されないが、塩
素が水と接触した状態なので、ガラスやテフロン（登録
商標）といった耐腐食性の高いものが好ましい。また、
水中に溶けきれず無駄になる塩素を出来るだけ減らす為
に減圧装置を使って不必要に塩素ガスが曝気されるのを
防ぐのは当然だが、それ以外に塩素ガスを回収して再度
曝気する装置が有るとなお良い。また、それでも無駄に
なる塩素をスクラバ等で回収して大気中に放出されるの
を防ぐなど、適宜行うことができる。
【０１１１】（機能水生成装置及び機能水）本発明にお
ける機能水としては、例えば水素イオン濃度（ｐＨ値）
が１以上４以下、作用電極をプラチナ電極とし、参照電
極を銀−塩化銀としたときの酸化還元電位が８００ｍＶ
以上１５００ｍＶ以下、かつ塩素濃度が５ｍｇ／Ｌ以上
１５０ｍｇ／Ｌ以下の性状をもつ水が挙げられる。
【０１１２】このような機能水は電解質（例えば、塩化
ナトリウムや塩化カリウムなど）を原水に溶解し、この
水を一対の電極を有する水槽内で電気分解を行なうこと
によってその陽極近傍で得ることができる。ここで電解
前の原水中の電解質の濃度は例えば塩化ナトリウムでは
２０ｍｇ／Ｌ〜２０００ｍｇ／Ｌが望ましい。
【０１１３】塩化ナトリウムや塩化カリウムなどを含む
電解質溶液を電気分解によって得られる機能水中には、
次亜塩素酸イオンが含有され、これが塩素の発生源とな
る。
【０１１４】また電気分解の際に一対の電極間に隔膜を
配置した場合、陽極近傍に生成される酸性水と陰極近傍
にて生成するアルカリ性の水との混合を防ぐことがで
き、その酸性水は有機化合物の分解をより効率的に行な
う事ができる機能水となるので好ましい。該隔膜として
は例えばイオン交換膜等が好適に用いられる。
【０１１５】酸性水にアルカリ性水が混合していても機
能水として使用することができる。その場合、混合液
中、酸性水はアルカリ性水と等量もしくはそれ以上存在
していることが好ましい（体積ベース）。
【０１１６】そしてこのような機能水を得る手段として
は、市販の強酸性電解水生成器（例えば、商品名：オア
シスバイオハーフ；旭硝子エンジニアリング（株）社
製、商品名：強電解水生成器（Ｍｏｄｅｌ ＦＷ−２０
０：アマノ（株）社製等）を利用することができる。ま
た、隔膜をもたない装置から生成された機能水も以上述
べられてきた有機化合物の分解に用いることができる。
例えば酸化還元電位が３００ｍＶ以上１１００ｍＶ以
下、かつ塩素濃度が２ｍｇ／Ｌ以上１００ｍｇ／Ｌ以下
であり、ｐＨは４〜１０の機能水である。
【０１１７】また上記した電気分解によって生成する機
能水とほぼ同等の有機塩素化合物分解能を奏する機能水
は、電解によってばかりでなく原水に種々の試薬を溶解
して調製することも可能である。例えば、塩酸０．００
１ｍｏｌ／Ｌ〜０．１ｍｏｌ／Ｌ、塩化ナトリウム０．
００５ｍｏｌ／Ｌ〜０．０２ｍｏｌ／Ｌ、および次亜塩
素酸ナトリウム０．０００１ｍｏｌ／Ｌ〜０．０１ｍｏ
ｌ／Ｌとすることにより得ることができる。
【０１１８】また、ｐＨ４以上の機能水も電解によって
ばかりでなく原水に種々の試薬を溶解して調製すること
も可能である。例えば、塩酸０．００１ｍｏｌ／Ｌ〜
０．１ｍｏｌ／Ｌ、水酸化ナトリウム０．００１ｍｏｌ
／Ｌ〜０．１ｍｏｌ／Ｌ、および次亜塩素酸ナトリウム
０．０００１ｍｏｌ／Ｌ〜０．０１ｍｏｌ／Ｌとするこ
とにより得ることができる。また、次亜塩素酸塩のみの
水溶液でもよく、次亜塩素酸塩としては次亜塩素酸ナト
リウム、次亜塩素酸カリウムの一方または両方を混合し
て用いることができる。例えば次亜塩素酸ナトリウム
０．０００１ｍｏｌ／Ｌ〜０．０１ｍｏｌ／Ｌとするこ
とでも機能水が得られる。塩酸と次亜塩素酸塩でｐＨが
４．０以下で有効塩素濃度が２ｍｇ／Ｌ以上の機能水を
調整することもできる。
【０１１９】上記の塩酸の代りに他の無機酸または有機
酸を使用することができる。無機酸としては例えば、フ
ッ酸、硫酸、リン酸、ホウ酸などが、有機酸としては酢
酸、ぎ酸、りんご酸、クエン酸、シュウ酸などが利用で
きる。また、弱酸性水粉末生成剤（例えば、商品名キノ
ーサン２１Ｘ（クリーンケミカル株式会社製））として
市販されているＮ3Ｃ3Ｏ3ＮａＣｌ2等を用いても機能水
を製造することができる。これら薬品調合による機能水
も、実施例から明らかなように分解能力に差はあるもの
の光を照射することで電解による機能水の場合と同様に
有機塩素化合物を分解する能力を有す。
【０１２０】（塩素含有水を作る元になる原水）原水
は、特に塩素ガスを吸着する物質が混入していたり、塩
素ガスと光照射無しで反応する物質が溶解していなけれ
ば何でもかまわない。汚染地下水の浄化の場合なら、原
水として地下水自身を使うと排水量を更に減らすことが
できるが、電気分解時の水温上昇で溶解していた汚染物
質が蒸発し装置周辺の空気が汚染される問題があるの
で、電気分解に因らず次亜塩素酸等を添加したり塩素ボ
ンベの塩素ガスで曝気する方が望ましい。
【０１２１】原水として水道水、河川水、海水等が使用
できる。これらの水のｐＨは通常６〜８の間にあり、塩
素濃度は最大でも１ｍｇ／Ｌ未満であり、このような原
水は当然のことながら上記したような有機塩素化合物の
分解能は有さない。
【０１２２】（塩素ガスの濃度及び塩素ガス発生手段）
上記の塩素含有水からはすべて分解に必要な塩素ガスを
発生させることが可能である。塩素ガスを含む気体とし
て、例えば塩素含有水の溶液に空気を通すことによって
得られる塩素ガスを含有する空気を用いることができ
る。これと分解対象物を含む気体とを混合し光照射を行
なうことで汚染物質を分解する本発明の他の形態に用い
ることができる。
【０１２３】また、塩素含有水の溶液に空気を通すかわ
りに汚染物質を含む空気を通すことで、分解対象物と塩
素とを含む気体を得ても良い。この場合は比較的高濃度
の塩素ガスを得ることができる。
【０１２４】そして、分解対象物と塩素を含む気体（気
体状被処理物）において、塩素ガスの濃度が、５ｐｐｍ
Ｖ以上１０００ｐｐｍＶ以下となるように調整すること
が好ましい（ｐｐｍＶは体積ｐｐｍを表す）。外部から
供給される、分解対象物を含む気体中の分解対象物の濃
度によって異なるが、特には、気体状被処理物中の塩素
ガス濃度が２０ｐｐｍＶから５００ｐｐｍＶの間、更に
は５０ｐｐｍＶから１００ｐｐｍＶとした場合、分解対
象物の分解効率は特に顕著なものとなり好ましい。
【０１２５】（光照射手段）本発明において、光照射手
段としては、人工の光源または人工の集光装置を用いる
ことができる。波長については、例えば、波長３００〜
５００ｎｍの光が好ましく、波長３５０〜４５０ｎｍの
光がより好ましい。また機能水及び機能水通気後の気体
と分解対象物に対する光照射強度としては、例えば波長
３６０ｎｍ近辺にピークを持つ光源では数百μＷ／ｃｍ
2（３００ｎｍ〜４００ｎｍ間を測定）前後の強度で実
用上十分の分解が進む。具体的には、照射される気相領
域のもっとも光源に近い部分において好ましくは１０μ
Ｗ／ｃｍ2〜１０ｍＷ／ｃｍ2、さらに好ましくは５０μ
Ｗ／ｃｍ2〜５ｍＷ／ｃｍ2である。
【０１２６】光として人体に影響の大きい２５０ｎｍ付
近若しくはそれ以下の波長の紫外光を用いる必要が全く
ないため反応槽として一般的なソーダライムガラスやプ
ラスティック等の使用が可能であり、高価な石英ガラス
やＵＶを吸収する添加剤をあえて避けた特殊なＵＶ透過
性プラスチックもちいる必要はない。
【０１２７】そしてこの様な光の光源としては自然光
（例えば、太陽光等）または人工光（水銀ランプ、ブラ
ックライト、カラー蛍光ランプ、短波長（５００ｎｍ以
下）発光ダイオード等）を用いることができる。
【０１２８】実施形態の図では光照射手段は棒状である
が、もちろん点状，電球状や面状等どのような形状でも
良い。
【０１２９】（曝気手段）汚染水に空気を通気する場
合、また、機能水に汚染物質を含む気体及び／または曝
気用の気体を通気する場合、散気装置を用いることが望
ましい。散気装置は、液体に気体を吹き込む際に気液接
触効率を向上させるために用いられる通常の装置でかま
わないが、気泡の大きさが塩素の気散に十分な表面積に
なるような散気装置が選定されることが望ましい。
【０１３０】また、散気装置の材質は、汚染物質及び機
能水の成分と反応しない素材が選定されていることが望
ましい。例えば、焼結ガラス、多孔質セラミックス、焼
結ＳＵＳ３１６、繊維状のＳＵＳ３１６で織った網等で
作られた多孔質散気板や、ガラスまたはＳＵＳ３１６等
のパイプで作られたスパージャーなどを用いることがで
きる。
【０１３１】（分解工程の主たる反応場）本発明の一形
態では機能水に空気（汚染物質を含んでいても良い）を
通し分解に必要な塩素ガスを含む空気を発生させてい
る。塩素含有水に空気を通す部分は、基本的に分解に必
要な塩素ガスの供給の役割を担っている。これに続く処
理及び分解反応を行なう槽での気相反応が分解反応の主
場となっている。
【０１３２】このため塩素の生成と分解反応が一つの容
器中で行われる場合には、気相部と液相部の比率は分解
能力に大きな影響を与える。即ち、塩素含有水の容積が
増せば、供給できる塩素の量は増えるが、気相部が減り
分解の反応場が減少する。また、逆に気相部が増えれば
反応場が増し分解反応は素早く進行するが、液相部が減
少するため塩素の供給がへる。
【０１３３】曝気の速さ、塩素を含む水の供給スピード
など様々な因子があるが、塩素を含む空気の生成と気相
分解反応の領域（処理領域）が一つの容器中で行われる
場合には、容器における液相の比率を５％〜３０％望ま
しくは１０％から２０％にすると良い。また曝気による
塩素生成領域と、気相分解反応領域とに容器を分割する
場合においても塩素を含む空気を発生させる槽の容積と
気相分解反応を行なう槽の容積の比率は概ね１：２〜
１：９が望ましい。
【０１３４】（分解反応槽）分解処理を行なう処理領域
を物理的に限定するものは、いかなる形態でも良いが、
先に述べたように、３００ｎｍ以下の光を含まない光で
浄化反応が進むことから、高価な石英ガラスや特殊な添
加剤で紫外線透過性を向上させた物を使う必要はなく、
３００ｎｍ以上の波長の可視光を透過する普通のガラス
・プラスティック等を使用することができる。これによ
り、紫外線を照射する必要がある装置に比べて安価なシ
ステムが達成できる。
【０１３５】材質の選択の拡大によって、反応槽の形態
・形状の選択の自由度も増す。例えば、反応槽としてエ
アーバッグ等の袋状のものを用いることができる。
【０１３６】袋状反応槽として分解に必要な光（３００
ｎｍ以上、若しくは３５０ｎｍ以上）を透過すれば如何
なる形態のものでも良いが、特にポリビニルフルオライ
ドフィルムを用いたテドラー（ＴＥＤＬＡＲ：Ｄｕ Ｐ
ｏｎｔ社登録商標）バッグまたはフッ素樹脂バッグ等が
ガスの吸着・透過性の面から好適である。
【０１３７】袋を反応槽として使用することで、装置が
より安価になるばかりか、軽量であるため処理現場への
設備設置・移動除去が容易となる。
【０１３８】また蛇腹構造をとることで折りたたみが容
易となる。
【０１３９】分解条件に合わせて反応槽のサイズを変更
することが蛇腹構造及び袋状反応槽では容易である為、
状況に合わせて最適な滞留時間（反応時間）を可変的に
設定できる。
【０１４０】（分解反応機構）本発明者らは塩素ガスの
存在下で光照射すると有機塩素化合物の分解が進むこと
を既に見出しているが、その反応機構については不明の
部分が多かった。しかし、塩素が特定範囲の波長の光を
受けると解離してラジカルを生じることが既に知られて
いる。本発明においても光照射により塩素ラジカルが発
生し、分解対象物質と反応することでその結合を切断し
ていると考えられる。
【０１４１】また、本願発明の反応には酸素が関与して
いると考えられているが、これは塩素と水の分解により
生じる酸素ラジカルや空気中の通常の酸素の存在があれ
ば十分である。
【０１４２】（分解のための気体）分解のための気体と
して、上述の実施形態においては塩素ガスを使用する場
合について説明したが、光照射によってラジカルが発生
する性質を有する気体であれば、塩素ガスに限らず、他
のハロゲンガス等を用いてもよい。
【０１４３】
【実施例】以下、実施例により本発明を詳述するが、こ
れらは本発明を何ら限定するものではない。
【０１４４】［実施例１］ガス、電解機能水、一体型分
解処理槽 図１の分解装置を準備した。
【０１４５】分解処理槽１０１は、中心部にガラス製保
護管１０５内に納められた棒状の光源１０６および底部
に曝気手段１０７が設置された容積５００ｍＬのガラス
製密封容器である。あらかじめ、これらのガラスの透過
光の波長を測定したところ、３００ｎｍ以下の紫外線は
透過しなかった。この分解処理槽１０１の外側にはアル
ミを蒸着して光反射面とした。
【０１４６】まず、強酸性水生成装置（商品名：強電解
水生成器、Ｍｏｄｅｌ ＦＷ−２００：アマノ（株）社
製）を用いてあらかじめ以下のような電解機能水を調整
し機能水供給装置１０２に貯留した。
【０１４７】電解質として塩化ナトリウムを含む水の電
解質濃度、電解電流値、電解時間等を種々変化させて、
その結果陽極側で得られる酸性の機能水のｐＨをｐＨメ
ーター（ＴＣＸ−９０ｉ）により測定し、また液中の溶
存塩素濃度を簡易型反射式光度計（商品名：ＲＱフレッ
クス、メルク社製。試験紙はリフレクトクァント塩素テ
スト）により測定した。
【０１４８】この測定の結果、塩化ナトリウムの濃度
（標準濃度は１０００ｍｇ／Ｌ）、電解電流値、電解時
間などによって、この機能水のｐＨは４．０〜１０．
０、また溶存塩素濃度は２ｍｇ／Ｌ〜７０ｍｇ／Ｌに変
化することが確認された。
【０１４９】そこで、本実施例で用いる電解機能水とし
ては、ｐＨ７．９、溶存塩素濃度１５ｍｇ／Ｌのものを
使用することにした。この機能水は、電気分解槽に５０
ｍＬの蒸留水を入れ、２０％（２５０ｇ／Ｌ）の濃度の
塩化ナトリウム水溶液を０．２ｍＬ添加して約１０００
ｍｇ／Ｌの塩化ナトリウム水溶液とした後、１２分間電
気分解をすることにより得たものである。
【０１５０】この電解機能水を塩素含有水供給装置１０
２に貯留し、塩素含有水送水ポンプ１０８で２ｍＬ／ｍ
ｉｎの流速で連続的に分解処理槽１０１へ送水し、常時
分解処理槽１０１内に１００ｍＬの機能水が滞留するよ
うにした。
【０１５１】事前の実験で、図１の分解処理槽１０１に
この機能水を入れ、エアポンプで曝気手段１０７に８０
０ｍＬ／ｍｉｎの流量で空気を送気した。この時、分解
処理槽１０１内の気相中の塩素濃度を検知管（ガステッ
ク社製、Ｎｏ．８Ｈ）で数回測定したところ、およそ５
０ｐｐｍＶ〜８０ｐｐｍＶの範囲内であった。
【０１５２】この分解処理槽１０１に光照射手段１０６
であるブラックライト蛍光ランプ（（株）東芝製ＦＬ１
０ＢＬＢ、１０Ｗ）により光を照射した。この時の照射
光量は、分解処理槽１０１内部に設置した保護管１０５
の内側表面において０．４〜０．７ｍＷ／ｃｍ2である
ことを確かめた。
【０１５３】光の照射と同時に、分解処理槽１０１底部
の曝気装置１０７から、パーミエータ（ガステック社
製）で生成した汚染土壌から真空吸引した汚染空気に見
立てたＴＣＥとＰＣＥをそれぞれ１００ｐｐｍＶ含む空
気を８００ｍＬ／ｍｉｎの流量で送気した。
【０１５４】この装置の分解処理を開始してから定期的
に排気ガス管１０４からの排気ガス、および排水管１０
９からの機能水廃液を一定時間バイアル瓶内に静置して
その気相部分の空気をガスタイトシリンジでサンプリン
グし、ＴＣＥおよびＰＣＥ濃度をガスクロマトグラフィ
ー（商品名：ＧＣ−１４Ｂ（ＦＩＤ検出器付）；島津製
作所（株）社製）で測定したところ、常に検出限界以下
であった。なお検出限界はおよそ０．０５ｐｐｍＶであ
る。
【０１５５】このことから図１の装置を用いれば、ガス
状のＴＣＥおよびＰＣＥを連続的に分解処理できること
がわかった。
【０１５６】［比較例１］分解処理槽１０１のガラスの
表面にアルミ蒸着による光反射面を形成しないことを除
いては、実施例１と同様の実験を行い、排気ガス中およ
び機能水廃液中のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度を定期的に測
定した。
【０１５７】この時の照射光量は、分解処理槽１０１内
部に設置した保護管１０５の内側表面において０．３〜
０．４ｍＷ／ｃｍ2であることを確かめた。また、分解
処理層１０１のガラスの外側表面においては０．２〜
０．３ｍＷ／ｃｍ2で、保護管１０５内側表面と大差な
いことを確かめた。
【０１５８】その結果、排気ガス中のＴＣＥおよびＰＣ
Ｅ濃度はそれぞれ平均で２３ｐｐｍＶ（分解率約７７
％）、４５ｐｐｍＶ（分解率約５５％）に低下し、連続
的に完全分解できないことがわかった。
【０１５９】また実験中、ミスト等が発生して反応槽内
の透明度が低下することはなかった。
【０１６０】［実施例２］ガス、電解機能水、分離型分
解処理槽 図１の分解処理槽１０１の底部を図２のように改造し、
機能水を曝気する部分を機能水曝気槽２０１として独立
させ、ここで生成した塩素と分解対象物質を含む空気を
被処理物として分解処理槽に送り、分解処理層１０１に
おいて光を照射するようにした以外は、実施例１と同様
の実験を行い、排気ガス中および機能水廃液中のＴＣＥ
およびＰＣＥ濃度を定期的に測定した。
【０１６１】その結果、排気ガス中および機能水廃液中
のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度は常に検出限界以下であっ
た。
【０１６２】このことから図１の分解処理槽底部を図２
のように改造した装置を用いれば、ガス状のＴＣＥおよ
びＰＣＥを連続的に分解処理できることがわかった。
【０１６３】［実施例３］ガス、電解機能水、一体型分
解処理槽、空気曝気 図１の分解処理槽１０１の気相部に汚染ガス供給管を設
け（不図示）、ここにＴＣＥおよびＰＣＥ濃度がそれぞ
れ２００ｐｐｍＶの汚染ガスを直接パーミエータから４
００ｍＬ／ｍｉｎの流量で送気し、曝気手段１０７には
別途分解対象物質を含まない空気を４００ｍＬ／ｍｉｎ
で送気した。これ以外は実施例１と同様の実験を行い、
排気ガス中および機能水廃液中のＴＣＥおよびＰＣＥ濃
度を定期的に測定した。
【０１６４】その結果、排気ガス中および機能水廃液中
のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度は常に検出限界以下であっ
た。
【０１６５】このことから汚染ガスで機能水を曝気しな
くても、ガス状のＴＣＥおよびＰＣＥを連続的に分解処
理できることがわかった。
【０１６６】［実施例４］ガス、電解機能水、分離型分
解処理槽、空気曝気 図１の分解処理槽１０１の底部を図２のように改造し、
機能水を曝気する部分を機能水曝気槽２０１として独立
させた。また、分解処理槽に汚染ガス供給管を設け（不
図示）、ここに汚染空気に見立てた、ＴＣＥおよびＰＣ
Ｅ濃度をそれぞれ２００ｐｐｍＶ含む空気を直接パーミ
エータから４００ｍＬ／ｍｉｎの流量で送気した。機能
水曝気槽内の曝気手段１０７には別途分解対象物質を含
まない空気を４００ｍＬ／ｍｉｎで送気した。これ以外
は実施例１と同様の実験を行い、排気ガス中および機能
水廃液中のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度を定期的に測定し
た。
【０１６７】その結果、排気ガス中および機能水廃液中
のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度は常に検出限界以下であっ
た。
【０１６８】このことから汚染空気で機能水を曝気しな
くても、ガス状のＴＣＥおよびＰＣＥを連続的に分解処
理できることがわかった。
【０１６９】［実施例５］ガス、合成機能水、一体型分
解処理槽 塩酸０．００１〜０．１ｍｏｌ／Ｌ、塩化ナトリウム
０．００５〜０．０２ｍｏｌ／Ｌ、および次亜塩素酸ナ
トリウム０．０００１〜０．０１ｍｏｌ／Ｌとなるよう
に調整した水溶液について、ｐＨおよび溶存塩素濃度を
測定した。その結果、ｐＨは１．０〜４．０、また塩素
濃度は５ｍｇ／Ｌ〜１５０ｍｇ／Ｌに変化した。そこで
本実施例では塩酸０．００６ｍｏｌ／Ｌ、塩化ナトリウ
ム０．０１４ｍｏｌ／Ｌ、および次亜塩素酸ナトリウム
０．００２ｍｏｌ／Ｌとなるように機能水供給手段１０
２の水溶液を調整し、ｐＨ２．３、溶存塩素濃度１０５
ｍｇ／Ｌとなる機能水を調整した。この合成機能水を用
いた以外は、実施例１と同様の実験を行い、排気ガス中
および機能水廃液中のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度を定期的
に測定した。
【０１７０】その結果、排気ガス中および機能水廃液中
のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度は常に検出限界以下であっ
た。
【０１７１】このことから図１の装置に合成機能水を供
給すれば、ガス状のＴＣＥおよびＰＣＥを連続的に分解
処理できることがわかった。
【０１７２】［実施例６］ガス、塩素ガス曝気水、一体
型分解処理槽 塩素ガスボンベ（日本エアリキード社、純度９９％）か
ら供給される塩素ガスをレギュレータで減圧し散気装置
を設置した水槽（不図示）中の水を曝気してｐＨ２．
３、溶存塩素濃度１００ｍｇ／Ｌとなる塩素ガス曝気水
を調整した。電解機能水に替えて、この塩素ガス曝気水
を用いた以外は、実施例１と同様の実験を行い、排気ガ
ス中および機能水廃液中のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度を定
期的に測定した。
【０１７３】その結果、排気ガス中および機能水廃液中
のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度は常に検出限界以下であっ
た。
【０１７４】このことから図１の装置に塩素ガスボンベ
から供給された塩素ガスを曝気して作製した塩素ガス曝
気水供給すれば、ガス状のＴＣＥおよびＰＣＥを連続的
に分解処理できることがわかった。
【０１７５】［実施例７］ガス、塩素ガス直接送気 図２の機能水曝気槽２０１を取り除き、分解処理槽１０
１の底部に汚染ガス供給管及び塩素ガス供給管を設置
し、塩素ガス供給管をレギュレータを介して塩素ガスボ
ンベ（日本エアリキード社、純度９９％）に接続して分
解処理槽１０１内の塩素ガス濃度がおよそ１００ｐｐｍ
Ｖになるように調製して供給した以外は、実施例２と同
様の実験を行い、排気ガス中および機能水廃液中のＴＣ
ＥおよびＰＣＥ濃度を定期的に測定した。
【０１７６】その結果、排気ガス中および機能水廃液中
のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度は常に検出限界以下であっ
た。
【０１７７】このことから分解反応槽（内部は全て気
相）に汚染ガスおよび塩素ガスを直接供給し混合すれ
ば、ガス状のＴＣＥおよびＰＣＥを連続的に分解処理で
きることがわかった。
【０１７８】［実施例８］液、電解機能水、一体型分解
処理槽、バッチ 図３の分解装置を準備した。
【０１７９】分解処理槽３０１は中心部にガラス製保護
管１０５内に納められた棒状の光源１０６を設置した容
積５００ｍＬのガラス製密封容器である。あらかじめ、
これらのガラスの透過光の波長を測定したところ、３０
０ｎｍ以下の紫外線は透過しなかった。この分解処理槽
３０１の外側をアルミ蒸着して光反射面である反射板と
した。
【０１８０】まず、実施例１と同様の電解機能水を調整
し塩素含有水供給装置１０２に貯留し、塩素含有水送水
ポンプ１０８で分解処理槽３０１へ２００ｍＬ送水し
た。更に分解処理槽３０１底部の汚染水供給管３０３か
ら、汚染地下水に見立てたＴＣＥとＰＣＥをそれぞれ１
０ｍｇ／Ｌ含む混合水溶液を２００ｍＬ送水した。この
時混合水溶液中の塩素濃度は７ｍｇ/Ｌであった。
【０１８１】この分解処理槽１０１に光照射手段１０６
であるブラックライト蛍光ランプ（（株）東芝製ＦＬ１
０ＢＬＢ、１０Ｗ）により光を照射した。この時の照射
光量は、分解処理槽３０１内部に設置した保護管１０５
の内側表面において０．４〜０．７ｍＷ／ｃｍ2であっ
た。
【０１８２】この装置の分解処理を開始してから１０分
ごとに分解処理槽３０１内の液をサンプリングし一定時
間バイアル瓶内に密封静置してその気相部分の空気をガ
スタイトシリンジでサンプリングし、ＴＣＥおよびＰＣ
Ｅ濃度をガスクロマトグラフィー（商品名：ＧＣ−１４
Ｂ（ＦＩＤ検出器付）；島津製作所（株）社製）で測定
したところ、３０分で排出基準の０．０３ｍｇ／Ｌ以下
になった。
【０１８３】このことから機能水で図３の装置を用いれ
ば、水溶液状のＴＣＥおよびＰＣＥをバッチ的に分解処
理できることがわかった。
【０１８４】［比較例２］分解処理槽３０１のガラスの
表面にアルミ蒸着をしないことを除いて、実施例８と同
様の実験を行い、ＴＣＥおよびＰＣＥ濃度を１０分ごと
に測定した。
【０１８５】この時の照射光量は、分解処理槽３０１内
部に設置した保護管１０５の内側表面において０．２〜
０．３ｍＷ／ｃｍ2であることを確かめた。また、分解
処理層３０１のガラスの外側表面においては０．１〜
０．２ｍＷ／ｃｍ2で、保護管１０５内側表面と大差な
いことを確かめた。
【０１８６】その結果、２時間後のサンプルの液換算の
ＴＣＥおよびＰＣＥ濃度は１．２ｐｐｍ（分解率約８８
％）、２．５ｐｐｍＶ（分解率約７５％）で、排出基準
の０．０３ｍｇ／Ｌ以下に低下するには更に時間が必要
なことがわかった。
【０１８７】また実験中、沈殿物やコロイド等が発生し
て反応槽内の透明度が低下することはなかった。
【０１８８】［実施例９］液、塩素ガス曝気水、一体型
分解処理槽 電解機能水を調製する代わりに、塩素ガスボンベ（日本
エアリキード社、純度９９％）から供給される塩素ガス
をレギュレータで減圧し散気装置を設置した水槽（不図
示）中の水を曝気してｐＨ２．３、溶存塩素濃度１００
ｍｇ／Ｌとなる塩素ガス曝気水を調整した。機能水に替
えて、この塩素ガス曝気水を用いた以外は、実施例８と
同様の実験を行い、ＴＣＥおよびＰＣＥ濃度を１０分ご
とに測定した。
【０１８９】その結果、分解処理槽３０１内の液は３０
分で排出基準の０．０３ｍｇ／Ｌ以下になった。
【０１９０】このことから塩素ガス曝気水で図３の装置
を用いれば、水溶液状のＴＣＥおよびＰＣＥをバッチ的
に分解処理できることがわかった。
【０１９１】［実施例１０］液、電解機能水、一体型分
解処理槽、連続 実施例８と同様図３の分解装置を準備した。
【０１９２】まず、実施例１と同様の電解機能水を調整
し塩素含有水供給装置１０２に貯留し、塩素含有水送水
ポンプ１０８で１０ｍＬ／ｍｉｎの流速で連続的に分解
処理槽３０１へ送水し、常時分解処理槽１０１内に４０
０ｍＬの機能水が滞留するようにした。
【０１９３】この分解処理槽１０１に光照射手段１０６
であるブラックライト蛍光ランプ（（株）東芝製ＦＬ１
０ＢＬＢ、１０Ｗ）により光を照射した。この時の照射
光量は、分解処理槽３０１内部に設置した保護管１０５
の内側表面において０．４〜０．７ｍＷ／ｃｍ2であっ
た。
【０１９４】光の照射と同時に、分解処理槽３０１底部
の汚染水供給管３０３から、汚染地下水に見立てた、Ｔ
ＣＥとＰＣＥをそれぞれ１０ｍｇ／Ｌ含む水溶液を１０
ｍＬ／ｍｉｎの流量で被処理物として送水した。この時
分解処理槽３０１内の混合水溶液中の塩素濃度は常に７
ｍｇ/Ｌ前後であった。
【０１９５】この装置の分解処理を開始してから定期的
に排水管３０９からの機能水廃液を一定時間バイアル瓶
内に密封静置してその気相部分の空気をガスタイトシリ
ンジでサンプリングし、ＴＣＥおよびＰＣＥ濃度をガス
クロマトグラフィー（商品名：ＧＣ−１４Ｂ（ＦＩＤ検
出器付）：島津製作所（株）社製）で測定したところ、
常に排出基準の０．０３ｍｇ／Ｌ以下であった。
【０１９６】このことから図３の装置を用いれば、水溶
液状のＴＣＥおよびＰＣＥを連続的に分解処理できるこ
とがわかった。
【０１９７】［比較例３］分解処理槽３０１のガラスの
表面にアルミ蒸着をしないことを除いて、実施例１０と
同様の実験を行い、ＴＣＥおよびＰＣＥ濃度を定期的に
測定した。
【０１９８】この時の照射光量は、分解処理槽３０１内
部に設置した保護管１０５の内側表面において０．２〜
０．３ｍＷ／ｃｍ2であることを確かめた。また、分解
処理層３０１のガラスの外側表面においては０．１〜
０．２ｍＷ／ｃｍ2で、保護管１０５内側表面と大差な
いことを確かめた。
【０１９９】その結果、排水中の液換算ＴＣＥおよびＰ
ＣＥ濃度はそれぞれ平均で０．２ｐｐｍ（分解率約９８
％）、０．８ｐｐｍＶ（分解率約９２％）に低下し、連
続的に完全分解できないことがわかった。
【０２００】また実験中、沈殿物やコロイド等が発生し
て反応槽内の透明度が低下することはなかった。
【０２０１】［実施例１１］ガス、電解機能水、一体型
分解処理槽、楕円反射板 図４の分解装置を準備した。
【０２０２】内側を鏡面研磨したアルミ製の楕円筒型反
射板４００内の楕円の一方の焦点部に、光照射装置１０
６を、他の一方の焦点部に、底部に曝気手段１０７を設
置した容積２００ｍＬのガラス製カラムの分解処理槽４
０１を設置し、分解装置とした。あらかじめ、これらの
ガラスの透過光の波長を測定したところ、３００ｎｍ以
下の紫外線は透過しなかった。
【０２０３】まず、実施例１と同様の電解機能水を調整
し塩素含有水供給装置１０２に貯留し、塩素含有水送水
ポンプ１０８で２ｍＬ／ｍｉｎの流速で連続的に分解処
理槽４０１へ送水し、常時分解処理槽４０１内に５０ｍ
Ｌの機能水が滞留するようにした。
【０２０４】事前の実験で、図４の分解処理槽４０１に
この機能水を入れ、エアポンプで曝気装置１０７に８０
０ｍＬ／ｍｉｎの流量で送気した。この時、分解処理槽
４０１内の気相中の塩素濃度を検知管（ガステック社
製、Ｎｏ．８Ｈ）で数回測定したところ、およそ５０ｐ
ｐｍＶ〜８０ｐｐｍＶの範囲内であった。
【０２０５】この分解処理槽４０１に光照射手段１０６
であるブラックライト蛍光ランプ（（株）東芝製ＦＬ１
０ＢＬＢ、１０Ｗ）により光を照射した。この時の照射
光量は、分解処理槽４０１の表面で光照射手段１０６に
最も近いところでは０．４〜０．７ｍＷ／ｃｍ2であっ
た。
【０２０６】光の照射と同時に、分解処理槽４０１底部
の曝気装置１０７から、パーミエータ（ガステック社
製）で生成した汚染土壌から真空吸引した汚染空気に見
立てたＴＣＥとＰＣＥとをそれぞれ１００ｐｐｍＶ含む
空気を３００ｍＬ／ｍｉｎの流量で送気した。
【０２０７】この装置の分解処理を開始してから定期的
に排気ガス送気管１０４からの排気ガス中の、および排
水管１０９からの機能水廃液を一定時間バイアル瓶内に
静置してその気相部分の空気中のＴＣＥおよびＰＣＥ濃
度をガスクロマトグラフィー（商品名：ＧＣ−１４Ｂ
（ＦＩＤ検出器付）：島津製作所（株）社製）で測定し
たところ、常に検出限界以下であった。
【０２０８】このことから図４の装置を用いれば、ガス
状のＴＣＥおよびＰＣＥを連続的に分解処理できること
がわかった。
【０２０９】［比較例４］楕円筒型反射板４００を設置
しないことを除いて、実施例１１と同様の実験を行い、
ＴＣＥおよびＰＣＥ濃度を定期的に測定した。
【０２１０】この時の照射光量は、分解処理槽４０１の
光照射装置１０６に最も近い側の表面において０．３〜
０．４ｍＷ／ｃｍ2であることを確かめた。また、分解
処理層４０１の光照射装置１０６と反対側の表面におい
ては０．２〜０．３ｍＷ／ｃｍ2で、光照射装置１０６
に最も近い側の表面と大差ないことを確かめた。
【０２１１】その結果、排気ガス中のＴＣＥおよびＰＣ
Ｅ濃度はそれぞれ平均で３１ｐｐｍＶ（分解率約６９
％）、５１ｐｐｍＶ（分解率約４９％）に低下し、連続
的に完全分解できないことがわかった。
【０２１２】また実験中、ミスト等が発生して分解処理
槽４０１内の透明度が低下することはなかった。
【０２１３】［実施例１２］ガス、電解機能水、分離型
分解処理槽、楕円反射板 図４の分解処理槽４０１の底部を図２と同様に改造し、
機能水を曝気する部分を機能水曝気槽として独立させ、
ここで生成した塩素と分解対象物質を含む空気を分解処
理槽に送り、分解処理層４０１において光を照射するよ
うにした以外は、実施例１１と同様の実験を行い、排気
ガス中および機能水廃液中のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度を
定期的に測定した。
【０２１４】その結果、排気ガス中および機能水廃液中
のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度は常に検出限界以下であっ
た。
【０２１５】このことから図４の分解処理槽底部を図２
のように改造した装置を用いれば、ガス状のＴＣＥおよ
びＰＣＥを連続的に分解処理できることがわかった。
【０２１６】［実施例１３］ガス、電解機能水、一体型
分解処理槽、空気曝気、楕円反射板 図４の分解処理槽４０１の気相部に汚染ガス供給管を設
け（不図示）、ＴＣＥおよびＰＣＥ濃度がそれぞれ２０
０ｐｐｍＶの汚染ガスを直接パーミエータから３００ｍ
Ｌ／ｍｉｎの流量で送気し、曝気手段１０７には別途分
解対象物質を含まない空気を３００ｍＬ／ｍｉｎで送気
した以外は実施例１１と同様の実験を行い、排気ガス中
および機能水廃液中のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度を定期的
に測定した。
【０２１７】その結果、排気ガス中および機能水廃液中
のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度は常に検出限界以下であっ
た。
【０２１８】このことから汚染ガスで機能水を曝気しな
くても、ガス状のＴＣＥおよびＰＣＥを連続的に分解処
理できることがわかった。
【０２１９】［実施例１４］ガス、電解機能水、分離型
分解処理槽、空気曝気、楕円反射板 図４の分解処理槽４０１の底部を図２のように改造し、
機能水を曝気する部分を機能水曝気槽として独立させ
た。分解処理槽４０１に汚染ガス供給管を設け、ここに
汚染空気に見立てた、ＴＣＥおよびＰＣＥ濃度をそれぞ
れ２００ｐｐｍＶ含む空気を直接パーミエータから３０
０ｍＬ／ｍｉｎの流量で送気した。機能水曝気槽内の曝
気手段１０７には別途分解対象物質を含まない空気を３
００ｍＬ／ｍｉｎで送気した。これ以外は実施例１１と
同様の実験を行い、排気ガス中および機能水廃液中のＴ
ＣＥおよびＰＣＥ濃度を定期的に測定した。
【０２２０】その結果、排気ガス中および機能水廃液中
のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度は常に検出限界以下であっ
た。
【０２２１】このことから汚染空気で機能水を曝気しな
くても、ガス状のＴＣＥおよびＰＣＥを連続的に分解処
理できることがわかった。
【０２２２】［実施例１５］ガス、合成機能水、一体型
分解処理槽、楕円反射板 実施例５と同様の塩酸０．００６ｍｏｌ／Ｌ、塩化ナト
リウム０．０１４ｍｏｌ／Ｌ、および次亜塩素酸ナトリ
ウム０．００２ｍｏｌ／Ｌの濃度の水溶液を調整し、ｐ
Ｈ２．３、溶存塩素濃度１０５ｍｇ／Ｌとなる機能水を
調整した。この合成機能水を用いた以外は、実施例１１
と同様の実験を行い、排気ガス中および機能水廃液中の
ＴＣＥおよびＰＣＥ濃度を定期的に測定した。
【０２２３】その結果、排気ガス中および機能水廃液中
のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度は常に検出限界以下であっ
た。
【０２２４】このことから図４の装置に合成機能水を供
給すれば、ガス状のＴＣＥおよびＰＣＥを連続的に分解
処理できることがわかった。
【０２２５】［実施例１６］ガス、塩素ガス曝気水、一
体型分解処理槽、楕円反射板 塩素ガスボンベ（日本エアリキード社、純度９９％）か
ら供給される塩素ガスをレギュレータで減圧し散気装置
を設置した水槽（不図示）中の水を曝気してｐＨ２．
３、溶存塩素濃度１００ｍｇ／Ｌとなる塩素ガス曝気水
を調整した。この塩素ガス曝気水を用いた以外は、実施
例１１と同様の実験を行い、排気ガス中および機能水廃
液中のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度を定期的に測定した。
【０２２６】その結果、排気ガス中および機能水廃液中
のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度は常に検出限界以下であっ
た。
【０２２７】このことから図４の装置に塩素ガスボンベ
から供給された塩素ガスを曝気して作製した塩素ガス曝
気水供給すれば、ガス状のＴＣＥおよびＰＣＥを連続的
に分解処理できることがわかった。
【０２２８】［実施例１７］ガス、塩素ガス直接送気、
楕円反射板 図４の供給装置１０２、散気装置１０７、ポンプ１０
８、排水管１０９を取り除いて分解処理槽４０１全体が
気相になるようにし、分解処理槽４０１の底部に汚染ガ
ス供給管及び塩素ガス供給管を設置し、塩素ガス供給管
をレギュレータを介して塩素ガスボンベ（日本エアリキ
ード社、純度９９％）に接続して分解処理槽４０１内の
塩素ガス濃度がおよそ１００ｐｐｍＶになるように調製
して供給した以外は、実施例１１と同様の実験を行い、
排気ガス中および機能水廃液中のＴＣＥおよびＰＣＥ濃
度を定期的に測定した。
【０２２９】その結果、排気ガス中および機能水廃液中
のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度は常に検出限界以下であっ
た。
【０２３０】このことから図４の分解反応槽に汚染ガス
および塩素ガスを直接供給し混合すれば、ガス状のＴＣ
ＥおよびＰＣＥを連続的に分解処理できることがわかっ
た。
【０２３１】［実施例１８］液、電解機能水、一体型分
解処理槽、バッチ 図５の分解装置を準備した。
【０２３２】内側を鏡面研磨したアルミ製の楕円筒型反
射板４００内の一方の楕円焦点部に、ガラス製保護管内
に納められた光源１０６を、他の一方の楕円焦点部に容
積２００ｍＬのガラス製カラムの分解反応槽５０１を設
置し分解装置とした。あらかじめ、このガラスの透過光
の波長を測定したところ、３００ｎｍ以下の紫外線は透
過しなかった。
【０２３３】まず、実施例１と同様の電解機能水を調整
し塩素含有水供給装置１０２に貯留し、塩素含有水送水
ポンプ１０８で分解処理槽５０１へ８０ｍＬ送水した。
更に分解処理槽５０１底部の汚染水供給管５０３から、
汚染地下水に見立てたＴＣＥとＰＣＥをそれぞれ１０ｍ
ｇ／Ｌ含む混合水溶液を８０ｍＬ送水した。この時混合
水溶液中の塩素濃度は７ｍｇ/Ｌであった。
【０２３４】この分解処理槽５０１に光照射手段１０６
であるブラックライト蛍光ランプ（（株）東芝製ＦＬ１
０ＢＬＢ、１０Ｗ）により光を照射した。この時の照射
光量は、分解処理槽５０１の表面で光照射手段１０６に
最も近いところでは０．４〜０．７ｍＷ／ｃｍ2であっ
た。
【０２３５】この装置の分解処理を開始してから１０分
ごとに分解処理槽５０１内の液をサンプリングし一定時
間バイアル瓶内に密封静置してその気相部分の空気をガ
スタイトシリンジでサンプリングし、ＴＣＥおよびＰＣ
Ｅ濃度をガスクロマトグラフィー（商品名：ＧＣ−１４
Ｂ（ＦＩＤ検出器付）：島津製作所（株）社製）で測定
したところ、３０分で検出限界以下になった。
【０２３６】このことから図５の装置を用いれば、水溶
液状のＴＣＥおよびＰＣＥをバッチ的に分解処理できる
ことがわかった。
【０２３７】［比較例５］楕円筒型反射板４００を設置
しないことを除いて、実施例１８と同様の実験を行い、
ＴＣＥおよびＰＣＥ濃度を１０分ごとに測定した。
【０２３８】この時の照射光量は、分解処理槽４０１の
光照射装置１０６に最も近い側の表面において０．２〜
０．３ｍＷ／ｃｍ2であることを確かめた。また、分解
処理層４０１の光照射装置１０６と反対側の表面におい
ては０．１〜０．２ｍＷ／ｃｍ2で、光照射装置１０６
に最も近い側の表面と大差ないことを確かめた。
【０２３９】その結果、２時間後のサンプルの液換算の
ＴＣＥおよびＰＣＥ濃度は１．３ｐｐｍ（分解率約８７
％）、２．７ｐｐｍＶ（分解率約７３％）で、検出限界
以下に低下するには更に時間が必要なことがわかった。
【０２４０】また実験中、沈殿物やコロイド等が発生し
て反応槽内の透明度が低下することはなかった。
【０２４１】［実施例１９］液、塩素ガス曝気水、一体
型分解処理槽、バッチ、楕円反射板 電解機能水を調製する代わりに、塩素ガスボンベ（日本
エアリキード社、純度９９％）から供給される塩素ガス
をレギュレータで減圧し散気装置を設置した水槽（不図
示）中の水を曝気してｐＨ２．３、溶存塩素濃度１００
ｍｇ／Ｌとなる塩素ガス曝気水を調整した。機能水に替
えてこの塩素ガス曝気水を用いた以外は、実施例１８と
同様の実験を行い、ＴＣＥおよびＰＣＥ濃度を１０分ご
とに測定した。
【０２４２】その結果、分解処理槽３０１内の液は３０
分で排出基準の０．０３ｍｇ／Ｌ以下になった。
【０２４３】このことから塩素ガス曝気水で図５の装置
を用いれば、水溶液状のＴＣＥおよびＰＣＥをバッチ的
に分解処理できることがわかった。
【０２４４】［実施例２０］液、電解機能水、一体型分
解処理槽、連続 実施例１８と同様図５の分解装置を準備した。
【０２４５】まず、実施例１と同様の電解機能水を調整
し塩素含有水供給装置１０２に貯留し、塩素含有水送水
ポンプ１０８で４ｍＬ／ｍｉｎの流速で連続的に分解処
理槽５０１へ送水し、常時分解処理槽５０１内に１６０
ｍＬの機能水が滞留するようにした。
【０２４６】この分解処理槽１０１に光照射手段１０６
であるブラックライト蛍光ランプ（（株）東芝製ＦＬ１
０ＢＬＢ、１０Ｗ）により光を照射した。この時の照射
光量は、分解処理槽５０１の表面で光照射手段１０６に
最も近いところでは０．４〜０．７ｍＷ／ｃｍ2であっ
た。
【０２４７】光の照射と同時に、分解処理槽５０１底部
の汚染水供給管５０３から、汚染地下水に見立てたＴＣ
ＥとＰＣＥをそれぞれ１０ｍｇ／Ｌ含む水溶液を４ｍＬ
／ｍｉｎの流量で送水した。
【０２４８】この装置の分解処理を開始してから定期的
に排水管５０９からの機能水廃液を一定時間バイアル瓶
内に密封静置してその気相部分の空気をガスタイトシリ
ンジでサンプリングし、ＴＣＥおよびＰＣＥ濃度をガス
クロマトグラフィー（商品名：ＧＣ−１４Ｂ（ＦＩＤ検
出器付）：島津製作所（株）社製）で測定したところ、
常に検出限界以下であった。
【０２４９】このことから図５の装置を用いれば、水溶
液状のＴＣＥおよびＰＣＥを連続的に分解処理できるこ
とがわかった。
【０２５０】［比較例６］楕円筒型反射板４００を設置
しないことを除いて、実施例２０と同様の実験を行い、
ＴＣＥおよびＰＣＥ濃度を定期的に測定した。
【０２５１】この時の照射光量は、分解処理槽５０１の
光照射装置１０６に最も近い側の表面において０．２〜
０．３ｍＷ／ｃｍ2であることを確かめた。また、分解
処理層５０１の光照射装置１０６と反対側の表面におい
ては０．１〜０．２ｍＷ／ｃｍ2で、光照射装置１０６
に最も近い側の表面と大差ないことを確かめた。
【０２５２】その結果、排水中の液換算ＴＣＥおよびＰ
ＣＥ濃度はそれぞれ平均で０．２ｐｐｍ（分解率約９８
％）、０．９ｐｐｍＶ（分解率約９１％）に低下し、連
続的に完全分解できないことがわかった。
【０２５３】また実験中、沈殿物やコロイド等が発生し
て反応槽内の透明度が低下することはなかった。
【０２５４】［実施例２１および比較例７］供給する汚
染空気に関する条件を、表１に示すようにした以外は実
施例１と同様の試験を行った。また比較例として、光反
射面を設けずに同様の試験を行った。結果を表１に示
す。なお本実施例においてはＰＣＥは使用していない。
また表中、ＮＡは検出限界以下であることを示す。
【０２５５】分解対象物質であるＴＣＥの濃度が変わっ
ても、本発明の効果が顕著であることがわかる。
【０２５６】
【表１】
【０２５７】［実験例１］比較例１に用いた図１の装置
において、分解処理槽１０１の気相部の外壁面で光の強
度を測定した。汚染空気を供給していない状態（内部は
空気）で光強度は０．３３ｍＷ／ｃｍ2であり、比較例
１の条件で汚染空気を供給し分解反応が起こっている状
態における光強度も同じであった。
【０２５８】また、比較例２に用いた図３の装置を改造
し、分解処理層３０１の底部に図１に示したような曝気
手段を設け、ここに空気を供給して空気による曝気を行
えるようにし、さらに頭頂部からこの空気を排出できる
ようにした。
【０２５９】この装置を用い、空気曝気を行いつつ、分
解処理槽１０１の液相部の外壁面で光の強度を測定し
た。汚染水を供給しない状態（内部は機能水）の光強度
は０．１５ｍＷ／ｃｍ2であり、比較例２の条件で汚染
水を供給した状態の光強度も同じであった。
【０２６０】本実験例から、光反射面を設けずに機能水
を用いて汚染空気や汚染水を分解する場合、照射する光
はほとんど透過、散逸してしまい、無駄になってしまっ
ていることがわかる。
【０２６１】［実施例２２］ガス、電解機能水、一体型
分解処理槽、包括反射板 図６の分解装置を準備した。
【０２６２】内側を鏡面研磨したアルミ製の筒型反射板
６００内の中心部に、底部に曝気手段１０７を設置した
容積４００ｍＬのガラス製カラムの分解処理槽６０１を
設置し、その周囲に光照射装置１０６を３本設置して、
分解装置とした。あらかじめ、これらのガラスの透過光
の波長を測定したところ、３００ｎｍ以下の紫外線は透
過しなかった。
【０２６３】まず、実施例１と同様の電解機能水を調整
し塩素含有水供給装置１０２に貯留し、塩素含有水送水
ポンプ１０８で４ｍＬ／ｍｉｎの流速で連続的に分解処
理槽６０１へ送水し、常時分解処理槽６０１内に１００
ｍＬの機能水が滞留するようにした。
【０２６４】事前の実験で、図６の分解処理槽６０１に
この機能水を入れ、エアポンプで曝気装置１０７に１６
００ｍＬ／ｍｉｎの流量で送気した。この時、分解処理
槽６０１内の気相中の塩素濃度を検知管（ガステック社
製、Ｎｏ．８Ｈ）で数回測定したところ、およそ５０ｐ
ｐｍＶ〜８０ｐｐｍＶの範囲内であった。
【０２６５】この分解処理槽６０１に光照射手段１０６
であるブラックライト蛍光ランプ（（株）東芝製ＦＬ１
０ＢＬＢ、１０Ｗ）により光を照射した。この時の照射
光量は、分解処理槽６０１の表面で光照射手段１０６の
一つに最も近いところでは１．０〜１．５ｍＷ／ｃｍ2
であった。
【０２６６】光の照射と同時に、分解処理槽６０１底部
の曝気装置１０７から、パーミエータ（ガステック社
製）で生成した汚染土壌から真空吸引した汚染空気に見
立てたＴＣＥとＰＣＥとをそれぞれ１００ｐｐｍＶ含む
空気を６００ｍＬ／ｍｉｎの流量で送気した。
【０２６７】この装置の分解処理を開始してから定期的
に排気ガス送気管１０４からの排気ガス中の、および排
水管１０９からの機能水廃液を一定時間バイアル瓶内に
静置してその気相部分の空気中のＴＣＥおよびＰＣＥ濃
度をガスクロマトグラフィー（商品名：ＧＣ−１４Ｂ
（ＦＩＤ検出器付）：島津製作所（株）社製）で測定し
たところ、常に検出限界以下であった。
【０２６８】このことから図６の装置を用いれば、ガス
状のＴＣＥおよびＰＣＥを連続的に分解処理できること
がわかった。
【０２６９】［比較例８］楕円筒型反射板６００を設置
しないことを除いて、実施例２２と同様の実験を行い、
ＴＣＥおよびＰＣＥ濃度を定期的に測定した。
【０２７０】この時の照射光量は、分解処理槽６０１の
光照射装置１０６の一つに最も近い側の表面において
０．５〜０．７ｍＷ／ｃｍ2であることを確かめた。ま
た、その反対側の表面においては０．４〜０．６ｍＷ／
ｃｍ2で、光照射装置１０６に最も近い側の表面と大差
ないことを確かめた。
【０２７１】その結果、排気ガス中のＴＣＥおよびＰＣ
Ｅ濃度はそれぞれ平均で３１ｐｐｍＶ（分解率約６９
％）、５０ｐｐｍＶ（分解率約５０％）に低下し、連続
的に完全分解できないことがわかった。
【０２７２】また実験中、ミスト等が発生して分解処理
槽６０１内の透明度が低下することはなかった。
【０２７３】［実施例２３］ガス、電解機能水、分離型
分解処理槽、包括反射板 図６の分解処理槽６０１の底部を図２と同様に改造し、
機能水を曝気する部分を機能水曝気槽として独立させ、
ここで生成した塩素と分解対象物質を含む空気を分解処
理槽に送り、分解処理層６０１において光を照射するよ
うにした以外は、実施例２２と同様の実験を行い、排気
ガス中および機能水廃液中のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度を
定期的に測定した。
【０２７４】その結果、排気ガス中および機能水廃液中
のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度は常に検出限界以下であっ
た。
【０２７５】このことから図６の分解処理槽底部を図２
のように改造した装置を用いれば、ガス状のＴＣＥおよ
びＰＣＥを連続的に分解処理できることがわかった。
【０２７６】［実施例２４］ガス、電解機能水、一体型
分解処理槽、空気曝気、包括反射板 図６の分解処理槽６０１の気相部に汚染ガス供給管を設
け（不図示）、ＴＣＥおよびＰＣＥ濃度がそれぞれ２０
０ｐｐｍＶの汚染ガスを直接パーミエータから６００ｍ
Ｌ／ｍｉｎの流量で送気し、曝気手段１０７には別途分
解対象物質を含まない空気を６００ｍＬ／ｍｉｎで送気
した以外は実施例２２と同様の実験を行い、排気ガス中
および機能水廃液中のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度を定期的
に測定した。
【０２７７】その結果、排気ガス中および機能水廃液中
のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度は常に検出限界以下であっ
た。
【０２７８】このことから汚染ガスで機能水を曝気しな
くても、ガス状のＴＣＥおよびＰＣＥを連続的に分解処
理できることがわかった。
【０２７９】［実施例２５］ガス、電解機能水、分離型
分解処理槽、空気曝気、包括反射板 図７のように機能水を曝気する部分を機能水曝気槽とし
て独立させた。分解処理槽６０１に汚染ガス供給管７０
３を設け、ここに汚染空気に見立てた、ＴＣＥおよびＰ
ＣＥ濃度をそれぞれ２００ｐｐｍＶ含む空気を直接パー
ミエータから６００ｍＬ／ｍｉｎの流量で送気した。機
能水曝気槽内の曝気手段１０７には曝気用空気供給管７
０３’を介して別途分解対象物質を含まない空気を６０
０ｍＬ／ｍｉｎで送気した。これ以外は実施例２２と同
様の実験を行い、排気ガス中および機能水廃液中のＴＣ
ＥおよびＰＣＥ濃度を定期的に測定した。
【０２８０】その結果、排気ガス中および機能水廃液中
のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度は常に検出限界以下であっ
た。
【０２８１】このことから汚染空気で機能水を曝気しな
くても、ガス状のＴＣＥおよびＰＣＥを連続的に分解処
理できることがわかった。
【０２８２】［実施例２６］ガス、合成機能水、一体型
分解処理槽、包括反射板 実施例５と同様の塩酸０．００６ｍｏｌ／Ｌ、塩化ナト
リウム０．０１４ｍｏｌ／Ｌ、および次亜塩素酸ナトリ
ウム０．００２ｍｏｌ／Ｌの濃度の水溶液を調整し、ｐ
Ｈ２．３、溶存塩素濃度１０５ｍｇ／Ｌとなる機能水を
調整した。この合成機能水を用いた以外は、実施例２２
と同様の実験を行い、排気ガス中および機能水廃液中の
ＴＣＥおよびＰＣＥ濃度を定期的に測定した。
【０２８３】その結果、排気ガス中および機能水廃液中
のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度は常に検出限界以下であっ
た。
【０２８４】このことから図６の装置に合成機能水を供
給すれば、ガス状のＴＣＥおよびＰＣＥを連続的に分解
処理できることがわかった。
【０２８５】［実施例２７］ガス、塩素ガス曝気水、一
体型分解処理槽、包括反射板 塩素ガスボンベ（日本エアリキード社、純度９９％）か
ら供給される塩素ガスをレギュレータで減圧し散気装置
を設置した水槽（不図示）中の水を曝気してｐＨ２．
３、溶存塩素濃度１００ｍｇ／Ｌとなる塩素ガス曝気水
を調整した。この塩素ガス曝気水を用いた以外は、実施
例２２と同様の実験を行い、排気ガス中および機能水廃
液中のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度を定期的に測定した。
【０２８６】その結果、排気ガス中および機能水廃液中
のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度は常に検出限界以下であっ
た。
【０２８７】このことから図６の装置に塩素ガスボンベ
から供給された塩素ガスを曝気して作製した塩素ガス曝
気水供給すれば、ガス状のＴＣＥおよびＰＣＥを連続的
に分解処理できることがわかった。
【０２８８】［実施例２８］ガス、塩素ガス直接送気、
包括反射板 図６の供給装置１０２、散気装置１０７、ポンプ１０
８、排水管１０９を取り除いて分解処理槽６０１全体が
気相になるようにし、分解処理槽６０１の底部に汚染ガ
ス供給管及び塩素ガス供給管を設置し、塩素ガス供給管
をレギュレータを介して塩素ガスボンベ（日本エアリキ
ード社、純度９９％）に接続して分解処理槽６０１内の
塩素ガス濃度がおよそ１００ｐｐｍＶになるように調製
して供給した以外は、実施例２３と同様の実験を行い、
排気ガス中および機能水廃液中のＴＣＥおよびＰＣＥ濃
度を定期的に測定した。
【０２８９】その結果、排気ガス中および機能水廃液中
のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度は常に検出限界以下であっ
た。
【０２９０】このことから図６の分解反応槽に汚染ガス
および塩素ガスを直接供給し混合すれば、ガス状のＴＣ
ＥおよびＰＣＥを連続的に分解処理できることがわかっ
た。
【０２９１】［実施例２９］液、電解機能水、一体型分
解処理槽、バッチ、包括反射板 図８の分解装置を準備した。
【０２９２】内側を鏡面研磨したアルミ製の筒型反射板
６００内の中心部に、底部に曝気手段１０７を設置した
容積４００ｍＬのガラス製カラムの分解処理槽８０１を
設置し、その周囲にガラス製保護管内に納められた光照
射装置１０６を３本設置して、分解装置とした。あらか
じめ、これらのガラスの透過光の波長を測定したとこ
ろ、３００ｎｍ以下の紫外線は透過しなかった。
【０２９３】まず、実施例１と同様の電解機能水を調整
し塩素含有水供給装置１０２に貯留し、塩素含有水送水
ポンプ１０８で分解処理槽８０１へ１６０ｍＬ送水し
た。更に分解処理槽８０１底部の汚染水供給管８０３か
ら、汚染地下水に見立てたＴＣＥとＰＣＥをそれぞれ１
０ｍｇ／Ｌ含む混合水溶液を１６０ｍＬ送水した。この
時混合水溶液中の塩素濃度は７ｍｇ/Ｌであった。
【０２９４】この分解処理槽８０１に光照射手段１０６
であるブラックライト蛍光ランプ（（株）東芝製ＦＬ１
０ＢＬＢ、１０Ｗ）により光を照射した。この時の照射
光量は、分解処理槽８０１の表面で光照射手段１０６に
最も近いところでは１．０〜１．４ｍＷ／ｃｍ2であっ
た。
【０２９５】この装置の分解処理を開始してから１０分
ごとに分解処理槽８０１内の液をサンプリングし一定時
間バイアル瓶内に密封静置してその気相部分の空気をガ
スタイトシリンジでサンプリングし、ＴＣＥおよびＰＣ
Ｅ濃度をガスクロマトグラフィー（商品名：ＧＣ−１４
Ｂ（ＦＩＤ検出器付）：島津製作所（株）社製）で測定
したところ、３０分で検出限界以下になった。
【０２９６】このことから図８の装置を用いれば、水溶
液状のＴＣＥおよびＰＣＥをバッチ的に分解処理できる
ことがわかった。
【０２９７】［比較例９］円筒型反射板６００を設置し
ないことを除いて、実施例２９と同様の実験を行い、Ｔ
ＣＥおよびＰＣＥ濃度を１０分ごとに測定した。
【０２９８】この時の照射光量は、分解処理槽８０１の
光照射装置１０６の一つに最も近い側の表面において
０．４〜０．６ｍＷ／ｃｍ2であることを確かめた。ま
た、その反対側の表面においては０．３〜０．５ｍＷ／
ｃｍ2で、光照射装置１０６に最も近い側の表面と大差
ないことを確かめた。
【０２９９】その結果、２時間後のサンプルの液換算の
ＴＣＥおよびＰＣＥ濃度は０．８ｐｐｍＶ（分解率約９
２％）、２．８ｐｐｍＶ（分解率約７２％）で、検出限
界以下に低下するには更に時間が必要なことがわかっ
た。
【０３００】また実験中、沈殿物やコロイド等が発生し
て反応槽内の透明度が低下することはなかった。
【０３０１】［実施例３０］液、塩素ガス曝気水、一体
型分解処理槽、バッチ、包括反射板 電解機能水を調製する代わりに、塩素ガスボンベ（日本
エアリキード社、純度９９％）から供給される塩素ガス
をレギュレータで減圧し散気装置を設置した水槽（不図
示）中の水を曝気してｐＨ２．３、溶存塩素濃度１００
ｍｇ／Ｌとなる塩素ガス曝気水を調整した。機能水に替
えてこの塩素ガス曝気水を用いた以外は、実施例２９と
同様の実験を行い、ＴＣＥおよびＰＣＥ濃度を１０分ご
とに測定した。
【０３０２】その結果、分解処理槽８０１内の液は３０
分で排出基準の０．０３ｍｇ／Ｌ以下になった。
【０３０３】このことから塩素ガス曝気水で図８の装置
を用いれば、水溶液状のＴＣＥおよびＰＣＥをバッチ的
に分解処理できることがわかった。
【０３０４】［実施例３１］液、電解機能水、一体型分
解処理槽、連続、包括反射板 実施例２９と同様図８の分解装置を準備した。
【０３０５】まず、実施例１と同様の電解機能水を調整
し塩素含有水供給装置１０２に貯留し、塩素含有水送水
ポンプ１０８で８ｍＬ／ｍｉｎの流速で連続的に分解処
理槽８０１へ送水し、常時分解処理槽８０１内に３２０
ｍＬの機能水が滞留するようにした。
【０３０６】この分解処理槽８０１に光照射手段１０６
であるブラックライト蛍光ランプ（（株）東芝製ＦＬ１
０ＢＬＢ、１０Ｗ）により光を照射した。この時の照射
光量は、分解処理槽８０１の表面で光照射手段１０６に
最も近いところでは０．５〜０．８ｍＷ／ｃｍ2であっ
た。
【０３０７】光の照射と同時に、分解処理槽８０１底部
の汚染水供給管８０３から、汚染地下水に見立てたＴＣ
ＥとＰＣＥをそれぞれ１０ｍｇ／Ｌ含む水溶液を８ｍＬ
／ｍｉｎの流量で送水した。この時分解処理槽８０１内
の混合水溶液中の塩素濃度は常に７ｍｇ/Ｌ前後であっ
た。
【０３０８】この装置の分解処理を開始してから定期的
に排水管８０９からの機能水廃液を一定時間バイアル瓶
内に密封静置してその気相部分の空気をガスタイトシリ
ンジでサンプリングし、ＴＣＥおよびＰＣＥ濃度をガス
クロマトグラフィー（商品名：ＧＣ−１４Ｂ（ＦＩＤ検
出器付）：島津製作所（株）社製）で測定したところ、
常に検出限界以下であった。
【０３０９】このことから図８の装置を用いれば、水溶
液状のＴＣＥおよびＰＣＥを連続的に分解処理できるこ
とがわかった。
【０３１０】［比較例１０］楕円筒型反射板６００を設
置しないことを除いて、実施例３１と同様の実験を行
い、ＴＣＥおよびＰＣＥ濃度を定期的に測定した。
【０３１１】この時の照射光量は、分解処理槽８０１の
光照射装置１０６の一つに最も近い側の表面において
０．４〜０．６ｍＷ／ｃｍ2であることを確かめた。ま
た、その反対側の表面においては０．３〜０．５ｍＷ／
ｃｍ2で、光照射装置１０６に最も近い側の表面と大差
ないことを確かめた。
【０３１２】その結果、排水中の液換算ＴＣＥおよびＰ
ＣＥ濃度はそれぞれ平均で０．４ｐｐｍＶ（分解率約９
６％）、１．３ｐｐｍＶ（分解率約８７％）に低下し、
連続的に完全分解できないことがわかった。
【０３１３】また実験中、沈殿物やコロイド等が発生し
て反応槽内の透明度が低下することはなかった。
【０３１４】［実施例３２］ガス、電解機能水、一体型
分解処理槽、対面反射板 図９の分解装置を準備した。
【０３１５】ガラス製の鏡を平板状反射板９００として
用意し反射面の側を分解反応槽９０１に向けて設置し
た。底部に曝気手段１０７を設置した容積４００ｍＬの
ガラス製カラムの分解処理槽９０１を設置し、反射板と
反対側に光照射装置１０６を２本設置して、分解装置と
した。あらかじめ、これらのガラスの透過光の波長を測
定したところ、３００ｎｍ以下の紫外線は透過しなかっ
た。
【０３１６】まず、実施例１と同様の電解機能水を調整
し塩素含有水供給装置１０２に貯留し、塩素含有水送水
ポンプ１０８で４ｍＬ／ｍｉｎの流速で連続的に分解処
理槽９０１へ送水し、常時分解処理槽９０１内に１００
ｍＬの機能水が滞留するようにした。
【０３１７】事前の実験で、図９の分解処理槽９０１に
この機能水を入れ、エアポンプで曝気装置１０７に１６
００ｍＬ／ｍｉｎの流量で送気した。この時、分解処理
槽９０１内の気相中の塩素濃度を検知管（ガステック社
製、Ｎｏ．８Ｈ）で数回測定したところ、およそ５０ｐ
ｐｍＶ〜８０ｐｐｍＶの範囲内であった。
【０３１８】この分解処理槽９０１に光照射手段１０６
であるブラックライト蛍光ランプ（（株）東芝製ＦＬ１
０ＢＬＢ、１０Ｗ）により光を照射した。この時の照射
光量は、分解処理槽９０１の光照射手段１０６側表面の
最も近いところでは０．５〜０．７ｍＷ／ｃｍ2であっ
た。
【０３１９】光の照射と同時に、分解処理槽９０１底部
の曝気装置１０７から、パーミエータ（ガステック社
製）で生成した汚染土壌から真空吸引した汚染空気に見
立てたＴＣＥとＰＣＥとをそれぞれ１００ｐｐｍＶ含む
空気を６００ｍＬ／ｍｉｎの流量で送気した。
【０３２０】この装置の分解処理を開始してから定期的
に排気ガス送気管１０４からの排気ガス中の、および排
水管１０９からの機能水廃液を一定時間バイアル瓶内に
静置してその気相部分の空気中のＴＣＥおよびＰＣＥ濃
度をガスクロマトグラフィー（商品名：ＧＣ−１４Ｂ
（ＦＩＤ検出器付）：島津製作所（株）社製）で測定し
たところ、常に検出限界以下であった。
【０３２１】このことから図９の装置を用いれば、ガス
状のＴＣＥおよびＰＣＥを連続的に分解処理できること
がわかった。
【０３２２】［比較例１１］平板状反射板９００を設置
しないことを除いて、実施例３２と同様の実験を行い、
ＴＣＥおよびＰＣＥ濃度を定期的に測定した。
【０３２３】この時の照射光量は、分解処理槽９０１の
光照射装置１０６側表面の最も近いところでは０．５〜
０．７ｍＷ／ｃｍ2であることを確かめた。また、その
反対側の表面においては０．４〜０．６ｍＷ／ｃｍ
2で、光照射装置１０６に最も近い側の表面と大差ない
ことを確かめた。
【０３２４】その結果、排気ガス中のＴＣＥおよびＰＣ
Ｅ濃度はそれぞれ平均で４３ｐｐｍＶ（分解率約５７
％）、５６ｐｍＶ（分解率約４４％）に低下し、連続的
に完全分解できないことがわかった。
【０３２５】また実験中、ミスト等が発生して分解処理
槽９０１内の透明度が低下することはなかった。
【０３２６】［実施例３３］ガス、電解機能水、分離型
分解処理槽、対面反射板 図９の分解処理槽９０１の底部を図２と同様に改造し、
機能水を曝気する部分を機能水曝気槽として独立させ、
ここで生成した塩素と分解対象物質を含む空気を分解処
理槽に送り、分解処理層９０１において光を照射するよ
うにした以外は、実施例３２と同様の実験を行い、排気
ガス中および機能水廃液中のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度を
定期的に測定した。
【０３２７】その結果、排気ガス中および機能水廃液中
のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度は常に検出限界以下であっ
た。
【０３２８】このことから図９の分解処理槽底部を図２
のように改造した装置を用いれば、ガス状のＴＣＥおよ
びＰＣＥを連続的に分解処理できることがわかった。
【０３２９】［実施例３４］ガス、電解機能水、一体型
分解処理槽、空気曝気、対面反射板 図９の分解処理槽９０１の気相部に汚染ガス供給管を設
け（不図示）、ＴＣＥおよびＰＣＥ濃度がそれぞれ２０
０ｐｐｍＶの汚染ガスを直接パーミエータから６００ｍ
Ｌ／ｍｉｎの流量で送気し、曝気手段１０７には別途分
解対象物質を含まない空気を６００ｍＬ／ｍｉｎで送気
した以外は実施例３２と同様の実験を行い、排気ガス中
および機能水廃液中のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度を定期的
に測定した。
【０３３０】その結果、排気ガス中および機能水廃液中
のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度は常に検出限界以下であっ
た。
【０３３１】このことから汚染ガスで機能水を曝気しな
くても、ガス状のＴＣＥおよびＰＣＥを連続的に分解処
理できることがわかった。
【０３３２】［実施例３５］ガス、電解機能水、分離型
分解処理槽、空気曝気、対面反射板 図９の分解処理槽９０１の底部を図２のように改造し、
機能水を曝気する部分を機能水曝気槽として独立させ
た。分解処理槽９０１に汚染ガス供給管を設け、ここに
汚染空気に見立てた、ＴＣＥおよびＰＣＥ濃度をそれぞ
れ２００ｐｐｍＶ含む空気を直接パーミエータから６０
０ｍＬ／ｍｉｎの流量で送気した。機能水曝気槽内の曝
気手段１０７には別途分解対象物質を含まない空気を６
００ｍＬ／ｍｉｎで送気した。これ以外は実施例３２と
同様の実験を行い、排気ガス中および機能水廃液中のＴ
ＣＥおよびＰＣＥ濃度を定期的に測定した。
【０３３３】その結果、排気ガス中および機能水廃液中
のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度は常に検出限界以下であっ
た。
【０３３４】このことから汚染空気で機能水を曝気しな
くても、ガス状のＴＣＥおよびＰＣＥを連続的に分解処
理できることがわかった。
【０３３５】［実施例３６］ガス、合成機能水、一体型
分解処理槽、対面反射板 実施例５と同様の塩酸０．００６ｍｏｌ／Ｌ、塩化ナト
リウム０．０１４ｍｏｌ／Ｌ、および次亜塩素酸ナトリ
ウム０．００２ｍｏｌ／Ｌの濃度の水溶液を調整し、ｐ
Ｈ２．３、溶存塩素濃度１０５ｍｇ／Ｌとなる機能水を
調整した。この合成機能水を用いた以外は、実施例３２
と同様の実験を行い、排気ガス中および機能水廃液中の
ＴＣＥおよびＰＣＥ濃度を定期的に測定した。
【０３３６】その結果、排気ガス中および機能水廃液中
のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度は常に検出限界以下であっ
た。
【０３３７】このことから図９の装置に合成機能水を供
給すれば、ガス状のＴＣＥおよびＰＣＥを連続的に分解
処理できることがわかった。
【０３３８】［実施例３７］ガス、塩素ガス曝気水、一
体型分解処理槽、対面反射板 塩素ガスボンベ（日本エアリキード社、純度９９％）か
ら供給される塩素ガスをレギュレータで減圧し散気装置
を設置した水槽（不図示）中の水を曝気してｐＨ２．
３、溶存塩素濃度１００ｍｇ／Ｌとなる塩素ガス曝気水
を調整した。機能水に替えてこの塩素ガス曝気水を用い
た以外は、実施例３２と同様の実験を行い、排気ガス中
および機能水廃液中のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度を定期的
に測定した。
【０３３９】その結果、排気ガス中および機能水廃液中
のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度は常に検出限界以下であっ
た。
【０３４０】このことから図９の装置に塩素ガスボンベ
から供給された塩素ガスを曝気して作製した塩素ガス曝
気水供給すれば、ガス状のＴＣＥおよびＰＣＥを連続的
に分解処理できることがわかった。
【０３４１】［実施例２８］ガス、塩素ガス直接送気、
対面反射板 図９の供給装置１０２、散気装置１０７、ポンプ１０
８、排水管１０９を取り除いて分解処理槽９０１全体が
気相になるようにし、分解処理槽９０１の底部に汚染ガ
ス供給管及び塩素ガス供給管を設置し、塩素ガス供給管
をレギュレータを介して塩素ガスボンベ（日本エアリキ
ード社、純度９９％）に接続して分解処理槽９０１内の
塩素ガス濃度がおよそ１００ｐｐｍＶになるように調製
して供給した以外は、実施例３２と同様の実験を行い、
排気ガス中および機能水廃液中のＴＣＥおよびＰＣＥ濃
度を定期的に測定した。
【０３４２】その結果、排気ガス中および機能水廃液中
のＴＣＥおよびＰＣＥ濃度は常に検出限界以下であっ
た。
【０３４３】このことから図９の分解反応槽に汚染ガス
および塩素ガスを直接供給し混合すれば、ガス状のＴＣ
ＥおよびＰＣＥを連続的に分解処理できることがわかっ
た。
【０３４４】［実施例３９］液、電解機能水、一体型分
解処理槽、バッチ、対面反射板 図１０の分解装置を準備した。
【０３４５】ガラス製の鏡を平板状反射板９００として
用意し反射面の側を分解反応槽１００１に向けて設置し
た。底部に曝気手段１０７を設置した容積４００ｍＬの
ガラス製カラムの分解処理槽１００１を設置し、反射板
と反対側に光照射装置１０６を２本設置して、分解装置
とした。あらかじめ、これらのガラスの透過光の波長を
測定したところ、３００ｎｍ以下の紫外線は透過しなか
った。
【０３４６】まず、実施例１と同様の電解機能水を調整
し塩素含有水供給装置１０２に貯留し、塩素含有水送水
ポンプ１０８で分解処理槽１００１へ１６０ｍＬ送水し
た。更に分解処理槽１００１底部の汚染水供給管１００
３から、汚染地下水に見立てたＴＣＥとＰＣＥをそれぞ
れ１０ｍｇ／Ｌ含む混合水溶液を１６０ｍＬ送水した。
この時混合水溶液中の塩素濃度は７ｍｇ/Ｌであった。
【０３４７】この分解処理槽１００１に光照射手段１０
６であるブラックライト蛍光ランプ（（株）東芝製ＦＬ
１０ＢＬＢ、１０Ｗ）により光を照射した。この時の照
射光量は、分解処理槽１００１の光照射手段１０６に最
も近い表面では０．５〜０．６ｍＷ／ｃｍ2であった。
【０３４８】この装置の分解処理を開始してから１０分
ごとに分解処理槽１００１内の液をサンプリングし一定
時間バイアル瓶内に密封静置してその気相部分の空気を
ガスタイトシリンジでサンプリングし、ＴＣＥおよびＰ
ＣＥ濃度をガスクロマトグラフィー（商品名：ＧＣ−１
４Ｂ（ＦＩＤ検出器付）：島津製作所（株）社製）で測
定したところ、３０分で検出限界以下になった。
【０３４９】このことから図１０の装置を用いれば、水
溶液状のＴＣＥおよびＰＣＥをバッチ的に分解処理でき
ることがわかった。
【０３５０】［比較例１２］反射板９００を設置しない
ことを除いて、実施例３９と同様の実験を行い、ＴＣＥ
およびＰＣＥ濃度を１０分ごとに測定した。
【０３５１】この時の照射光量は、分解処理槽１００１
の光照射手段１０６に最も近い表面では０．４〜０．６
ｍＷ／ｃｍ2であることを確かめた。また、その反対側
の表面においては０．４〜０．５ｍＷ／ｃｍ2で、光照
射装置１０６に最も近い側の表面と大差ないことを確か
めた。
【０３５２】その結果、２時間後のサンプルの液換算の
ＴＣＥおよびＰＣＥ濃度は１．５ｐｐｍＶ（分解率約８
５％）、３．７ｐｐｍＶ（分解率約６３％）で、検出限
界以下に低下するには更に時間が必要なことがわかっ
た。
【０３５３】また実験中、沈殿物やコロイド等が発生し
て反応槽内の透明度が低下することはなかった。
【０３５４】［実施例４０］液、塩素ガス曝気水、一体
型分解処理槽、バッチ、対面反射板 電解機能水を調製する代わりに、塩素ガスボンベ（日本
エアリキード社、純度９９％）から供給される塩素ガス
をレギュレータで減圧し散気装置を設置した水槽（不図
示）中の水を曝気してｐＨ２．３、溶存塩素濃度１００
ｍｇ／Ｌとなる塩素ガス曝気水を調整した。この塩素ガ
ス曝気水を用いた以外は、実施例３９と同様の実験を行
い、ＴＣＥおよびＰＣＥ濃度を１０分ごとに測定した。
【０３５５】その結果、分解処理槽１００１内の液は３
０分で排出基準の０．０３ｍｇ／Ｌ以下になった。
【０３５６】このことから塩素ガス曝気水で図１０の装
置を用いれば、水溶液状のＴＣＥおよびＰＣＥをバッチ
的に分解処理できることがわかった。
【０３５７】［実施例４１］液、電解機能水、一体型分
解処理槽、連続、対面反射板 実施例３９と同様図１０の分解装置を準備した。
【０３５８】まず、実施例１と同様の電解機能水を調整
し塩素含有水供給装置１０２に貯留し、塩素含有水送水
ポンプ１０８で８ｍＬ／ｍｉｎの流速で連続的に分解処
理槽１００１へ送水し、常時分解処理槽１００１内に３
２０ｍＬの機能水が滞留するようにした。
【０３５９】この分解処理槽１００１に光照射手段１０
６であるブラックライト蛍光ランプ（（株）東芝製ＦＬ
１０ＢＬＢ、１０Ｗ）により光を照射した。この時の照
射光量は、分解処理槽１００１の光照射手段１０６に最
も近い表面では０．５〜０．８ｍＷ／ｃｍ2であった。
【０３６０】光の照射と同時に、分解処理槽１００１底
部の汚染水供給管１００３から、汚染地下水に見立てた
ＴＣＥとＰＣＥをそれぞれ１０ｍｇ／Ｌ含む水溶液を８
ｍＬ／ｍｉｎの流量で送水した。この時分解処理槽１０
０１内の混合水溶液中の塩素濃度は常に７ｍｇ/Ｌ前後
であった。
【０３６１】この装置の分解処理を開始してから定期的
に排水管１００９からの機能水廃液を一定時間バイアル
瓶内に密封静置してその気相部分の空気をガスタイトシ
リンジでサンプリングし、ＴＣＥおよびＰＣＥ濃度をガ
スクロマトグラフィー（商品名：ＧＣ−１４Ｂ（ＦＩＤ
検出器付）：島津製作所（株）社製）で測定したとこ
ろ、常に検出限界以下であった。
【０３６２】このことから図１０の装置を用いれば、水
溶液状のＴＣＥおよびＰＣＥを連続的に分解処理できる
ことがわかった。
【０３６３】［比較例１３］反射板９００を設置しない
ことを除いて、実施例４１と同様の実験を行い、ＴＣＥ
およびＰＣＥ濃度を定期的に測定した。
【０３６４】この時の照射光量は、分解処理槽１００１
の光照射手段１０６に最も近い表面では０．４〜０．５
ｍＷ／ｃｍ2であることを確かめた。また、その反対側
の表面においては０．３〜０．５ｍＷ／ｃｍ2で、光照
射装置１０６に最も近い側の表面と大差ないことを確か
めた。
【０３６５】その結果、排水中の液換算ＴＣＥおよびＰ
ＣＥ濃度はそれぞれ平均で０．９ｐｐｍ（分解率約９１
％）、１．８ｐｐｍＶ（分解率約８２％）に低下し、連
続的に完全分解できないことがわかった。
【０３６６】また実験中、沈殿物やコロイド等が発生し
て反応槽内の透明度が低下することはなかった。
【０３６７】
【発明の効果】本発明によれば、光照射下に、塩素含有
水もしくはその曝気、または塩素ガスボンベより得られ
る塩素により汚染物質を分解する方法及び装置であっ
て、反射板によって反射し、特には一度分解反応槽を通
り抜けた照射光を反射板によって反射し再度分解反応槽
を照射することによって、光の散逸が抑えられ、ランニ
ングコスト、エネルギー効率において優れた方法及び装
置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施態様にかかる分解装置の概略図
である。
【図２】本発明の他の実施態様にかかる分解装置の変更
部分の概略図である。
【図３】本発明の他の実施態様にかかる分解装置の概略
図である。
【図４】本発明の他の実施態様にかかる分解装置の概略
図である。
【図５】本発明の他の実施態様にかかる分解装置の概略
図である。
【図６】本発明の他の実施態様にかかる分解装置の概略
図である。
【図７】本発明の他の実施態様にかかる分解装置の概略
図である。
【図８】本発明の他の実施態様にかかる分解装置の概略
図である。
【図９】本発明の他の実施態様にかかる分解装置の概略
図である。
【図１０】本発明の他の実施態様にかかる分解装置の概
略図である。
【符号の説明】
１０１：分解処理槽 １０２：塩素含有水供給装置 １０３：汚染ガス供給管 １０４：処理済ガス排気管 １０５：光源保護管 １０６：光源 １０７：曝気手段 １０８：塩素含有水送水ポンプ １０９：処理済水排水管 ２０１：塩素含有水曝気槽 ３０１：分解処理槽 ３０３：汚染水供給管 ３０９：処理済み水排水管（バッチ処理の場合は閉じ
る） ４００：楕円筒型反射板 ４０１：分解処理槽 ４０３：汚染ガス供給管 ５０１：分解処理槽 ５０３：汚染水供給管 ５０９：処理済み水排水管（バッチ処理の場合は閉じ
る） ６００：円筒型反射板 ６０１：分解処理槽 ６０３：汚染水供給管 ７０１：塩素含有水曝気槽 ７０３：汚染ガス供給管 ７０３’：曝気用空気供給管 ８０１：分解処理槽 ８０３：汚染水供給管 ８０９：処理済み水排水管（バッチ処理の場合は閉じ
る） ９００：板状反射板 ９０１：分解処理槽 ９０３：汚染ガス供給管 １００１：分解処理槽 １００３：汚染水供給管 １００９：処理済み水排水管（バッチ処理の場合は閉じ
る）
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１４年３月１５日（２００２．３．１
５）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３７】さらに、本発明は、光照射によってラジカ
ルを生成する性質を有する物質と汚染物質とを含む被処
理物に対して光を照射することによって前記汚染物質を
分解するための汚染物質分解装置であって、前記被処理
物を収めるための容器と、前記容器内に収納される前記
被処理物に対して光を照射するための光照射手段と、前
記光照射手段から照射される光を反射するための光反射
部とを有し、該光反射部が、該光照射手段からの光を反
射して被処理物に照射する位置にあることを特徴とする
汚染物質分解装置を包含する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３８】また本発明は、光照射によってラジカルを
生成する性質を有する物質と汚染物質とを含む被処理物
に対して光を照射することによって汚染物質を分解する
汚染物質分解方法であって、前記被処理物に対し光を照
射する工程と、前記工程において照射した光を反射させ
る反射工程と、前記反射工程による反射光を前記被処理
物に照射する工程とを有することを特徴とする汚染物質
分解方法も包含する。さらに、本発明は、被処理物を収
容する容器、及び前記被処理物に光を照射する光照射手
段を有する汚染物質分解装置であって、前記容器に光反
射面が形成されていることを特徴とする汚染物質分解装
置も包含する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０３４１
【補正方法】変更
【補正内容】
【０３４１】［実施例３８］ガス、塩素ガス直接送気、
対面反射板 図９の供給装置１０２、散気装置１０７、ポンプ１０
８、排水管１０９を取り除いて分解処理槽９０１全体が
気相になるようにし、分解処理槽９０１の底部に汚染ガ
ス供給管及び塩素ガス供給管を設置し、塩素ガス供給管
をレギュレータを介して塩素ガスボンベ（日本エアリキ
ード社、純度９９％）に接続して分解処理槽９０１内の
塩素ガス濃度がおよそ１００ｐｐｍＶになるように調製
して供給した以外は、実施例３２と同様の実験を行い、
排気ガス中および機能水廃液中のＴＣＥおよびＰＣＥ濃
度を定期的に測定した。
フロントページの続き (72)発明者 川口 正浩 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 Ｆターム(参考） 2E191 BA15 BC01 BD17 4D011 AA15 AD03 4G075 AA03 AA13 AA37 BA05 BD04 BD12 BD27 CA33 CA57 DA01 EA01 EB32 EC02 4H006 AA04 AA05 AC13 AC26 BA95 BB31 BD81 BE30 BE53

Claims (41)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 塩素と汚染物質とを含む被処理物に対し
    て光を照射することによって前記汚染物質を分解するた
    めの汚染物質分解装置であって、前記被処理物を収める
    ための容器と、前記容器内に収納される前記被処理物に
    対して光を照射するための光照射手段と、前記光照射手
    段から照射される光を反射するための光反射部とを有
    し、該光反射部が、該光照射手段からの光を反射して被
    処理物に照射する位置にあることを特徴とする汚染物質
    分解装置。
  2. 【請求項２】 該光反射部が、該光照射手段から被処理
    物を通り抜けた光を反射し再び被処理物に照射されるよ
    うに配置された請求項１記載の汚染物質分解装置。
  3. 【請求項３】 該容器が円筒形状であり、該光反射部は
    該容器に内向きに形成され、かつ、該光照射手段が、該
    容器の円筒中心軸位置に設けられた光源である請求項１
    または２に記載の汚染物質分解装置。
  4. 【請求項４】 該容器の内面が該光反射部である請求項
    ３に記載の汚染物質分解装置。
  5. 【請求項５】 該容器が可視光を透過する素材からな
    り、かつ、該光反射部が、該容器の外面に設けられた反
    射膜または該容器の外側に設けられた反射板である請求
    項３に記載の汚染物質分解装置。
  6. 【請求項６】 内向きに該光反射部が形成された楕円筒
    形状の反射板を有し、可視光を透過する素材からなる該
    容器が該反射板の一方の楕円焦点部に配設され、かつ、
    該光照射手段が該反射板の他方の楕円焦点部に配設され
    た光源である請求項１または２に記載の汚染物質分解装
    置。
  7. 【請求項７】 内向きに該光反射部が形成された円筒形
    状の反射板を有し、該反射板の円筒中心軸位置に可視光
    を透過する素材からなる該容器が配置され、該反射板と
    該容器との間に該光照射手段が配された請求項１または
    ２のいずれかに記載の汚染物質分解装置。
  8. 【請求項８】 該光反射部と該光照射手段との間に該容
    器が配された請求項１または２に記載の汚染物質分解装
    置。
  9. 【請求項９】 該光反射部が形成された板状の反射板と
    該光照射手段との間に可視光を透過する素材からなる該
    容器が配された請求項８に記載の汚染物質分解装置。
  10. 【請求項１０】 該容器の光照射手段に対向する部分の
    少なくとも一部は可視光を透過する素材で形成し、該容
    器の光照射手段に対向しない部分の少なくとも一部に該
    光反射部を設けて該容器の壁面の一部が反射板を兼用す
    る請求項８に記載の汚染物質分解装置。
  11. 【請求項１１】 塩素を含む気体を該容器に供給する塩
    素含有気供給手段と、汚染物質を含む空気を該容器に供
    給する汚染空気供給手段を備える請求項１〜１０のいず
    れかに記載の汚染物質分解装置。
  12. 【請求項１２】 該塩素含有気供給手段が、塩素ガス貯
    蔵容器を備える請求項１１記載の汚染物質分解装置。
  13. 【請求項１３】 該塩素含有気供給手段が、該塩素ガス
    貯蔵容器からの塩素ガスを減圧する減圧装置を備える請
    求項１２記載の汚染物質分解装置。
  14. 【請求項１４】 塩素を含む液を該容器に供給する塩素
    含有液供給手段と、汚染物質を含む液を該容器に供給す
    る汚染液供給手段とを備える請求項１〜１０のいずれか
    に記載の汚染物質分解装置。
  15. 【請求項１５】 塩素を含む液を該容器に供給する塩素
    含有液供給手段と、該容器内の塩素を含む液に空気を接
    触させるための曝気手段と、該曝気手段に空気を供給す
    る空気供給手段とを備える請求項１〜１０のいずれかに
    記載の汚染物質分解装置。
  16. 【請求項１６】 塩素を含む液を該容器に供給する塩素
    含有液供給手段と、該容器内の塩素を含む液に、汚染物
    質を含む空気を接触させるための曝気手段と、該曝気手
    段に該汚染物質を含む空気を供給する汚染空気供給手段
    とを備える請求項１〜１０のいずれかに記載の汚染物質
    分解装置。
  17. 【請求項１７】 該塩素含有液供給手段が、塩素ガス貯
    蔵容器を有する請求項１４〜１６のいずれかに記載の汚
    染物質分解装置。
  18. 【請求項１８】 該塩素含有液供給手段が、該塩素ガス
    貯蔵容器からの塩素ガスを減圧する減圧装置と、該減圧
    された塩素ガスを水に接触させる曝気手段を有する水槽
    とを備える請求項１７記載の汚染物質分解装置。
  19. 【請求項１９】 該光が、波長３００〜５００ｎｍの波
    長域の光を含む光である請求項１〜１８のいずれかに記
    載の汚染物質分解装置。
  20. 【請求項２０】 該光が、波長３５０〜４５０ｎｍの波
    長域の光を含む光である請求項１９に記載の汚染物質分
    解装置。
  21. 【請求項２１】 該光の照射量が１０μＷ／ｃｍ2〜１
    ０ｍＷ／ｃｍ2である請求項１〜２０のいずれかに記載
    の汚染物質分解装置。
  22. 【請求項２２】 該光の照射量が５０μＷ／ｃｍ2〜５
    ｍＷ／ｃｍ2である請求項２１に記載の汚染物質分解装
    置。
  23. 【請求項２３】 該汚染物質がハロゲン化脂肪族炭化水
    素である請求項１〜２２のいずれかに記載の汚染物質分
    解装置。
  24. 【請求項２４】 該ハロゲン化脂肪族炭化水素が塩素化
    脂肪族炭化水素である請求項２３に記載の汚染物質分解
    装置。
  25. 【請求項２５】 該塩素化脂肪族炭化水素がクロロエチ
    レン、１，１−ジクロロエチレン、ｃｉｓ−１，２−ジ
    クロロエチレン、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレ
    ン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロ
    ロメタン、ジクロロメタン、トリクロロメタンおよび
    １，１，１−トリクロロエタンからなる群より選ばれる
    １種以上の化合物である請求項２４記載の汚染物質分解
    装置。
  26. 【請求項２６】 塩素と汚染物質とを含む被処理物に対
    して光を照射することによって汚染物質を分解する汚染
    物質分解方法であって、前記被処理物に対し光を照射す
    る工程と、前記工程において照射した光を反射させる反
    射工程と、前記反射工程による反射光を前記被処理物に
    照射する工程とを有することを特徴とする汚染物質分解
    方法。
  27. 【請求項２７】 前記反射工程において、前記被処理物
    を通り抜けた光を反射する請求項２６記載の汚染物質分
    解方法。
  28. 【請求項２８】 塩素ガスと、汚染物質を含む空気とを
    混合して気体状の被処理物を得る工程を含む請求項２６
    または２７に記載の汚染物質分解方法。
  29. 【請求項２９】 該気体状の被処理物質中の塩素ガスの
    濃度が５体積ｐｐｍから１０００体積ｐｐｍである請求
    項２８に記載の汚染物質分解方法。
  30. 【請求項３０】 該気体状の被処理物質中の塩素ガスの
    濃度が２０体積ｐｐｍから１００体積ｐｐｍである請求
    項２９に記載の汚染物質分解方法。
  31. 【請求項３１】 塩素を含む液と、汚染物質を含む液と
    を混合して液状の被処理物を得る工程を含む請求項２６
    または２７に記載の汚染物質分解方法。
  32. 【請求項３２】 該混合した液状の被処理物中の溶存塩
    素の濃度が１ｍｇ／Ｌ以上である請求項３１に記載の汚
    染物質分解方法。
  33. 【請求項３３】 該混合した液状の被処理物中の溶存塩
    素の濃度が２．５ｍｇ／Ｌ以上である請求項３２に記載
    の汚染物質分解方法。
  34. 【請求項３４】 塩素を含む液に、空気を接触させるこ
    とにより塩素を含む空気を得、該塩素を含む空気と、汚
    染物質を含む空気とを混合して気体状の被処理物を得る
    工程を含む請求項２６または２７に記載の汚染物質分解
    方法。
  35. 【請求項３５】 塩素を含む液に、汚染物質を含む空気
    を接触させることにより気体状の被処理物を得る工程を
    含む請求項２６または２７に記載の汚染物質分解方法。
  36. 【請求項３６】 該気体状の被処理物質中の塩素ガスの
    濃度が５体積ｐｐｍから１０００体積ｐｐｍである請求
    項３４または３５に記載の汚染物質分解方法。
  37. 【請求項３７】 該気体状の被処理物質中の塩素ガスの
    濃度が５０体積ｐｐｍから１００体積ｐｐｍである請求
    項３６に記載の汚染物質分解方法。
  38. 【請求項３８】 該塩素を含む液中の溶存塩素の濃度が
    ２ｍｇ／Ｌから１５０ｍｇ／Ｌである請求項３１〜３７
    のいずれかに記載の汚染物質分解方法。
  39. 【請求項３９】 該塩素を含む液中の溶存塩素の濃度が
    ５ｍｇ／Ｌから１１０ｍｇ／Ｌである請求項３８に記載
    の汚染物質分解方法。
  40. 【請求項４０】 光照射によってラジカルを生成する性
    質を有する気体と汚染物質とを含む被処理物に対して光
    を照射することによって前記汚染物質を分解するための
    汚染物質分解装置であって、前記被処理物を収めるため
    の容器と、前記容器内に収納される前記被処理物に対し
    て光を照射するための光照射手段と、前記光照射手段か
    ら照射される光を反射するための光反射部とを有し、該
    光反射部が、該光照射手段からの光を反射して被処理物
    に照射する位置にあることを特徴とする汚染物質分解装
    置。
  41. 【請求項４１】 光照射によってラジカルを生成する性
    質を有する気体と汚染物質とを含む被処理物に対して光
    を照射することによって汚染物質を分解する汚染物質分
    解方法であって、前記被処理物に対し光を照射する工程
    と、前記工程において照射した光を反射させる反射工程
    と、前記反射工程による反射光を前記被処理物に照射す
    る工程とを有することを特徴とする汚染物質分解方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011152472A1 (ja) * 2010-06-02 2011-12-08 Fukutome Hirofumi リグニン質物質分解生成物・分解液を製造する装置および方法
JP2019188045A (ja) * 2018-04-27 2019-10-31 株式会社微酸研 空気除臭殺菌方法、空気除臭殺菌装置および空気除臭殺菌システム
CN111905560A (zh) * 2020-07-15 2020-11-10 张先琼 一种光催化氧化处理臭气处理装置及处理方法

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7018514B2 (en) * 2001-11-12 2006-03-28 Canon Kabushiki Kaisha Method and apparatus for processing substances to be decomposed
JP2003205221A (ja) * 2001-11-12 2003-07-22 Canon Inc 有機塩素化合物の処理方法及びそれに用いる装置、土壌の修復方法及びそれに用いる装置
CN100551467C (zh) * 2002-03-28 2009-10-21 兴研株式会社 有机化合物的分解装置
US9511344B2 (en) 2007-12-18 2016-12-06 Ultraviolet Sciences, Inc. Ultraviolet light treatment chamber
US9808544B2 (en) 2005-08-31 2017-11-07 Ultraviolet Sciences, Inc. Ultraviolet light treatment chamber
EP2399870B1 (en) * 2010-06-24 2015-03-11 Woongjin Coway Co., Ltd. Ultraviolet sterilization filter
GB2489964B (en) * 2011-04-13 2017-12-13 Palintest Ltd A device for removing dissolved gas or volatile component from a liquid sample
US8936734B2 (en) * 2012-12-20 2015-01-20 Sunpower Technologies Llc System for harvesting oriented light—water splitting
FR3070383B1 (fr) * 2017-08-31 2021-08-20 Solable Appareil de traitement d'eau
CN111282410B (zh) * 2020-02-19 2021-07-06 华中师范大学 电化学法降解气态污染物的装置及其方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2300273C3 (de) * 1972-01-07 1982-05-06 Toray Industries, Inc., Tokyo Vorrichtung für Abwasserreinigung
EP0605882B1 (en) * 1993-01-08 1996-12-11 Nec Corporation Method and apparatus for wet treatment of solid surfaces
JP3440313B2 (ja) * 1994-03-08 2003-08-25 エヌイーシーアメニプランテクス株式会社 汚染水の処理方法とその装置
DE4447035A1 (de) * 1994-12-28 1996-07-11 Eva Gotthold Verfahren und Vorrichtung zum Reduzieren des Nitratgehaltes von Wasser
US5525008A (en) * 1995-01-11 1996-06-11 Wilson; James T. Remediation apparatus and method for organic contamination in soil and groundwater
CA2235244C (en) * 1995-10-26 2005-03-22 Purepulse Technologies, Inc. Improved deactivation of organisms using high-intensity pulsed polychromatic light
AUPO566097A0 (en) * 1997-03-17 1997-04-10 Browne, John Phillip Fluid mixer and water oxygenator incorporating same
DE69942497D1 (de) * 1998-06-22 2010-07-29 Canon Kk Verfahren zur Zersetzung von halogenierten aliphatischen und aromatischen Verbindungen
FR2784674B1 (fr) * 1998-10-20 2001-07-20 Stephane Marty Dispositif d'epuration de fluide par impulsions photoniques

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011152472A1 (ja) * 2010-06-02 2011-12-08 Fukutome Hirofumi リグニン質物質分解生成物・分解液を製造する装置および方法
JP2019188045A (ja) * 2018-04-27 2019-10-31 株式会社微酸研 空気除臭殺菌方法、空気除臭殺菌装置および空気除臭殺菌システム
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CN111905560A (zh) * 2020-07-15 2020-11-10 张先琼 一种光催化氧化处理臭气处理装置及处理方法
CN111905560B (zh) * 2020-07-15 2022-11-08 深圳市方圆环保科技有限公司 一种光催化氧化处理臭气处理装置及处理方法

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