JP2002211110A - インクジェット記録用耐光性付与剤 - Google Patents
インクジェット記録用耐光性付与剤Info
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- JP2002211110A JP2002211110A JP2001007411A JP2001007411A JP2002211110A JP 2002211110 A JP2002211110 A JP 2002211110A JP 2001007411 A JP2001007411 A JP 2001007411A JP 2001007411 A JP2001007411 A JP 2001007411A JP 2002211110 A JP2002211110 A JP 2002211110A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 インクジェット記録における記録画像に充分
な耐光性を与える耐光性付与剤を提供する。 【解決手段】 下記一般式（Ｉ）で表される重合性ヒン
ダードアミン化合物と少なくとも１種の他の重合性モノ
マーとを共重合させて得られるポリマーからなるインク
ジェット記録用耐光性付与剤。 【化１】 （式中、Ｒ1 は、水素原子又は炭素数１〜８のアルキル
基を表し、Ｘは、オキシル基、−ＯＹ基を表し、Ｙは、
モノイソシアネート化合物から誘導される基を表す）
な耐光性を与える耐光性付与剤を提供する。 【解決手段】 下記一般式（Ｉ）で表される重合性ヒン
ダードアミン化合物と少なくとも１種の他の重合性モノ
マーとを共重合させて得られるポリマーからなるインク
ジェット記録用耐光性付与剤。 【化１】 （式中、Ｒ1 は、水素原子又は炭素数１〜８のアルキル
基を表し、Ｘは、オキシル基、−ＯＹ基を表し、Ｙは、
モノイソシアネート化合物から誘導される基を表す）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、インクジェット記
録における記録画像に、耐光性を付与するインクジェッ
ト用耐光性付与剤に関し、詳しくは、特定の重合性ヒン
ダードアミン化合物と他の重合性モノマーとを重合させ
て得られるポリマーからなるインクジェット記録用耐光
性付与剤に関する。
録における記録画像に、耐光性を付与するインクジェッ
ト用耐光性付与剤に関し、詳しくは、特定の重合性ヒン
ダードアミン化合物と他の重合性モノマーとを重合させ
て得られるポリマーからなるインクジェット記録用耐光
性付与剤に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】インク
ジェット記録方式は、ノズルから高速で射出したインク
液滴を被記録材料に付着させて記録する方式であり、フ
ルカラー化が容易なことや記録騒音が低い等の特徴を有
する。この方式では、インクジェットノズルに目詰まり
を生じないこと、鮮やかな色調を有すること等の条件が
要求されるので、使用するインクの染料は、耐候性に優
れた染料を選択することができないのが現状である。該
インク染料は、インク吸収性に富むように工夫された上
質紙や表面に多孔性顔料を塗工したインクジェット記録
用紙と共に用いられるが、インクジェット記録用紙に記
録された記録画像は耐候性が充分ではなく、特に光によ
り変色、褪色が生じる問題点がある。
ジェット記録方式は、ノズルから高速で射出したインク
液滴を被記録材料に付着させて記録する方式であり、フ
ルカラー化が容易なことや記録騒音が低い等の特徴を有
する。この方式では、インクジェットノズルに目詰まり
を生じないこと、鮮やかな色調を有すること等の条件が
要求されるので、使用するインクの染料は、耐候性に優
れた染料を選択することができないのが現状である。該
インク染料は、インク吸収性に富むように工夫された上
質紙や表面に多孔性顔料を塗工したインクジェット記録
用紙と共に用いられるが、インクジェット記録用紙に記
録された記録画像は耐候性が充分ではなく、特に光によ
り変色、褪色が生じる問題点がある。
【０００３】耐光性に優れた画像を得るために、特開平
８−１１２９６４号公報、特開平８−１３２７２７号公
報に開示されたように、記録層に水溶性インクの染料と
錯体を形成する金属塩の添加が挙げられている。しか
し、金属塩の添加だけでは、染料の発色性のバランスが
取りにくい問題がある。
８−１１２９６４号公報、特開平８−１３２７２７号公
報に開示されたように、記録層に水溶性インクの染料と
錯体を形成する金属塩の添加が挙げられている。しか
し、金属塩の添加だけでは、染料の発色性のバランスが
取りにくい問題がある。
【０００４】また、記録画像の耐光性を改良する目的で
インクジェット記録用紙に各種耐光性材料を使用する方
法が報告されている。例えば、特開昭５７−８７９８８
号公報、特開昭５７−８７９８９号公報には、紫外線吸
収剤や酸化防止剤の使用が報告されており、特公平４−
３４５１２号公報、特開２０００−２８０６１１号公報
には、ヒンダードアミン系化合物を含有することが開示
されているが、記録後の記録部の耐光性に関する性能が
充分ではなかった。
インクジェット記録用紙に各種耐光性材料を使用する方
法が報告されている。例えば、特開昭５７−８７９８８
号公報、特開昭５７−８７９８９号公報には、紫外線吸
収剤や酸化防止剤の使用が報告されており、特公平４−
３４５１２号公報、特開２０００−２８０６１１号公報
には、ヒンダードアミン系化合物を含有することが開示
されているが、記録後の記録部の耐光性に関する性能が
充分ではなかった。
【０００５】従って、本発明の目的は、インクジェット
記録における記録画像に充分な耐光性を与える耐光性付
与剤を提供することにある。
記録における記録画像に充分な耐光性を与える耐光性付
与剤を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、検討を重
ねた結果、耐光性を付与する特定のヒンダードアミン基
を有するポリマーが、上記課題を解決し得ることを知見
し、本発明に到達した。
ねた結果、耐光性を付与する特定のヒンダードアミン基
を有するポリマーが、上記課題を解決し得ることを知見
し、本発明に到達した。
【０００７】本発明は、上記知見に基づいてなされたも
のであり、下記一般式（Ｉ）で表される重合性ヒンダー
ドアミン化合物と少なくとも１種の他の重合性モノマー
とを共重合させて得られるポリマーからなるインクジェ
ット記録用耐光性付与剤、並びに該耐光性付与剤を用い
たインクジェット記録用紙及びインクジェット用インク
を提供するものである。
のであり、下記一般式（Ｉ）で表される重合性ヒンダー
ドアミン化合物と少なくとも１種の他の重合性モノマー
とを共重合させて得られるポリマーからなるインクジェ
ット記録用耐光性付与剤、並びに該耐光性付与剤を用い
たインクジェット記録用紙及びインクジェット用インク
を提供するものである。
【化４】 （式中、Ｒ1 は、水素原子又は炭素数１〜８のアルキル
基を表し、Ｘは、オキシル基、−ＯＹ基を表し、Ｙは、
モノイソシアネート化合物から誘導される基を表す）
基を表し、Ｘは、オキシル基、−ＯＹ基を表し、Ｙは、
モノイソシアネート化合物から誘導される基を表す）
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明に係る上記一般式（Ｉ）で
表される重合性ヒンダードアミン化合物において、Ｒ1
で表される炭素数１〜８のアルキル基としては、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブ
チル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、
第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、イ
ソヘプチル、第三ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチ
ル、第三オクチル、２−エチルヘキシル等が挙げられ
る。
表される重合性ヒンダードアミン化合物において、Ｒ1
で表される炭素数１〜８のアルキル基としては、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブ
チル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、
第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、イ
ソヘプチル、第三ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチ
ル、第三オクチル、２−エチルヘキシル等が挙げられ
る。
【０００９】また、Ｘで表される基は、オキシル基又は
モノイソシアネート化合物から誘導される−ＯＹ基であ
る。オキシル基とは、安定化されたラジカルＯ・のこと
であり、該基は、一般的なヒンダードアミン基を構成す
る基である水素基、アルキル基、アルコキシ基と比較し
て優れた耐光性付与能力を与えるものである。−ＯＹ基
は、オキシル基の前駆体であり、該基は、加熱等で容易
にオキシル基に変換される。Ｘが−ＯＹ基の場合も耐光
性付与効果を有しているので変換しないで用いてもよ
い。
モノイソシアネート化合物から誘導される−ＯＹ基であ
る。オキシル基とは、安定化されたラジカルＯ・のこと
であり、該基は、一般的なヒンダードアミン基を構成す
る基である水素基、アルキル基、アルコキシ基と比較し
て優れた耐光性付与能力を与えるものである。−ＯＹ基
は、オキシル基の前駆体であり、該基は、加熱等で容易
にオキシル基に変換される。Ｘが−ＯＹ基の場合も耐光
性付与効果を有しているので変換しないで用いてもよ
い。
【００１０】上記−ＯＹ基のＹを導入するモノイソシア
ネート化合物としては、例えば、メチルスルホニルイソ
シアネート、メチルイソシアネート、エチルイソシアネ
ート、プロピルイソシアネート、ブチルイソシアネー
ト、ヘキシルイソシアネート、オクチルイソシアネー
ト、ヘキサデシルイソシアネート、オクタデシルイソシ
アネート等の脂肪族イソシアネート類、フェニルイソシ
アネート、トリルイソシアネート、３，４−ジクロロフ
ェニルイソシアネート、ｍ−ニトロフェニルイソシアネ
ート、トルエンスルホニルイソシアネート等の芳香族イ
ソシアネート類、シクロヘキシルイソシアネート等の脂
環族イソシアネート類等が挙げられる。
ネート化合物としては、例えば、メチルスルホニルイソ
シアネート、メチルイソシアネート、エチルイソシアネ
ート、プロピルイソシアネート、ブチルイソシアネー
ト、ヘキシルイソシアネート、オクチルイソシアネー
ト、ヘキサデシルイソシアネート、オクタデシルイソシ
アネート等の脂肪族イソシアネート類、フェニルイソシ
アネート、トリルイソシアネート、３，４−ジクロロフ
ェニルイソシアネート、ｍ−ニトロフェニルイソシアネ
ート、トルエンスルホニルイソシアネート等の芳香族イ
ソシアネート類、シクロヘキシルイソシアネート等の脂
環族イソシアネート類等が挙げられる。
【００１１】また、トリレンジイソシアネート、ジフェ
ニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、ｐ−フェニ
レンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、
１，５−ナフチレンジイソシアネート、３，３’−ジメ
チルジフェニル−４，４’−ジイソシアネート、ジアニ
シジンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイ
ソシアネート等の芳香族ジイソシアネート類、イソホロ
ンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−４，
４’−ジイソシアネート、トランス−１，４−シクロヘ
キシルジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネー
ト等の脂環式ジイソシアネート類、１，６−ヘキサメチ
レンジイソシアネート、２，２，４及び／又は（２，
４，４）−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネー
ト、リシンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネー
ト類等のジイソシアネート化合物の一方のイソシアネー
ト基をイソシアネート官能性基を一つ有する化合物で封
止したものが挙げられる。
ニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、ｐ−フェニ
レンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、
１，５−ナフチレンジイソシアネート、３，３’−ジメ
チルジフェニル−４，４’−ジイソシアネート、ジアニ
シジンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイ
ソシアネート等の芳香族ジイソシアネート類、イソホロ
ンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−４，
４’−ジイソシアネート、トランス−１，４−シクロヘ
キシルジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネー
ト等の脂環式ジイソシアネート類、１，６−ヘキサメチ
レンジイソシアネート、２，２，４及び／又は（２，
４，４）−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネー
ト、リシンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネー
ト類等のジイソシアネート化合物の一方のイソシアネー
ト基をイソシアネート官能性基を一つ有する化合物で封
止したものが挙げられる。
【００１２】上記のイソシアネート官能性基を一つ有す
る化合物としては、水酸基を有するものとしてアルコー
ル類、フェノール類が挙げられ、アミノ基を有するもの
として脂肪族アミン、芳香族アミン等が挙げられ、カル
ボキシル基を有するものとして脂肪族有機酸、芳香族有
機酸等が挙げられる。
る化合物としては、水酸基を有するものとしてアルコー
ル類、フェノール類が挙げられ、アミノ基を有するもの
として脂肪族アミン、芳香族アミン等が挙げられ、カル
ボキシル基を有するものとして脂肪族有機酸、芳香族有
機酸等が挙げられる。
【００１３】上記のモノイソシアネート化合物のなかで
も、脂肪族イソシアネート、芳香族イソシアネート、脂
環族イソシアネートが低コストであり、除去が容易であ
るので好ましく、脂肪族イソシアネート、芳香族イソシ
アネートがより好ましい。
も、脂肪族イソシアネート、芳香族イソシアネート、脂
環族イソシアネートが低コストであり、除去が容易であ
るので好ましく、脂肪族イソシアネート、芳香族イソシ
アネートがより好ましい。
【００１４】本発明に係る上記一般式（Ｉ）で表される
重合性ヒンダードアミン化合物において、Ｘがオキシル
基のものは、１−オキシル−２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジノールと（２−アルキル）アクリル
酸とのエステル化反応により得られ、Ｘが−ＯＹ基のも
のは、Ｘがオキシル基のもののオキシル基を還元により
１−ヒドロキシ基に変換した後、モノイソシアネート化
合物と反応させることで得られる。
重合性ヒンダードアミン化合物において、Ｘがオキシル
基のものは、１−オキシル−２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジノールと（２−アルキル）アクリル
酸とのエステル化反応により得られ、Ｘが−ＯＹ基のも
のは、Ｘがオキシル基のもののオキシル基を還元により
１−ヒドロキシ基に変換した後、モノイソシアネート化
合物と反応させることで得られる。
【００１５】本発明に係る一般式（Ｉ）で表されるモノ
マーと共重合可能な他の重合性モノマーとしては、末端
に少なくとも１つ二重結合を有するものが好ましい。例
えば、α−エチレン、プロピレン等のオレフィン類、ス
チレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン等のスチ
レン類、酢酸ビニル、酢酸アリル等の脂肪酸のエチレン
性不飽和エステル類、アクリル酸、メタクリル酸、２−
アルキルプロペン酸等の不飽和カルボン酸類及びその
塩、メチルアクリレ−ト、エチルアクリレ−ト、ベンジ
ルアクリレ−ト、ヒドロキシエチルアクリレ−ト、アル
コキシポリエチレングリコ−ルアクリレ−ト、アクリロ
イルモルホリン等のアクリル酸エステル類、メチルメタ
クリレ−ト、エチルメタクリレ−ト、ベンジルメタクリ
レ−ト、ヒドロキシエチルメタクリレ−ト、アルコキシ
ポリエチレングリコ−ルメタクリレ−ト、メタクリロイ
ルモルホリン等のメタクリル酸エステル類、アクリルア
ミド、Ｎ−アルキルアクリルアミド、ジアルキルアクリ
ルアミド等のアクリルアミド類、メタクリルアミド、Ｎ
−アルキルメタクリルアミド、ジアルキルメタクリルア
ミド等のメタクリルアミド類、４−ビニルピリジン、ア
クリロニトリル、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルイ
ミダゾ−ル、４−ビニルピリジン等のモノエチレン性不
飽和化合物、ブタジエン、イソプレン等のジエン類、ジ
ビニルベンゼン、ペンタエリスリト−ルテトラメタクリ
レ−ト等の多エチレン性不飽和化合物、フタル酸ジアリ
ル等のアリル化合物、２−（２' −ヒドロキシ−５' −
メタクリロキシエチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾ−ル、２−（２' −ヒドロキシ−５' −アクリロキシ
エチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾ−ル等の紫外
線吸収性を有する官能基を含むモノマー等、ジアルキル
ジアリルアンモニウム塩、（メタ）アクリル酸４級アン
モニウム、（メタ）アクリル酸アミド４級アミノエステ
ル、（メタ）アクリル酸アミド４級アンモニウム、ビニ
ルベンジルアルキルアンモニウム等の４級窒素原子を有
する重合性モノマー又はその塩、ビニルベンゼンスルホ
ン酸ナトリウム、ビニルトルエンスルホン酸ナトリウム
等のビニルベンゼンスルホン酸の塩等を挙げることがで
きる。但し、これらのモノマーは全てのものが、全ての
条件で使用できるのではなく、使用される条件に応じて
適宜選択して使用される。
マーと共重合可能な他の重合性モノマーとしては、末端
に少なくとも１つ二重結合を有するものが好ましい。例
えば、α−エチレン、プロピレン等のオレフィン類、ス
チレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン等のスチ
レン類、酢酸ビニル、酢酸アリル等の脂肪酸のエチレン
性不飽和エステル類、アクリル酸、メタクリル酸、２−
アルキルプロペン酸等の不飽和カルボン酸類及びその
塩、メチルアクリレ−ト、エチルアクリレ−ト、ベンジ
ルアクリレ−ト、ヒドロキシエチルアクリレ−ト、アル
コキシポリエチレングリコ−ルアクリレ−ト、アクリロ
イルモルホリン等のアクリル酸エステル類、メチルメタ
クリレ−ト、エチルメタクリレ−ト、ベンジルメタクリ
レ−ト、ヒドロキシエチルメタクリレ−ト、アルコキシ
ポリエチレングリコ−ルメタクリレ−ト、メタクリロイ
ルモルホリン等のメタクリル酸エステル類、アクリルア
ミド、Ｎ−アルキルアクリルアミド、ジアルキルアクリ
ルアミド等のアクリルアミド類、メタクリルアミド、Ｎ
−アルキルメタクリルアミド、ジアルキルメタクリルア
ミド等のメタクリルアミド類、４−ビニルピリジン、ア
クリロニトリル、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルイ
ミダゾ−ル、４−ビニルピリジン等のモノエチレン性不
飽和化合物、ブタジエン、イソプレン等のジエン類、ジ
ビニルベンゼン、ペンタエリスリト−ルテトラメタクリ
レ−ト等の多エチレン性不飽和化合物、フタル酸ジアリ
ル等のアリル化合物、２−（２' −ヒドロキシ−５' −
メタクリロキシエチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾ−ル、２−（２' −ヒドロキシ−５' −アクリロキシ
エチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾ−ル等の紫外
線吸収性を有する官能基を含むモノマー等、ジアルキル
ジアリルアンモニウム塩、（メタ）アクリル酸４級アン
モニウム、（メタ）アクリル酸アミド４級アミノエステ
ル、（メタ）アクリル酸アミド４級アンモニウム、ビニ
ルベンジルアルキルアンモニウム等の４級窒素原子を有
する重合性モノマー又はその塩、ビニルベンゼンスルホ
ン酸ナトリウム、ビニルトルエンスルホン酸ナトリウム
等のビニルベンゼンスルホン酸の塩等を挙げることがで
きる。但し、これらのモノマーは全てのものが、全ての
条件で使用できるのではなく、使用される条件に応じて
適宜選択して使用される。
【００１６】上記の好ましい重合性モノマーの中でも下
記一般式（Ａ）〜（Ｊ）で表されるものが、インクジェ
ット記録画像に影響を与えることなく、優れた耐光性付
与効果を有するのでより好ましい。
記一般式（Ａ）〜（Ｊ）で表されるものが、インクジェ
ット記録画像に影響を与えることなく、優れた耐光性付
与効果を有するのでより好ましい。
【００１７】
【化５】 （式中、Ｒ2 は、各々独立に水素原子又は炭素数１〜８
のアルキル基を表し、Ｒ3 は、炭素数１〜８のアルキル
基を表し、Ｒ4 は、炭素数１〜４のアルキル基を表し、
Ｒ5 は、炭素数１〜４のアルキレン基又は炭素数２〜４
のアルキレンオキシ基を表し、Ｒ6 は、水酸基、炭素数
１〜４のアルキル基又は−Ｎ（Ｒ’）2を表し、Ｒ’
は、Ｒ3 と同様の基を表し、ｎは、１〜１０の整数を表
し、Ａｎ-はアニオンを表し、Ｃａｔ+ はカチオンを表
す）
のアルキル基を表し、Ｒ3 は、炭素数１〜８のアルキル
基を表し、Ｒ4 は、炭素数１〜４のアルキル基を表し、
Ｒ5 は、炭素数１〜４のアルキレン基又は炭素数２〜４
のアルキレンオキシ基を表し、Ｒ6 は、水酸基、炭素数
１〜４のアルキル基又は−Ｎ（Ｒ’）2を表し、Ｒ’
は、Ｒ3 と同様の基を表し、ｎは、１〜１０の整数を表
し、Ａｎ-はアニオンを表し、Ｃａｔ+ はカチオンを表
す）
【００１８】上記式において、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ’で表さ
れる炭素数１〜８のアルキル基としては、上記記載のＲ
1 と同様のものが挙げられ、Ｒ4 又はＲ6 で表される炭
素数１〜４のアルキル基としては、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチ
ル、イソブチルが挙げられ、Ｒ5 で表される炭素数１〜
４のアルキレン基としては、メチレン、エチレン、メチ
ルエチレン、ジメチルエチレン、プロピレン、メチルプ
ロピレン、２−メチルプロピレン、ブチレンが挙げら
れ、Ａｎ- で表されるアニオンとしては、塩素アニオ
ン、臭素アニオン、ヨウ素アニオン、フッ素アニオン等
のハロゲンアニオン；過塩素酸アニオン、塩素酸アニオ
ン、チオシアン酸アニオン、六フッ化リンアニオン、六
フッ化アンチモンアニオン、四フッ化ホウ素アニオン等
の無機系アニオン、ベンゼンスルホン酸アニオン、トル
エンスルホン酸アニオン、トリフルオロメタンスルホン
酸アニオン等の有機スルホン酸アニオン；オクチルリン
酸アニオン、ドデシルリン酸アニオン、オクタデシルリ
ン酸アニオン、フェニルリン酸アニオン、ノニルフェニ
ルリン酸アニオン、２，２’−メチレンビス（４，６−
ジ第三ブチルフェニル）ホスホン酸アニオン等の有機リ
ン酸系アニオン等が挙げられ、Ｃａｔ+ で表されるカチ
オンとしては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウ
ム等の１属元素イオン、４級アンモニウムカチオン等が
挙げられる。
れる炭素数１〜８のアルキル基としては、上記記載のＲ
1 と同様のものが挙げられ、Ｒ4 又はＲ6 で表される炭
素数１〜４のアルキル基としては、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチ
ル、イソブチルが挙げられ、Ｒ5 で表される炭素数１〜
４のアルキレン基としては、メチレン、エチレン、メチ
ルエチレン、ジメチルエチレン、プロピレン、メチルプ
ロピレン、２−メチルプロピレン、ブチレンが挙げら
れ、Ａｎ- で表されるアニオンとしては、塩素アニオ
ン、臭素アニオン、ヨウ素アニオン、フッ素アニオン等
のハロゲンアニオン；過塩素酸アニオン、塩素酸アニオ
ン、チオシアン酸アニオン、六フッ化リンアニオン、六
フッ化アンチモンアニオン、四フッ化ホウ素アニオン等
の無機系アニオン、ベンゼンスルホン酸アニオン、トル
エンスルホン酸アニオン、トリフルオロメタンスルホン
酸アニオン等の有機スルホン酸アニオン；オクチルリン
酸アニオン、ドデシルリン酸アニオン、オクタデシルリ
ン酸アニオン、フェニルリン酸アニオン、ノニルフェニ
ルリン酸アニオン、２，２’−メチレンビス（４，６−
ジ第三ブチルフェニル）ホスホン酸アニオン等の有機リ
ン酸系アニオン等が挙げられ、Ｃａｔ+ で表されるカチ
オンとしては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウ
ム等の１属元素イオン、４級アンモニウムカチオン等が
挙げられる。
【００１９】また、上記の本発明に係る一般式（Ｉ）で
表されるモノマーと共重合可能な他の重合性モノマー中
に酸性基、塩基性基が含まれている場合、これらは中和
処理されていてもよい。中和処理は、モノマーの段階で
行ってもよく、重合後に行ってもよい。
表されるモノマーと共重合可能な他の重合性モノマー中
に酸性基、塩基性基が含まれている場合、これらは中和
処理されていてもよい。中和処理は、モノマーの段階で
行ってもよく、重合後に行ってもよい。
【００２０】一般式（Ｉ）で表される重合性ヒンダード
アミン化合物と少なくとも１種の他の重合性モノマーと
を共重合させる方法としては、種々の重合方法、例えば
溶液重合、乳化重合、逆相乳化重合、懸濁重合、塊状重
合、沈殿重合等が挙げられ、これらの重合の開始方法
は、ラジカル重合法、熱重合法、カチオン重合法、アニ
オン重合法、光又は放射線を照射する方法等がある。本
発明に係る共重合体の場合は、イオン性基の有無に拘わ
らず重合が可能であるのでラジカル重合法が好ましい。
アミン化合物と少なくとも１種の他の重合性モノマーと
を共重合させる方法としては、種々の重合方法、例えば
溶液重合、乳化重合、逆相乳化重合、懸濁重合、塊状重
合、沈殿重合等が挙げられ、これらの重合の開始方法
は、ラジカル重合法、熱重合法、カチオン重合法、アニ
オン重合法、光又は放射線を照射する方法等がある。本
発明に係る共重合体の場合は、イオン性基の有無に拘わ
らず重合が可能であるのでラジカル重合法が好ましい。
【００２１】本発明のインクジェット記録用耐光性付与
剤において、その分子量は、特に制限されることはな
く、使用に適するように適宜選択することができる。数
平均分子量が７００より小さいと揮散して耐光性効果の
持続性が損なわれる場合があり、２５０００を超えると
溶解性や分散性が悪化して作業性に問題を生じる場合が
あるので７００〜２５０００が好ましく、１０００〜２
００００がより好ましい。
剤において、その分子量は、特に制限されることはな
く、使用に適するように適宜選択することができる。数
平均分子量が７００より小さいと揮散して耐光性効果の
持続性が損なわれる場合があり、２５０００を超えると
溶解性や分散性が悪化して作業性に問題を生じる場合が
あるので７００〜２５０００が好ましく、１０００〜２
００００がより好ましい。
【００２２】また、本発明のインクジェット記録用耐光
性付与剤において、光安定性を付与する基である下記式
（II）で表されるヒンダードアミン基の含有量は特に制
限されることなく任意の値を選択できる。耐光性付与剤
に対して１０質量％より小さいと充分な耐光性が発揮さ
れない場合があり、７５質量％より大きいと着色して記
録画像の色調に影響を及ぼす場合があるので１０〜７５
質量％が好ましく、２０〜６０質量％がより好ましい。
性付与剤において、光安定性を付与する基である下記式
（II）で表されるヒンダードアミン基の含有量は特に制
限されることなく任意の値を選択できる。耐光性付与剤
に対して１０質量％より小さいと充分な耐光性が発揮さ
れない場合があり、７５質量％より大きいと着色して記
録画像の色調に影響を及ぼす場合があるので１０〜７５
質量％が好ましく、２０〜６０質量％がより好ましい。
【００２３】
【化６】 （式中、Ｘは、一般式（Ｉ）と同様の基を表す）
【００２４】本発明のインクジェット記録用耐光性付与
剤においてその使用方法は、記録画像に対して耐光性を
与え得る方法であれば、特に制限を受けず、インクジェ
ット用インクに用いてもよく、インクジェット記録が施
される紙材、布材、樹脂材、木材等の被記録基材に用い
てもよく、記録された画像に後から用いてもよい。例え
ば、インクジェット記録用紙に用いる場合は、インク受
理層を形成する塗工剤に添加使用して用いることができ
る。
剤においてその使用方法は、記録画像に対して耐光性を
与え得る方法であれば、特に制限を受けず、インクジェ
ット用インクに用いてもよく、インクジェット記録が施
される紙材、布材、樹脂材、木材等の被記録基材に用い
てもよく、記録された画像に後から用いてもよい。例え
ば、インクジェット記録用紙に用いる場合は、インク受
理層を形成する塗工剤に添加使用して用いることができ
る。
【００２５】本発明の耐光性付与剤は、記録画像の耐光
性をさらに上げるために用いられる酸化防止剤及び紫外
線吸収剤やその他の添加剤と併用して用いてもよい。
性をさらに上げるために用いられる酸化防止剤及び紫外
線吸収剤やその他の添加剤と併用して用いてもよい。
【００２６】上記の酸化防止剤としては、熱や酸素によ
る酸化を防止するフェノール系、リン系、硫黄系の酸化
防止剤等が挙げられる。フェノール系酸化防止剤として
は、モノフェノール系：２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−
クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−
ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、ステアリル−
β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート、ビスフェノール系：２，２’−メ
チレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノー
ル）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−
ブチルフェノール）、４，４’−チオビス（３−メチル
−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデン
ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール等、高分
子型フェノール系：１，１，３−トリス（２−メチル−
４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェノール）ブタン、
１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼ
ン、テトラキス−（メチレン−３−（３’５’−ジ−ｔ
−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト）メタン、ビス（３，３’−ビス−（４’−ヒドロキ
シ−３’−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド）
グリコールエステル、１，３，５−トリス（３’，５’
−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンジル）−Ｓ−
トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオ
ン、トコフェノール（類）等が挙げられる。硫黄系酸化
防止剤としては、ジラウリル３，３’−チオジプロピオ
ネート、ジミリスチル３，３’−チオジプロピオネー
ト、ジステアリル３，３’−チオジプロピオネート等が
挙げられる。リン系酸化防止剤としては、トリフェニル
ホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フ
ェニルジイソデシルホスファイト、４，４’−ブチリデ
ン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニルジトリ
デシル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテト
ライルビス（オクタデシルホスファイト）、トリス（ノ
ニルフェニル）ホスファイト、トリス（モノ及び／又は
ジノニルフェニル）ホスファイト、ジイソデシルペンタ
エリスリトールジフォスファイト、９，１０−ジヒドロ
−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−
オキサイド、１０−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ
−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド、
１０−デシロキシ−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−
１０−ホスファフェナントレン、トリス（２，４−ジ−
ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオ
ペンタンテトライルビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェ
ニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトラ
イルビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニ
ル）ホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ
−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト等の公知
のものが挙げられる。
る酸化を防止するフェノール系、リン系、硫黄系の酸化
防止剤等が挙げられる。フェノール系酸化防止剤として
は、モノフェノール系：２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−
クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−
ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、ステアリル−
β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート、ビスフェノール系：２，２’−メ
チレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノー
ル）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−
ブチルフェノール）、４，４’−チオビス（３−メチル
−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデン
ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール等、高分
子型フェノール系：１，１，３−トリス（２−メチル−
４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェノール）ブタン、
１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼ
ン、テトラキス−（メチレン−３−（３’５’−ジ−ｔ
−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト）メタン、ビス（３，３’−ビス−（４’−ヒドロキ
シ−３’−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド）
グリコールエステル、１，３，５−トリス（３’，５’
−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンジル）−Ｓ−
トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオ
ン、トコフェノール（類）等が挙げられる。硫黄系酸化
防止剤としては、ジラウリル３，３’−チオジプロピオ
ネート、ジミリスチル３，３’−チオジプロピオネー
ト、ジステアリル３，３’−チオジプロピオネート等が
挙げられる。リン系酸化防止剤としては、トリフェニル
ホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フ
ェニルジイソデシルホスファイト、４，４’−ブチリデ
ン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニルジトリ
デシル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテト
ライルビス（オクタデシルホスファイト）、トリス（ノ
ニルフェニル）ホスファイト、トリス（モノ及び／又は
ジノニルフェニル）ホスファイト、ジイソデシルペンタ
エリスリトールジフォスファイト、９，１０−ジヒドロ
−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−
オキサイド、１０−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ
−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド、
１０−デシロキシ−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−
１０−ホスファフェナントレン、トリス（２，４−ジ−
ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオ
ペンタンテトライルビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェ
ニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトラ
イルビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニ
ル）ホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ
−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト等の公知
のものが挙げられる。
【００２７】紫外線吸収剤としては、有機系、無機系の
ものが適宜選択される。有機系の紫外線吸収剤として
は、サリチル酸系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾ
ール系、シアノアクリレート系等が使用可能である。サ
リチル酸系としては、フェニルサリシレート、ｐ−ｔｅ
ｒｔ−ブチルフェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェ
ニルサリシレート等が挙げられる。ベンゾフェノン系と
しては、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒ
ドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキ
シ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−
４−ドデシルオキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒド
ロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒ
ドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２−
ジヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノ
ン等が挙げられる。ベンゾトリアゾール系としては、２
−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’
−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチル
フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−
（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ・ｔｅｒｔ−ブチ
ルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロ
キシ−３’，５’−ジ・ｔｅｒｔ−アミルフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−〔２’−ヒドロキシ−３’−
（３”，４”，５”，６”−テトラヒドロフタルイミド
メチル）−５’−メチルフェニル〕ベンゾトリアゾー
ル、２，２−メチレンビス〔４−（１，１，３，３−テ
トラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール
−２−イル）フェノール〕等が挙げられる。シアノアク
リレート系としては、２−エチルヘキシル−２−シアノ
−３，３’−ジフェニルアクリレート、エチル−２−シ
アノ−３，３’−ジフェニルアクリレート等の公知のも
のが挙げられる。無機系の紫外線吸収剤としては、酸化
亜鉛、酸化セリウム、酸化チタン、酸化イットリウム等
の遷移金属酸化物が適宜使用される。
ものが適宜選択される。有機系の紫外線吸収剤として
は、サリチル酸系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾ
ール系、シアノアクリレート系等が使用可能である。サ
リチル酸系としては、フェニルサリシレート、ｐ−ｔｅ
ｒｔ−ブチルフェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェ
ニルサリシレート等が挙げられる。ベンゾフェノン系と
しては、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒ
ドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキ
シ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−
４−ドデシルオキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒド
ロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒ
ドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２−
ジヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノ
ン等が挙げられる。ベンゾトリアゾール系としては、２
−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’
−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチル
フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−
（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ・ｔｅｒｔ−ブチ
ルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロ
キシ−３’，５’−ジ・ｔｅｒｔ−アミルフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−〔２’−ヒドロキシ−３’−
（３”，４”，５”，６”−テトラヒドロフタルイミド
メチル）−５’−メチルフェニル〕ベンゾトリアゾー
ル、２，２−メチレンビス〔４−（１，１，３，３−テ
トラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール
−２−イル）フェノール〕等が挙げられる。シアノアク
リレート系としては、２−エチルヘキシル−２−シアノ
−３，３’−ジフェニルアクリレート、エチル−２−シ
アノ−３，３’−ジフェニルアクリレート等の公知のも
のが挙げられる。無機系の紫外線吸収剤としては、酸化
亜鉛、酸化セリウム、酸化チタン、酸化イットリウム等
の遷移金属酸化物が適宜使用される。
【００２８】その他の添加剤としては、分散剤、増粘
剤、消泡剤、着色剤、帯電防止剤、防腐剤、顔料等が挙
げられる。
剤、消泡剤、着色剤、帯電防止剤、防腐剤、顔料等が挙
げられる。
【００２９】
【実施例】以下、製造例、評価例等により、本発明を具
体的に説明するが、本発明はこれらにより何ら制限され
るものではない。
体的に説明するが、本発明はこれらにより何ら制限され
るものではない。
【００３０】［合成例１］ ＜重合性ヒンダードアミン化合物（Ｎ−フェニルカルバ
モイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジルメタクリレート）の合成＞窒素置換した反応用
フラスコに、１−オキシル−２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジノール２００ｇ、メチルメタクリレ
ート４６５ｇ、ＩＰソルベント１６２０を４００ｍｌを
仕込み、８０℃でオルトチタン酸イソプロピル３ｇを滴
下し、生成するメタノールと過剰分のメチルメタクリレ
ートとを共沸留去しながら８０〜１２０℃で１０時間反
応させた。室温まで冷却後、反応系にトルエン５００ｍ
ｌ、水５００ｍｌを加え撹拌して、生成した酸化チタン
を濾別し、水相を廃棄して得られた有機相を２回水洗し
た後、脱溶媒して融点７９℃の中間体の結晶２０９ｇを
得た。窒素置換した反応用フラスコに、この中間体２０
０ｇ、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド６００ｇを仕込
み、アスコルビン酸ナトリウム９９ｇを溶解した２５％
水溶液を滴下し、１時間撹拌した。４℃以下で脱気した
水を２０００ｇ加えて析出させた固相を濾取し、冷水洗
浄した後、７０℃で真空乾燥し、融点８５℃の結晶を得
た。
モイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジルメタクリレート）の合成＞窒素置換した反応用
フラスコに、１−オキシル−２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジノール２００ｇ、メチルメタクリレ
ート４６５ｇ、ＩＰソルベント１６２０を４００ｍｌを
仕込み、８０℃でオルトチタン酸イソプロピル３ｇを滴
下し、生成するメタノールと過剰分のメチルメタクリレ
ートとを共沸留去しながら８０〜１２０℃で１０時間反
応させた。室温まで冷却後、反応系にトルエン５００ｍ
ｌ、水５００ｍｌを加え撹拌して、生成した酸化チタン
を濾別し、水相を廃棄して得られた有機相を２回水洗し
た後、脱溶媒して融点７９℃の中間体の結晶２０９ｇを
得た。窒素置換した反応用フラスコに、この中間体２０
０ｇ、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド６００ｇを仕込
み、アスコルビン酸ナトリウム９９ｇを溶解した２５％
水溶液を滴下し、１時間撹拌した。４℃以下で脱気した
水を２０００ｇ加えて析出させた固相を濾取し、冷水洗
浄した後、７０℃で真空乾燥し、融点８５℃の結晶を得
た。
【００３１】窒素置換した反応用フラスコに、上記で得
た結晶１９５ｇ、トルエン８００ｍｌを仕込み、フェニ
ルイソシアネート１１５ｇを滴下し、２５℃で１時間撹
拌した。得られた沈殿を濾別し、これをメタノールで再
結晶して結晶２６０ｇを得た。
た結晶１９５ｇ、トルエン８００ｍｌを仕込み、フェニ
ルイソシアネート１１５ｇを滴下し、２５℃で１時間撹
拌した。得られた沈殿を濾別し、これをメタノールで再
結晶して結晶２６０ｇを得た。
【００３２】この結晶について、以下の分析を行い、Ｎ
−フェニルカルバモイルオキシ−２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジルメタクリレートであることを
確認した。
−フェニルカルバモイルオキシ−２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジルメタクリレートであることを
確認した。
【００３３】（分析結果） 融点：１８１℃、ＩＲ（ｃｍ-1）：３２５６（−Ｎ
Ｈ）、１７０９（ＣＯＯＲ）、１５９７（ビニル）、Ｈ
−ＮＭＲ：（１．２〜２．３、ｍ、１９Ｈ）（５．０〜
５．４、ｍ、１Ｈ）、（５．６〜６．１、ｍ、２Ｈ）
（７．０〜７．５、ｍ、５Ｈ）（８．７、ｂｒ、１Ｈ）
Ｈ）、１７０９（ＣＯＯＲ）、１５９７（ビニル）、Ｈ
−ＮＭＲ：（１．２〜２．３、ｍ、１９Ｈ）（５．０〜
５．４、ｍ、１Ｈ）、（５．６〜６．１、ｍ、２Ｈ）
（７．０〜７．５、ｍ、５Ｈ）（８．７、ｂｒ、１Ｈ）
【００３４】［製造例１］ （ポリマー１の合成）窒素置換した反応用フラスコに、
Ｎ−ブチルカルバモイルオキシ−２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジルメタクリレート３０．０ｇ、
アクリル酸１３．２ｇ、ジメチルホルムアミド１７５
ｇ、２，２’−アゾビスイソブチルニトリル１．３５ｇ
を仕込み、８０℃で４時間撹拌した後、反応液をヘキサ
ン９００ｍｌに撹拌しながら滴下して析出させた固相を
取り出し、３７．２ｇのポリマー１を得た。
Ｎ−ブチルカルバモイルオキシ−２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジルメタクリレート３０．０ｇ、
アクリル酸１３．２ｇ、ジメチルホルムアミド１７５
ｇ、２，２’−アゾビスイソブチルニトリル１．３５ｇ
を仕込み、８０℃で４時間撹拌した後、反応液をヘキサ
ン９００ｍｌに撹拌しながら滴下して析出させた固相を
取り出し、３７．２ｇのポリマー１を得た。
【００３５】［製造例２］ （ポリマー２の合成）上記で得られたポリマー１ ２
７．０ｇをジメチルホルムアミド１００ｇに溶解して１
２０℃で１０時間撹拌した。室温まで冷却した後、反応
液を酢酸エチル５００ｍｌに滴下して析出させた固相を
取り出し、２０．１ｇのポリマー２を得た。
７．０ｇをジメチルホルムアミド１００ｇに溶解して１
２０℃で１０時間撹拌した。室温まで冷却した後、反応
液を酢酸エチル５００ｍｌに滴下して析出させた固相を
取り出し、２０．１ｇのポリマー２を得た。
【００３６】［製造例３］ （ポリマー３の合成）上記で得られたポリマー２ １
１．０ｇを水に溶かした水溶液に炭酸ナトリウム２．２
ｇを加え反応させた後、水を留去して得られた固相を取
り出し、１１．３ｇのポリマー３を得た。
１．０ｇを水に溶かした水溶液に炭酸ナトリウム２．２
ｇを加え反応させた後、水を留去して得られた固相を取
り出し、１１．３ｇのポリマー３を得た。
【００３７】［製造例４］ （ポリマー４の合成）窒素置換した反応用フラスコに、
Ｎ−ブチルカルバモイルオキシ−２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジルメタクリレート１０．０ｇ、
アクリルアミド２．１ｇ、エチルメチルケトン５０ｇ、
２，２’−アゾビスイソブチルニトリル０．２ｇを仕込
み、８０℃で８時間撹拌した後、室温まで冷却した後、
反応液をヘキサン５００ｍｌに滴下して析出させた固相
を取り出し、９．９ｇのポリマー４を得た。
Ｎ−ブチルカルバモイルオキシ−２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジルメタクリレート１０．０ｇ、
アクリルアミド２．１ｇ、エチルメチルケトン５０ｇ、
２，２’−アゾビスイソブチルニトリル０．２ｇを仕込
み、８０℃で８時間撹拌した後、室温まで冷却した後、
反応液をヘキサン５００ｍｌに滴下して析出させた固相
を取り出し、９．９ｇのポリマー４を得た。
【００３８】［製造例５］ （ポリマー５の合成）上記で得られたポリマー４ ７．
３ｇをイソブチルメチルケトン５０ｇに溶解させて、空
気中１２０℃で１０時間撹拌した。室温まで冷却した
後、反応液をヘキサン３００ｍｌに滴下して析出させた
固相を取り出し、５．８ｇのポリマー５を得た。
３ｇをイソブチルメチルケトン５０ｇに溶解させて、空
気中１２０℃で１０時間撹拌した。室温まで冷却した
後、反応液をヘキサン３００ｍｌに滴下して析出させた
固相を取り出し、５．８ｇのポリマー５を得た。
【００３９】［製造例６］ （ポリマー６の合成）窒素置換した反応用フラスコに、
Ｎ−ブチルカルバモイルオキシ−２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジルメタクリレート１０．０ｇ、
４−ビニルピリジン３．１ｇ、エチルメチルケトン７０
ｇ、２，２’−アゾビスイソブチルニトリル０．２ｇを
仕込み、８０℃で８時間撹拌した後、室温まで冷却した
後、反応液をヘキサン３００ｍｌに滴下して析出させた
固相を取り出し、１１．２ｇのポリマー６を得た。
Ｎ−ブチルカルバモイルオキシ−２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジルメタクリレート１０．０ｇ、
４−ビニルピリジン３．１ｇ、エチルメチルケトン７０
ｇ、２，２’−アゾビスイソブチルニトリル０．２ｇを
仕込み、８０℃で８時間撹拌した後、室温まで冷却した
後、反応液をヘキサン３００ｍｌに滴下して析出させた
固相を取り出し、１１．２ｇのポリマー６を得た。
【００４０】［製造例７］ （ポリマー７の合成）窒素置換した反応フラスコに、上
記で得られたポリマー６ ６．２ｇ、ジメチルホルムア
ミド５０ｇ、１−ブロモプロパン３．０ｇを仕込み、５
０℃で６時間撹拌した後、系内を空気で置換して１２０
℃、１０時間撹拌した。室温まで冷却した後、反応液を
ヘキサン３００ｍｌに滴下して析出させた固相を取り出
し、６．０ｇのポリマー７を得た。
記で得られたポリマー６ ６．２ｇ、ジメチルホルムア
ミド５０ｇ、１−ブロモプロパン３．０ｇを仕込み、５
０℃で６時間撹拌した後、系内を空気で置換して１２０
℃、１０時間撹拌した。室温まで冷却した後、反応液を
ヘキサン３００ｍｌに滴下して析出させた固相を取り出
し、６．０ｇのポリマー７を得た。
【００４１】［製造例８］ （ポリマー８の合成）窒素置換した反応フラスコに、Ｎ
−フェニルカルバモイルオキシ−２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジルメタクリレート２５．０ｇ、
２−（２−メトキシエトキシ）エチルメタクリレート１
３．１ｇ、エチルメチルケトン７５ｇ、２，２’−アゾ
ビスイソブチルニトリル０．４６ｇを仕込み、８０℃で
８時間撹拌した後、室温まで冷却した後、反応液をヘキ
サン３００ｍｌに滴下し析出させた固相を取り出し、イ
ソブチルメチルケトンに溶解させ空気中１２０℃で１０
時間撹拌した。室温まで冷却した後、反応液を酢酸ヘキ
サン３００ｍｌに滴下して析出させた固相を取り出し、
２４．６ｇのポリマー８を得た
−フェニルカルバモイルオキシ−２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジルメタクリレート２５．０ｇ、
２−（２−メトキシエトキシ）エチルメタクリレート１
３．１ｇ、エチルメチルケトン７５ｇ、２，２’−アゾ
ビスイソブチルニトリル０．４６ｇを仕込み、８０℃で
８時間撹拌した後、室温まで冷却した後、反応液をヘキ
サン３００ｍｌに滴下し析出させた固相を取り出し、イ
ソブチルメチルケトンに溶解させ空気中１２０℃で１０
時間撹拌した。室温まで冷却した後、反応液を酢酸ヘキ
サン３００ｍｌに滴下して析出させた固相を取り出し、
２４．６ｇのポリマー８を得た
【００４２】＜ポリマー１〜８の分析＞上記製造例１〜
８により得られたポリマー１〜８について、数平均分子
量、ＣＨＮによる窒素含有量から算出したヒンダードア
ミン基( ＨＡＬＳ) 含量、ＩＲ分析をそれぞれ行った。
結果を表１に記す。
８により得られたポリマー１〜８について、数平均分子
量、ＣＨＮによる窒素含有量から算出したヒンダードア
ミン基( ＨＡＬＳ) 含量、ＩＲ分析をそれぞれ行った。
結果を表１に記す。
【００４３】
【表１】
【００４４】［評価例１］下記の記録画像について、耐
光性試験（キセノンランプ、６３℃）による色差を測定
した。結果を表２に示す。
光性試験（キセノンランプ、６３℃）による色差を測定
した。結果を表２に示す。
【００４５】（実施例１）上記の製造例で得られたイン
クジェット記録用耐光性付与剤であるポリマー３、７、
８の２質量％水溶液、ポリマー５の２質量％メタノール
溶液を、市販のインクジェット用紙にスプレーで塗布、
自然乾燥させて作成した実施例用試験用紙をインクジェ
ットプリンター（商品名：ＤｅｓｋＪｅｔ８１５Ｃ、ヒ
ューレトパッカード社製）にセットし、マゼンダ、イエ
ロー、シアンをプリントした。
クジェット記録用耐光性付与剤であるポリマー３、７、
８の２質量％水溶液、ポリマー５の２質量％メタノール
溶液を、市販のインクジェット用紙にスプレーで塗布、
自然乾燥させて作成した実施例用試験用紙をインクジェ
ットプリンター（商品名：ＤｅｓｋＪｅｔ８１５Ｃ、ヒ
ューレトパッカード社製）にセットし、マゼンダ、イエ
ロー、シアンをプリントした。
【００４６】（比較例１）上記製造例において、Ｎ−ブ
チルカルバモイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジルメタクリレートの代わりに、１−メ
トキシ−２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジ
ルメタクリレートを用いたもの（比較例１−１〜１−
４：表中ポリマーＡ−３、ポリマーＡ−５、ポリマーＡ
−７、ポリマーＡ−８）、Ｎ−ブチルカルバモイルオキ
シ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメ
タクリレートの代わりに、１，２，２，６，６−ペンタ
メチル−４−ピペリジルメタクリレートを用いたもの
（比較例１−５〜１−８：表中ポリマーＢ−３、ポリマ
ーＢ−５、ポリマーＢ−７、ポリマーＢ−８）、及び耐
光性付与剤を無添加のもの（比較例１−９）について、
実施例１と同様に２質量％の溶液を塗布した比較例用試
験用紙にマゼンダ、イエロー、シアンをプリントした。
チルカルバモイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジルメタクリレートの代わりに、１−メ
トキシ−２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジ
ルメタクリレートを用いたもの（比較例１−１〜１−
４：表中ポリマーＡ−３、ポリマーＡ−５、ポリマーＡ
−７、ポリマーＡ−８）、Ｎ−ブチルカルバモイルオキ
シ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメ
タクリレートの代わりに、１，２，２，６，６−ペンタ
メチル−４−ピペリジルメタクリレートを用いたもの
（比較例１−５〜１−８：表中ポリマーＢ−３、ポリマ
ーＢ−５、ポリマーＢ−７、ポリマーＢ−８）、及び耐
光性付与剤を無添加のもの（比較例１−９）について、
実施例１と同様に２質量％の溶液を塗布した比較例用試
験用紙にマゼンダ、イエロー、シアンをプリントした。
【００４７】
【表２】
【００４８】［評価例２］以下の方法によりインク受容
層を形成したインクジェット記録用紙を用いて、上記評
価例１と同様に、マゼンダ、シアンについて評価した。
結果を表３に示す。
層を形成したインクジェット記録用紙を用いて、上記評
価例１と同様に、マゼンダ、シアンについて評価した。
結果を表３に示す。
【００４９】（実施例２）非晶性シリカ（商品名：Ｍｉ
ｚｕｋａｓｉｌ Ｐ−７８Ｄ、水澤化学工業社製）１０
０質量部、ＰＶＡ（商品名：ＰＶＡ−Ｒ−１１３０、ク
ラレ社製）４０質量部、ポリマー７を２０質量部を固形
分１０質量％になるように水を加え溶解させた塗工液を
調製して、乾燥質量で７ｇ／ｍ2 になるよう普通紙にダ
イコーターで塗工して実施例試験用紙を作成した。
ｚｕｋａｓｉｌ Ｐ−７８Ｄ、水澤化学工業社製）１０
０質量部、ＰＶＡ（商品名：ＰＶＡ−Ｒ−１１３０、ク
ラレ社製）４０質量部、ポリマー７を２０質量部を固形
分１０質量％になるように水を加え溶解させた塗工液を
調製して、乾燥質量で７ｇ／ｍ2 になるよう普通紙にダ
イコーターで塗工して実施例試験用紙を作成した。
【００５０】（比較例２）ポリマー７の代わりに、上記
したポリマーＡ−７又はＢ−７を用い、実施例２と同様
に比較例用試験用紙を作成した。
したポリマーＡ−７又はＢ−７を用い、実施例２と同様
に比較例用試験用紙を作成した。
【００５１】
【表３】
【００５２】［評価例３］以下の方法によりインク受容
層を形成したインクジェット記録用紙を用いて、上記評
価例１と同様に、マゼンダ、シアンについて評価した。
結果を表４に示す。
層を形成したインクジェット記録用紙を用いて、上記評
価例１と同様に、マゼンダ、シアンについて評価した。
結果を表４に示す。
【００５３】（実施例３）下記方法で得られたカチオン
系水性ウレタン１００質量部にポリビニルアルコール１
００質量部、非晶性シリカ（商品名：Ｍｉｚｕｋａｓｉ
ｌ Ｐ−７８Ｄ、水澤化学工業社製）３０質量部、表４
に記載のポリマー１５質量部を加えた後、水で希釈して
固形分１０質量％に調整して、乾燥質量で１０ｇ／ｍ2
になるよう普通紙にダイコーターで塗工して実施例用試
験用紙を作成した。
系水性ウレタン１００質量部にポリビニルアルコール１
００質量部、非晶性シリカ（商品名：Ｍｉｚｕｋａｓｉ
ｌ Ｐ−７８Ｄ、水澤化学工業社製）３０質量部、表４
に記載のポリマー１５質量部を加えた後、水で希釈して
固形分１０質量％に調整して、乾燥質量で１０ｇ／ｍ2
になるよう普通紙にダイコーターで塗工して実施例用試
験用紙を作成した。
【００５４】（カチオン系水性ポリウレタンの調製）分
子量１０００のポリエチレングリコールモノメチルエー
テルとヘキサメチレンジイソシアネートのヌレート三量
化物とから得られるノニオン性ジイソシアネート２．７
モル、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート１０．
８モル、１，６−ヘキサンジオールとアジピン酸とイソ
フタル酸から得られる分子量１７５０のポリエステルポ
リール２．０モル及びＮ−メチルジエタノールアミン
７．０を仕込み窒素気流下、Ｎ−メチルピロリドン溶媒
中、９０℃で２時間反応させて得られたプレポリマー溶
液を、Ｎ−メチルジエタノールアミンと同モルの酢酸で
中和し、この溶液を固形分３０質量％となるように５５
０ｐｐｍの消抱剤（フッ素系界面活性剤）水溶液に滴下
して、カチオン系水性ポリウレタンを製造した。
子量１０００のポリエチレングリコールモノメチルエー
テルとヘキサメチレンジイソシアネートのヌレート三量
化物とから得られるノニオン性ジイソシアネート２．７
モル、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート１０．
８モル、１，６−ヘキサンジオールとアジピン酸とイソ
フタル酸から得られる分子量１７５０のポリエステルポ
リール２．０モル及びＮ−メチルジエタノールアミン
７．０を仕込み窒素気流下、Ｎ−メチルピロリドン溶媒
中、９０℃で２時間反応させて得られたプレポリマー溶
液を、Ｎ−メチルジエタノールアミンと同モルの酢酸で
中和し、この溶液を固形分３０質量％となるように５５
０ｐｐｍの消抱剤（フッ素系界面活性剤）水溶液に滴下
して、カチオン系水性ポリウレタンを製造した。
【００５５】（比較例３）実施例３から耐光性付与剤を
除いて比較例用試験用紙を作成した。
除いて比較例用試験用紙を作成した。
【００５６】
【表４】
【００５７】［評価例４］下記の記録画像について、上
記評価例１と同様に耐光性試験を行った。結果を表５に
示す。
記評価例１と同様に耐光性試験を行った。結果を表５に
示す。
【００５８】（実施例４）記録用耐光性付与剤であるポ
リマー３を１質量％になるようにインクジェットプリン
ター（商品名：ＤｅｓｋＪｅｔ８１５Ｃ、ヒューレトパ
ッカード社製）のインクに添加し、マゼンダ、シアンを
プリントした。
リマー３を１質量％になるようにインクジェットプリン
ター（商品名：ＤｅｓｋＪｅｔ８１５Ｃ、ヒューレトパ
ッカード社製）のインクに添加し、マゼンダ、シアンを
プリントした。
【００５９】（比較例４）ポリマー３の代わりにポリマ
ーＡ−３を用いたもの、耐光性付与剤を無添加のものに
ついて同様にマゼンダ、シアンをプリントした。
ーＡ−３を用いたもの、耐光性付与剤を無添加のものに
ついて同様にマゼンダ、シアンをプリントした。
【００６０】
【表５】
【００６１】
【発明の効果】本発明によって、インクジェット記録に
おける記録画像に充分な耐光性を与える耐光性付与剤を
提供できる。
おける記録画像に充分な耐光性を与える耐光性付与剤を
提供できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉川 和美 埼玉県浦和市白幡５丁目２番13号 旭電化 工業株式会社内 Ｆターム(参考） 2C056 EA13 FC02 FC06 2H086 BA01 BA15 BA21 BA34 4J039 AD09 AD10 AD12 AD23 EA35 GA24
Claims (7)
- 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）で表される重合性ヒン
ダードアミン化合物と少なくとも１種の他の重合性モノ
マーとを共重合させて得られるポリマーからなるインク
ジェット記録用耐光性付与剤。 【化１】 （式中、Ｒ1 は、水素原子又は炭素数１〜８のアルキル
基を表し、Ｘは、オキシル基、−ＯＹ基を表し、Ｙは、
モノイソシアネート化合物から誘導される基を表す） - 【請求項２】 上記一般式（Ｉ）において、Ｘで表され
る基がオキシル基である請求項１に記載のインクジェッ
ト記録用耐光性付与剤。 - 【請求項３】 上記の他の重合性モノマーが下記一般式
（Ａ）〜（Ｊ）から選ばれるものである請求項１又は２
に記載のインクジェット記録用耐光性付与剤。 【化２】 （式中、Ｒ2 は、各々独立に水素原子又は炭素数１〜８
のアルキル基を表し、Ｒ3 は、炭素数１〜８のアルキル
基を表し、Ｒ4 は、炭素数１〜４のアルキル基を表し、
Ｒ5 は、炭素数１〜４のアルキレン基又は炭素数２〜４
のアルキレンオキシ基を表し、Ｒ6 は、水酸基、炭素数
１〜４のアルキル基又は−Ｎ（Ｒ’）2を表し、Ｒ’
は、Ｒ3 と同様の基を表し、ｎは、１〜１０の整数を表
し、Ａｎ-はアニオンを表し、Ｃａｔ+ はカチオンを表
す） - 【請求項４】 数平均分子量が７００〜２５０００の範
囲にある請求項１〜３のいずれかに記載のインクジェッ
ト記録用耐光性付与剤。 - 【請求項５】 下記式（II）で表されるヒンダードアミ
ン基の含有量が、耐光性付与剤に対して１０〜７５質量
％である請求項１〜４のいずれかに記載のインクジェッ
ト記録用耐光性付与剤。 【化３】 （式中、Ｘは、一般式（Ｉ）と同様の基を表す） - 【請求項６】 請求項１〜５のいずれかに記載のインク
ジェット記録用耐光性付与剤を含有する塗工剤によりイ
ンク受理層が形成されているインクジェット記録用紙。 - 【請求項７】 請求項１〜５のいずれかに記載のインク
ジェット記録用耐光性付与剤を含有したインクジェット
記録用インク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001007411A JP4412854B2 (ja) | 2001-01-16 | 2001-01-16 | インクジェット記録用耐光性付与剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001007411A JP4412854B2 (ja) | 2001-01-16 | 2001-01-16 | インクジェット記録用耐光性付与剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002211110A true JP2002211110A (ja) | 2002-07-31 |
| JP4412854B2 JP4412854B2 (ja) | 2010-02-10 |
Family
ID=18875165
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001007411A Expired - Lifetime JP4412854B2 (ja) | 2001-01-16 | 2001-01-16 | インクジェット記録用耐光性付与剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4412854B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005083021A1 (ja) * | 2004-03-01 | 2005-09-09 | Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd. | 水性一液コーティング剤用ポリウレタンエマルジョンの製造方法 |
| WO2012165521A1 (ja) * | 2011-05-31 | 2012-12-06 | 三菱レイヨン株式会社 | 硬化用組成物および重合体 |
-
2001
- 2001-01-16 JP JP2001007411A patent/JP4412854B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005083021A1 (ja) * | 2004-03-01 | 2005-09-09 | Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd. | 水性一液コーティング剤用ポリウレタンエマルジョンの製造方法 |
| JP2005247897A (ja) * | 2004-03-01 | 2005-09-15 | Nippon Polyurethane Ind Co Ltd | 水性一液コーティング剤用ポリウレタンエマルジョンの製造方法 |
| KR100782095B1 (ko) * | 2004-03-01 | 2007-12-04 | 닛폰 폴리우레탄 고교 가부시키가이샤 | 원팩형 수성 코팅제용 폴리우레탄 에멀션의 제조 방법 |
| US7405258B2 (en) | 2004-03-01 | 2008-07-29 | Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd. | Method for producing polyurethane emulsion for aqueous one-component coating agent |
| JP4524794B2 (ja) * | 2004-03-01 | 2010-08-18 | 日本ポリウレタン工業株式会社 | 水性一液コーティング剤用ポリウレタンエマルジョンの製造方法 |
| CN1930257B (zh) * | 2004-03-01 | 2012-06-13 | 日本聚氨酯工业株式会社 | 水性单组分涂布剂用聚氨酯乳液的制造方法 |
| WO2012165521A1 (ja) * | 2011-05-31 | 2012-12-06 | 三菱レイヨン株式会社 | 硬化用組成物および重合体 |
| CN103596994A (zh) * | 2011-05-31 | 2014-02-19 | 三菱丽阳株式会社 | 固化用组合物和聚合物 |
| JPWO2012165521A1 (ja) * | 2011-05-31 | 2015-02-23 | 三菱レイヨン株式会社 | 硬化用組成物および重合体 |
| TWI568752B (zh) * | 2011-05-31 | 2017-02-01 | 三菱麗陽股份有限公司 | 硬化用組成物、聚合物的製造方法、樹脂片材以及硬化被膜 |
| US9663603B2 (en) | 2011-05-31 | 2017-05-30 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Curable composition and polymer |
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| JP4412854B2 (ja) | 2010-02-10 |
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