JP2002205921A - ネイルエナメルリムーバー - Google Patents

ネイルエナメルリムーバー

Info

Publication number
JP2002205921A
JP2002205921A JP2001002994A JP2001002994A JP2002205921A JP 2002205921 A JP2002205921 A JP 2002205921A JP 2001002994 A JP2001002994 A JP 2001002994A JP 2001002994 A JP2001002994 A JP 2001002994A JP 2002205921 A JP2002205921 A JP 2002205921A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
nail enamel
enamel remover
nail
diisobutyl adipate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001002994A
Other languages
English (en)
Inventor
Hitoshi Muto
仁志 武藤
Masamitsu Kato
雅光 加藤
Shuji Suzuki
修二 鈴木
Satoru Nakada
悟 中田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nonogawa Shoji Ltd
Original Assignee
Nonogawa Shoji Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nonogawa Shoji Ltd filed Critical Nonogawa Shoji Ltd
Priority to JP2001002994A priority Critical patent/JP2002205921A/ja
Publication of JP2002205921A publication Critical patent/JP2002205921A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cosmetics (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】爪を痛めることなく且つ爪の周囲の皮膚に対す
る刺激も少ない、マニキュアのネイルエナメルを除去す
るネイルエナメルリムーバーを提供する。 【構成】本願発明はフェニルエチルアルコール、シネオ
ール、シトラール、ジヒドロジャスモン酸メチル、ジャ
スモン酸メチル、酢酸リナリル、酢酸ベンジル、アジピ
ン酸ジイソブチルおよびこれらの成分を含有する天然精
油のうち1種もしくは2種以上および/または低級アル
コールを主溶剤とすることを特徴としたネイルエナメル
リムーバーである。本願発明は従来のアセトン、酢酸エ
チルを主溶剤とするネイルエナメルリムーバーと比較し
て、同等の除去能力を有し、かつ爪を痛めず適度な使用
感を得られるネイルエナメルリムーバーである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、爪を痛めることな
く且つ爪の周囲の皮膚に対する刺激も少ない、マニキュ
アなどのネイルエナメルを除去するネイルエナメルリム
ーバーに関する。
【0002】
【従来の技術】従来、一般に使用されているネイルエナ
メルリムーバーはアセトン、酢酸エチル等を主溶剤とし
ている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、アセト
ン、酢酸エチル等の低沸点・高揮発性の有機溶剤は、爪
の脱脂をまねき、また、爪の周囲の皮膚を刺激して発
赤、乾燥化、白化等をおこし、また皮膚上の微細な傷を
刺激してつっぱり感、痛み、かゆみ等の不快感および不
快な刺激臭を使用者に与える等の弊害があった。そして
爪の脱脂や皮膚刺激を防止するために従来は加脂肪剤の
添加が広く行われていたが未だ本質的な解決には至って
いない。
【0004】
【課題を解決するための手段】そこで我々は上記問題点
を解決するために案出された、本ネイルエナメルリムー
バーはフェニルエチルアルコール、シネオール、シトラ
ール、ジヒドロジャスモン酸メチル、ジャスモン酸メチ
ル、酢酸リナリル、酢酸ベンジル、アジピン酸ジイソブ
チルおよびこれらの成分を含有する天然精油のうち1種
もしくは2種以上および/または低級アルコールを主溶
剤とすることを特徴とした構成である。また商品化にお
いてこれらの成分は芳香を有するため、その嗜好性から
好ましくはフェニルエチルアルコール、シネオール、シ
トラール、ジヒドロジャスモン酸メチル、酢酸リナリ
ル、アジピン酸ジイソブチルおよびこれらの成分を含有
する天然精油、更に香りの強度が小さいことからさらに
好ましくはジヒドロジャスモン酸メチル、アジピン酸ジ
イソブチルが望ましい。ここで低級アルコールとして
は、エタノール、プロパノール、イソプロパノール等で
あるが揮発性の問題から好ましくはエタノールが望まし
い。低級アルコールはアセトン、酢酸エチル等の有機溶
剤と比較すると沸点は高く、爪の脱脂をまねかない。ま
た、爪の周囲の皮膚への刺激も少なく、発赤、乾燥化、
白化等をおこしにくい。また使用感を改善するなどの目
的で、更に、非イオン性界面活性剤、油性物質、その他
一般にネイルエナメル、ネイルエナメルリムーバーの他
一般化粧料に使用することができる各種成分を配合して
も良い。
【0005】非イオン界面活性剤としては、例えば、ソ
ルビタン脂肪酸エステル類、グリセリン脂肪酸エステ
ル、プロピレングリコール脂肪酸エステル類、脂肪酸ア
ルキルグルコシド、POEソルビタン脂肪酸エステル
類、POE脂肪酸エステル類、POE・POPアルキル
エーテル類、ショ糖脂肪酸エステル、シリコーン系界面
活性剤等が挙げられる。
【0006】油性物質としては、油脂、ロウ類、炭化水
素油、エステル類、シリコーン油、フルオロシリコン
油、パーフルオロポリエーテル油等、公知の皮膚化粧用
油性物質であれば、どんなものでも良い。
【0007】その他の配合成分に関しても、上記の成分
に限らず、通常化粧料に用いられている保湿剤、動物・
植物抽出液、色素類、香料、樹脂等の公知の成分を配合
することができる。
【0008】本願発明のネイルエナメルリムーバーの構
成要素であるフェニルエチルアルコール、シネオール、
シトラール、ジヒドロジャスモン酸メチル、ジャスモン
酸メチル、酢酸リナリル、酢酸ベンジル、アジピン酸ジ
イソブチルは通常香料成分もしくは香料溶剤として使用
されているものである。フェニルエチルアルコールはα
体、β体があり特にβ体は香料成分として非常に多く使
用されているものであるがどちらも使用可能である。天
然においてはローズ油、ゼラニウム油、ネロリ油などに
多く含有されている。シネオールは異性体として1,8
−シネオールと1,4−シネオールがあり、1,8−シ
ネオールはローズマリー油やユーカリ油などに、1,4
−シネオールはオレンジ油やレモン油、ライム油などに
含まれるものであるがどちらも使用することができる。
シトラールは異性体としてシス体、トランス体が存在
し、通常天然中には混合して存在する。どちらも使用可
能であり天然中にはレモングラス油やレモン油などに含
まれている。ジャスモン酸メチル、ジヒドロジャスモン
酸メチルはジャスミン油などに、酢酸リナリルはラベン
ダー油やベルガモット油などに含まれる。酢酸ベンジル
もジャスミン油やヒヤシンス油の他、リンゴや桃などの
フルーツ油中にも含まれる。アジピン酸ジイソブチルは
通常香料溶剤として使用される。
【0009】フェニルエチルアルコール、ジヒドロジャ
スモン酸メチル、ジャスモン酸メチル、酢酸リナリル、
酢酸ベンジル、アジピン酸ジイソブチルの各々を単体に
て、爪に塗布され十分乾いたネイルエナメルを除去する
際、十分な除去能力があることが確認できたが、爪の周
辺部や甘皮との境界部における顔料等ネイルエナメルを
完全に除去することが困難であったこと、またやや油性
感が残る。エタノール単体のみにて同様にネイルエナメ
ルを除去する際、ネイルエナメルを除去することはでき
るが爪の周辺部が乾燥しやや刺激を生じることもある。
よってこれらの配合量はフェニルエチルアルコール、ジ
ヒドロジャスモン酸メチル、ジャスモン酸メチル、酢酸
リナリル、酢酸ベンジル、アジピン酸ジイソブチルおよ
び/または低級アルコールは合計で50〜90重量%の
範囲で発明が実現する。また、好ましくは成分10〜4
0重量%(天然精油に関してはこれらの成分の含有量が
10〜40重量%となる量)および低級アルコール40
〜80重量%を配合することがより好ましい。両成分を
適量に混合することにより浸透しやすくなり爪の周辺部
や甘皮との境界部における顔料等の除去能力が向上す
る。また油性感を抑えることができ、使用感の改善がで
きる。
【0010】尚、これらの成分を配合したネイルエナメ
ルリムーバーは、一般的なネイルエナメルリムーバーと
同等の除去能力を有し、また安全性も十分である。
【0011】
【実施例】次に本願発明のネイルエナメルリムーバーの
実施例を示す。尚、本発明はこれに限定されるわけでは
ない。これらは常温撹拌にて調製される。
【0012】・実施例1 フェニルエチルアルコール 80重量% 95%エタノール 5重量% アセトン 15重量% ・実施例2 1,8−シネオール 15重量% 95%エタノール 75重量% ジメチルポリシロキサン 10重量% ・実施例3 ジヒドロジャスモン酸メチル 5重量% アジピン酸ジイソブチル 5重量% 95%エタノール 40重量% 酢酸エチル 25重量% アセトン 25重量% ・実施例4 ジヒドロジャスモン酸メチル 20重量% アジピン酸ジイソブチル 20重量% イソプロパノール 40重量% 1,3−ブチレングリコール 10重量% 酢酸エチル 5重量% アセトン 5重量% ・実施例5 酢酸リナリル 40重量% 1,3−ブチレングリコール 5重量% ポリエチレングリコール 10重量% POE付加ラウリルエーテル 0.25重量% 精製水 4.75重量% 95%エタノール 40重量% ・実施例6 ユーカリオイル 20重量% (1,8−シネオール70%含有) 95%エタノール 60重量% ポリエチレングリコール 10重量% 精製水 10重量% ・実施例7 ローズマリー油 10重量% (1,8−シネオール30%含有) ラベンダー油 30重量% (酢酸リナリル50%含有) イソプロパノール 40重量% 酢酸エチル 10重量% アセトン 10重量% 以上実施例は、すべてネイル除去能力、使用後の爪の状
態、刺激、ベタツキ等の使用感等良好なものであった。
【0013】
【発明の効果】本発明の効果を以下の実験により証明す
る。
【0014】表1に示す処方でネイルエナメルリムーバ
ーを調製し、10名の官能パネルにより、エナメル除去
能力、使用後の爪の状態(脱脂力)、官能評価(刺激)
について評価した。
【0015】
【表1】
【0016】以上の結果から、本願発明のネイルエナメ
ルリムーバーは従来のアセトンを主溶剤としたネイルエ
ナメルリムーバーと比較して、同等の除去能力を有し、
かつ脱脂力が少なく爪の周囲に刺激を与えないため爪を
痛めない等の効果を有する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中田 悟 愛知県名古屋市西区鳥見町2−7 日本メ ナード化粧品株式会社総合研究所 Fターム(参考) 4C083 AA122 AC071 AC072 AC101 AC102 AC122 AC151 AC152 AC182 AC211 AC212 AC341 AC342 AC351 AC352 AC371 AC372 AD052 AD152 AD531 AD532 CC29 EE06 EE07 EE10

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】フェニルエチルアルコール、シネオール、
    シトラール、ジヒドロジャスモン酸メチル、ジャスモン
    酸メチル、酢酸リナリル、酢酸ベンジル、アジピン酸ジ
    イソブチル、およびこれらの成分を含有する天然精油の
    うち1種または2種以上および/または低級アルコール
    を合計50〜90重量%含有することを特徴とするネイ
    ルエナメルリムーバー。
  2. 【請求項2】フェニルエチルアルコール、シネオール、
    シトラール、ジヒドロジャスモン酸メチル、酢酸リナリ
    ル、アジピン酸ジイソブチルおよびこれらの成分を含有
    する天然精油のうち1種または2種以上および/または
    低級アルコールを合計50〜90重量%含有することを
    特徴とするネイルエナメルリムーバー。
  3. 【請求項3】ジヒドロジャスモン酸メチルおよび/また
    はアジピン酸ジイソブチルおよび/または低級アルコー
    ルを合計50〜90重量%含有することを特徴とするネ
    イルエナメルリムーバー。
  4. 【請求項4】フェニルエチルアルコール、シネオール、
    シトラール、ジヒドロジャスモン酸メチル、ジャスモン
    酸メチル、酢酸リナリル、酢酸ベンジル、アジピン酸ジ
    イソブチル、およびこれらの成分を含有する天然精油の
    うち1種もしくは2種以上を10〜40重量%および低
    級アルコールを40〜80重量%に設定した請求項1の
    ネイルエナメルリムーバー。
  5. 【請求項5】フェニルエチルアルコール、シネオール、
    シトラール、ジヒドロジャスモン酸メチル、酢酸リナリ
    ル、アジピン酸ジイソブチル、およびこれらの成分を含
    有する天然精油のうち1種もしくは2種以上を10〜4
    0重量%および低級アルコールを40〜80重量%に設
    定した請求項2のネイルエナメルリムーバー。
  6. 【請求項6】ジヒドロジャスモン酸メチルおよび/また
    はアジピン酸ジイソブチル10〜40重量%および低級
    アルコールを40〜80重量%に設定した請求項3のネ
    イルエナメルリムーバー。
  7. 【請求項7】低級アルコールがエタノールである請求項
    1〜6に記載のネイルエナメルリムーバー。
JP2001002994A 2001-01-10 2001-01-10 ネイルエナメルリムーバー Pending JP2002205921A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001002994A JP2002205921A (ja) 2001-01-10 2001-01-10 ネイルエナメルリムーバー

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001002994A JP2002205921A (ja) 2001-01-10 2001-01-10 ネイルエナメルリムーバー

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002205921A true JP2002205921A (ja) 2002-07-23

Family

ID=18871408

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001002994A Pending JP2002205921A (ja) 2001-01-10 2001-01-10 ネイルエナメルリムーバー

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002205921A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006070067A (ja) * 2004-08-31 2006-03-16 Kao Corp 難揮散成分の揮散方法
JP2007119419A (ja) * 2005-10-31 2007-05-17 Pola Chem Ind Inc 爪ケア用の化粧料
US9284274B2 (en) 2005-12-07 2016-03-15 Ramot At Tel-Aviv University Ltd. Chemical derivatives of jasmonate, pharmaceutical compositions and methods of use thereof
US9284252B2 (en) 2009-06-09 2016-03-15 Sepal Pharma Ltd. Use of jasmonate ester derivatives for treating benign hyperproliferative skin disorders
JP2020066603A (ja) * 2018-10-25 2020-04-30 学校法人五島育英会 ジェルネイル用除去剤

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006070067A (ja) * 2004-08-31 2006-03-16 Kao Corp 難揮散成分の揮散方法
JP2007119419A (ja) * 2005-10-31 2007-05-17 Pola Chem Ind Inc 爪ケア用の化粧料
US9284274B2 (en) 2005-12-07 2016-03-15 Ramot At Tel-Aviv University Ltd. Chemical derivatives of jasmonate, pharmaceutical compositions and methods of use thereof
US9284252B2 (en) 2009-06-09 2016-03-15 Sepal Pharma Ltd. Use of jasmonate ester derivatives for treating benign hyperproliferative skin disorders
JP2020066603A (ja) * 2018-10-25 2020-04-30 学校法人五島育英会 ジェルネイル用除去剤
JP7174403B2 (ja) 2018-10-25 2022-11-17 学校法人五島育英会 ジェルネイル用除去剤

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2004500368A (ja) 高不鹸化物及びその使用方法
US20070014881A1 (en) Cosmetic formulations and skin treatment
JP2000063262A (ja) 抗菌性化粧料組成物
KR101769519B1 (ko) 무환자나무 열매로부터 사포닌을 추출하는 방법 및 이를 포함하는 세정제 조성물
JP4285699B2 (ja) 角栓除去用組成物
JP2002205921A (ja) ネイルエナメルリムーバー
JP2004217615A (ja) 心理状態改善用化粧料
JP2000186025A (ja) 消臭剤組成物
JP7075812B2 (ja) エナメルリムーバー
JP2012051845A (ja) 化粧料組成物
JP2000186026A (ja) 消臭剤組成物
JP4934242B2 (ja) 皮膚化粧料
JP4284305B2 (ja) 防臭活性剤及び防臭用皮膚外用組成物
JP3981323B2 (ja) フォーム状皮膚外用剤
JP2006282601A (ja) ネイルエナメルリムーバー
JP4256895B2 (ja) フォーム状皮膚外用剤
KR102579965B1 (ko) 어진향차 향취 재현 향료 조성물
JPH1179967A (ja) アルコール刺激臭マスキング剤、それを含有する香粧品用アルコール及びアルコール含有化粧料
JP2003081802A (ja) マスキング剤及びそれを含有する化粧料
JP2001220343A (ja) 樹脂を含有する皮膚外用剤
JPH03294215A (ja) 紫蘇抽出物配合頭皮・頭髪用剤
JP2005289870A (ja) 化粧料
JP2001329290A (ja) 化粧料
JP2003146860A (ja) 毛髪用の化粧料
JP2004182779A (ja) 洗浄剤組成物

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20041117