JP2002204055A - プリント基板製造方法 - Google Patents
プリント基板製造方法Info
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- JP2002204055A JP2002204055A JP2000403433A JP2000403433A JP2002204055A JP 2002204055 A JP2002204055 A JP 2002204055A JP 2000403433 A JP2000403433 A JP 2000403433A JP 2000403433 A JP2000403433 A JP 2000403433A JP 2002204055 A JP2002204055 A JP 2002204055A
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Abstract
とを防ぎ、高精度パターンの形成を容易にするととも
に、基板に実装されるICの接合面積を大きく確保し、
接合強度を向上させることである。 【構成】 マスクフィルムに描かれるパターンのモジュ
ール基板の設計仕様(パターンとレジスト形状)であ
り、従来の後退パターンに対応するレジストを延長し、
レジストの先端を全て同じ長さ位置に配列してパターン
1を形成するもので隣合ったレジスト開口3と4とが千
鳥状に配置されている。光硬化性樹脂層(レジスト)を
設けたプリント基板材料の上面に上記マスクフィルムを
載置し、紫外線を照射した後、エッチングを施す。
Description
なプリント基板、特に高精度のモジュール基板に用いら
れる高密度配線のプリント基板の製造方法に関する。
ント基板材料を配置し、プリント基板材料の上面にマス
クフィルムを置いて、露光装置の紫外線を照射し、マス
クフィルムに予め描いた回路等をプリント基板材料に写
し、溶剤又はアルカリ溶液で溶解、除去してプリント基
板材料表面に回路等を形成して、プリント基板を形成す
る。
方であり、必然的にモジュール基板に用いられるプリン
ト基板の精度も高いものが要求されてきている。例え
ば、図3に示すような高密度のICピンの配置を備えた
モジュールにおいては、高密度配線が要求されており、
図におけるモジュール基板の設計仕様(パターンとレジ
スト形状)の各寸法の一例を示すと次のとおりである。 a=0.164mm,b=0.025mm,c=0.0
635mm,d=0.127mmφ,e=0.295m
m,f=0.422mm,g=0.211mm,h=
0.330mm,j=0.084mm,k=0.084
mm
ICを実装するモジュール基板の設計仕様は、図5に示
すようになる。モジュール基板の各部の寸法の一例を示
すと次のとおりである。 m=0.10mm,n=0.111mm,p=0.21
1mm,q=0.20mm,r=0.021mm,s=
0.30mm,t=0.05mm,u=0.01mm,
v=0.09mm,w=0.13mm レジスト開口xが千鳥状に配置されているから、隣合っ
たパターンyのレジスト端がずれて配置されている。
プリント基板の製造方法においては、光硬化樹脂層を設
けたプリント基板材料上面にマスクフィルムを置いて、
紫外線を照射した後溶剤又はアルカリ溶液で溶解、除去
していること(エッチング)から、パターンの粗密が原
因で溶剤等の流れが全体で均一でなく、光硬化樹脂層を
溶解、除去する作用が場所によって異なることになるか
ら、溶剤等の流れにより、流れが強く当たる先端が後退
して位置する後退パターン10,40は略正常に形成さ
れるが、先端が突出して位置する突出パターン20,3
0は、先端に向かって先細りに形成され、パターンの仕
上がりにバラツキが発生するという問題があった。即
ち、図6に示すように、突出パターン20,30の先端
20A,30Aが短くなり、先端近傍の側辺20C,3
0Cが傾斜するとともに、先端20A,30Aの両端隅
部20B,30Bが略円弧状に大きく削られ、或いは元
の隅部20B,30Bよりも大きな半径に削られ、突出
パターン20,30が先細りに形成されという問題があ
った。
と、ICを基板に実装する際に不利となるものであり、
また基板とICの半田接合面積が低減されることになる
から、接合強度が低減される恐れがあるという問題があ
った。上記問題を避けるために、図7に示すように、レ
ジスト開口91を大きく形成して全面に逃げているもの
もあるが、部品(IC)接合部71を有する突出パター
ン51と後退パターン61とにおいて、エッチング時に
各パターン51,61特に突出パターン51の先端51
A側のレジストが過大に除去されることになり、突出パ
ターン51の先端51Aに向けて細く形成され、やはり
パターン仕上がりのバラツキを生じるという問題があっ
た。
ラツキが発生することを防ぎ、高精度パターンの形成を
容易にするとともに、基板に実装されるICの接合面積
を大きく確保し、接合強度を向上させることである。
に本発明のプリント基板製造方法は、光硬化樹脂層(レ
ジスト)を設けたプリント基板材料の上面にマスクフィ
ルムを置いて、紫外線を照射し、マスクフィルムに描い
たパターンをプリント基板材料に写し、溶剤又はアルカ
リ溶液で溶解、除去してプリント基板を製造する方法で
あって、レジスト開口の位置と関係なく、マスクフィル
ムに描くパターンにおいて並設されたパターンのパター
ン端部を全て同じ長さ位置とし、対向する全てのパター
ン端部間の距離を一定とすることにより、均一なエッチ
ングを行うことができ、パターンの先細り発生を防止
し、パターンの仕上がりにバラツキが発生することを防
ぎ、基板に実装されるICの接合面積を大きく確保し、
接合強度を向上させることができる。
説明する。図1,2において、従来の後退パターン(図
6の10,40参照)に対応するレジストを延長し、パ
ターン1を形成し、レジスト開口3の位置と隣接するパ
ターン2のレジスト開口4の位置とがずれており、レジ
スト開口3とレジスト開口4とが千鳥状に配置されてい
るパターンのモジュール基板の設計仕様(パターンとレ
ジスト形状)が示されており、マスクフィルムに描かれ
る。
ターン1,2の先端1A,2Aの間の距離Wを一定にし
て、図示の如く隣合ったパターン1,2の先端1Aと2
Aを同じ位置にする。
示す従来のパターンの先端位置1Cに長さLの延長部1
Bが設けられたマスクフィルムを、光硬化樹脂層を設け
たプリント基板材料上面に載せて紫外線を照射した後、
溶剤又はアルカリ溶液で洗い流す(エッチング)ことに
より、従来のパターンの先端位置1Cに延長部1Bを備
えたパターン1を形成するものである。
ング)ことで、図1に示すように、レジスト開口3,4
を備え、隣合ったパターン1,2の先端1A,2Aが同
じ位置に配置される。従来のパターンの先端位置1Cに
延長部1Bを備えていることにより、エッチング 行う
際に溶剤又はアルカリ溶液の流れが均一化され、均一な
エッチングを行うことができる。
ラツキを無くし、高精度のパターンを形成することがで
きる。特にパターン先端部からレジスト開口までのレジ
ストの形状が細くなることを防止することができ、均一
なパターン幅を有するパターンを形成することができ
る。また、他の部品(特にIC部品)との接合箇所であ
るレジスト開口の接合面積を確保することができる。
と、レジスト開口9を大きく形成し、複数の部品(I
C)接合部8を備えたパターン5,6をレジスト開口9
内に突出させ、千鳥状に配設された部品(IC)接合部
8の位置に関係なく、全てのパターン5,6の先端5
A,6Aを同じ位置に設け、パターン5,6の先端5
A,6Aの間の距離を一定に形成する。この構成によ
り、レジスト開口を大きく形成したものにおいても、パ
ターンのバラツキを無くし、部品(IC)の接合強度を
増大させることができる。
から次に述べる効果を奏する。光硬化樹脂層(レジス
ト)を設けたプリント基板材料の上面にマスクフィルム
を置いて、紫外線を照射し、マスクフィルムに描いたパ
ターンをプリント基板材料に写し、溶剤又はアルカリ溶
液で溶解、除去してプリント基板を製造する方法であっ
て、レジスト開口の位置と関係なく、マスクフィルムに
描くパターンにおいて並設されたパターンの先端部を全
て同じ長さ位置とし、対向する全てのパターン端部間の
距離を一定とすることにより、均一なエッチングを行う
ことができ、パターンの先細り発生を防止し、パターン
の仕上がりにバラツキが発生することを防ぎ、基板に実
装されるICの接合面積を大きく確保し、接合強度を向
上させることができる。
ント基板の平面図である。
平面図である。
計仕様の一例である。
平面図である。
ルムに描くパターンの平面図である。
ト基板の平面図である。
パターン端部 1B,2B (パターン)延長部、1C,2C 従来の
パターンの先端位置 L 延長部の長さ、W パターン端部間の距離
Claims (1)
- 【請求項1】 光硬化樹脂層(レジスト)を設けたプリ
ント基板材料の上面にマスクフィルムを置いて、紫外線
を照射し、マスクフィルムに描いたパターンをプリント
基板材料に写し、溶剤又はアルカリ溶液で溶解、除去し
てプリント基板を製造する方法であって、レジスト開口
の位置と関係なく、マスクフィルムに描くパターンにお
いて並設されたパターンのパターン端部を全て同じ長さ
位置とし、対向する全てのパターン端部間の距離を一定
とすることを特徴とするプリント基板製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000403433A JP2002204055A (ja) | 2000-12-28 | 2000-12-28 | プリント基板製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000403433A JP2002204055A (ja) | 2000-12-28 | 2000-12-28 | プリント基板製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002204055A true JP2002204055A (ja) | 2002-07-19 |
Family
ID=18867554
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000403433A Pending JP2002204055A (ja) | 2000-12-28 | 2000-12-28 | プリント基板製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002204055A (ja) |
Cited By (2)
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---|---|---|---|---|
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EP2048922A3 (en) * | 2007-10-10 | 2010-04-21 | Nitto Denko Corporation | COF Board |
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2000
- 2000-12-28 JP JP2000403433A patent/JP2002204055A/ja active Pending
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