JP2002203801A - 石英管洗浄装置 - Google Patents

石英管洗浄装置

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JP2002203801A
JP2002203801A JP2000399685A JP2000399685A JP2002203801A JP 2002203801 A JP2002203801 A JP 2002203801A JP 2000399685 A JP2000399685 A JP 2000399685A JP 2000399685 A JP2000399685 A JP 2000399685A JP 2002203801 A JP2002203801 A JP 2002203801A
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quartz tube
cleaning
quartz
holding arm
vertical
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Shinichi Sonehara
真一 曽根原
Yoshihisa Hosaka
喜久 保坂
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Mitsumi Electric Co Ltd
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Mitsumi Electric Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 異なる長さの石英管を洗浄可能とする。 【解決手段】 併設された複数の洗浄槽1(1a,1
b,1c)と、石英管2を保持するとともに洗浄槽1
(1a,1b,1c)に対して石英管2を浸漬させる石
英管保持機構3とを備える石英管洗浄装置であって、上
記石英管保持機構が異なる長さの石英管2を保持するた
めの保持アーム部5(5a,5b,5c,5d)を備え
たことを特徴とするものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体を製
造する際に使用される石英管を洗浄するための石英管洗
浄装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、図5(A)に示すように、縦型拡
散炉100に使用される縦型石英管101が知られてい
る。この縦型石英管101は、石英チューブ102及び
石英冶具103を備えており、石英チューブ102内部
に複数の半導体基板104を配設するものである。縦型
拡散炉100においては、縦型石英管101内部に所定
のガスを導入するとともに、所定の温度に加熱すること
によって、縦型石英管101内部に配設された半導体基
板104に、例えば不純物の熱拡散等や酸化膜等を形成
することができる。尚、縦型石英管101は、異なった
導入ガス等による半導体基板104の汚染防止の為、上
述した各用途(例えば、p型不純物熱拡散用)専用とし
て、使用している。
【0003】又、図5(B)に示すように、横型拡散炉
200に使用される横型石英管201が知られている。
この横型石英管201は、石英チューブ202及び石英
冶具203を備えており、石英チューブ202内部に複
数の半導体基板204を配設するものである。また、石
英チューブ202の長さL2は、縦型拡散炉100の石
英チューブ102の長さL1に比べ、約2倍の大きさで
ある。横型拡散炉200においては、横型石英管201
内部に所定のガスを導入するとともに、所定の温度に加
熱することによって、横型石英管201内部に配設され
た半導体基板204に、例えば不純物熱拡散等や酸化膜
等を形成することができる。尚、横型石英管201は異
なった導入ガス等による半導体基板104の汚染防止の
為、上述した各用途(例えば、p型不純物熱拡散用)専
用として、使用している。
【0004】ところで、縦型拡散炉で使用される縦型石
英管101は、複数回の使用によって石英チューブ10
2内壁や石英冶具103等が汚染されてしまうため、定
期的な洗浄が必要となる。縦型石英管101を洗浄する
際には、図6(A)に示すような石英管洗浄装置105
が使用されている。この石英管洗浄装置105は、例え
ば、p型不純物熱拡散で使用した縦型石英管101を保
持するための一対のアーム106と、このアーム106
によって保持された縦型石英管101を浸漬するための
例えば、p型不純物熱拡散用専用槽の洗浄槽107aと
を備えている。このアーム106は、保持した縦型石英
管101を上下方向及び左右方向に移動することがで
き、所定の洗浄槽107a内に縦型石英管101を所定
時間内浸漬させる。次に、純水洗浄槽107cに保持し
た縦型石英管101を移し、純水による流水洗浄を行
う。これにより、石英管洗浄装置105は、縦型石英管
101を洗浄することができる。尚、洗浄槽107b
は、例えば、n型不純物熱拡散用専用槽であり、n型不
純物熱拡散で使用した縦型石英管101のみを洗浄する
洗浄槽である。
【0005】又、横型拡散炉で使用される横型石英管2
01は、複数回の使用によって石英チューブ202内壁
や石英冶具203等が汚染されてしまうため、定期的な
洗浄が必要となる。横型石英管201を洗浄する際に
は、図6(B)に示すような石英管洗浄装置205が使
用されている。この石英管洗浄装置205は、例えば、
p型不純物熱拡散で使用した縦型石英管201を保持す
るための一対のアーム206と、このアーム206によ
って保持された縦型石英管201を浸漬するための例え
ば、p型不純物熱拡散専用槽の洗浄槽207aとを備え
ている。このアーム206は、保持した縦型石英管20
1を上下方向及び左右方向に移動することができ、所定
の洗浄槽207a内に縦型石英管201を所定時間内浸
漬させる。次に、純水洗浄槽207cに保持した縦型石
英管201を移し、純水による流水洗浄を行う。これに
より、石英管洗浄装置205は、縦型石英管201を洗
浄することができる。尚、洗浄槽207bは、例えば、
n型不純物熱拡散専用槽であり、n型不純物熱拡散で使
用した縦型石英管101のみを洗浄する洗浄槽である。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
石英管洗浄装置105、205においては、洗浄可能な
縦型石英管101又は横型石英管201が限定されてお
り、異なる種類の縦型石英管101、横型石英管201
を洗浄することができなかった。すなわち、縦型石英管
101用の石英管洗浄装置では長さによっては、互換性
を有していない既存の石英管洗浄装置105を用いて洗
浄することができず、新たな石英管洗浄装置を設備する
ことを要求された。
【0007】特に、拡散炉100としては、短い縦型石
英管101を使用する縦型拡散炉と長い横型石英管20
1を使用する横型拡散炉とを使用する場合がある。この
場合、長さの異なる2種類の石英管101、201を洗
浄するために、それぞれの石英管101、201に対応
した2台の石英管洗浄装置105、205を設備してい
た。
【0008】このように、異なる種類の石英管101、
201を使用する場合には、複数の石英管洗浄装置10
5、205を必要とし、コスト高になるとともに石英管
洗浄装置105、205のための広いスペースを確保し
なければならなかった。言い換えると、従来の石英管洗
浄装置105、205においては、洗浄可能な石英管1
01、201が限定されており、異なる長さの石英管を
洗浄することができないといった問題があった。
【0009】そこで、本発明は、上述した実状に鑑みて
案出されたものであり、異なる石英管を洗浄することが
可能である石英管洗浄装置を提供することを目的とす
る。
【0010】
【課題を解決するための手段】上述した目的を達成した
本発明に係る石英管洗浄装置は、併設された複数の洗浄
槽と、石英管を保持するとともに洗浄槽に対して石英管
を浸漬させる石英管保持機構とを備える石英管洗浄装置
であって、上記石英管保持機構が異なる長さの石英管を
保持するための保持アーム部を備えたことを特徴とする
ものである。
【0011】また、本発明に係る石英管洗浄装置は、上
記保持アーム部が所定の間隔で配設された4以上のアー
ムを備えることが好ましい。
【0012】さらに、本発明に係る石英管洗浄装置は、
少なくとも1以上の洗浄槽が長手方向に複数に分割され
てなり、複数の石英管を長手方向に並んだ状態で浸漬さ
せることができることが好ましい。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る石英管洗浄装
置を図面を参照して詳細に説明する。
【0014】本発明を適用した石英管洗浄装置は、半導
体基板上に不純物熱拡散等を行うための拡散炉に使用さ
れる石英管を洗浄するものである(図5参照)。ここ
で、拡散炉とは、複数の半導体基板を石英管内部に配置
し、この状態で石英管内部に所定のガスを導入するとと
もに所定の温度に加熱するものである。拡散炉では、石
英管内部に所定のガスを導入するとともに所定の温度に
加熱することによって、石英管内部に配置された半導体
基板上に、例えば不純物熱拡散等による不純物領域を形
成することができる。
【0015】このような石英管を洗浄する石英管洗浄装
置は、図1、図2及び図3に示すように、複数の洗浄槽
1と、石英管2を保持できる保持アーム機構3と、保持
アーム機構3を駆動制御する制御部4とを備える。複数
の洗浄槽1(1a,1b,1c)は、石英管2の洗浄に
使用する洗浄液、純水等がそれぞれ充填されている。保
持アーム機構3は、所定の間隔で配設された4本の保持
アーム5(第1の保持アーム5a、第2の保持アーム5
b、第3の保持アーム5c及び第4の保持アーム5d)
を備えている。これら第1の保持アーム5a、第2の保
持アーム5b、第3の保持アーム5c及び第4の保持ア
ーム5dは、制御部4の制御によって図2中矢印A及び
矢印Bで示す方向に移動可能となっている。
【0016】保持アーム機構3のうちで隣接する2本の
保持アーム5(例えば、第1の保持アーム5a及び第2
の保持アーム5b)は、最も短い石英管2(例えば、縦
型石英管)の長さよりも短い間隔で配置されており、最
も短い長さの石英管を保持することができる。一方、第
1の保持アーム5a及び第4の保持アーム5dは、最も
長い石英管(例えば,横型石英管)を安定して保持でき
る間隔となっている。
【0017】以上のように構成された石英管洗浄装置
は、保持アーム機構3で所定の長さの石英管2を保持す
るとともに、制御部4により保持アーム機構3を駆動
し、専用(例えば、p型不純物熱拡散)の洗浄槽1a内に
石英管2を所定時間内浸漬させ、次に、純水洗浄槽1c
に保持した石英管2を移し、純水による流水洗浄を行う
ことによって保持アーム機構3で保持した石英管2を洗
浄することができる。このとき、石英管洗浄装置は、保
持アーム機構3によって異なる長さの石英管を保持する
ことができる。
【0018】具体的には、第1の保持アーム5a及び第
2の保持アーム5b、或いは、第3の保持アーム5c及
び第4の保持アーム5dを使用することによって、比較
的に短い石英管2(例えば、縦型石英管)を保持すること
ができる。これに対して、第1の保持アーム5a乃至第
4の保持アーム5dを使用することによって、比較的に
長い石英管2(例えば、横型石英管)を保持することがで
きる。
【0019】したがって、この石英管洗浄装置によれ
ば、長さの異なる複数種類の石英管2を確実に保持する
ことができる。そして、石英管洗浄装置は、保持した石
英管2を用途専用の洗浄槽1a又は、洗浄槽1bに浸漬
することによって、いかなる長さの石英管2であっても
確実に洗浄することができる。このため、この石英管洗
浄装置を用いれば、石英管2の長さに応じた複数の石英
管洗浄装置を必要としないため、低コスト化を達成する
ことができる。また、保持アーム機構3のうちで隣接す
る2本の保持アーム5(例えば、第1の保持アーム5a
及び第2の保持アーム5b)は、最も短い石英管2の長
さよりも短い間隔で配置されてので、最も短い石英管2
(例えば、縦型石英管)を保持アーム5a,5b間及び
アーム5c,5d間にそれぞれ1本の石英管2を保持す
ることができ、同時に2本の石英管2の洗浄が可能とな
る。このため、同じ使用用途(例えば、p型不純物熱拡
散用)の石英管2(例えば、縦型石英管)を同時に2本
洗浄することができ、洗浄時間が短縮できる。
【0020】ところで、本発明に係る石英管洗浄装置
は、図4に示すような洗浄槽10を備えるものであって
もよい。この石英管洗浄装置は、隔壁11により分割さ
れた洗浄槽10dと分割されていない洗浄槽10a,1
0b,10cとを有している。隔壁によって分割された
洗浄槽10dは、比較的に短い石英管2(例えば、縦型
石英管)のみを浸漬できる第1の洗浄槽12及び第2の
洗浄槽13を有することとなる。これら第1の洗浄槽1
2及び第2の洗浄槽13には、それぞれ異なる用途(例
えば、酸化膜用又はp型不純物熱拡散用)に専用化され
ている。一方、分割されていない洗浄槽10a,10b
は、例えばそれぞれp型不純物熱拡散用、n型不純物熱
拡散用専用槽であって、比較的に長い石英管2(例え
ば、横型石英管)を浸漬することができる。また、洗浄
槽10a,10bは、上述した通り比較的に短い石英管
2(例えば、縦型石英管)ならば、同時に2本洗浄でき
る。
【0021】この場合、石英管洗浄装置は、第1の保持
アーム5a及び第2の保持アーム5bを用いて保持した
石英管2を第1の洗浄槽12に浸漬することができ、第
3の保持アーム5c及び第4の保持アーム5dを用いて
保持した石英管2を第2の洗浄槽13に浸漬することが
できる。また、第1の保持アーム5a〜第4の保持アー
ム5dを用いて保持した石英管2を、分割されていない
洗浄槽10a,10bに浸漬することができる。
【0022】このように構成された石英管洗浄装置にお
いては、使用用途の異なる(例えば、各々酸化膜形成使
用,p型不純物熱拡散形成使用)2本の比較的に短い石
英管2(例えば、縦型石英管)を洗浄するに際して、第
1の洗浄槽12(例えば、酸化膜用専用槽)及び第2の
洗浄槽13(p型不純物熱拡散用専用槽)を設けること
により、使用用途の異なる石英管2を2本同時に洗浄す
ることができる。
【0023】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
係る石英管洗浄装置は、異なる長さの石英管を保持する
ことができるため、長さの異なる石英管を洗浄すること
ができる。したがって、この石英管洗浄装置は、様々な
長さの石英管を洗浄するような場合に有用であり、低コ
スト化を実現することができる。また、長手方向に分割
された複数の石英管使用用途別の洗浄槽を設けることに
より、使用用途に関係なく比較的に短い石英管を2本同
時に洗浄することが可能となり、洗浄時間を短縮するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る石英管洗浄装置の概略構成図であ
る。
【図2】石英管洗浄装置の要部斜視図である。
【図3】石英管洗浄装置の概略構成図である。
【図4】石英管洗浄装置の他の例の概略構成図である。
【図5】(A)は縦型拡散炉の概略構成図である、
(B)は横型拡散炉の概略構成図である、
【図6】(A)従来の縦型石英管洗浄装置の概略構成図
である、(B)は従来の横型石英管洗浄装置の概略構成
図である
【符号の説明】
1,1a,1b,1c 洗浄槽 2 石英管 3 保持アーム機構 4 制御部 5 保持アーム

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 併設された複数の洗浄槽と、石英管を保
    持するとともに洗浄槽に対して石英管を浸漬させる石英
    管保持機構とを備える石英管洗浄装置において、 上記石英管保持機構は、異なる長さの石英管を保持する
    ための保持アーム部を備えたことを特徴とする石英管洗
    浄装置。
  2. 【請求項2】 上記保持アーム部は、所定の間隔で配設
    された4以上のアームを備えることを特徴とする請求項
    1記載の石英管洗浄装置。
  3. 【請求項3】 少なくとも1以上の洗浄槽は、長手方向
    に複数に分割されてなり、複数の石英管を長手方向に並
    んだ状態で浸漬させることができることを特徴とする請
    求項1記載の石英管洗浄装置。
JP2000399685A 2000-12-28 2000-12-28 石英管洗浄装置 Pending JP2002203801A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100408566B1 (ko) * 2001-09-05 2003-12-06 동부전자 주식회사 퀄츠 튜브 세정장치
JP2005288333A (ja) * 2004-03-31 2005-10-20 Mitsubishi Materials Polycrystalline Silicon Corp 多結晶シリコンの洗浄方法と洗浄装置

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