JP2002201210A - 固体樹脂の製造方法 - Google Patents

固体樹脂の製造方法

Info

Publication number
JP2002201210A
JP2002201210A JP2001293408A JP2001293408A JP2002201210A JP 2002201210 A JP2002201210 A JP 2002201210A JP 2001293408 A JP2001293408 A JP 2001293408A JP 2001293408 A JP2001293408 A JP 2001293408A JP 2002201210 A JP2002201210 A JP 2002201210A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
organic solvent
solvent
parts
solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001293408A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4929552B2 (ja
Inventor
Atsushi Yamamoto
淳 山本
Akira Kamabuchi
明 釜淵
Takuji Fujisawa
拓司 藤澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to JP2001293408A priority Critical patent/JP4929552B2/ja
Publication of JP2002201210A publication Critical patent/JP2002201210A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4929552B2 publication Critical patent/JP4929552B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 析出した樹脂と有機溶媒(A)と溶媒(B)
からなるスラリーを濾過等による手段で単離するときの
操作が容易で、かつ、電子回路パターンをシリコンウエ
ハー上に形成する際に用いられるフォトレジスト組成物
用の高品質の固体樹脂を製造する方法を提供すること。 【解決手段】 単数又は複数の原料化合物を、有機溶媒
(A)の存在下で反応させて樹脂含有溶液を得、該樹脂
含有溶液を上記有機溶媒とは異なる溶媒(B)中に添加
して樹脂を析出させ、次いで、析出した樹脂と有機溶媒
(A)と上記有機溶媒とは異なる溶媒(B)からなるス
ラリーを加熱することを特徴とする固体樹脂の製造方
法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、固体樹脂の製造方
法に関し、詳しくは、フォトレジスト組成物の構成成分
である樹脂等の固体樹脂の製造方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】固体樹脂の製造方法としては、原料化合
物を有機溶媒の存在下で反応させて樹脂含有溶液を得、
該樹脂含有溶液を上記有機溶媒とは異なる溶媒中に添加
して樹脂を析出させる方法が公知である(特開平9-9063
7号公報参照)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記公
知の方法では、析出した樹脂と有機溶媒と上記有機溶媒
とは異なる溶媒からなるスラリーから固体樹脂を濾過等
の手段で単離する際、反応で副生する不純物等を充分除
去することができず、所望の品質を有する固体樹脂を得
るためには、更に、煩雑な精製操作を要するという問題
点があった。又、固体樹脂を濾過等の手段で単離する際
の所要時間が長いという問題点もあった。本発明の目的
は、所望の品質を有する固体樹脂を容易に且つ比較的短
時間で製造する方法を提供するものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者は、単数又は複
数の原料化合物を有機溶媒(A)の存在下で反応させて
樹脂含有溶液を得、該樹脂含有溶液を上記有機溶媒とは
異なる溶媒(B)中に添加して樹脂を析出させ、次い
で、樹脂が析出したスラリーを加熱すると、上記目的を
達成できることを見出して、本発明を完成するに至っ
た。
【0005】即ち、本発明は、単数又は複数の原料化合
物を有機溶媒(A)の存在下で反応させて樹脂含有溶液
を得、該樹脂溶液を上記有機溶媒とは異なる溶媒(B)
中に添加して樹脂を析出させ、次いで、析出した樹脂と
有機溶媒(A)と溶媒(B)からなるスラリーを加熱す
ることを特徴とする固体樹脂の製造方法を提供するもの
である。以下、本発明を詳細に説明する。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明において目的とする固体樹
脂としては、例えば、電子回路パターンをシリコンウエ
ハー上に形成する際に用いられるフォトレジスト組成物
の構成成分である樹脂等が挙げられる。
【0007】これらの固体樹脂の具体例としては、例え
ば、R.D.Allen, W.Conley and J.D.Gelorme,Proc. SPI
E, 1672, 513(1992)、S.Takechi, M.Takahashi, A.Kota
chi,K.Nozaki, E.Yano and I.Hanyu, J.Photopolym. Sc
i. Technol.,7, 1, 31(1994)、K.Nakano, K.Maeda,S.Iw
ase, and E.Hasegawa, J.Photopolym. Sci. Technol.,1
0, 4, 561(1995)等の文献や、特開2000-137327号公報に
示される樹脂等が挙げられる。これらの固体樹脂は単数
又は複数の原料化合物を重合又は縮合させて得られる
が、原料化合物としては、例えばメタクリレート及びア
クリレートからなる群より選ばれる1種以上の化合物
や、重合開始剤等が挙げられる。又、反応により得られ
る固体樹脂は共重合樹脂であってもよい。
【0008】本発明で用いられる有機溶媒(A)として
は、例えば、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒
や、テトラヒドロフラン又はジオキサン等のエーテル系
溶媒等が挙げられる。有機溶媒(A)としては、特にケ
トン系有機溶媒が好ましい。これらの有機溶媒(A)の
使用量は特に限定されないが、本発明における目的物で
ある固体樹脂100重量部当り、200〜1000重量部の範囲が
好ましい。重合反応や反応後の洗浄操作等において比較
的多量の有機溶媒(A)を使用した場合は、例えば濃縮
等の操作により、溶液中の樹脂濃度を20〜40重量%
の範囲に調整後、溶媒(B)中に添加して樹脂を析出さ
せ、得られたスラリーを加熱することがより好ましい。
【0009】本発明により得られる固体樹脂がフォトレ
ジスト組成物の構成成分である場合、フォトレジスト組
成物を構成する溶媒成分と上記有機溶媒(A)とは、同
一であってもよいが、異なっている方がより好ましい。
【0010】本発明で用いられる溶媒(B)としては、
例えば、n―ヘキサンやn―ヘプタン等の脂肪族系有機
溶媒、メタノールやイソプロパノール等のアルコール系
有機溶媒、及び水と前記アルコール系有機溶媒との混合
溶媒等が挙げられる。水とアルコール系有機溶媒の混合
溶媒における割合は、混合溶媒100重量部当り、アルコ
−ル系有機溶媒が60重量部以上であることが好ましく、
70〜90重量部であることが特に好ましい。これらの溶媒
(B)の使用量は、樹脂溶液100重量部当り、350重量部
以上であることが好ましく、350〜1000重量部の範囲で
あることが特に好ましい。溶媒(B)としては、固体樹
脂の溶解度が低いという観点から、アルコール系有機溶
媒や、水とアルコール系有機溶媒の混合溶媒が好まし
く、水とアルコール系有機溶媒の混合溶媒が特に好まし
い。樹脂含有溶液を溶媒(B)中に添加して樹脂を析出
させるときの温度は、10〜30℃の範囲が好ましい。
【0011】樹脂含有溶液を溶媒(B)中に添加して得
た析出した樹脂と有機溶媒(A)と溶媒(B)からなる
スラリーを加熱する際に、加熱途中の温度及び加熱後の
保温温度は、樹脂を析出させるときの温度よりも高けれ
ばよいが、樹脂の団塊化を防止する観点からは60℃以下
が好ましく、35〜60℃の範囲がより好ましく、40〜50℃
の範囲が特に好ましい。又、加熱時間は、1時間以上が
好ましく、3時間以上が特に好ましい。固体樹脂の単離
方法としては、例えば、濾過による固液分離手段を用い
る方法等が挙げられる。
【0012】
【実施例】以下、実施例等により本発明を更に詳細に説
明するが、本発明はこれらの例により何ら限定されるも
のではない。例中、「部」及び「%」はそれぞれ重量部
及び重量%を表す。
【0013】実施例1 メタクリル酸 2−エチル−2−アダマンチル1500部、
メタクリル酸 3−ヒドロキシ−1−アダマンチル717
部、α−メタクリロイロキシ−γ−ブチロラクトン514
部及びメチルイソブチルケトン1980部を混合し、溶解さ
せた。これを、[モノマー溶液1]とする。アゾイソブ
チリロニトリル40部をメチルイソブチルケトン683部に
溶解した。これを、[重合開始剤溶液1]とする。脱気
された87℃のメチルイソブチルケトン4164部中に、[モ
ノマー溶液1]と[重合開始剤溶液1]を、個別に且つ
同時に導入した。導入終了後、87℃で6時間攪拌した。
次いで、60℃に冷却後、メチルイソブチルケトン4096部
を加え、蓚酸20部とイオン交換水2164部からなる蓚酸水
溶液で一度洗浄した。その後、2184部のイオン交換水で
3度洗浄した。これを、<樹脂溶液1>とする。この樹
脂溶液1を、メタノール54610部とイオン交換水13650部
からなる20℃の溶液に導入した。その後、スラリー温
度を45℃まで昇温した。次いで、同温度で2時間攪拌し
た。攪拌終了後に得られたスラリーのうち250Lを濾
過面積が0.6m2である加圧式濾過機を用い、0.2
5〜0.3Kg/cm2の圧力で濾過した。濾過の所要
時間は4分間であった。濾上物を80%メタノールイオン
交換水溶液で3度洗浄した。次いで、残りのスラリーの
全部を上記と同様にして濾過、洗浄し、濾上物を乾燥
後、1420部の樹脂Aを得た。
【0014】参考例1 実施例1で得た樹脂A中の不純物量を、液体クロマトグ
ラフ法で分析したところ、0.1%であった。この樹脂
Aを用いて常法によりフォトレジスト組成物を調製し、
シリコンウエハー上に塗布後、常法によりエッチングし
て電子回路パターンを形成してその性能を測定した。樹
脂Aを用いて調製したフォトレジストから得られるパタ
ーンは、良好な透過度を有していた。
【0015】比較例1 実施例1と同様にして得た樹脂溶液1を、メタノール54
610部とイオン交換水13650部からなる20℃の溶液に導
入し、同温度で2時間攪拌した。その後、得られたスラ
リーを実施例1と同様に濾過したところ、所要時間は1
80分間であった。濾上物を80%メタノールイオン交換
水溶液で3度洗浄した。その後、乾燥し、1420部の樹脂
A'を得た。この樹脂A'の粉末X線回折図形は、実施例
1で得た樹脂Aの粉末X線回折図形と同じであったが、
顕微鏡による観察の結果、樹脂A'の粒子の形状は樹脂
Aの粒子の形状と異なっていた。
【0016】参考比較例1 比較例1で得た樹脂A'中の不純物量を、液体クロマト
グラフ法で分析したところ、1.1%であった。樹脂
A'を用いてフォトレジストを調製したが、該フォトレ
ジストから得られるパターンの透過度は十分なものでは
なかった。
【0017】実施例2 メタクリル酸 2−メチル−2−アダマンチル1400部、
メタクリル酸 3−ヒドロキシ−1−アダマンチル717
部、α−メタクリロイロキシ−γ−ブチロラクトン514
部及びメチルイソブチルケトン1980部を混合し、溶解さ
せた。これを、[モノマー溶液2]とする。アゾイソブ
チリロニトリル40部をメチルイソブチルケトン683部に
溶解した。これを、[重合開始剤溶液2]とする。脱気
された87℃のメチルイソブチルケトン4164部中に、モノ
マー溶液2と重合開始剤溶液2を、個別に且つ同時に導
入した。導入終了後、87℃で6時間攪拌した。次いで、6
0℃に冷却後、メチルイソブチルケトン4096部を加え、
蓚酸20部とイオン交換水2164部からなる蓚酸水溶液で一
度洗浄した。その後、2184部のイオン交換水で3度洗浄
した。これを、<樹脂溶液2>とする。この樹脂溶液2
を減圧下に濃縮して、4000部のメチルイソブチルケトン
を留去した。濃縮後の溶液を<樹脂溶液3>とする。こ
の樹脂溶液3を、メタノール54610部とイオン交換水136
50部からなる20℃の溶液に導入した。その後、スラリ
ー温度を45℃まで昇温した。次いで、同温度で2時間攪
拌した。攪拌終了後に得られたスラリーのうち250L
を濾過面積が0.6m2である加圧式濾過機を用い、
0.25〜0.3Kg/cm2の圧力で濾過した。濾過
の所要時間は3分間であった。濾上物を80%メタノール
イオン交換水溶液で3度洗浄した。次いで、残りのスラ
リーの全部を上記と同様にして濾過、洗浄し、濾上物を
乾燥後、1420部の樹脂Bを得た。
【0018】実施例3 実施例2と同様にして樹脂含有溶液2を得た。この樹脂
含有溶液2を、メタノール54610部とイオン交換水13650
部からなる20℃の溶液に導入した。得られたスラリー
を45℃まで昇温後、同温度で2時間攪拌した。攪拌終了
後、得られたスラリーのうち250Lを濾過面積が0.
6m2である加圧式濾過機を用い、0.25〜0.3K
g/cm2の圧力で濾過した。濾過の所要時間は10分
間であった。濾上物を80%メタノールイオン交換水溶液
で3度洗浄した。次いで、残りのスラリーの全部を上記
と同様にして濾過、水洗し、濾上物を乾燥後、1420部の
樹脂B’を得た。
【0019】参考例2 実施例2で得た樹脂B中の不純物量を液体クロマトグラ
フ法で分析したところ、0.1%であった。この樹脂B
を用いて常法によりフォトレジスト組成物を調製し、シ
リコンウエハー上に塗布後、常法によりエッチングして
電子回路パターンを形成してその性能を測定した。樹脂
Bを用いて調製したフォトレジストから得られるパター
ンは、良好な透過度を有していた。
【0020】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、樹脂含有溶
液を溶媒(B)中に添加して得た析出した樹脂と有機溶
媒(A)と溶媒(B)からなるスラリーの濾過性が良
く、且つ、良好な品質の固体樹脂が得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤澤 拓司 大阪市此花区春日出中3丁目1番98号 住 友化学工業株式会社内 Fターム(参考) 4J011 HA03 HB05 4J100 AL02P CA04 FA19 FA30 GC07 GC17 GC29 GC35 JA38

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】単数又は複数の原料化合物を有機溶媒
    (A)の存在下で反応させて樹脂含有溶液を得、該樹脂
    含有溶液を上記有機溶媒とは異なる溶媒(B)中に添加
    して樹脂を析出させ、次いで、析出した樹脂と有機溶媒
    (A)と溶媒(B)からなるスラリーを加熱することを
    特徴とする固体樹脂の製造方法。
  2. 【請求項2】原料化合物が、メタクリレート及びアクリ
    レートからなる群より選ばれる1種以上である請求項1
    に記載の方法。
  3. 【請求項3】有機溶媒(A)が、ケトン系有機溶媒又は
    エーテル系有機溶媒である請求項1又は2に記載の方
    法。
  4. 【請求項4】溶媒(B)が、脂肪族系有機溶媒、アルコ
    ール系有機溶媒、及び水とアルコール系有機溶媒との混
    合溶媒からなる群より選ばれる1種である請求項1〜3
    のいずれかに記載の方法。
  5. 【請求項5】加熱途中及び加熱後のスラリーの温度が、
    樹脂を析出させるときの温度よりも高く、且つ60℃以
    下である請求項1〜4のいずれかに記載の方法。
  6. 【請求項6】溶媒(B)中に添加する樹脂含有溶液が、
    20〜40重量%の樹脂を含有する請求項1〜5のいず
    れかに記載の方法。
JP2001293408A 2000-10-30 2001-09-26 固体樹脂の製造方法 Expired - Lifetime JP4929552B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001293408A JP4929552B2 (ja) 2000-10-30 2001-09-26 固体樹脂の製造方法

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000330203 2000-10-30
JP2000330203 2000-10-30
JP2000-330203 2000-10-30
JP2001293408A JP4929552B2 (ja) 2000-10-30 2001-09-26 固体樹脂の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002201210A true JP2002201210A (ja) 2002-07-19
JP4929552B2 JP4929552B2 (ja) 2012-05-09

Family

ID=26603016

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001293408A Expired - Lifetime JP4929552B2 (ja) 2000-10-30 2001-09-26 固体樹脂の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4929552B2 (ja)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004269855A (ja) * 2003-02-20 2004-09-30 Maruzen Petrochem Co Ltd レジストポリマー及びその製造方法
JP2008001914A (ja) * 2007-09-13 2008-01-10 Mitsubishi Rayon Co Ltd 化学増幅型レジスト用樹脂
JP2009037108A (ja) * 2007-08-03 2009-02-19 Daicel Chem Ind Ltd フォトレジスト用樹脂溶液の製造方法、フォトレジスト組成物およびパターン形成方法
JP2009138083A (ja) * 2007-12-05 2009-06-25 Jsr Corp フォトレジスト用樹脂の製造方法
KR100914425B1 (ko) * 2003-02-20 2009-08-27 마루젠 세끼유가가꾸 가부시키가이샤 레지스트 중합체 및 상기 중합체의 제조 방법
US7838606B2 (en) 2003-10-30 2010-11-23 Maruzen Petrochemical Co., Ltd Production process of copolymer for semiconductor lithography
US7910282B2 (en) 2004-04-30 2011-03-22 Maruzen Petrochemical Co., Ltd. Copolymer for semiconductor lithography and producing method thereof, and composition
US8753793B2 (en) 2009-01-15 2014-06-17 Daicel Chemical Industries, Ltd. Method for producing resin solution for photoresist, photoresist composition, and pattern-forming method
JP2014159585A (ja) * 2014-04-08 2014-09-04 Mitsubishi Rayon Co Ltd 半導体フォトリソグラフィ用重合体の精製方法
JP2014240480A (ja) * 2013-05-17 2014-12-25 三菱レイヨン株式会社 リソグラフィー用重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、およびパターンが形成された基板の製造方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04149208A (ja) * 1990-10-12 1992-05-22 Nippon Shokubai Co Ltd アミノ基末端テレケリックポリマーの製法
JPH0578404A (ja) * 1991-01-18 1993-03-30 Kuraray Co Ltd エチレン−ビニルエステル共重合体の製法、エチレン−ビニルアルコール共重合体の製法および成形物の製法
JPH05345813A (ja) * 1992-06-15 1993-12-27 Kuraray Co Ltd 水添ブロック共重合体
JPH06192318A (ja) * 1992-12-24 1994-07-12 Sumitomo Chem Co Ltd 金属イオン含有量の低いポリビニルフェノール類の製造法
JP2004501988A (ja) * 2000-06-27 2004-01-22 トリクエスト・リミテッド・パートナーシップ 精製手段

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04149208A (ja) * 1990-10-12 1992-05-22 Nippon Shokubai Co Ltd アミノ基末端テレケリックポリマーの製法
JPH0578404A (ja) * 1991-01-18 1993-03-30 Kuraray Co Ltd エチレン−ビニルエステル共重合体の製法、エチレン−ビニルアルコール共重合体の製法および成形物の製法
JPH05345813A (ja) * 1992-06-15 1993-12-27 Kuraray Co Ltd 水添ブロック共重合体
JPH06192318A (ja) * 1992-12-24 1994-07-12 Sumitomo Chem Co Ltd 金属イオン含有量の低いポリビニルフェノール類の製造法
JP2004501988A (ja) * 2000-06-27 2004-01-22 トリクエスト・リミテッド・パートナーシップ 精製手段

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004269855A (ja) * 2003-02-20 2004-09-30 Maruzen Petrochem Co Ltd レジストポリマー及びその製造方法
KR100914425B1 (ko) * 2003-02-20 2009-08-27 마루젠 세끼유가가꾸 가부시키가이샤 레지스트 중합체 및 상기 중합체의 제조 방법
US7838606B2 (en) 2003-10-30 2010-11-23 Maruzen Petrochemical Co., Ltd Production process of copolymer for semiconductor lithography
US7910282B2 (en) 2004-04-30 2011-03-22 Maruzen Petrochemical Co., Ltd. Copolymer for semiconductor lithography and producing method thereof, and composition
JP2009037108A (ja) * 2007-08-03 2009-02-19 Daicel Chem Ind Ltd フォトレジスト用樹脂溶液の製造方法、フォトレジスト組成物およびパターン形成方法
JP2008001914A (ja) * 2007-09-13 2008-01-10 Mitsubishi Rayon Co Ltd 化学増幅型レジスト用樹脂
JP2009138083A (ja) * 2007-12-05 2009-06-25 Jsr Corp フォトレジスト用樹脂の製造方法
US8753793B2 (en) 2009-01-15 2014-06-17 Daicel Chemical Industries, Ltd. Method for producing resin solution for photoresist, photoresist composition, and pattern-forming method
JP2014240480A (ja) * 2013-05-17 2014-12-25 三菱レイヨン株式会社 リソグラフィー用重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、およびパターンが形成された基板の製造方法
JP2014159585A (ja) * 2014-04-08 2014-09-04 Mitsubishi Rayon Co Ltd 半導体フォトリソグラフィ用重合体の精製方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4929552B2 (ja) 2012-05-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100955989B1 (ko) 포토레지스트용 고분자 화합물의 제조법
JP2002201210A (ja) 固体樹脂の製造方法
EP0154742B1 (en) Novel functionalized resin derived from polyallylamine
CN1156502C (zh) 大孔丙烯酸系弱酸性阳离子交换树脂生产工艺
CN102796262B (zh) 一种碳酸司维拉姆的制备方法
JP5092209B2 (ja) 3,5−ジヒドロキシ−1−アダマンチルアクリレート類の製造方法
CN118388686B (zh) 一种phs树脂的制备方法
JPH0321536B2 (ja)
KR100789197B1 (ko) 금속 함량이 감소된 폴리(메트)아크릴레이트의 제조 방법
CN114057576A (zh) 防止光刻胶树脂单体纯化时结块的方法及其制备方法和纯化方法
CN111018758B (zh) 一种含硫单体、其制备方法及应用
JP2003231721A (ja) フォトレジスト用ポリマーとその製造法
JP2006161052A (ja) ArFエキシマレーザーレジスト用ポリマー溶液の製造方法
CN108191771A (zh) 一种3,4-二氢嘧啶-2-酮类功能单体和聚合物及其它们的制备方法
JP2000143639A (ja) ジカルボン酸誘導体の製造方法およびそれを用いたポリベンゾオキサゾ―ル前駆体の製造方法
CN112812124A (zh) 含有不饱和键和酯基的新型螺环膨胀单体及制备方法
JP2003137839A (ja) レジスト用モノマーの製造方法
JP2002514664A (ja) 遮断(blocked)ポリヒドロキシスチレン樹脂の精製溶液を製造する方法
JP2003292526A (ja) 固体樹脂の製造法
JP4876347B2 (ja) ビフェニル骨格を有する(メタ)アクリレートの製造方法
JPH0551362A (ja) 自己重合性モノマーの精製法
JPH06321836A (ja) 9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンの精製方法
CN121005664A (zh) 一种2-甲基-1h-1,2,4-三唑-3(2h)-酮的合成方法
CN113429293A (zh) 一种由2-环戊基环戊酮合成的可降解型树脂单体及其制备方法和应用
JP2008094783A (ja) エーテルダイマー及びその精製方法

Legal Events

Date Code Title Description
RD05 Notification of revocation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425

Effective date: 20080128

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080828

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110221

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110315

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110407

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120117

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120130

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 4929552

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150224

Year of fee payment: 3