JP2002195502A - 低温水蒸気発生装置 - Google Patents

低温水蒸気発生装置

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JP2002195502A
JP2002195502A JP2000400475A JP2000400475A JP2002195502A JP 2002195502 A JP2002195502 A JP 2002195502A JP 2000400475 A JP2000400475 A JP 2000400475A JP 2000400475 A JP2000400475 A JP 2000400475A JP 2002195502 A JP2002195502 A JP 2002195502A
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water
low
heating
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temperature
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Taizo Kawamura
泰三 川村
Yoshitaka Uchibori
義隆 内堀
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Seta Giken KK
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Seta Giken KK
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 100℃未満の低温水蒸気を安定的に発生さ
せることができる低温水蒸気発生装置を提供する。 【解決手段】 大気圧付近の内部圧力を保ち、水を溜め
る密閉容器2と、密閉容器2内の水を循環させつつ10
0℃未満に加熱する加熱部3と、水から発生する水蒸気
を密閉容器2から抜き出す抜き出し部4とを備える。
又、前記抜き出し部からの蒸気を加熱する第2加熱部5
を更に備える。そして、加熱部3,5は、コイルが巻か
れたパイプ部材内に、前記パイプ部材の軸心と交差する
方向の多数の小通路が形成された積層構造体53を収納
し、前記コイルによる磁力線の磁束を変化させ、積層構
造体53を誘導加熱するものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、100℃未満の所
定温度であって温度誤差の少ない低温水蒸気を効率的に
発生させることができる低温水蒸気発生装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、100℃未満の低温水蒸気を大気
圧付近で発生させるためには、ボイラーより発生した水
蒸気を、減圧弁、温度調整弁、圧力弁等を使用し、使用
目的に合わせて水蒸気の温度及び圧力を調整していた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来法によると、水蒸気の流量の調整が困難であるととも
に、安定的に低温水蒸気を発生させることができなかっ
た。
【0004】そこで、本発明は、100℃未満の低温水
蒸気を安定的に発生させることができる低温水蒸気発生
装置を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明のうち請求項1にかかる発明は、水を溜める密閉容器
と、前記密閉容器内の前記水を循環させつつ加熱する加
熱部と、前記水から発生する水蒸気を前記密閉容器から
抜き出す抜き出し部とを備え、前記密閉容器内の圧力は
大気圧付近とされ、前記加熱部は水を100℃未満で加
熱する低温水蒸気発生装置である。水を循環させつつ加
熱し、密閉容器内の水を例えば90℃に保つ。沸点に至
らない90℃であっても、表面の水から蒸発が起こる。
水から気化熱が奪われるが、水を循環させつつ加熱する
加熱部によって密閉容器内の水の温度は90℃に保たれ
る。密閉容器内の90℃の蒸気は抜き出し部から抜き出
されて処理室に送られる。密閉容器内の圧力は大気圧付
近であるため、抜き出された蒸気はそのまま処理室に導
入できる。ここで、抜き出し部には通常ブロアを使用す
るため、前記大気圧付近とは、大気圧マイナス0.1気
圧以内である。また、低温水蒸気とは、前記大気圧付近
で沸点に至らない100℃未満の蒸気である。
【0006】請求項2にかかる発明は、請求項1におい
て、前記抜き出し部からの蒸気を加熱する第2加熱部を
更に備えた低温水蒸気発生装置である。密閉容器からの
低温蒸気は凝縮しようとするため、処理室に導入する直
前に第2加熱部で加熱すると、湿気を殆ど含まない乾い
た低温水蒸気になる。
【0007】請求項3にかかる発明は、請求項1又は2
において、前記加熱部は、コイルが巻かれたパイプ部材
内に、前記パイプ部材の軸心と交差する方向の多数の小
通路が形成された積層構造体を収納し、前記コイルによ
る磁力線の磁束を変化させ、前記積層構造体を誘導加熱
するものである。積層構造体の伝熱面積を増やし、軸心
と交差する多数の小通路により積層構造体の中を流れる
流体に拡散や混合を生じさせると、急速且つ均一加熱が
できる。その結果、水の蒸発で気化熱が奪われても、密
閉容器内の水の温度を正確に一定に保つことができる。
望ましい温度制御範囲は、所定温度±1℃以内である。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面を
参照しつつ説明する。図1は、本発明の低温水蒸気発生
装置の機器構成図である。
【0009】図1において、低温水蒸気発生装置1は、
密閉容器2と、第1加熱部3と、抜き出し部4と、第2
加熱部5と、を備えて構成される。
【0010】密閉容器2は、大気圧−0.1気圧に耐え
ることができ、外部からの空気を遮断し、内部の水や低
温蒸気が漏れない構造を有する。また、密閉容器2に
は、図示されてい蓋体や内部観察用の窓体が適宜設けら
れている。
【0011】第1加熱部3は、密閉容器2の底面から側
面に至る水の循環路11と、循環路11の上流側に接続
されたポンプ12と、循環路11の下流側に接続された
第1電磁誘導加熱部13と、を備えてなる。
【0012】循環路11のポンプ12より上流側に、電
磁開閉弁14を備える給水路15が接続されている。こ
の電磁開閉弁14は、密閉容器2の側面に取り付けられ
たレベル計16によって作動し、密閉容器2内の水の水
位を一定に保つ。また、循環路11に、低温水蒸気発生
装置1内の全ての水を排出するための、ドレン弁17が
取り付けられている。
【0013】ポンプ12により、密閉容器2内の水は第
1電磁誘導加熱部13を経て循環する。蒸発の気化熱を
加熱部3が直ぐに補えるように、一分間に3〜6回入れ
代わる程度に循環させることが好ましい。
【0014】抜き出し部4は、密閉容器2の上面からの
抜き出し路21と、抜き出し路21の途中に設けられた
ブロア22とからなる。抜き出し路21の下流側は、開
閉弁23を経た第1分岐路21aと、開閉弁24を経た
第2分岐路21bとに分かれている。第1分岐路21a
からは、第2加熱部5を経て、乾いた低温水蒸気が図示
されない処理室に供給される。第2分岐論21bから
は、やや湿った低温水蒸気が図示されない処理室に供給
される。
【0015】ブロア22は吸引圧力が−0.1気圧以
内、吐出圧力が0.1気圧以内の性能を有し、密閉容器
2の中の低温蒸気を抜き出して外部に供給することがで
きるものが好ましい。なお、ブロアに代わり、より低圧
で作動するファンを使用することもできる。ブロア22
の吸引力が大きく場合、密閉容器2内の圧力を大気圧付
近に保つために、フィルター24及び減圧弁25を介し
て、清浄空気を取り込める構造になっている。また、開
閉弁28が密閉容器2に取り付けられ、水を入れる際の
内部の空気抜きを可能にしている。
【0016】第2加熱部5は、第2電磁誘導加熱部26
により構成されている。この第2電磁誘導加熱部26で
生じた凝縮水は、戻し路27を介して密閉容器2に戻さ
れる構成になっている。
【0017】第1、第2電磁誘導加熱部13,26は、
パイプ部材51の外周にコイル52を巻回し、パイプ部
材51の中に積層構造体53を入れ、コイル52に高周
波電源としてのインバータ54を接続し、インバータ5
4を温度検出器55に接続された温度調節器56で作動
させるようにしたものである。
【0018】つぎに、この第1、第2電磁誘導加熱部1
3,26の詳細構造と作動を図2及び図3により説明す
る。
【0019】図2において、パイプ部材51は液体が接
する部分であり、磁力線が通過するように、セラミック
等の無機質材料、FRP(繊維強化プラスチック)、フ
ッ素樹脂等の樹脂材料、ステンレス等の非磁性材料で形
成される。通常のパイプ部材21は断面円形であるが、
断面四角の角パイプであってもよい。
【0020】コイル52はリッツ線を撚り合わせたもの
であり、パイプ部材51の外周に巻回されるか、又はパ
イプ部材51の肉厚内に巻回して埋設される。このコイ
ル52に通電すると、パイプ部材51の中心軸に沿って
通過する磁力線aが形成される。インバータ54は直流
化部と交流化部とを有し、直流電源を任意の周波数の交
流電源に変換する。そのため磁力線aは高周波磁界を形
成する。
【0021】積層構造体53は、パイプ部材51の中に
収納され、図示されない壁流防止部材によってその上下
部分が電気的に絶縁された状態で固定されている。この
積層構造体53の詳細が図3に示される。
【0022】ジグザグの山型に折り曲げられた第1金属
板61と平たい第2金属板62とを交互に積層し、全体
として円筒状の積層構造体53に形成したものである。
この第1金属板61や第2金属板62の材質としては、
耐蝕性と強磁性を備えるSUS447J1の如きマルテ
ンサイト系ステンレスが用いられる。
【0023】第1金属板61の山(又は谷)63は中心
軸64に対して角度αだけ傾くように配設され、第2金
属板62を挟んで隣り合う第1金属板61の山(又は
谷)63は交差するように配設されている。そして、隣
り合う第1金属板31における山(又は谷)63の交差
点において、第1金属板61と第2金属板62がスポッ
ト溶接で溶着され、電気的に導通可能に接合されている
ものが好ましい。
【0024】結局、手前側の第1金属板61と第2金属
板62との間には、中心軸方向に対して角度αだけ傾い
た第1小流路65が形成され、第2金属板62と奥側の
第1金属板61との間には、中心軸方向に対して角度−
αだけ傾いた第2小流路66が形成され、この第1小流
路65と第2小流路66は角度2×αで交差している。
また、第1金属板61や第2金属板62の表面には、流
体の乱流を生じさせるための第3小流路としての孔67
が設けられている。さらに、第1金属板61や第2金属
板62の表面は平滑ではなく、梨地加工又はエンボス加
工によって微小な凹凸68が施されている。この凹凸6
8は山(又は谷)63の高さに比較して無視できる程度
に小さい。
【0025】図2に戻り、コイル52に電流を流すと、
パイプ部材51及び積層構造体53の中心軸に沿った磁
力線aが形成される。この磁力線aは、互いに逆方向に
斜め配置された第1金属板61の山谷の波板を横切るこ
とになる。磁力線aは高周波磁界であるので、積層構造
体53を構成する斜め配置の第1金属板61と平行配置
の第2金属板62の全体に渦電流が生じ、積層構造体5
3が発熱する。このときの温度分布は、第1金属板61
と第2金属板62の長手方向に延びた目玉型となり、周
辺部より中心部の方が発熱し、中央部を流れようとする
流体の加熱に有利になっている。
【0026】また、図3のように、積層構造体53内に
は交差する第1小流路65と第2小流路66が形成さ
れ、周辺と中央との拡散が行われ、加えて第3小通路を
形成する孔67の存在によって、第1小流路65と第2
小流路66間の厚み方向の拡散も行われる。したがっ
て、これらの小流路65,66,67によって積層構造
体53の全体にわたる液体のマクロ的な分散、放散、揮
散が生じる。加えて、表面の微小な凹凸68によってミ
クロ的な拡散、放散、揮散も生じる。その結果、積層構
造体53を通過する液体は略均一な流れになって、第1
金属板61及び第2金属板62と流体との均一な接触機
会が得られ、急速に過熱される。
【0027】なお効率的に蒸気を発生させ、更に過熱す
るのに積層構造体53が重要な役割を果たしており、こ
の役割を確実とするためには、積層構造体53の液体1
立方センチメートル当たりの接触面積が、2.5平方セ
ンチメートル以上であるものが好ましい。積層構造体5
3の液体1立方センチメートル当たりの表面積が2.5
平方センチメートル以上、より好ましくは5平方センチ
メートル以上になるように金属板を積層すると、液体と
の接触機会の増大による処理の効率化が達成できる。ま
た、積層構造体53の表面積1平方センチメートル当た
りで加熱すべき液体量が、0.4立方センチメートル以
下であるものが好ましい。積層構造体53の表面積1平
方センチメートル当たりの液体量を0.4立方センチメ
ートル以下、より好ましくは0.1立方センチメートル
以下にすると、流体に対する処理の急速応答性が得られ
る。
【0028】また、積層構造体53を電磁誘導の発熱体
とする場合には、金属板61,62の厚みが30ミクロ
ン以上1mm以下であり、インバーター54による高周
波電流の周波数が15〜150KHzの範囲にあるもの
が好ましい。金属板の厚みが30ミクロン以上1mm以
下であると、電力が入り易く、又伝熱面積を大きくとる
ための波形等の加工による小流路の確保が容易になる。
また、使用する周波数が15KHz〜150KHzの範
囲であると、コイル52の銅損や、スイッチング素子の
損失を防止できる。特に、損失が少ない周波数帯として
は、20〜70KHzである。
【0029】例えば、100mm径、長さ200mm、
表面積2.2〜6.2m2 の積層構造体53を用いた場
合、流体の膜厚(1cm3 当たりの水膜量)が0.5〜
0.2mmと極めて薄膜状であり、積層構造体53を構
成する金属板61、62も薄いため、金属板に沿った加
熱を促進できる。
【0030】つぎに、上述した低温水蒸気発生装置の使
用例を以下に説明する。まず、スタートアップ運転を説
明し、次に定常運転を説明する。
【0031】ドレン弁17を閉じ、開閉弁28を開き、
所定レベルになるまで密閉容器2内に水を満たす。ポン
プ12を始動させ、密閉容器2内の水を循環させると同
時に、第1電磁誘導加熱部13を作動させる。温度検出
器55で検出された水温と設定温度と差に応じて、温度
調節器56からインバータ54に向けて制御信号を出力
する。水温が所定温度に近づくとともに、水面から水蒸
気が蒸発し、余分な空気は開閉弁28から排出される。
密閉容器2内の水の温度が所定温度に達すると、スター
トアップ運転が完了する。つぎに、開閉弁28を閉じ、
開閉弁23,24の少なくとも一つを開き、ブロア21
を運転して定常運転に入る。
【0032】ブロア22は、望ましくは、水面からの蒸
発量に見合うように運転される。すると、密閉容器2か
ら空気を含まない100℃未満の低温水蒸気が連続的に
送り出される。ブロア22の吸引量が蒸発量を上回る
と、密閉容器2の内部が僅かに負圧になり、フィルター
24及び減圧弁25を介して密閉容器2内に清浄空気が
取り込まれる。水面からの蒸発量は水温に依存し、水温
が高いと多く蒸発し、水温が少ししか蒸発しない。その
ため、ブロア4の回転数は制御可能にすることが好まし
い。例えば90℃であると、蒸発量が多く、多い蒸発量
に見合うようにブロア22が運転される。蒸発量が多い
と、水から奪われる気化熱が大量になるが、密閉容器2
内の水を循環させながら加熱する加熱部3によって、内
部の水が攪拌されるとともに、水温が所定温度から低下
しいなようになっている。
【0033】開閉弁23を閉じ、開閉弁24を開くと、
ブロア22以降の熱放散により、蒸気の幾分かが水滴に
なった湿った低温水蒸気として、図示されない処理室に
供給される。
【0034】開閉弁23を開き、開閉弁24を閉じる
と、湿った低温水蒸気が第2電磁誘導加熱部26に導入
される。第2電磁誘導加熱部26で低温水蒸気が所定温
度に調整され、凝縮した水分は戻し路27を介して密閉
容器2に戻される。これにより、殆ど乾いた低温水蒸気
が、図示されない処理室に供給される。
【0035】開閉弁23,24の両方を開くと、湿った
低温水蒸気と乾いた低温水蒸気の両方を随時取り出すこ
とができる。
【0036】第1電磁誘導加熱部26は、広大な伝熱面
積を有し、所定温度に精密に制御できるため、循環量を
多くすることとの相乗により、密閉容器2内の水温を所
定温度±1℃に制御でき、所定温度の低温水蒸気を取り
出すことができる。
【0037】密閉容器2からの抜き出し量と水温を適切
に制御すると、空気を含まない100℃未満の低温水蒸
気が連続的に得られる。
【0038】このような低温水蒸気の使用例としては茸
栽培室への供給が考えられる。また、病院食を食事直前
に低温水蒸気で60〜65℃に加熱し、最も食べやすく
消化されやすい温度まで、味を落とすことなく加熱すこ
とにり使用できる。
【0039】また、ブロア22に代えて、真空ポンプを
使用すると、密閉容器2内の圧力を大気圧−0.9気圧
程度まで下げ、沸騰前の極低温水蒸気を連続的に作りだ
すこともできる。
【0040】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のうち請求
項1の発明によると、簡単な機器構成によって、100
℃未満の例えば90℃の低温水蒸気を大気圧付近で効率
的に供給できる。また、密閉容器内の水を循環させなが
ら加熱するため、加熱効率を高く出来、所定温度の低温
水蒸気を得ることが出来る。
【0041】請求項2の発明によると、低温水蒸気を更
に加熱する第2加熱部を備えることで、殆ど乾いた状態
の低温水蒸気を供給出来る。
【0042】請求項3の発明によると、コンパクトで効
率的且つ精度良く加熱でき、密閉容器内の温度を均一に
保ち、所定温度の低温蒸気をコンスタントに供給でき
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の低温水蒸気発生装置の機器構成図であ
る。
【図2】電磁誘導加熱部の要部斜視図である。
【図3】積層構造体の構造図である。
【符号の説明】
1 低温水蒸気発生装置 2 密閉容器 3 第1加熱部 4 抜き出し部 5 第2加熱部 11 循環路 12 ポンプ 13 第1電磁誘導加熱部 21 抜き出し路 22 ブロア 26 第2電磁誘導加熱部 51 パイプ部材 52 コイル 53 積層構造体 54 インバーター 65 小通路 66 小通路 a 磁力線

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 水を溜める密閉容器と、前記密閉容器内
    の前記水を循環させつつ加熱する加熱部と、前記水から
    発生する水蒸気を前記密閉容器から抜き出す抜き出し部
    とを備え、前記密閉容器内の圧力は大気圧付近とされ、
    前記加熱部は水を100℃未満で加熱する低温水蒸気発
    生装置。
  2. 【請求項2】 前記抜き出し部からの蒸気を加熱する第
    2加熱部を更に備えた請求項1記載の低温水蒸気発生装
    置。
  3. 【請求項3】 前記加熱部は、コイルが巻かれたパイプ
    部材内に、前記パイプ部材の軸心と交差する方向の多数
    の小通路が形成された積層構造体を収納し、前記コイル
    による磁力線の磁束を変化させ、前記積層構造体を誘導
    加熱するものである請求項1又は2記載の低温水蒸気発
    生装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009056237A (ja) * 2007-09-03 2009-03-19 Kenichi Bamen スチーム発生装置
JP2009222289A (ja) * 2008-03-14 2009-10-01 Miura Co Ltd 蓄熱システム

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