JP2002184684A - 縮小投影露光装置の位置合わせ方法 - Google Patents
縮小投影露光装置の位置合わせ方法Info
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- JP2002184684A JP2002184684A JP2000385702A JP2000385702A JP2002184684A JP 2002184684 A JP2002184684 A JP 2002184684A JP 2000385702 A JP2000385702 A JP 2000385702A JP 2000385702 A JP2000385702 A JP 2000385702A JP 2002184684 A JP2002184684 A JP 2002184684A
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- Japan
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- shot
- displacement
- wafer
- positional deviation
- pattern
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 縮小投影露光装置の位置合わせ方法に関し、
パターンの位置ずれ補正に用いる補正係数を簡単化した
位置ずれ測定により求めることを目的とする。 【解決手段】 ウェーハ上で少なくとも３個の異なるシ
ョットを選択して各ショット内で少なくとも２つの異な
る位置におけるマークの位置ずれを測定し、該測定値か
ら求めた補正係数を用いてパターンの位置合わせを行う
縮小投影露光装置の位置合わせ方法であって、各マーク
の位置ずれをウェーハの位置ずれとショット内の位置ず
れとに分離し各ショット内の位置ずれを回転変位で近似
して該補正係数を求めるように構成する。
パターンの位置ずれ補正に用いる補正係数を簡単化した
位置ずれ測定により求めることを目的とする。 【解決手段】 ウェーハ上で少なくとも３個の異なるシ
ョットを選択して各ショット内で少なくとも２つの異な
る位置におけるマークの位置ずれを測定し、該測定値か
ら求めた補正係数を用いてパターンの位置合わせを行う
縮小投影露光装置の位置合わせ方法であって、各マーク
の位置ずれをウェーハの位置ずれとショット内の位置ず
れとに分離し各ショット内の位置ずれを回転変位で近似
して該補正係数を求めるように構成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は縮小投影露光装置の
位置合わせ方法に関する。
位置合わせ方法に関する。
【０００２】縮小投影露光装置は半導体ＩＣのパターン
形成装置として量産性やコスト、パターン精度の点で優
れているため現在広く用いられているが、半導体ＩＣの
高集積化の進展に伴ってパターン間の重ね合わせ精度を
より一層向上させることが求められている。
形成装置として量産性やコスト、パターン精度の点で優
れているため現在広く用いられているが、半導体ＩＣの
高集積化の進展に伴ってパターン間の重ね合わせ精度を
より一層向上させることが求められている。
【０００３】
【従来の技術】縮小投影露光装置では、レチクルパター
ンをウェーハ上にショットごとに縮小投影してパターン
形成を行っている。パターンの重ね合わせに際しては、
下地層に形成された位置合わせ用のマークを検出し、こ
れを利用してパターンを位置決めするが、レンズの歪や
レチクルステージ及びウェーハステージの送り精度、さ
らには、マーク検出からパターン露光までの間に生じる
ウェーハの伸縮、ステージの伸縮等の様々な要因によっ
てパターンの位置ずれが生じ、これがパターンの重ね合
わせ精度を劣化させる。
ンをウェーハ上にショットごとに縮小投影してパターン
形成を行っている。パターンの重ね合わせに際しては、
下地層に形成された位置合わせ用のマークを検出し、こ
れを利用してパターンを位置決めするが、レンズの歪や
レチクルステージ及びウェーハステージの送り精度、さ
らには、マーク検出からパターン露光までの間に生じる
ウェーハの伸縮、ステージの伸縮等の様々な要因によっ
てパターンの位置ずれが生じ、これがパターンの重ね合
わせ精度を劣化させる。
【０００４】そこで、実際にパターンの重ね合わせ露光
を行う前にパターンの位置ずれを検出し、その検出結果
に基づいて縮小投影露光装置の位置合わせ機構を補正し
た上でパターン露光を行う。
を行う前にパターンの位置ずれを検出し、その検出結果
に基づいて縮小投影露光装置の位置合わせ機構を補正し
た上でパターン露光を行う。
【０００５】図４はウェーハ19上でのパターンの位置ず
れを模式的に示したものであり、図中、グリッド線20で
区切られた部分がショット領域を示している。図４で
は、例として、１番から５番までの番号で区別したショ
ットが前述した様々な要因によって位置ずれを生じそれ
ぞれ斜線のように変形した状態が示されている。
れを模式的に示したものであり、図中、グリッド線20で
区切られた部分がショット領域を示している。図４で
は、例として、１番から５番までの番号で区別したショ
ットが前述した様々な要因によって位置ずれを生じそれ
ぞれ斜線のように変形した状態が示されている。
【０００６】位置ずれ補正に際しては、まず、図４に示
したように、ウェーハ19上で離れて位置する複数のショ
ットを選択して各ショット内で複数の測定点における位
置ずれを測定する。たとえば、１番目のショットの端部
を示すＱ1 点は矢印で示した位置ずれによりＱ2 点まで
変位する。
したように、ウェーハ19上で離れて位置する複数のショ
ットを選択して各ショット内で複数の測定点における位
置ずれを測定する。たとえば、１番目のショットの端部
を示すＱ1 点は矢印で示した位置ずれによりＱ2 点まで
変位する。
【０００７】そこで、ウェーハ上のＱ1 点にあらかじめ
図５に示した中空の位置合わせ用マーク21を形成してお
き、これに矩形の位置合わせ用マーク22を重ねて形成す
る。位置合わせ用マーク21、22の相互の間隔Ｌ1 〜Ｌ4
を測定すると、Ｑ1 点におけるｘ方向及びｙ方向のずれ
Δｘ、Δｙは次式で算出され、これから位置ずれ後のＱ
2 点の座標を得ることができる。
図５に示した中空の位置合わせ用マーク21を形成してお
き、これに矩形の位置合わせ用マーク22を重ねて形成す
る。位置合わせ用マーク21、22の相互の間隔Ｌ1 〜Ｌ4
を測定すると、Ｑ1 点におけるｘ方向及びｙ方向のずれ
Δｘ、Δｙは次式で算出され、これから位置ずれ後のＱ
2 点の座標を得ることができる。
【０００８】Δx ＝（Ｌ1 −Ｌ2)/2 Δy ＝（Ｌ3 −Ｌ4)/2 以上のようにして各測定点の位置ずれ前と後の座標が得
られると、その結果に基づいて位置ずれ補正を行う。
られると、その結果に基づいて位置ずれ補正を行う。
【０００９】縮小投影露光装置では、ウェーハの位置ず
れとショット内の位置ずれを別個に補正することが可能
であり、そのため、測定された位置ずれをウェーハの位
置ずれとショット内の位置ずれに分離して表示した方が
実際の位置ずれ補正を行う場合に便利である。そこで、
レチクルパターンの中心を原点とするｉ番目のショット
の中心座標を（ｕi ，ｖi ）、このショットの中心を原
点とする座標を（ｐi，ｑi ）として、測定点の座標を
（ｕi ＋ｐi ，ｖi ＋ｑi ）で表わし、補正後の座標
（ｘci，ｙci）を次の一次変換式によって表すことにす
る。
れとショット内の位置ずれを別個に補正することが可能
であり、そのため、測定された位置ずれをウェーハの位
置ずれとショット内の位置ずれに分離して表示した方が
実際の位置ずれ補正を行う場合に便利である。そこで、
レチクルパターンの中心を原点とするｉ番目のショット
の中心座標を（ｕi ，ｖi ）、このショットの中心を原
点とする座標を（ｐi，ｑi ）として、測定点の座標を
（ｕi ＋ｐi ，ｖi ＋ｑi ）で表わし、補正後の座標
（ｘci，ｙci）を次の一次変換式によって表すことにす
る。
【００１０】 ｘci＝ Ａｕi ＋Ｂｖi ＋ａｐi ＋ｂｑi ＋Ｅ ・・・・・ (1a) ｙci＝ Ｃｕi ＋Ｄｖi ＋ｃｐi ＋ｄｑi ＋Ｆ ・・・・・ (1b) ここで、Ａ〜Ｆ、ａ〜ｂは一次変換係数である。
【００１１】位置ずれ後の測定座標と式(1a)、(1b)で定
まる補正座標の組が測定点の個数分だけ得られると、そ
れらの差がｘ方向及びｙ方向ごとに最小となるように最
小自乗法を用いてＡ〜Ｆ、ａ〜ｄを求める。
まる補正座標の組が測定点の個数分だけ得られると、そ
れらの差がｘ方向及びｙ方向ごとに最小となるように最
小自乗法を用いてＡ〜Ｆ、ａ〜ｄを求める。
【００１２】式(1a)、(1b)において、Ａ〜Ｄはショット
の中心座標のみに関わっていることからウェーハの位置
ずれを補正する補正係数として用いられ、ａ〜ｄはショ
ット内座標のみに関わっていることからショット内の位
置ずれを補正する補正係数として用いられる。また、
Ｅ、Ｆはウェーハ及びショットの並進ずれを補正する補
正係数として用いられる。これらの補正係数を縮小投影
露光装置の位置合わせ機構に入力し位置ずれ補正を行っ
た後パターンの位置決めを行う。
の中心座標のみに関わっていることからウェーハの位置
ずれを補正する補正係数として用いられ、ａ〜ｄはショ
ット内座標のみに関わっていることからショット内の位
置ずれを補正する補正係数として用いられる。また、
Ｅ、Ｆはウェーハ及びショットの並進ずれを補正する補
正係数として用いられる。これらの補正係数を縮小投影
露光装置の位置合わせ機構に入力し位置ずれ補正を行っ
た後パターンの位置決めを行う。
【００１３】なお、上記補正係数のうち、ａ〜ｄは、通
常、ウェーハ内の位置ずれを回転誤差のみによるものと
仮定して２個の補正係数Ｍ、Ｒに変換した後縮小投影露
光装置の位置合わせ機構に入力される。
常、ウェーハ内の位置ずれを回転誤差のみによるものと
仮定して２個の補正係数Ｍ、Ｒに変換した後縮小投影露
光装置の位置合わせ機構に入力される。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】以上のように、各測定
点における位置ずれはウェーハの位置ずれとショット内
の位置ずれに分離して表わすことができ、このうちウェ
ーハの位置ずれを補正係数Ａ〜Ｄによって補正し、ショ
ット内の位置ずれを補正係数ａ〜ｄによって補正してい
る。また、ウェーハ及びショット内の並進ずれはＥ、Ｆ
によって補正される。
点における位置ずれはウェーハの位置ずれとショット内
の位置ずれに分離して表わすことができ、このうちウェ
ーハの位置ずれを補正係数Ａ〜Ｄによって補正し、ショ
ット内の位置ずれを補正係数ａ〜ｄによって補正してい
る。また、ウェーハ及びショット内の並進ずれはＥ、Ｆ
によって補正される。
【００１５】一方、任意の測定点における位置ずれは縮
小率誤差、回転、並進ずれが重なって生じるが、式(1
a)、(1b)はこれらの位置ずれ要因の重なり比率について
なんらの仮定も置いていない。即ち、式(1a)、(1b)はウ
ェーハ及びショットでそれぞれ別個に縮小率誤差、回
転、並進ずれが重なって位置ずれが生じている状態を表
しているため補正係数の個数が多くなる。
小率誤差、回転、並進ずれが重なって生じるが、式(1
a)、(1b)はこれらの位置ずれ要因の重なり比率について
なんらの仮定も置いていない。即ち、式(1a)、(1b)はウ
ェーハ及びショットでそれぞれ別個に縮小率誤差、回
転、並進ずれが重なって位置ずれが生じている状態を表
しているため補正係数の個数が多くなる。
【００１６】前述したように、ショット内の位置ずれを
表す４個の補正係数ａ〜ｄは、ショット内の位置ずれを
回転変位のみによるものとすれば２個の補正係数Ｍ〜Ｒ
に低減されるものの最初に４個の補正係数を求める必要
があることには変わりない。その結果、これらの補正係
数を全て決定するためには少なくともウェーハ上で３個
の異なるショットを選択するとともに各々のショット内
で少なくとも３個の測定点で位置ずれを測定しなければ
ならず補正係数を求めるための位置ずれ測定に手間がか
かるという問題があった。
表す４個の補正係数ａ〜ｄは、ショット内の位置ずれを
回転変位のみによるものとすれば２個の補正係数Ｍ〜Ｒ
に低減されるものの最初に４個の補正係数を求める必要
があることには変わりない。その結果、これらの補正係
数を全て決定するためには少なくともウェーハ上で３個
の異なるショットを選択するとともに各々のショット内
で少なくとも３個の測定点で位置ずれを測定しなければ
ならず補正係数を求めるための位置ずれ測定に手間がか
かるという問題があった。
【００１７】そこで、本発明はパターンの位置ずれ補正
に用いる補正係数を簡単化した位置ずれ測定により求め
ることを目的とする。
に用いる補正係数を簡単化した位置ずれ測定により求め
ることを目的とする。
【００１８】
【課題を解決するための手段】上記課題の解決は、ウェ
ーハ上で少なくとも３個の異なるショットを選択して各
ショット内で少なくとも２つの異なる位置におけるマー
クの位置ずれを測定し、該測定値から求めた補正係数を
用いてパターンの位置合わせを行う縮小投影露光装置の
位置合わせ方法であって、各マークの位置ずれをウェー
ハの位置ずれとショット内の位置ずれとに分離し各ショ
ット内の位置ずれを回転変位で近似して該補正係数を求
めることを特徴とする縮小投影露光装置の位置合わせ方
法によって達成される。
ーハ上で少なくとも３個の異なるショットを選択して各
ショット内で少なくとも２つの異なる位置におけるマー
クの位置ずれを測定し、該測定値から求めた補正係数を
用いてパターンの位置合わせを行う縮小投影露光装置の
位置合わせ方法であって、各マークの位置ずれをウェー
ハの位置ずれとショット内の位置ずれとに分離し各ショ
ット内の位置ずれを回転変位で近似して該補正係数を求
めることを特徴とする縮小投影露光装置の位置合わせ方
法によって達成される。
【００１９】本発明ではショット内の位置ずれを回転近
似して補正係数を求めている。その結果、位置ずれの補
正に必要な補正係数の数が式(1a)、(1b)に示されている
従来の補正係数の数に比べて低減され、ウェーハ上で３
個の異なるショットを選択し各ショット内で２個の異な
る測定点における位置ずれを測定するだけで全ての補正
係数を求めることが可能となる。また、ショット内の位
置ずれを回転近似したことに起因する誤差はウェーハの
位置ずれに対する補正係数の値を調整することによって
抑えることができるので、従来に比べて位置合わせ精度
を劣化させることなく補正係数を求める手間を省くこと
ができる。
似して補正係数を求めている。その結果、位置ずれの補
正に必要な補正係数の数が式(1a)、(1b)に示されている
従来の補正係数の数に比べて低減され、ウェーハ上で３
個の異なるショットを選択し各ショット内で２個の異な
る測定点における位置ずれを測定するだけで全ての補正
係数を求めることが可能となる。また、ショット内の位
置ずれを回転近似したことに起因する誤差はウェーハの
位置ずれに対する補正係数の値を調整することによって
抑えることができるので、従来に比べて位置合わせ精度
を劣化させることなく補正係数を求める手間を省くこと
ができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】図１は本発明の実施例を示すブロ
ック図である。本発明では、ウェーハ上で少なくとも３
個の異なるショットを選択して各ショット内で少なくと
も２つの異なる位置における位置ずれを位置ずれ測定器
１で測定する。そして、得られた測定値を補正回路２に
入力して補正係数を算出する。算出した補正係数を縮小
投影露光装置３の位置合わせ機構に入力して位置ずれ補
正を行った上で位置決めを行いパターン露光する。
ック図である。本発明では、ウェーハ上で少なくとも３
個の異なるショットを選択して各ショット内で少なくと
も２つの異なる位置における位置ずれを位置ずれ測定器
１で測定する。そして、得られた測定値を補正回路２に
入力して補正係数を算出する。算出した補正係数を縮小
投影露光装置３の位置合わせ機構に入力して位置ずれ補
正を行った上で位置決めを行いパターン露光する。
【００２１】図２は縮小投影露光装置の構成を示す断面
図であり、照明系４と、パターンが形成されたレチクル
５と、レチクル５を搭載するレチクルステージ６と、ウ
ェーハ７と、ウェーハ７を搭載するウェーハステージ８
と、レチクル５に形成されたパターンをウェーハ７上に
ショットごとに縮小投影する投影レンズ９と、投影レン
ズ９からの光をウェーハ上に焦点合わせするためのオー
トフォーカス機構10と、ショットの位置合わせを行う位
置合わせ機構11とを備えている。レチクルステージ６と
ウェーハステージ８はそれぞれ図示しない駆動機構によ
りｘ方向及びｙ方向に移動可能となっている。
図であり、照明系４と、パターンが形成されたレチクル
５と、レチクル５を搭載するレチクルステージ６と、ウ
ェーハ７と、ウェーハ７を搭載するウェーハステージ８
と、レチクル５に形成されたパターンをウェーハ７上に
ショットごとに縮小投影する投影レンズ９と、投影レン
ズ９からの光をウェーハ上に焦点合わせするためのオー
トフォーカス機構10と、ショットの位置合わせを行う位
置合わせ機構11とを備えている。レチクルステージ６と
ウェーハステージ８はそれぞれ図示しない駆動機構によ
りｘ方向及びｙ方向に移動可能となっている。
【００２２】図３は位置ずれ測定器の構成を示す断面図
であり、通常は縮小投影露光装置の位置合わせ機構に内
蔵されている。位置ずれ測定器では、光源12から出射し
た光を集光レンズ13で偏向器14に集めた後投影レンズ15
でウェーハ16上に照射する。ウェーハ16上は、図４で説
明したように複数のショット領域に分けられており、各
ショット領域には位置ずれを測定するための位置合わせ
用マーク17が複数箇所に形成されている。そして、投影
レンズ15から照射された光をウェーハ16上で走査して位
置合わせ用マーク17からの反射光を受光素子18で検出
し、図５で述べたように複数の測定点における位置ずれ
を求めることにより位置ずれ後の測定点の座標を得るこ
とができる。
であり、通常は縮小投影露光装置の位置合わせ機構に内
蔵されている。位置ずれ測定器では、光源12から出射し
た光を集光レンズ13で偏向器14に集めた後投影レンズ15
でウェーハ16上に照射する。ウェーハ16上は、図４で説
明したように複数のショット領域に分けられており、各
ショット領域には位置ずれを測定するための位置合わせ
用マーク17が複数箇所に形成されている。そして、投影
レンズ15から照射された光をウェーハ16上で走査して位
置合わせ用マーク17からの反射光を受光素子18で検出
し、図５で述べたように複数の測定点における位置ずれ
を求めることにより位置ずれ後の測定点の座標を得るこ
とができる。
【００２３】レチクルパターンの中心を原点としてｉ番
目の測定点が含まれるショットの中心座標を（ｕi ，ｖ
i ）とし、ショットの中心を原点とするショット内の測
定点の座標を（ｐi ，ｑi ）とすれば、ｉ番目の測定点
の座標は（ｕi ＋ｐi ，ｖi＋ｑi ）で表される。そし
て、ｉ番目の測定点の座標を次に示す一次変換式で補正
後の座標（ｘci，ｙci）に変換する。
目の測定点が含まれるショットの中心座標を（ｕi ，ｖ
i ）とし、ショットの中心を原点とするショット内の測
定点の座標を（ｐi ，ｑi ）とすれば、ｉ番目の測定点
の座標は（ｕi ＋ｐi ，ｖi＋ｑi ）で表される。そし
て、ｉ番目の測定点の座標を次に示す一次変換式で補正
後の座標（ｘci，ｙci）に変換する。
【００２４】 ｘci＝ Ａｕi ＋Ｂｖi ＋Ｍｐi −Ｒｑi ＋Ｅ ・・・・ (2a) ｙci＝ Ｃｕi ＋Ｄｖi ＋Ｒｐi ＋Ｍｑi ＋Ｆ ・・・・ (2b) 式(2a)、(2b)において、定数Ａ〜Ｆはショットの中心座
標のみに関わる一般的な形式の一次変換係数であり、縮
小率誤差、回転、並進ずれを任意の割合で含むウェーハ
の一般的な位置ずれを補正するための補正係数として用
いられる。また、定数Ｍ、Ｒはショット内座標を回転変
換したときの一次変換係数であり、ショット内で回転の
みによる位置ずれを補正するための補正係数として用い
られるものである。
標のみに関わる一般的な形式の一次変換係数であり、縮
小率誤差、回転、並進ずれを任意の割合で含むウェーハ
の一般的な位置ずれを補正するための補正係数として用
いられる。また、定数Ｍ、Ｒはショット内座標を回転変
換したときの一次変換係数であり、ショット内で回転の
みによる位置ずれを補正するための補正係数として用い
られるものである。
【００２５】即ち、本実施例では、位置ずれをウェーハ
の位置ずれとショット内での位置ずれに分離した上でシ
ョット内での位置ずれを回転変位で近似しており、これ
によって補正係数の数を従来に比べて低減している。
の位置ずれとショット内での位置ずれに分離した上でシ
ョット内での位置ずれを回転変位で近似しており、これ
によって補正係数の数を従来に比べて低減している。
【００２６】次に、ｉ番目の測定点の位置ずれ後の測定
座標（ｘi ，ｙi ）と式(2a)、(2b)で示した補正座標
（ｘci，ｙci）の差が最も小さくなるように最小自乗法
を用いて補正係数を求める。最小にすべき量ｅは式(3)
で表される。
座標（ｘi ，ｙi ）と式(2a)、(2b)で示した補正座標
（ｘci，ｙci）の差が最も小さくなるように最小自乗法
を用いて補正係数を求める。最小にすべき量ｅは式(3)
で表される。
【００２７】 ｅ＝ＧΣ（ｘi −ｘci）2 ＋ＨΣ（ｙj −ｙci）2 ・・・・ (3) また、補正係数は次式で表される。
【００２８】
【数１】
【００２９】ここで、Σは全ての測定点についての和を
とることを意味している。また、ＧとＨはｘ方向とｙ方
向の重率を示したものであり、ｘ方向とｙ方向の位置合
わせ精度をＧとＨの比によって変えることができる。位
置合わせ精度がｘ方向とｙ方向で同じならば、Ｇ＝Ｈ＝
１とする。なお、簡単のため、(数１)では測定点を識別
するサフィックスｉを省略している。
とることを意味している。また、ＧとＨはｘ方向とｙ方
向の重率を示したものであり、ｘ方向とｙ方向の位置合
わせ精度をＧとＨの比によって変えることができる。位
置合わせ精度がｘ方向とｙ方向で同じならば、Ｇ＝Ｈ＝
１とする。なお、簡単のため、(数１)では測定点を識別
するサフィックスｉを省略している。
【００３０】ウェーハ上で３個の異なるショットを選択
し各ショット内で２個の測定点における合計６個の位置
ずれ後の測定座標（ｘi ，ｙi ）が得られると、これら
の測定値を(数１)に代入することにより各補正係数の値
が定まる。ショット内の位置ずれを回転近似したことに
起因する誤差は、(数１)で定まるウェーハの位置ずれに
対する補正係数Ａ〜Ｆの値によって調整され抑えられる
ので従来に比べて位置合わせ精度を劣化させることなく
補正係数を求める手間を省くことができる。
し各ショット内で２個の測定点における合計６個の位置
ずれ後の測定座標（ｘi ，ｙi ）が得られると、これら
の測定値を(数１)に代入することにより各補正係数の値
が定まる。ショット内の位置ずれを回転近似したことに
起因する誤差は、(数１)で定まるウェーハの位置ずれに
対する補正係数Ａ〜Ｆの値によって調整され抑えられる
ので従来に比べて位置合わせ精度を劣化させることなく
補正係数を求める手間を省くことができる。
【００３１】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば従来より
少ない測定数で補正係数の値を決定することができるの
で、位置ずれ補正に要する手間を省くことができ、縮小
投影露光装置のパターンの位置合わせが容易になる。
少ない測定数で補正係数の値を決定することができるの
で、位置ずれ補正に要する手間を省くことができ、縮小
投影露光装置のパターンの位置合わせが容易になる。
【図１】 本発明の実施例を示すブロック図
【図２】 縮小投影露光装置の構成を示す断面図
【図３】 位置ずれ測定器の構成を示す断面図
【図４】 ウェーハ上での位置ずれを説明する平面図
【図５】 位置合わせ用マークを示す図
１ 位置ずれ測定器 ２ 補正回路 ３ 縮小投影露光装置 ４ 照明系 ５ レチクル ６ レチクルステージ ７、16、19 ウェーハ ８ ウェーハステージ ９、15 投影レンズ 10 オートフォーカス機構 11 位置合わせ機構 12 光源 13 集光レンズ 14 偏向器 17、21、22 位置合わせ用マーク 18 受光素子 20 グリッド線
Claims (1)
- 【請求項１】 ウェーハ上で少なくとも３個の異なるシ
ョットを選択して各ショット内で少なくとも２つの異な
る位置におけるマークの位置ずれを測定し、該測定値か
ら求めた補正係数を用いてパターンの位置合わせを行う
縮小投影露光装置の位置合わせ方法であって、 各マークの位置ずれをウェーハの位置ずれとショット内
の位置ずれとに分離し各ショット内の位置ずれを回転変
位で近似して該補正係数を求めることを特徴とする縮小
投影露光装置の位置合わせ方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000385702A JP2002184684A (ja) | 2000-12-19 | 2000-12-19 | 縮小投影露光装置の位置合わせ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000385702A JP2002184684A (ja) | 2000-12-19 | 2000-12-19 | 縮小投影露光装置の位置合わせ方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002184684A true JP2002184684A (ja) | 2002-06-28 |
Family
ID=18852921
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000385702A Withdrawn JP2002184684A (ja) | 2000-12-19 | 2000-12-19 | 縮小投影露光装置の位置合わせ方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002184684A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008177567A (ja) * | 2007-01-22 | 2008-07-31 | Asml Netherlands Bv | 測定方法、検査装置およびリソグラフィ装置 |
| TWI620999B (zh) * | 2012-08-14 | 2018-04-11 | 亞得科技工程有限公司 | 描繪裝置、曝光描繪裝置、描繪方法及記錄媒體 |
-
2000
- 2000-12-19 JP JP2000385702A patent/JP2002184684A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008177567A (ja) * | 2007-01-22 | 2008-07-31 | Asml Netherlands Bv | 測定方法、検査装置およびリソグラフィ装置 |
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