JP2002173493A - ポリアルキレングリコールに置換された多価反応性ケイ素化合物及びその製造方法 - Google Patents
ポリアルキレングリコールに置換された多価反応性ケイ素化合物及びその製造方法Info
- Publication number
- JP2002173493A JP2002173493A JP2001172966A JP2001172966A JP2002173493A JP 2002173493 A JP2002173493 A JP 2002173493A JP 2001172966 A JP2001172966 A JP 2001172966A JP 2001172966 A JP2001172966 A JP 2001172966A JP 2002173493 A JP2002173493 A JP 2002173493A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substituted
- chemical formula
- polyalkylene glycol
- group
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 title claims abstract description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 11
- 150000003377 silicon compounds Chemical group 0.000 title description 20
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 25
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- -1 tyl Chemical group 0.000 claims description 19
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 17
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 16
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 8
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 8
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 6
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000006884 silylation reaction Methods 0.000 claims description 5
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 4
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 2
- IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N allene Chemical group C=C=C IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002334 glycols Chemical group 0.000 claims description 2
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 2
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 claims description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 claims description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 31
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 abstract description 8
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 abstract description 8
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 abstract description 5
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 abstract description 5
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 abstract description 4
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract 1
- GRVDJDISBSALJP-UHFFFAOYSA-N methyloxidanyl Chemical compound [O]C GRVDJDISBSALJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 abstract 1
- 229920001521 polyalkylene glycol ether Polymers 0.000 description 12
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 11
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical group C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 4
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002587 poly(1,3-butadiene) polymer Polymers 0.000 description 4
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 4
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 4
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 3
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 description 3
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 description 3
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 3
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 3
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 3
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 3
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000011115 styrene butadiene Substances 0.000 description 3
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920006318 anionic polymer Polymers 0.000 description 2
- WAAAFXQMWIVYDL-UHFFFAOYSA-N bis(dichlorosilyl)methyl-dichloro-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C([SiH](Cl)Cl)[SiH](Cl)Cl WAAAFXQMWIVYDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 2
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical group OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- XXUNIGZDNWWYED-UHFFFAOYSA-N 2-methylbenzamide Chemical group CC1=CC=CC=C1C(N)=O XXUNIGZDNWWYED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006043 5-hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 102100028918 Catenin alpha-3 Human genes 0.000 description 1
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 101000916179 Homo sapiens Catenin alpha-3 Proteins 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- DSVRVHYFPPQFTI-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-methyl-trimethylsilyloxysilane;platinum Chemical compound [Pt].C[Si](C)(C)O[Si](C)(C=C)C=C DSVRVHYFPPQFTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 229920006317 cationic polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- SLKVYZWRRVYKFA-UHFFFAOYSA-N chloro-[dimethylsilyloxy(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C[SiH](C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)Cl SLKVYZWRRVYKFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 239000000412 dendrimer Substances 0.000 description 1
- 229920000736 dendritic polymer Polymers 0.000 description 1
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 125000003827 glycol group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 150000002440 hydroxy compounds Chemical class 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 125000005373 siloxane group Chemical group [SiH2](O*)* 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004073 vulcanization Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/14—Preparation thereof from optionally substituted halogenated silanes and hydrocarbons hydrosilylation reactions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Polyethers (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
合体陰イオンとの反応性に優れ、ポリアルキレングリコ
ールに置換されて無機充てん材との相溶性を向上させる
ことができるカップリング剤及びこれを製造する方法を
提供する。 【解決手段】 数平均分子量200〜10,000で、一つ以上
のポリアルキレングリコールと2個以上のハロゲンに置
換されて2個以上の反応性基を含有する化合物であっ
て、次の式に代表される。 Cl2{CH3O(CH2CH2O)3CH2CH2C
H2}SiCH2Si{CH2CH2CH2(OCH2
CH2)3OCH3}Cl2
Description
リコールに置換された多価反応性ハロシリルポリアルキ
レングリコールエーテル及びその製造方法に係るもの
で、詳しくは、多数のハロゲン原子に置換されてリビン
グ重合体陰イオンとの反応性に優れ、ポリアルキレング
リコールに置換されて無機充てん材との相溶性を向上さ
せることができるカップリング剤及びこれを製造する方
法に関する。
及び機械的特性に優れるため、タイヤ、自動車部品、衝
撃吸収材、履き物、パッキングなどに多様に用いられる
が、耐熱性及び強度の向上のため、加硫の際にシリカ及
びガラス繊維などを配合した有無機混成素材が開発され
てきた。
にあっては、有機高分子と無機素材の充てん材は親和力
がないため、カップリング剤を用いるかまたは有機高分
子を親無機化させて複合材を製造する方法が用いられて
いる。この中で有機高分子を親無機化させる方法として
は、リビング重合体を反応性化合物と反応させて末端に
親無機化作用基が置換された重合体を製造する方法が多
く知られている。
les(1999), 32(25), 8356)ブタジエン陰イオン重合反
応の際に4-ホルミルフェニルアルコキシアミン(4-form
ylphenylalkoxyamine)を用いて親無機化作用基に改質
された重合体を製造する方法を発表している。
roxyethylamino)またはヒドロキシエチルポリオキシエ
チレンアミノ(hydroxyethylpolyoxyethyleneamino)化
合物を用いて親無機化作用基に改質された重合体を製造
することを発表している(Germany Ger. Offen., 5p
p.)。
親無機性ケイ素原子を含んだ作用基を含有していないの
で、シリカのような無機粒子と混合されるときの相溶性
に欠けている。このような問題点を解決するため、ケイ
素化合物を用いた高分子複合材が研究されてきた。その
一例としては、大韓民国特許公開第95-704405号には、
リビング重合体末端にヘキサメチルクロロトリシロキサ
ンを結合させる方法が提案されている。この場合、ポリ
シロキサンと有機高分子間の相分離の問題は解決されて
いるが、反応性が低く、ポリシロキサン1当量に対しリ
ビング重合体末端の一つが結合する形態であるため、重
合体の分子量の増加が困難で、シロキサン基による物性
向上の効果があまり大きくない。
発が要求されている。
反応性基に置換されたケイ素化合物はコーティング、カ
ップリング剤、粘接着剤、シーラントなどに添加されて
コーティング面及び基質との機械的特性を向上させ、耐
熱特性及び相溶性などを向上させることを目的として用
いられる。
号には、不飽和基に置換されたポリシロキサンにSi-H基
をもつポリシロキサンが含められた組成物が開示されて
おり、このような組成物は常温硬化の可能なコーティン
グ組成物の製造に有用な方法と記載されている。米国特
許第5,373,079号には、アルコキシ、アシルオキシ、N−
メチルベンズアミド、アルキルなどが置換されたポリジ
メチルシロキサンが開示され、末端にヒドロキシ基をも
つポリシロキサンと、ビニルまたはメチルアセテートア
ミド基をもつシランとの混合物が米国特許第5,340,899
号に開示されている。このような組成物はシロキサンシ
ーラントのモジュラスを減少させるのに有用な方法と記
載されている。
機機能性末端基に置換されたポリジオルガノシロキサン
ポリマー(organofunctional-terminatedpolydiorganos
iloxane polymer)とその共重合体の製造方法が開示さ
れ、末端に5-ヘキセニル基をもつポリジメチルシロキサ
ンの製造に有用な方法であると記載されている。ここで
は、有機機能性クロロシラン末端ブロック剤(organofu
nctional chlorosilane end-blocker)を用いて有機機
能性末端ポリジオルガノシロキサンポリマー(organofu
nctional-terminated polydiorganosiloxane polymer)
を製造する方法と、有機機能性クロロシラン末端ブロッ
ク剤(organofunctionalchlorosilane end-blocker)及
び有機機能性ジクロロシランを用いて有機機能性末端ポ
リジオルガノシロキサン(organofunctional-terminate
dpolydiorganosiloxane)共重合体を製造する方法が開
示されている。
以上に置換されるときに2個以上のリビング重合体と反
応することにより、多価置換(multi-substituted)さ
れたエラストマー(elastomer)を製造できるようにな
る。しかし、前記ポリジメチルシロキサンは貯蔵安定性
が低くてリビング重合体と反応する前に分解されてしま
うか、またはリビング重合体陰イオンとの反応性が相当
に低くて多価置換が難しい。そこで、貯蔵安定性に優
れ、且つ、反応性に優れたケイ素化合物の開発が必要に
なってきた。
剤(process stabilizers)として用いられるポリシラ
ン化合物の製造方法が公開されている。そして、ハロゲ
ンに置換されたケイ素化合物の接着剤としての応用につ
いては米国特許第6,060,559号に開示され、減湿剤(米
国特許第5,981,070号)、コーティング剤として用いら
れるなど、反応性ケイ素化合物は応用範囲が相当に広い
ため、ハロゲンのような反応基を含有しながら極性基を
含有するケイ素化合物の開発が切実に要求されている。
決するため本発明者らは、反応基を含有するケイ素化合
物を製造する方法を研究し、特に、無機充てん材と親和
性のよい極性基に置換されたケイ素化合物の製造方法を
研究し、少なくとも一つ以上のポリアルキレングリコー
ルが置換されたハロシリルポリアルキレングリコールエ
ーテルマクロマーを製造した。
もち、2個以上のハロゲンに置換されて多様な置換反応
に関与することができる新規ハロシリルポリアルキレン
グリコールエーテルマクロマーを提供することにある。
特に、陰イオンまたは陽イオン重合反応のときに添加さ
れて、1当量以上の重合体と反応する新規ハロシリルポ
リアルキレングリコールエーテルマクロマーを提供する
ことを目的とする。
るため本発明による新規なハロシリルポリアルキレング
リコールエーテルは以下の化学式1で表示され、数平均
分子量200〜10,000で、一つ以上のポリアルキレングリ
コールと2個以上のハロゲンに置換されて2個以上の反
応性基を含むことを特徴とする。 (X)a(R)b(R1)cSi-R3(R4)(R5)-Si(X)d(R)e(R2)f …(化学式1) 前記式においてXは一つ以上のフッ素、塩素、臭素また
はヨウ素のようなハロゲン原子で選択されたもので、
R1、R2は互いに同一であるかまたは異なったもので、水
素、メチル、エチル、プロピルなどの炭素数10以下のア
ルキル基、或いはフッ素または塩素に置換された炭素数
10以下のアルキル基で、R3はメチレン、エチレン、プロ
ピレンなどの炭素数10以下のアルキレンで、R4、R5は互
いに同一であるかまたは異なったもので、水素またはSi
(X)a(R)b(R1)cまたはSi(X)d(R)e(R2)fで、Rはポリアル
キレン基として一般式{C(R6)(R7)CH(R8)C(R6)(R7)Z}-{C
(R6)(R7)C(R6)(R7)O}gR9で、ここでR6、R7、R8は互いに
同一であるかまたは異なった置換体として水素またはメ
チル、エチルなどの炭素数10以下のアルキル、或いはフ
ッ素、塩素、若しくはフッ素または塩素に置換された炭
素数10以下のアルキルで、R9はメチル、エチル、C(=0)
(CH2)fCH3、SO2CH3などで、Zは酸素原子またはp-置換ベ
ンゼン環(C6H4)を示し、a、dは1以上3以下の数で、
b、c、e、fは0と2との間の数で、a+b+c+d+e+f=6で、gは
0と20との間の数を示す。
ルポリアルキレングリコールエーテルは次の化学式2で
表示されるハロゲンに置換されたケイ素‐水素結合基を
もつシランと化学式3で表示される二重結合をもつポリ
アルキレングリコールエーテルをシリル化触媒の存在下
で反応させて製造されることをその特徴とする。 (X)a(H)b(R1)cSi-R3(R4)(R5)-Si(X)d(H)e(R2)f …(化学式2) {C(R6)(R7)=C(R8)C(R6)(R7)Z}-{C(R6)(R7)C(R6)(R7)O}gR9 …(化学式3) 前記式においてX、Z、R1〜R9、a〜gは化学式1で定義し
た通りである。
詳しく説明する。
ルポリアルキレングリコールエーテルは、前記化学式2
で表示される少なくとも一つ以上のハロゲンに置換され
たシラン化合物と化学式3で表示される不飽和基をもつ
ポリアルキレングリコール誘導体をシリル化触媒存在下
で反応させて製造する。
は、Cl2HSiCH2SiHCl2、Cl3SiCH2SiHCl2、1,1,3,3-テト
ラクロロ-2-(ジクロロシリル)-1,3-ジシラブタン(1,1,
3,3-tetrachloro-2-(dichlorosilyl)-1,3-disilabutan
e)、Cl2MeSiCH2SiHCl2、Cl2HSiCH2SiClMe2などで、こ
れらの製法はJ. Organomet. Chem. 1996, 516, 91、米
国特許第5,233,069号、米国特許第5,399,740号、Organo
metallics 1993, 12, 2360号に公開されている。
としては、例えば、CH2=CHCH2O(CH2CH2O)gCH3,CH2=CHCH
2O(CH(CH3)CH2O)gCH3,CH2=CHCH2O(CH2CH2O)gC(=O)CH3,C
H2=CHCH2O(CH2CH2O)gC(=O)(CH2)8CH3,CH2=CHCH 2O(CH2CH
2O)gSO2CH3,CH2=CH-Bz-CH2CH2O(CH2CH2O)gCH3, CH2=CHC
H2O(CH2CH2O)gC(=O)CH3などが挙げられ、これらの化合
物は公知の方法、例えば、Makromol. Chem. 1981, 182,
1379に開示された方法により合成するか、またはアル
ドリッチ(Aldrich)などの製造会社から購入すること
が可能である。
反応部位が一つ以上であるので、この使用量は前記化学
式3で表示される化合物の使用量に対して当量比1/1〜5
/1であることが好ましい。
酸、パラジウム、ロジウム、プラチニウムのような遷移
金属及び錯化合物が用いられ、アルドリッチなどの製造
会社から購入することが可能であり、且つ公知の方法に
より合成することができる。反応溶媒としてはベンゼ
ン、トルエン、キシレンなどの有機溶媒を用いることが
でき、特別に制限されない。
くは、常温〜20℃で、窒素雰囲気下で攪拌する。
週間程度であることが好ましい。
と、前記化学式1で表示されるハロシリルポリアルキレ
ングリコールエーテルが得られる。
るハロシリルポリアルキレングリコールエーテルにおい
て、ハロゲン基はリビング陰イオン含有化合物、陽イオ
ン含有化合物、ヒドロキシ基、アミン基をもつ化合物と
の反応性に優れ、多様な反応に関与することができる。
特に、リビング陰イオン重合体、陽イオン重合体と反応
性に優れ、高分子とケイ素化合物との共有結合を形成す
るので、ポリアルキレングリコールを含有するケイ素化
合物に改質された重合体の製造に利用されることができ
る。また、ポリアルキレングリコール基は機械的特性の
向上だけでなく、シリカ、カーボンブラック、金属酸化
物、金属粉末、ガラス繊維、その他のセラミックなどの
無機充てん材と相互作用を通して相溶性を向上させる役
割をして、有無機ハイブリッド複合材に利用されること
ができる。
レングリコールエーテルは、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、アセトニトリル、スルホラン、プロピレンカルボ
ナート、アセトンなどのような一般の有機溶媒によく溶
け、陰イオン、陽イオンまたはラジカル開始剤により生
成されたリビング重合体イオンと反応する。このとき、
重合体イオンは不飽和基をもつ芳香族または脂肪族ジエ
ンを単量体とする反応生成物であるか、またはポリシロ
キサン、シクロシロキサンなども可能である。
チレングリコールに置換されたテトラクロロケイ素化合
物を陰イオン重合反応により生成されたポリスチレン−
ブタジエンリビング重合体陰イオンと反応させると、3
個以上のポリスチレンブタジエン重合体に置換され2個
のトリエチレングリコールに置換された改質化されたポ
リスチレン−ブタジエン−シランが製造される。
アルキレングリコールを含有する多価反応性ケイ素化合
物を用いて改質化された重合体を製造することができる
ので、導電性ゴム、タイヤ接着剤、コーティング溶液、
シーラント、塗料などの多様な用途の組成物に応用する
ことができる。
るが、本発明はこの実施例により限定されるものではな
い。
ルエン120mlに溶解させた。ここに、プラチニウム−ジ
ビニルテトラ−メチルジシロキサン錯化合物(in xylen
e)0.1mlとCH2=CHCH2O(CH2CH2O)3CH3 18gを入れた後24
時間の間80℃で攪拌した。反応終了後に反応物から溶媒
を除去した後、アルゴン雰囲気下で生成物をn-ヘキサン
に溶かしてからチャコール(charcoal)を通過させた。
n-ヘキサンと残っていたCl2HSiCH2SiHCl2を減圧下で除
去してCl2{CH3O(CH2CH2O)3CH2CH2CH2}SiCH2Si{CH2CH2CH
2(OCH2CH2)3OCH3}Cl2を製造した(生成量24g)。1 H-NMR(CDCl3, ppm): 1.2, 3.3, 3.4〜3.6 IR(KBr, cm-1): 2958, 2881, 1257(Si-CH2), 1095, 103
0, 802(Si-Cl)
1のように変更して反応させて、ポリアルキレングリコ
ールを含有する多価反応性ケイ素化合物を製造した(収
率90%以上)。製造されたポリアルキレングリコールを
含有する多価反応性ケイ素化合物は 1H-NMR及びSi-NMR、
FT-IRで分析して確認し、以下の表1に1H-NMR値を整理
した。
反応性ケイ素化合物がポリスチレンブタジエン重合体に
置換されたポリスチレン−ブタジエン−ポリシロキサン
の製造
クロヘキサン5,000gを入れ、テトラヒドロフラン100g、
スチレンモノマー200g及びブタジエンモノマー800gを入
れた後、n-ブチルリチウム10mmolを添加して1時間の間
重合し、前記実施例1で得られたポリアルキレングリコ
ールを含有する多価反応性ケイ素化合物0.71gを添加し
て高分子の末端をカップリングさせた。10分経過した後
にメタノール溶液(1molシクロヘキサン溶液)5mlを加
えて高分子の活性部位を完全に消失させた。
ジエン単位の1,2-ビニル結合含有率57%、カップリング
数(C/N)4で、カップリング効率(C/E)50%で、数平均分
子量が約250,000であるスチレン−ブタジエンランダム
共重合体を得た。
反応性ケイ素化合物がポリスチレンブタジエン重合体に
置換されたポリスチレン−ブタジエン−ポリシロキサン
の製造
シクロヘキサン5,000gを入れ、テトラヒドロフラン100
g、スチレンモノマー200g及びブタジエンモノマー800g
を入れた後、n-ブチルリチウム10mmolを添加して1時間
の間重合した後、前記実施例2で得られたポリシロキサ
ン化合物1.24gを添加して高分子の末端をカップリング
させた。10分経過した後メタノール溶液(1molシクロヘ
キサン溶液)5mlを加えて高分子の活性部位を完全に消
失させた。
ジエン単位の1,2-ビニル結合含有率57%、カップリング
数(C/N)4で、数平均分子量が約250,000のスチレン−ブ
タジエンランダム共重合体を得た。
反応性ケイ素化合物がポリスチレンブタジエン重合体に
置換されたポリスチレン−ブタジエン−ポリシロキサン
の製造
シクロヘキサン5,000gを入れ、テトラヒドロフラン100
g、スチレンモノマー200g及びブタジエンモノマー800g
を入れた後、n-ブチルリチウム10mmolを添加して1時間
の間重合し、前記実施例5で得たポリシロキサン化合物
1.02gを添加して高分子の末端をカップリングさせた。1
0分経過した後にメタノール溶液(1molシクロヘキサン
溶液)5mlを加えて高分子の活性部位を完全に消失させ
た。
ジエン単位の1,2-ビニル結合含有率57%、カップリング
数(C/N)5で、数平均分子量が約300,000のスチレン-ブ
タジエンランダム共重合を得た。
キレングリコールを含有する多価反応性ケイ素化合物は
陰イオンまたはリビング重合体陰イオンとの反応性が高
く、適切な活性の離脱基を含むことにより、陰イオン重
合体との反応の際にリビング状態の重合体溶液に添加さ
れて穏和な反応条件で多価置換反応に関与して、一定し
た単量体の反復単位で構成された高分子の末端または側
鎖に第3作用基を導入することができ、ヒドロキシ化合
物、その他の置換反応に関与して多様な新規化合物製造
に応用されることができると共に、特に、ポリアルキレ
ングリコール基が導入される高分子の製造、コーティン
グ剤、表面改質剤、粘接着剤、デンドリマーの製造に有
用であり、また高分子に有無機の接合された混成高分子
を製造することができる。
Claims (2)
- 【請求項1】 以下の化学式1で表示され、数平均分子
量200〜10,000で、一つ以上のポリアルキレングリコー
ルと2個以上のハロゲンに置換されて2個以上の反応性
基を含有する化合物。 (X)a(R)b(R1)cSi-R3(R4)(R5)-Si(X)d(R)e(R2)f …(化学式1) 前記式においてXは一つ以上のフッ素、塩素、臭素また
はヨウ素のようなハロゲン原子で選択されたもので、 R1、R2は互いに同一であるか異なったもので、水素、メ
チル、エチル、プロピルなどの炭素数10以下のアルキル
基或いはフッ素または塩素に置換された炭素数10以下の
アルキル基であり、 R3はメチレン、エチレン、プロピレンなどの炭素数10以
下のアルキレンで、 R4、R5は互いに同一であるか異なったもので、水素また
はSi(X)a(R)b(R1)cまたはSi(X)d(R)e(R2)fで、 Rはポリアルキレン基として一般式{C(R6)(R7)CH(R8)C(R
6)(R7)Z}-{C(R6)(R7)C(R6)(R7)O}gR9であり、ここで、R
6、R7、R8は互いに同一であるか異なった置換体として
水素またはメチル、エチルなどの炭素数10以下のアルキ
ル、或いはフッ素、塩素、若しくはフッ素または塩素に
置換された炭素数10以下のアルキルで、R9はメチル、エ
チル、C(=O)(CH2)fCH3、SO2CH3などで、Zは酸素原子ま
たはp-置換ベンゼン環(C6H4)を示し、 a、dは1以上3以下の数で、 b、c、e、fは0と2との間の数で、 a+b+c+d+e+f=6で、 gは0と20との間の数を示す。 - 【請求項2】 以下の化学式2で表示されるハロゲンに
置換されたシラン化合物と以下の化学式3で表示される
不飽和基に置換されたポリアルキレングリコール誘導体
のうち一つ以上の化合物をシリル化触媒の存在下で30分
〜一週間の間、‐20〜150℃で反応させて化学式1の化
合物を製造する方法。 (X)a(H)b(R1)cSi-R3(R4)(R5)-Si(X)d(H)e(R2)f …(化学式2) {C(R6)(R7)=C(R8)C(R6)(R7)Z}‐{C(R6)(R7)C(R6)(R7)O}gR9 …(化学式 3) 前記式においてX、Z、R1〜R9、a〜gは化学式1で定義し
た通りである。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR00-71158 | 2000-11-28 | ||
KR10-2000-0071158A KR100398947B1 (ko) | 2000-11-28 | 2000-11-28 | 폴리알킬렌글리콜로 치환된 다가반응성(multi-reactive)규소화합물 및 그제조방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002173493A true JP2002173493A (ja) | 2002-06-21 |
JP3609753B2 JP3609753B2 (ja) | 2005-01-12 |
Family
ID=19701860
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001172966A Expired - Fee Related JP3609753B2 (ja) | 2000-11-28 | 2001-06-07 | ポリアルキレングリコールに置換された多価反応性ケイ素化合物及びその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6555644B2 (ja) |
EP (1) | EP1209161A3 (ja) |
JP (1) | JP3609753B2 (ja) |
KR (1) | KR100398947B1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5101291B2 (ja) * | 2004-10-26 | 2012-12-19 | 株式会社ブリヂストン | 連結基を有する官能化ポリマー |
BRPI0910361A2 (pt) * | 2008-07-16 | 2015-10-06 | Dow Global Technologies Inc | composto de polialquileno glicol terminado por silila, método para preparar um composto de polialquileno glicol terminado por silila e composição refrigerante |
EP2501559B1 (en) * | 2009-11-16 | 2014-04-30 | Bridgestone Corporation | Functionalized polymer |
EP3844222B1 (en) | 2018-08-30 | 2023-09-06 | Active Tools International (HK) Ltd. | Tire sealant composition |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6363684A (ja) * | 1986-09-04 | 1988-03-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 有機ケイ素化合物 |
JPH0341123A (ja) * | 1989-07-07 | 1991-02-21 | Agency Of Ind Science & Technol | ポリ(ジシレン―エチレン)類の製造方法 |
JPH03258744A (ja) * | 1990-03-08 | 1991-11-19 | Sagami Chem Res Center | 不飽和カルボニル化合物の製造方法 |
US5858468A (en) | 1990-10-29 | 1999-01-12 | Mcdonnell Douglas Corporation | Chemical resistant coatings |
KR940010290B1 (ko) * | 1991-12-24 | 1994-10-22 | 한국과학기술연구원 | 비스실릴메탄 및 그들의 제조방법 |
US5194553A (en) | 1992-05-07 | 1993-03-16 | Dow Corning Corporation | Process for preparation of organofunctional siloxanes |
US5373079A (en) | 1993-10-19 | 1994-12-13 | Dow Corning Corporation | Method for the preparation of polydimethylsiloxanes having low reactivity endgroups and high reactivity endgroups and polydimethylsiloxanes made thereby |
US5340899A (en) * | 1993-11-22 | 1994-08-23 | Dow Corning Corporation | Method for the preparation of polydimethylsiloxanes having low reactivity endgroups and high reactivity endgroups wherein the polydimethylsiloxanes contain ethylene chain linkages |
US5391794A (en) * | 1994-01-27 | 1995-02-21 | Korea Institute Of Science And Technology | Three-legged silane coupling agents and their preparation methods |
KR0142142B1 (ko) * | 1994-06-24 | 1998-07-01 | 김은영 | 비스(디클로로오르게노실릴)알칸 및 그것의 제조방법 |
US6005036A (en) * | 1995-07-03 | 1999-12-21 | Ciba Specialty Chemical Corporation | Polysilanes |
EP0780424B2 (en) | 1995-07-07 | 2012-08-01 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Water absorbent powder and process for the production thereof |
US6060559A (en) | 1998-09-04 | 2000-05-09 | Dow Corning Corporation | Curable polyolefin compositions containing organosilicon compounds as adhesion additives |
DE19956810C1 (de) * | 1999-11-25 | 2001-02-15 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von halogenierten 1,2-Disilaethanen |
-
2000
- 2000-11-28 KR KR10-2000-0071158A patent/KR100398947B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2001
- 2001-06-07 JP JP2001172966A patent/JP3609753B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2001-06-11 EP EP01305067A patent/EP1209161A3/en not_active Withdrawn
- 2001-06-13 US US09/880,601 patent/US6555644B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1209161A3 (en) | 2003-12-03 |
EP1209161A2 (en) | 2002-05-29 |
KR100398947B1 (ko) | 2003-09-22 |
US20020103322A1 (en) | 2002-08-01 |
KR20020041519A (ko) | 2002-06-03 |
JP3609753B2 (ja) | 2005-01-12 |
US6555644B2 (en) | 2003-04-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CA2144639C (en) | Single component inorganic/organic network materials and precursors thereof | |
AU2004283881B2 (en) | Silane and silicic acid polycondensates with radicals containing branched-chain urethane, acid amide and/or carboxylic acid ester groups | |
US7939614B2 (en) | Silicon-containing curing composition and heat cured product thereof | |
Markovic et al. | Polyhedral oligomeric silsesquioxanes: From early and strategic development through to materials application | |
KR102015938B1 (ko) | 산 무수물기 함유 오르가노실록산 및 그의 제조 방법 | |
JP2008522991A (ja) | 高い反応性および改善された安定性を有するα−アミノメチル−アルコキシシラン | |
EP0530496B1 (en) | Organosilicon compounds and method for preparing same | |
WO2014097573A1 (ja) | 新規エチニル基含有オルガノポリシロキサン化合物、分子鎖両末端エチニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン化合物の製造方法、アルコキシシリル-エチレン基末端オルガノシロキサンポリマーの製造方法、室温硬化性組成物及びその硬化物である成形物 | |
CN114929784B (zh) | 低硅氧烷环含量的官能化q-t-硅氧烷基聚合物材料和制备方法 | |
JPH0395266A (ja) | 硬化剤、その製造方法及び該硬化剤を用いた硬化性組成物 | |
TW459003B (en) | Method for preparing polydiorganosiloxanes partially end-blocked with substituted silethylene groups | |
KR101745608B1 (ko) | 산무수물기 함유 오르가노실록산 및 그 제조방법 | |
JP4018873B2 (ja) | ハロゲンで置換された多価反応性ポリシロキサン化合物及びその製造方法 | |
US5384382A (en) | Crosslinkable polysilane compositions and cured products thereof | |
JP2013129809A (ja) | 酸無水物基含有オルガノシロキサン及びその製造方法 | |
JP4671050B2 (ja) | 含ケイ素水溶性高分子化合物及びその製造方法、プライマー組成物、コーティング剤組成物、並びに該組成物が被覆・処理された物品 | |
JP2002173493A (ja) | ポリアルキレングリコールに置換された多価反応性ケイ素化合物及びその製造方法 | |
JP2005517749A (ja) | アミノメチレン官能性シロキサン | |
WO2018088485A1 (ja) | 共変性シリコーン | |
JP3496183B2 (ja) | ポリアルキレンオキシに置換された反応性シロキサン化合物及びその製造方法 | |
JPH08503012A (ja) | フッ素化共重合体の製造方法 | |
JPH0236133B2 (ja) | ||
JP2023049215A (ja) | 硬化性組成物、硬化物および被覆基材 | |
JP2016506423A (ja) | 特別なアミノアルキル官能性アルコキシシロキサンオリゴマー混合物、その製造法および前記混合物の使用 | |
JPH0327581B2 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040609 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040906 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20041005 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20041014 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071022 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081022 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081022 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091022 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101022 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101022 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111022 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121022 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131022 Year of fee payment: 9 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |