JP2002173483A - ２−スルホニル−４−オキシピリジン誘導体の製造方法 - Google Patents
２−スルホニル−４−オキシピリジン誘導体の製造方法Info
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- JP2002173483A JP2002173483A JP2000372795A JP2000372795A JP2002173483A JP 2002173483 A JP2002173483 A JP 2002173483A JP 2000372795 A JP2000372795 A JP 2000372795A JP 2000372795 A JP2000372795 A JP 2000372795A JP 2002173483 A JP2002173483 A JP 2002173483A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ２−スルホニル−４−オキシピリジン誘導体
を、温和な条件下に、簡便に工業的に有利に製造し得る
方法を提供する。 【解決手段】 一般式（Ｉ） 【化１】 で示されるカルボニル化合物を、一般式（ＩＩＩ） 【化２】 で示されるアルコールの存在下、一般式（ＩＩ） 【化３】 で示されるスルホニルシアニドと反応させることを特徴
とする一般式（ＩＶ） 【化４】 で示される２−スルホニル−４−オキシピリジン誘導体
の製造方法。
を、温和な条件下に、簡便に工業的に有利に製造し得る
方法を提供する。 【解決手段】 一般式（Ｉ） 【化１】 で示されるカルボニル化合物を、一般式（ＩＩＩ） 【化２】 で示されるアルコールの存在下、一般式（ＩＩ） 【化３】 で示されるスルホニルシアニドと反応させることを特徴
とする一般式（ＩＶ） 【化４】 で示される２−スルホニル−４−オキシピリジン誘導体
の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、２−スルホニル−
４−オキシピリジン誘導体の製造方法に関する。本発明
により製造される２−スルホニル−４−オキシピリジン
誘導体は、医薬、農薬などの合成原料として、例えば心
血管疾患治療薬の合成中間体として有用な２，４−ジヒ
ドロキシピリジンの合成原料として有用である（特表２
０００−５０２７０９号公報参照）。
４−オキシピリジン誘導体の製造方法に関する。本発明
により製造される２−スルホニル−４−オキシピリジン
誘導体は、医薬、農薬などの合成原料として、例えば心
血管疾患治療薬の合成中間体として有用な２，４−ジヒ
ドロキシピリジンの合成原料として有用である（特表２
０００−５０２７０９号公報参照）。
【０００２】
【従来の技術】２，４−ジヒドロキシピリジンの合成法
としては、（１）２，４−ジヒドロキシ−３−ピリジン
カルボン酸エステルを、水を含有するリン酸と加熱する
方法（特表２０００−５０２７０９号公報参照）、
（２）１−メトキシ−１−ブテン−３−インに炭酸ジエ
チルおよびナトリウムエトキシドを反応させ、得られる
３，５，５−トリエトキシ−３−ペンテン酸エチルにア
ンモニアを作用させて４−アミノ−２−ヒドロキシピリ
ジンとし、次いでアミノ基を濃硫酸中でジアゾ化し、さ
らに加水分解する方法（ジャーナル・オブ・ヘテロサイ
クリック・ケミストリー（Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉ
ｃ Ｃｈｅｍ．）、第１４巻、１２９５頁（１９７７
年）参照）、（３）１，３−ジメチル−２−イミダゾリ
ジノン中で、２，４−ジメトキシピリジンにヘキサメチ
ルジシラチアンおよびナトリウムメトキシドを作用させ
る方法（ヘテロサイクルズ（Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅ
ｓ）、第３６巻、３２３頁（１９９３年）参照）、
（４）４−ベンジルオキシピリジン−Ｎ−オキシドを無
水酢酸で処理して４−ベンジルオキシ−２−ピリドンと
し、これをパラジウム−炭素を用いて還元する方法（ジ
ャーナル・オブ・ヘテロサイクリック・ケミストリー
（Ｊ.Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ ｃｈｅｍ．）３８９
頁（１９７５年）参照）が知られている。
としては、（１）２，４−ジヒドロキシ−３−ピリジン
カルボン酸エステルを、水を含有するリン酸と加熱する
方法（特表２０００−５０２７０９号公報参照）、
（２）１−メトキシ−１−ブテン−３−インに炭酸ジエ
チルおよびナトリウムエトキシドを反応させ、得られる
３，５，５−トリエトキシ−３−ペンテン酸エチルにア
ンモニアを作用させて４−アミノ−２−ヒドロキシピリ
ジンとし、次いでアミノ基を濃硫酸中でジアゾ化し、さ
らに加水分解する方法（ジャーナル・オブ・ヘテロサイ
クリック・ケミストリー（Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉ
ｃ Ｃｈｅｍ．）、第１４巻、１２９５頁（１９７７
年）参照）、（３）１，３−ジメチル−２−イミダゾリ
ジノン中で、２，４−ジメトキシピリジンにヘキサメチ
ルジシラチアンおよびナトリウムメトキシドを作用させ
る方法（ヘテロサイクルズ（Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅ
ｓ）、第３６巻、３２３頁（１９９３年）参照）、
（４）４−ベンジルオキシピリジン−Ｎ−オキシドを無
水酢酸で処理して４−ベンジルオキシ−２−ピリドンと
し、これをパラジウム−炭素を用いて還元する方法（ジ
ャーナル・オブ・ヘテロサイクリック・ケミストリー
（Ｊ.Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ ｃｈｅｍ．）３８９
頁（１９７５年）参照）が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記（１）の方法は、
２，４−ジヒドロキシ−３−ピリジンカルボン酸エステ
ルを得るために、ジアルキルアセトンジカルボキシレー
ト、オルトギ酸メチルおよび無水酢酸を反応させ、さら
に水酸化アンモニウムと塩酸を作用させるという工程を
要し、また反応に際しては耐酸性の設備が必須となるた
め、設備負担が増大する。上記（２）の方法は、出発物
質として用いる１−メトキシ−１−ブテン−３−インを
工業的に入手することが困難である上、多工程を要する
ので操作が煩雑である。上記（３）の方法は、２，４−
ジメトキシピリジンおよびヘキサメチルジシラチアンが
共に高価である。上記（４）の方法は原料として用いる
４−ベンジルオキシピリジン−Ｎ−オキシドの合成が煩
雑であるという問題点を有する。したがって、これらの
方法は、２，４−ジヒドロピリジンの工業的に有利な製
造方法とは言い難い。
２，４−ジヒドロキシ−３−ピリジンカルボン酸エステ
ルを得るために、ジアルキルアセトンジカルボキシレー
ト、オルトギ酸メチルおよび無水酢酸を反応させ、さら
に水酸化アンモニウムと塩酸を作用させるという工程を
要し、また反応に際しては耐酸性の設備が必須となるた
め、設備負担が増大する。上記（２）の方法は、出発物
質として用いる１−メトキシ−１−ブテン−３−インを
工業的に入手することが困難である上、多工程を要する
ので操作が煩雑である。上記（３）の方法は、２，４−
ジメトキシピリジンおよびヘキサメチルジシラチアンが
共に高価である。上記（４）の方法は原料として用いる
４−ベンジルオキシピリジン−Ｎ−オキシドの合成が煩
雑であるという問題点を有する。したがって、これらの
方法は、２，４−ジヒドロピリジンの工業的に有利な製
造方法とは言い難い。
【０００４】しかして、本発明の目的は、２−スルホニ
ル−４−オキシピリジン誘導体を、温和な条件下に、簡
便に工業的に有利に製造し得る方法を提供することにあ
る。
ル−４−オキシピリジン誘導体を、温和な条件下に、簡
便に工業的に有利に製造し得る方法を提供することにあ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記の
目的は、一般式（Ｉ）
目的は、一般式（Ｉ）
【０００６】
【化６】
【０００７】（式中、Ｒ1は水素原子または置換基を有
していてもよいアルキル基を表し、Ｒ2は水素原子また
は置換基を有していてもよいアルキル基もしくはアリー
ル基を表し、Ｒ3は置換基を有していてもよいアルキル
基またはアラルキル基を表し、ＸおよびＹは一緒になっ
て単結合を表すか、またはそれぞれ独立してＸは水素原
子を表し、Ｙは−ＯＲ3で示される基を表す。）で示さ
れるカルボニル化合物（以下、カルボニル化合物（Ｉ）
と略記する）を、一般式（ＩＩＩ）
していてもよいアルキル基を表し、Ｒ2は水素原子また
は置換基を有していてもよいアルキル基もしくはアリー
ル基を表し、Ｒ3は置換基を有していてもよいアルキル
基またはアラルキル基を表し、ＸおよびＹは一緒になっ
て単結合を表すか、またはそれぞれ独立してＸは水素原
子を表し、Ｙは−ＯＲ3で示される基を表す。）で示さ
れるカルボニル化合物（以下、カルボニル化合物（Ｉ）
と略記する）を、一般式（ＩＩＩ）
【０００８】
【化７】
【０００９】（式中、Ｒ5は置換基を有していてもよい
アルキル基またはアラルキル基を表す。）で示されるア
ルコール（以下、アルコール（ＩＩＩ）と略記する）の
存在下、一般式（ＩＩ）
アルキル基またはアラルキル基を表す。）で示されるア
ルコール（以下、アルコール（ＩＩＩ）と略記する）の
存在下、一般式（ＩＩ）
【００１０】
【化８】
【００１１】（式中、Ｒ4は置換基を有していてもよい
アルキル基、シクロアルキル基、アリール基またはアラ
ルキル基を表す。）で示されるスルホニルシアニド（以
下、スルホニルシアニド（ＩＩ）と略記する）と反応さ
せることを特徴とする一般式（ＩＶ）
アルキル基、シクロアルキル基、アリール基またはアラ
ルキル基を表す。）で示されるスルホニルシアニド（以
下、スルホニルシアニド（ＩＩ）と略記する）と反応さ
せることを特徴とする一般式（ＩＶ）
【００１２】
【化９】
【００１３】（式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ4は前記定義の
とおりであり、Ｒ6は置換基を有していてもよいアルキ
ル基またはアラルキル基を示す。）で示される２−スル
ホニル−４−オキシピリジン誘導体（以下、２−スルホ
ニル−４−オキシピリジン（ＩＶ）と略記する）の製造
方法を提供することにより達成される。
とおりであり、Ｒ6は置換基を有していてもよいアルキ
ル基またはアラルキル基を示す。）で示される２−スル
ホニル−４−オキシピリジン誘導体（以下、２−スルホ
ニル−４−オキシピリジン（ＩＶ）と略記する）の製造
方法を提供することにより達成される。
【００１４】また本発明は、上記の方法により得られる
２−スルホニル−４−オキシピリジン（ＩＶ）に包含さ
れる一般式（Ｖ）
２−スルホニル−４−オキシピリジン（ＩＶ）に包含さ
れる一般式（Ｖ）
【００１５】
【化１０】
【００１６】（式中、Ｒ1は水素原子または置換基を有
していてもよいアルキル基を表し、Ｒ2は水素原子また
は置換基を有していてもよいアルキル基もしくはアリー
ル基を表し、Ｒ4は置換基を有していてもよいアルキル
基、シクロアルキル基、アリール基またはアラルキル基
を表し、Ｒ7は置換基を有していてもよいアラルキル基
を表す。）で示される２−スルホニル−４−オキシピリ
ジン誘導体をも含む。
していてもよいアルキル基を表し、Ｒ2は水素原子また
は置換基を有していてもよいアルキル基もしくはアリー
ル基を表し、Ｒ4は置換基を有していてもよいアルキル
基、シクロアルキル基、アリール基またはアラルキル基
を表し、Ｒ7は置換基を有していてもよいアラルキル基
を表す。）で示される２−スルホニル−４−オキシピリ
ジン誘導体をも含む。
【００１７】
【発明の実施の形態】上記一般式中、Ｒ1が表すアルキ
ル基としては、炭素数１〜６の１級または２級アルキル
基が好ましく、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｎ−
ペンチル基、ヘキシル基などが挙げられる。これらのア
ルキル基は置換基を有していてもよく、かかる置換基と
しては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ
素原子などのハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、
プロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシル基；水酸
基；ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基、ｔｅｒ
ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ基などの三置換シリ
ルオキシ基；ニトロ基などが挙げられる。
ル基としては、炭素数１〜６の１級または２級アルキル
基が好ましく、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｎ−
ペンチル基、ヘキシル基などが挙げられる。これらのア
ルキル基は置換基を有していてもよく、かかる置換基と
しては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ
素原子などのハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、
プロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシル基；水酸
基；ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基、ｔｅｒ
ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ基などの三置換シリ
ルオキシ基；ニトロ基などが挙げられる。
【００１８】Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6がそれぞれ
表すアルキル基としては、炭素数１〜６の直鎖状または
分岐状のアルキル基が好ましく、例えばメチル基、エチ
ル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イ
ソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ヘ
キシル基などが挙げられる。これらのアルキル基は置換
基を有していてもよく、かかる置換基としては、例えば
フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハ
ロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、
ブトキシ基などのアルコキシル基；水酸基；ｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジフ
ェニルシリルオキシ基などの三置換シリルオキシ基；ニ
トロ基などが挙げられる。
表すアルキル基としては、炭素数１〜６の直鎖状または
分岐状のアルキル基が好ましく、例えばメチル基、エチ
ル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イ
ソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ヘ
キシル基などが挙げられる。これらのアルキル基は置換
基を有していてもよく、かかる置換基としては、例えば
フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハ
ロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、
ブトキシ基などのアルコキシル基；水酸基；ｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジフ
ェニルシリルオキシ基などの三置換シリルオキシ基；ニ
トロ基などが挙げられる。
【００１９】Ｒ2およびＲ4がそれぞれ表すアリール基と
しては、例えばフェニル基、ナフチル基などが挙げられ
る。これらのアリール基は置換基を有していてもよく、
かかる置換基としては、例えばメチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、
ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基などのアルキル基；フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロ
ゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブ
トキシ基などのアルコキシル基；水酸基；ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェ
ニルシリルオキシ基などの三置換シリルオキシ基などが
挙げられる。
しては、例えばフェニル基、ナフチル基などが挙げられ
る。これらのアリール基は置換基を有していてもよく、
かかる置換基としては、例えばメチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、
ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基などのアルキル基；フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロ
ゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブ
トキシ基などのアルコキシル基；水酸基；ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェ
ニルシリルオキシ基などの三置換シリルオキシ基などが
挙げられる。
【００２０】Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7がそれぞれ
表すアラルキル基としては、例えばベンジル基、ジフェ
ニルメチル基、トリフェニルメチル基、フェニルエチル
基などが挙げられる。これらのアラルキル基は置換基を
有していてもよく、かかる置換基としては、例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基な
どのアルキル基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨ
ウ素原子などのハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシル基；
水酸基；ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基、ｔ
ｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ基などの三置換
シリルオキシ基などが挙げられる。
表すアラルキル基としては、例えばベンジル基、ジフェ
ニルメチル基、トリフェニルメチル基、フェニルエチル
基などが挙げられる。これらのアラルキル基は置換基を
有していてもよく、かかる置換基としては、例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基な
どのアルキル基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨ
ウ素原子などのハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシル基；
水酸基；ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基、ｔ
ｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ基などの三置換
シリルオキシ基などが挙げられる。
【００２１】カルボニル化合物（Ｉ）としては、例えば
４−メトキシ−３−ブテン−２−オン、４−エトキシ−
３−ブテン−２−オン、４−メトキシ−３−メチル−３
−ブテン−２−オン、１−メトキシ−１−ペンテン−３
−オン、１，１，１−トリクロロメチル−４−メトキシ
３−ブテン−２−オン、１，１−ジメトキシ−３−ブタ
ノンなどが挙げられる。
４−メトキシ−３−ブテン−２−オン、４−エトキシ−
３−ブテン−２−オン、４−メトキシ−３−メチル−３
−ブテン−２−オン、１−メトキシ−１−ペンテン−３
−オン、１，１，１−トリクロロメチル−４−メトキシ
３−ブテン−２−オン、１，１−ジメトキシ−３−ブタ
ノンなどが挙げられる。
【００２２】スルホニルシアニド（ＩＩ）としては、例
えばベンゼンスルホニルシアニド、メタンスルホニルシ
アニド、エタンスルホニルシアニド、４−ブロモベンゼ
ンスルホニルシアニド、４−シアノベンゼンスルホニル
シアニド、ｐ−トルエンスルホニルシアニドなどが挙げ
られる。これらの中でも、ベンゼンスルホニルシアニ
ド、メタンスルホニルシアニド、ｐ−トルエンスルホニ
ルシアニドが好ましい。スルホニルシアニド（ＩＩ）の
使用量に特に制限はないが、通常、カルボニル化合物
（Ｉ）１モルに対して０．１〜２モルの範囲であるのが
好ましく、０．５〜１モルの範囲であるのがより好まし
い。
えばベンゼンスルホニルシアニド、メタンスルホニルシ
アニド、エタンスルホニルシアニド、４−ブロモベンゼ
ンスルホニルシアニド、４−シアノベンゼンスルホニル
シアニド、ｐ−トルエンスルホニルシアニドなどが挙げ
られる。これらの中でも、ベンゼンスルホニルシアニ
ド、メタンスルホニルシアニド、ｐ−トルエンスルホニ
ルシアニドが好ましい。スルホニルシアニド（ＩＩ）の
使用量に特に制限はないが、通常、カルボニル化合物
（Ｉ）１モルに対して０．１〜２モルの範囲であるのが
好ましく、０．５〜１モルの範囲であるのがより好まし
い。
【００２３】アルコール（ＩＩＩ）としては、例えばメ
タノール、エタノール、ｎ−プロパノール、２−プロパ
ノール、ブタノール、２−ブタノール、ｎ−ペンタノー
ル、２−ペンタノール、ベンジルアルコール、ヒドロシ
ンナムアルコール、２−フェニルエタノールなどが挙げ
られる。これらの中でも、ベンジルアルコール、ブタノ
ール、ヒドロシンナムアルコールが好ましい。アルコー
ル（ＩＩＩ）の使用量に特に制限はないが、通常、カル
ボニル化合物１モルに対して０．１〜５０モルの範囲で
あるのが好ましく、０．１〜２０モルの範囲であるのが
より好ましい。
タノール、エタノール、ｎ−プロパノール、２−プロパ
ノール、ブタノール、２−ブタノール、ｎ−ペンタノー
ル、２−ペンタノール、ベンジルアルコール、ヒドロシ
ンナムアルコール、２−フェニルエタノールなどが挙げ
られる。これらの中でも、ベンジルアルコール、ブタノ
ール、ヒドロシンナムアルコールが好ましい。アルコー
ル（ＩＩＩ）の使用量に特に制限はないが、通常、カル
ボニル化合物１モルに対して０．１〜５０モルの範囲で
あるのが好ましく、０．１〜２０モルの範囲であるのが
より好ましい。
【００２４】本発明の製造方法において、使用するアル
コール（ＩＩＩ）がカルボニル化合物（Ｉ）が有するア
ルコール残基Ｒ3を有する（Ｒ5＝Ｒ3）場合には、１種
類の２−スルホニル−４−オキシピリジン誘導体（Ｉ
Ｖ）が生成物として得られる。アルコール（ＩＩＩ）が
カルボニル化合物（Ｉ）が有するアルコール残基Ｒ3を
有しない（Ｒ5≠Ｒ3）場合、２種類の２−スルホニル−
４−オキシピリジン誘導体（ＩＶ）の混合物が得られる
ことがある。この場合、アルコール（ＩＩＩ）の使用量
がカルボニル化合物（Ｉ）１モルに対して１モルよりも
少ないときには、カルボニル化合物（Ｉ）が有するアル
コール残基Ｒ3を有する２−スルホニル−４−オキシピ
リジン誘導体（ＩＶ）（Ｒ6＝Ｒ3）が主生成物として得
られる。一方、アルコール（ＩＩＩ）の使用量がカルボ
ニル化合物（Ｉ）１モルに対して１モル以上、特に２モ
ル以上のときには、アルコール（ＩＩＩ）が有するアル
コール残基Ｒ5を有する２−スルホニル−４−オキシピ
リジン誘導体（ＩＶ）（Ｒ6＝Ｒ5）が主生成物として得
られる傾向となる。
コール（ＩＩＩ）がカルボニル化合物（Ｉ）が有するア
ルコール残基Ｒ3を有する（Ｒ5＝Ｒ3）場合には、１種
類の２−スルホニル−４−オキシピリジン誘導体（Ｉ
Ｖ）が生成物として得られる。アルコール（ＩＩＩ）が
カルボニル化合物（Ｉ）が有するアルコール残基Ｒ3を
有しない（Ｒ5≠Ｒ3）場合、２種類の２−スルホニル−
４−オキシピリジン誘導体（ＩＶ）の混合物が得られる
ことがある。この場合、アルコール（ＩＩＩ）の使用量
がカルボニル化合物（Ｉ）１モルに対して１モルよりも
少ないときには、カルボニル化合物（Ｉ）が有するアル
コール残基Ｒ3を有する２−スルホニル−４−オキシピ
リジン誘導体（ＩＶ）（Ｒ6＝Ｒ3）が主生成物として得
られる。一方、アルコール（ＩＩＩ）の使用量がカルボ
ニル化合物（Ｉ）１モルに対して１モル以上、特に２モ
ル以上のときには、アルコール（ＩＩＩ）が有するアル
コール残基Ｒ5を有する２−スルホニル−４−オキシピ
リジン誘導体（ＩＶ）（Ｒ6＝Ｒ5）が主生成物として得
られる傾向となる。
【００２５】反応は、溶媒の存在下または不存在下に実
施することができる。溶媒としては、反応に悪影響を与
えない限り特に限定されるものではなく、例えばペンタ
ン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、石油エーテルなど
の脂肪族炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレン、ク
メン、メシチレンなどの芳香族炭化水素；ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、
ジメトキシエタン、ジブチルエーテルなどのエーテル；
アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリルな
どのニトリル；塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベンゼ
ンなどのハロゲン化炭化水素；ジメチルスルホキシド；
またはこれらの混合溶媒などが使用される。溶媒を共存
させる場合、その使用量に特に制限はないが、通常、ス
ルホニルシアニド（ＩＩ）に対して０．１〜２００重量
倍の範囲が好ましい。
施することができる。溶媒としては、反応に悪影響を与
えない限り特に限定されるものではなく、例えばペンタ
ン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、石油エーテルなど
の脂肪族炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレン、ク
メン、メシチレンなどの芳香族炭化水素；ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、
ジメトキシエタン、ジブチルエーテルなどのエーテル；
アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリルな
どのニトリル；塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベンゼ
ンなどのハロゲン化炭化水素；ジメチルスルホキシド；
またはこれらの混合溶媒などが使用される。溶媒を共存
させる場合、その使用量に特に制限はないが、通常、ス
ルホニルシアニド（ＩＩ）に対して０．１〜２００重量
倍の範囲が好ましい。
【００２６】また、反応を促進させる観点から、反応系
に触媒を共存させてもよい。触媒としては、例えばホウ
酸；ホウ酸トリエチル、ホウ酸トリブチルなどのホウ酸
エステル；リン酸；リン酸トリブチルなどのリン酸エス
テル；過塩素酸ナトリウム、過塩素酸リチウムなどの過
塩素酸のアルカリ金属塩；カルボン酸性イオン交換樹脂
などの酸性イオン交換樹脂；塩化アンモニウム、塩化ベ
ンジルトリメチルアンモニウムなどのアンモニウム塩な
どが使用される。触媒を共存させる場合、その使用量に
特に制限はないが、通常、スルホニルシアニド（ＩＩ）
に対し、０．０１〜１当量の範囲であるのが好ましい。
に触媒を共存させてもよい。触媒としては、例えばホウ
酸；ホウ酸トリエチル、ホウ酸トリブチルなどのホウ酸
エステル；リン酸；リン酸トリブチルなどのリン酸エス
テル；過塩素酸ナトリウム、過塩素酸リチウムなどの過
塩素酸のアルカリ金属塩；カルボン酸性イオン交換樹脂
などの酸性イオン交換樹脂；塩化アンモニウム、塩化ベ
ンジルトリメチルアンモニウムなどのアンモニウム塩な
どが使用される。触媒を共存させる場合、その使用量に
特に制限はないが、通常、スルホニルシアニド（ＩＩ）
に対し、０．０１〜１当量の範囲であるのが好ましい。
【００２７】反応温度は、０℃〜２００℃の範囲が好ま
しく、８０℃〜１２０℃の範囲がより好ましい。反応は
常圧下でも、また加圧下でも減圧下でも実施することが
できるが、操作の容易さ、反応設備の観点からは、常圧
下で行うのが好ましい。
しく、８０℃〜１２０℃の範囲がより好ましい。反応は
常圧下でも、また加圧下でも減圧下でも実施することが
できるが、操作の容易さ、反応設備の観点からは、常圧
下で行うのが好ましい。
【００２８】反応は、カルボニル化合物（Ｉ）、スルホ
ニルシアニド（ＩＩ）、アルコール（ＩＩＩ）および必
要に応じて溶媒を混合し、さらに触媒を添加して所定温
度で攪拌して行うことが好ましい。
ニルシアニド（ＩＩ）、アルコール（ＩＩＩ）および必
要に応じて溶媒を混合し、さらに触媒を添加して所定温
度で攪拌して行うことが好ましい。
【００２９】このようにして得られた２−スルホニル−
４−オキシピリジン（ＩＶ）は、有機化合物の単離・精
製に一般的に用いられている方法により単離・精製する
ことができる。例えば、反応混合物を濃縮、冷却するこ
とによって結晶を析出させて単離することができる。ま
た、反応混合物をそのまま濃縮し、得られる粗生成物を
必要に応じて蒸留、クロマトグラフィーなどにより精製
することができる。
４−オキシピリジン（ＩＶ）は、有機化合物の単離・精
製に一般的に用いられている方法により単離・精製する
ことができる。例えば、反応混合物を濃縮、冷却するこ
とによって結晶を析出させて単離することができる。ま
た、反応混合物をそのまま濃縮し、得られる粗生成物を
必要に応じて蒸留、クロマトグラフィーなどにより精製
することができる。
【００３０】なお、本発明の方法で原料として用いるカ
ルボニル化合物（Ｉ）、例えば４−メトキシ−３−ブテ
ン−２−オンは、アセトンとぎ酸メチルを縮合させてア
セトアセトアルデヒドナトリウムとし（ジャーナル・オ
ブ・アメリカン・ケミカル・ソサエティー（Ｊ．Ａｍ．
Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）第８５巻、３２７５頁（１９６３
年）参照）、これを硫酸ジメチル、ヨウ化メチルなどの
メチル化剤でメチル化することにより、容易に製造する
ことができる。スルホニルシアニド（ＩＩ）は対応する
スルフィン酸金属塩とハロゲン化シアンを反応させるこ
とにより製造できる（オーガニック シンセシス（Ｏｒ
ｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）、６巻、７２７頁
（１９８８年）参照）。アルコール（ＩＩＩ）、例えば
メタノール、エタノール、ベンジルアルコールなどは市
販されており、容易に入手可能である。
ルボニル化合物（Ｉ）、例えば４−メトキシ−３−ブテ
ン−２−オンは、アセトンとぎ酸メチルを縮合させてア
セトアセトアルデヒドナトリウムとし（ジャーナル・オ
ブ・アメリカン・ケミカル・ソサエティー（Ｊ．Ａｍ．
Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）第８５巻、３２７５頁（１９６３
年）参照）、これを硫酸ジメチル、ヨウ化メチルなどの
メチル化剤でメチル化することにより、容易に製造する
ことができる。スルホニルシアニド（ＩＩ）は対応する
スルフィン酸金属塩とハロゲン化シアンを反応させるこ
とにより製造できる（オーガニック シンセシス（Ｏｒ
ｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）、６巻、７２７頁
（１９８８年）参照）。アルコール（ＩＩＩ）、例えば
メタノール、エタノール、ベンジルアルコールなどは市
販されており、容易に入手可能である。
【００３１】本発明で得られた２−スルホニル−４−オ
キシピリジン誘導体（ＩＶ）から２，４−ジヒドロキシ
ピリジンを得る方法としては、例えば、２−スルホニル
−４−ベンジルオキシピリジンを水酸化ナトリウム存在
下でベンジルアルコールと混合し、加熱して２，４−ジ
ベンジルオキシピリジンに変換した後、これをパラジウ
ム−炭素で処理して２，４−ジヒドロキシピリジンを得
る方法がある。
キシピリジン誘導体（ＩＶ）から２，４−ジヒドロキシ
ピリジンを得る方法としては、例えば、２−スルホニル
−４−ベンジルオキシピリジンを水酸化ナトリウム存在
下でベンジルアルコールと混合し、加熱して２，４−ジ
ベンジルオキシピリジンに変換した後、これをパラジウ
ム−炭素で処理して２，４−ジヒドロキシピリジンを得
る方法がある。
【００３２】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定され
るものではない。
明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定され
るものではない。
【００３３】実施例１ 温度計、マグネチックスターラーおよび冷却管を装備し
た内容積５０ｍｌの３口フラスコに、４−メトキシ−３
−ブテン−２−オン２．５ｇ（２５ｍｍｏｌ）およびベ
ンゼンスルホニルシアニド２．４５ｇ（１２．５ｍｍｏ
ｌ）を入れ、溶媒としてトルエン１０ｍｌを加え、続い
てブタノール０．５ｍｌ（５ｍｍｏｌ）、ホウ酸トリブ
チル５７５ｍｇ（２．５ｍｍｏｌ）を添加した後、窒素
雰囲気下で内温１１０℃で４時間攪拌した。この反応液
を室温まで冷却後、溶媒などの低沸成分を減圧下で留去
し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１（容量
比））により精製し、無色の油状物として、下記の物性
を有する２−ベンゼンスルホニル−４−ブトキシピリジ
ン０．７３ｇ（純度９９％、ベンゼンスルホニルシアニ
ド基準で収率２０％）および２−ベンゼンスルホニル−
４−メトキシピリジン０．９６ｇ（純度９９％、ベンゼ
ンスルホニルシアニド基準で収率３１％）を得た。
た内容積５０ｍｌの３口フラスコに、４−メトキシ−３
−ブテン−２−オン２．５ｇ（２５ｍｍｏｌ）およびベ
ンゼンスルホニルシアニド２．４５ｇ（１２．５ｍｍｏ
ｌ）を入れ、溶媒としてトルエン１０ｍｌを加え、続い
てブタノール０．５ｍｌ（５ｍｍｏｌ）、ホウ酸トリブ
チル５７５ｍｇ（２．５ｍｍｏｌ）を添加した後、窒素
雰囲気下で内温１１０℃で４時間攪拌した。この反応液
を室温まで冷却後、溶媒などの低沸成分を減圧下で留去
し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１（容量
比））により精製し、無色の油状物として、下記の物性
を有する２−ベンゼンスルホニル−４−ブトキシピリジ
ン０．７３ｇ（純度９９％、ベンゼンスルホニルシアニ
ド基準で収率２０％）および２−ベンゼンスルホニル−
４−メトキシピリジン０．９６ｇ（純度９９％、ベンゼ
ンスルホニルシアニド基準で収率３１％）を得た。
【００３４】２−ベンゼンスルホニル−４−ブトキシピ
リジン1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，Ｔ
ＭＳ，ｐｐｍ） δ：０．９８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．
９Ｈｚ）、１．４８−１．５５（ｍ，２Ｈ）、１．７８
−１．８３（ｍ，２Ｈ）、４．０６（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝
５．９Ｈｚ）、６．８８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈ
ｚ，５．９Ｈｚ）、７．５３−７．６１（ｍ，３Ｈ）、
７．７１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ）、８．０５
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、８．４３（ｄ，１Ｈ，
Ｊ＝５．９Ｈｚ）
リジン1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，Ｔ
ＭＳ，ｐｐｍ） δ：０．９８８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．
９Ｈｚ）、１．４８−１．５５（ｍ，２Ｈ）、１．７８
−１．８３（ｍ，２Ｈ）、４．０６（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝
５．９Ｈｚ）、６．８８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈ
ｚ，５．９Ｈｚ）、７．５３−７．６１（ｍ，３Ｈ）、
７．７１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ）、８．０５
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、８．４３（ｄ，１Ｈ，
Ｊ＝５．９Ｈｚ）
【００３５】２−ベンゼンスルホニル−４−メトキシピ
リジン1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，Ｔ
ＭＳ，ｐｐｍ） δ：３．９６（ｓ，３Ｈ）、６．９０
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，５．９Ｈｚ）、７．４
８−７．６４（ｍ，３Ｈ）、７．７３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝
２．９Ｈｚ）、８．０５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈ
ｚ）、８．４５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ）
リジン1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，Ｔ
ＭＳ，ｐｐｍ） δ：３．９６（ｓ，３Ｈ）、６．９０
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，５．９Ｈｚ）、７．４
８−７．６４（ｍ，３Ｈ）、７．７３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝
２．９Ｈｚ）、８．０５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈ
ｚ）、８．４５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ）
【００３６】実施例２ 温度計、マグネチックスターラーおよび冷却管を装備し
た内容積１００ｍｌの３口フラスコに、４−メトキシ−
３−ブテン−２−オン１０．０ｇ（０．１０ｍｏｌ）お
よびベンゼンスルホニルシアニド９．８ｇ（０．０５０
ｍｏｌ）を入れ、溶媒としてトルエン４０ｍｌを加え、
続いてベンジルアルコール１０．８ｇ（０．１０ｍｍｏ
ｌ）、ホウ酸トリメチル１．０３ｇ（１０ｍｍｏｌ）を
添加した後、窒素雰囲気下で内温１１０℃で１０時間攪
拌した。この反応液を室温まで冷却後、溶媒などの低沸
成分を減圧下で留去し、得られた残留物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチ
ル＝１／１（容量比））により精製し、無色の油状物と
して下記の物性を有する２−ベンゼンスルホニル−４−
ベンジルオキシピリジン３．２５ｇ（純度９９％、ベン
ゼンスルホニルシアニド基準で収率２０％）および２−
ベンゼンスルホニル−４−メトキシピリジン３．７５ｇ
（純度９９％、ベンゼンスルホニルシアニド基準で収率
３０％）を得た。
た内容積１００ｍｌの３口フラスコに、４−メトキシ−
３−ブテン−２−オン１０．０ｇ（０．１０ｍｏｌ）お
よびベンゼンスルホニルシアニド９．８ｇ（０．０５０
ｍｏｌ）を入れ、溶媒としてトルエン４０ｍｌを加え、
続いてベンジルアルコール１０．８ｇ（０．１０ｍｍｏ
ｌ）、ホウ酸トリメチル１．０３ｇ（１０ｍｍｏｌ）を
添加した後、窒素雰囲気下で内温１１０℃で１０時間攪
拌した。この反応液を室温まで冷却後、溶媒などの低沸
成分を減圧下で留去し、得られた残留物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチ
ル＝１／１（容量比））により精製し、無色の油状物と
して下記の物性を有する２−ベンゼンスルホニル−４−
ベンジルオキシピリジン３．２５ｇ（純度９９％、ベン
ゼンスルホニルシアニド基準で収率２０％）および２−
ベンゼンスルホニル−４−メトキシピリジン３．７５ｇ
（純度９９％、ベンゼンスルホニルシアニド基準で収率
３０％）を得た。
【００３７】２−ベンゼンスルホニル−４−ベンジルオ
キシピリジン1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，Ｔ
ＭＳ，ｐｐｍ） δ：５．１３（ｓ，２Ｈ）、６．９５
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，５．９Ｈｚ）、７．４
０（ｍ，５Ｈ）、７．５３−７．６１（ｍ，３Ｈ）、
７．８１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ）、８．０５
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、８．４５（ｄ，１Ｈ，
Ｊ＝５．９Ｈｚ）
キシピリジン1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3，Ｔ
ＭＳ，ｐｐｍ） δ：５．１３（ｓ，２Ｈ）、６．９５
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，５．９Ｈｚ）、７．４
０（ｍ，５Ｈ）、７．５３−７．６１（ｍ，３Ｈ）、
７．８１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ）、８．０５
（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、８．４５（ｄ，１Ｈ，
Ｊ＝５．９Ｈｚ）
【００３８】実施例３ 温度計、マグネチックスターラー、ディーンスターク受
器および冷却管を装備した内容積１００ｍｌの３口フラ
スコに、４―メトキシ−３−ブテン−２−オン１０．０
ｇ（０．１０ｍｏｌ）およびベンゼンスルホニルシアニ
ド９．８ｇ（０．０５０ｍｏｌ）を入れ、溶媒としてト
ルエン４０ｍｌを加え、続いてベンジルアルコール１
０．８ｇ（０．１０ｍｍｏｌ）、ホウ酸トリメチル１．
０３ｇ（１０ｍｍｏｌ）を添加した後、窒素雰囲気下で
内温１１０℃で攪拌し、ディーンスターク受器で溶媒を
留去しながら１０時間加熱還流した。１時間ごとに留出
した溶媒の量と同量のトルエンを追加した。この反応液
を室温まで冷却後、溶媒などの低沸成分を減圧下で留去
し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１（容量
比））により精製し、無色の油状物として２−ベンゼン
スルホニル−４−ベンジルオキシピリジン８．９４ｇを
得た（純度９９％、ベンゼンスルホニルシアニド基準で
収率５５％）。
器および冷却管を装備した内容積１００ｍｌの３口フラ
スコに、４―メトキシ−３−ブテン−２−オン１０．０
ｇ（０．１０ｍｏｌ）およびベンゼンスルホニルシアニ
ド９．８ｇ（０．０５０ｍｏｌ）を入れ、溶媒としてト
ルエン４０ｍｌを加え、続いてベンジルアルコール１
０．８ｇ（０．１０ｍｍｏｌ）、ホウ酸トリメチル１．
０３ｇ（１０ｍｍｏｌ）を添加した後、窒素雰囲気下で
内温１１０℃で攪拌し、ディーンスターク受器で溶媒を
留去しながら１０時間加熱還流した。１時間ごとに留出
した溶媒の量と同量のトルエンを追加した。この反応液
を室温まで冷却後、溶媒などの低沸成分を減圧下で留去
し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１（容量
比））により精製し、無色の油状物として２−ベンゼン
スルホニル−４−ベンジルオキシピリジン８．９４ｇを
得た（純度９９％、ベンゼンスルホニルシアニド基準で
収率５５％）。
【００３９】実施例４ 温度計、マグネチックスターラー、滴下漏斗、蒸留装置
を装備した内容積１００ｍｌの３口フラスコに、１，１
−ジメトキシ−３−ブタノン １３．０ｇ（０．１０ｍ
ｏｌ）およびベンゼンスルホニルシアニド９．８ｇ
（０．０５０ｍｏｌ）を入れ、溶媒としてトルエン４０
ｍｌを加え、続いてベンジルアルコール１０．８ｇ
（０．１０ｍｍｏｌ）、ホウ酸トリメチル１．０３ｇ
（１０ｍｍｏｌ）を添加した後、窒素雰囲気下で内温１
１０℃に加熱して、反応の進行と共に生じるメタノール
をトルエンと共に留出させながら１０時間加熱還流し
た。留出に伴い溶媒量が減少するので、トルエンを適宜
追加した。この反応液を室温まで冷却後、溶媒などの低
沸成分を減圧下で留去し、得られた残留物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（展開液：ヘキサン／酢酸エ
チル＝１／１（容量比））により精製し、無色の油状物
として２−ベンゼンスルホニル−４−ベンジルオキシピ
リジン７．３１ｇを得た（純度９９％、ベンゼンスルホ
ニルシアニド基準で収率４５％）。
を装備した内容積１００ｍｌの３口フラスコに、１，１
−ジメトキシ−３−ブタノン １３．０ｇ（０．１０ｍ
ｏｌ）およびベンゼンスルホニルシアニド９．８ｇ
（０．０５０ｍｏｌ）を入れ、溶媒としてトルエン４０
ｍｌを加え、続いてベンジルアルコール１０．８ｇ
（０．１０ｍｍｏｌ）、ホウ酸トリメチル１．０３ｇ
（１０ｍｍｏｌ）を添加した後、窒素雰囲気下で内温１
１０℃に加熱して、反応の進行と共に生じるメタノール
をトルエンと共に留出させながら１０時間加熱還流し
た。留出に伴い溶媒量が減少するので、トルエンを適宜
追加した。この反応液を室温まで冷却後、溶媒などの低
沸成分を減圧下で留去し、得られた残留物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（展開液：ヘキサン／酢酸エ
チル＝１／１（容量比））により精製し、無色の油状物
として２−ベンゼンスルホニル−４−ベンジルオキシピ
リジン７．３１ｇを得た（純度９９％、ベンゼンスルホ
ニルシアニド基準で収率４５％）。
【００４０】実施例５ 温度計、マグネチックスターラーおよび冷却管を装備し
た内容積１００ｍｌの３口フラスコに、４−メトキシ−
３−ブテン−２−オン１０．０ｇ（０．１０ｍｏｌ）お
よびベンゼンスルホニルシアニド９．８ｇ（０．０５０
ｍｏｌ）を入れ、溶媒としてメシチレン４０ｍｌを加
え、続いてメタノール３．２ｍｌ（０．１０ｍｍｏ
ｌ）、ホウ酸トリメチル１．０３ｇ（１０ｍｍｏｌ）を
添加した後、窒素雰囲気下で内温１１０℃で１０時間攪
拌した。この反応液を室温まで冷却後、溶媒などの低沸
成分を減圧下で留去し、得られた残留物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチ
ル＝２／１（容量比））により精製し、無色の油状物と
して２−ベンゼンスルホニル−４−メトキシピリジン
３．９ｇを得た（純度９９％、ベンゼンスルホニルシア
ニド基準で収率３２％）。
た内容積１００ｍｌの３口フラスコに、４−メトキシ−
３−ブテン−２−オン１０．０ｇ（０．１０ｍｏｌ）お
よびベンゼンスルホニルシアニド９．８ｇ（０．０５０
ｍｏｌ）を入れ、溶媒としてメシチレン４０ｍｌを加
え、続いてメタノール３．２ｍｌ（０．１０ｍｍｏ
ｌ）、ホウ酸トリメチル１．０３ｇ（１０ｍｍｏｌ）を
添加した後、窒素雰囲気下で内温１１０℃で１０時間攪
拌した。この反応液を室温まで冷却後、溶媒などの低沸
成分を減圧下で留去し、得られた残留物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（展開液：ヘキサン／酢酸エチ
ル＝２／１（容量比））により精製し、無色の油状物と
して２−ベンゼンスルホニル−４−メトキシピリジン
３．９ｇを得た（純度９９％、ベンゼンスルホニルシア
ニド基準で収率３２％）。
【００４１】実施例６ 温度計、マグネチックスターラーおよび冷却管を装備し
た内容積１００ｍｌの３口フラスコに、４−メトキシ−
３−ブテン−２−オン １０．０ｇ（０．１０ｍｏｌ）
およびベンゼンスルホニルシアニド９．８ｇ（０．０５
０ｍｏｌ）を入れ、溶媒としてトルエン４０ｍｌを加
え、続いてベンジルアルコール１０．８ｇ（０．１０ｍ
ｍｏｌ）を添加した後、窒素雰囲気下で内温１１０℃で
攪拌し、６時間加熱還流した。この反応液を室温まで冷
却後、溶媒などの低沸成分を減圧下で留去し、得られた
残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開
液：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１（容量比））により
精製し、無色の油状物として２−ベンゼンスルホニル−
４−ベンジルオキシピリジン２．１６ｇ（純度９９％、
ベンゼンスルホニルシアニド基準で収率１３％）を得
た。
た内容積１００ｍｌの３口フラスコに、４−メトキシ−
３−ブテン−２−オン １０．０ｇ（０．１０ｍｏｌ）
およびベンゼンスルホニルシアニド９．８ｇ（０．０５
０ｍｏｌ）を入れ、溶媒としてトルエン４０ｍｌを加
え、続いてベンジルアルコール１０．８ｇ（０．１０ｍ
ｍｏｌ）を添加した後、窒素雰囲気下で内温１１０℃で
攪拌し、６時間加熱還流した。この反応液を室温まで冷
却後、溶媒などの低沸成分を減圧下で留去し、得られた
残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開
液：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１（容量比））により
精製し、無色の油状物として２−ベンゼンスルホニル−
４−ベンジルオキシピリジン２．１６ｇ（純度９９％、
ベンゼンスルホニルシアニド基準で収率１３％）を得
た。
【００４２】参考例１ ２，４−ジヒドロキシピリジン
の合成 温度計、マグネチックスターラーおよび冷却管を装備し
た内容積５０ｍｌの３口フラスコに、２−ベンゼンスル
ホニル−４−ベンジルオキシピリジン１．４０ｇ（４．
３０ｍｍｏｌ）および水酸化ナトリウム０．３４０ｇ
（８．６０ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒としてアセトン１０
ｍｌを加え、続いてベンジルアルコール１．３０ｍｌ
（１２．６ｍｍｏｌ）を添加した後、窒素雰囲気下で内
温１１０℃で４時間攪拌した。この反応液を室温まで冷
却後、析出した塩を濾別し、濾液を減圧濃縮した後、得
られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開液：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１（容量比））
により精製し、無色の油状物として２，４−ジベンジル
オキシピリジン１．１６ｇ（純度９９％、２−ベンゼン
スルホニル−４−ベンジルオキシピリジン基準で収率９
３％）を得た。
の合成 温度計、マグネチックスターラーおよび冷却管を装備し
た内容積５０ｍｌの３口フラスコに、２−ベンゼンスル
ホニル−４−ベンジルオキシピリジン１．４０ｇ（４．
３０ｍｍｏｌ）および水酸化ナトリウム０．３４０ｇ
（８．６０ｍｍｏｌ）を入れ、溶媒としてアセトン１０
ｍｌを加え、続いてベンジルアルコール１．３０ｍｌ
（１２．６ｍｍｏｌ）を添加した後、窒素雰囲気下で内
温１１０℃で４時間攪拌した。この反応液を室温まで冷
却後、析出した塩を濾別し、濾液を減圧濃縮した後、得
られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開液：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１（容量比））
により精製し、無色の油状物として２，４−ジベンジル
オキシピリジン１．１６ｇ（純度９９％、２−ベンゼン
スルホニル−４−ベンジルオキシピリジン基準で収率９
３％）を得た。
【００４３】上記の反応で得られた２，４−ジベンジル
オキシピリジン０．９５ｇ（３．２ｍｍｏｌ）を、温度
計、マグネチックスターラーおよび風船を装備した内容
積１００ｍｌの３口フラスコに入れ、溶媒として２−プ
ロパノール１０ｍｌを加え、続いて１０％パラジウム−
炭素５０ｍｇ（０．０４７ｍｍｏｌ）を添加した後、風
船に水素を充填し、水素雰囲気下で内温２５℃で４時間
攪拌した。この反応液をセライト（登録商標）を用いて
濾過し、溶媒を減圧下で留去し、得られた残留物をメタ
ノールで再結晶して精製し、白色固体として２，４−ジ
ヒドロキシピリジン０．２５ｇ（純度９９％、２，４−
ジベンジルオキシピリジン基準で収率７１％）を得た。
オキシピリジン０．９５ｇ（３．２ｍｍｏｌ）を、温度
計、マグネチックスターラーおよび風船を装備した内容
積１００ｍｌの３口フラスコに入れ、溶媒として２−プ
ロパノール１０ｍｌを加え、続いて１０％パラジウム−
炭素５０ｍｇ（０．０４７ｍｍｏｌ）を添加した後、風
船に水素を充填し、水素雰囲気下で内温２５℃で４時間
攪拌した。この反応液をセライト（登録商標）を用いて
濾過し、溶媒を減圧下で留去し、得られた残留物をメタ
ノールで再結晶して精製し、白色固体として２，４−ジ
ヒドロキシピリジン０．２５ｇ（純度９９％、２，４−
ジベンジルオキシピリジン基準で収率７１％）を得た。
【００４４】
【発明の効果】２−スルホニル−４−オキシピリジン誘
導体を、温和な条件下に、簡便に工業的に有利に製造す
ることができる。
導体を、温和な条件下に、簡便に工業的に有利に製造す
ることができる。
Claims (2)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ1は水素原子または置換基を有していてもよ
いアルキル基を表し、Ｒ2は水素原子または置換基を有
していてもよいアルキル基もしくはアリール基を表し、
Ｒ3は置換基を有していてもよいアルキル基またはアラ
ルキル基を表し、ＸおよびＹは一緒になって単結合を表
すか、またはそれぞれ独立してＸは水素原子を表し、Ｙ
は−ＯＲ3で示される基を表す。）で示されるカルボニ
ル化合物を、一般式（ＩＩＩ） 【化２】 （式中、Ｒ5は置換基を有していてもよいアルキル基ま
たはアラルキル基を表す。）で示されるアルコールの存
在下、一般式（ＩＩ） 【化３】 （式中、Ｒ4は置換基を有していてもよいアルキル基、
シクロアルキル基、アリール基またはアラルキル基を表
す。）で示されるスルホニルシアニドと反応させること
を特徴とする一般式（ＩＶ） 【化４】 （式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ4は前記定義のとおりであ
り、Ｒ6は置換基を有していてもよいアルキル基または
アラルキル基を示す。）で示される２−スルホニル−４
−オキシピリジン誘導体の製造方法。 - 【請求項２】 一般式（Ｖ） 【化５】 （式中、Ｒ1は水素原子または置換基を有していてもよ
いアルキル基を表し、Ｒ2は水素原子または置換基を有
していてもよいアルキル基もしくはアリール基を表し、
Ｒ4は置換基を有していてもよいアルキル基、シクロア
ルキル基、アリール基またはアラルキル基を表し、Ｒ7
は置換基を有していてもよいアラルキル基を表す。）で
示される２−スルホニル−４−オキシピリジン誘導体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000372795A JP4663105B2 (ja) | 2000-12-07 | 2000-12-07 | ２−スルホニル−４−オキシピリジン誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000372795A JP4663105B2 (ja) | 2000-12-07 | 2000-12-07 | ２−スルホニル−４−オキシピリジン誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002173483A true JP2002173483A (ja) | 2002-06-21 |
| JP4663105B2 JP4663105B2 (ja) | 2011-03-30 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4663105B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102993088A (zh) * | 2012-12-31 | 2013-03-27 | 东华大学 | 一种4-羟基-2-吡啶酮的制备方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1087626A (ja) * | 1996-09-10 | 1998-04-07 | Kuraray Co Ltd | ５−シアノ−２−スルホニルピリジンおよびその製造方法 |
| EP0931790A2 (en) * | 1998-01-26 | 1999-07-28 | Kuraray Co., Ltd. | Method for producing 2-sulfonylpyridine derivates and method for producing 2-( (2-pyridyl)methyl)thio)-1H-benzimidazole derivates |
| JP2000080082A (ja) * | 1998-09-02 | 2000-03-21 | Kuraray Co Ltd | ５−ハロゲノ−２−置換ピリジンの製造方法 |
-
2000
- 2000-12-07 JP JP2000372795A patent/JP4663105B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1087626A (ja) * | 1996-09-10 | 1998-04-07 | Kuraray Co Ltd | ５−シアノ−２−スルホニルピリジンおよびその製造方法 |
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|---|---|---|---|---|
| CN102993088A (zh) * | 2012-12-31 | 2013-03-27 | 东华大学 | 一种4-羟基-2-吡啶酮的制备方法 |
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| Publication number | Publication date |
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| JP4663105B2 (ja) | 2011-03-30 |
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