JP2002173467A - 3級エステルを含むアクリルモノマーの製造方法 - Google Patents
3級エステルを含むアクリルモノマーの製造方法Info
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2000371231A JP2002173467A (ja) | 2000-12-06 | 2000-12-06 | 3級エステルを含むアクリルモノマーの製造方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2002173467A true JP2002173467A (ja) | 2002-06-21 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2000371231A Withdrawn JP2002173467A (ja) | 2000-12-06 | 2000-12-06 | 3級エステルを含むアクリルモノマーの製造方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009005937A1 (en) * | 2007-06-28 | 2009-01-08 | 3M Innovative Properties Company | Process for forming alpha, beta-unsaturated carbonyl halides |
| WO2011129204A1 (ja) * | 2010-04-15 | 2011-10-20 | ダイセル化学工業株式会社 | (メタ)アクリル酸エステルの製造方法 |
| JP2022135759A (ja) * | 2021-03-05 | 2022-09-15 | 日本ゼオン株式会社 | α-ハロゲノアクリル酸エステルの製造方法 |
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2000
- 2000-12-06 JP JP2000371231A patent/JP2002173467A/ja not_active Withdrawn
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2009005937A1 (en) * | 2007-06-28 | 2009-01-08 | 3M Innovative Properties Company | Process for forming alpha, beta-unsaturated carbonyl halides |
| WO2011129204A1 (ja) * | 2010-04-15 | 2011-10-20 | ダイセル化学工業株式会社 | (メタ)アクリル酸エステルの製造方法 |
| JP2011225456A (ja) * | 2010-04-15 | 2011-11-10 | Daicel Chemical Industries Ltd | (メタ)アクリル酸エステルの製造方法 |
| JP2022135759A (ja) * | 2021-03-05 | 2022-09-15 | 日本ゼオン株式会社 | α-ハロゲノアクリル酸エステルの製造方法 |
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