JP2002173330A - オキシナイトライドガラスのプレス成形方法 - Google Patents
オキシナイトライドガラスのプレス成形方法Info
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- JP2002173330A JP2002173330A JP2000370665A JP2000370665A JP2002173330A JP 2002173330 A JP2002173330 A JP 2002173330A JP 2000370665 A JP2000370665 A JP 2000370665A JP 2000370665 A JP2000370665 A JP 2000370665A JP 2002173330 A JP2002173330 A JP 2002173330A
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- glass
- oxynitride glass
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- press
- slow cooling
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
- C03B11/088—Flat discs
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/12—Cooling, heating, or insulating the plunger, the mould, or the glass-pressing machine; cooling or heating of the glass in the mould
- C03B11/125—Cooling
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/20—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine
- C03B2201/24—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine doped with nitrogen, e.g. silicon oxy-nitride glasses
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/40—Product characteristics
- C03B2215/44—Flat, parallel-faced disc or plate products
Abstract
(57)【要約】
【課題】 オキシナイトライドガラスをプレス成形する
に当たり、表面平滑性に悪影響を及ぼす結晶相を生成さ
せることなく、しかも、反りの少ないプレス成形体を得
ることので着る最適な冷却条件を見出すこと。 【解決手段】 ガラスをプレス成形した後、４００℃／
ｈｒ以上で冷却する急冷工程を行い、ガラスの温度が徐
冷工程開始温度Ｔ１（℃）へ達した後は、徐冷工程終了
温度Ｔ２（℃）に到達するまで１００℃／ｈｒ以下で冷
却する徐冷工程を行うと共に、徐冷工程開始温度Ｔ１
（℃）と徐冷工程終了温度Ｔ２（℃）を下記式を満足す
るように設定する。 ５３０＋１０ｎ＋Ａ≦Ｔ１≦６３０＋１０ｎ＋Ａ …（１） Ｔ２≦４２０＋１０ｎ＋Ａ …（２） ただし、ｎは、ガラス中の窒素と酸素の合計ｅｑ％を１
００ｅｑ％としたときの窒素のｅｑ％であり、Ａは、ガ
ラス組成によって定まる値であって、０≦Ａ≦６００で
ある。
に当たり、表面平滑性に悪影響を及ぼす結晶相を生成さ
せることなく、しかも、反りの少ないプレス成形体を得
ることので着る最適な冷却条件を見出すこと。 【解決手段】 ガラスをプレス成形した後、４００℃／
ｈｒ以上で冷却する急冷工程を行い、ガラスの温度が徐
冷工程開始温度Ｔ１（℃）へ達した後は、徐冷工程終了
温度Ｔ２（℃）に到達するまで１００℃／ｈｒ以下で冷
却する徐冷工程を行うと共に、徐冷工程開始温度Ｔ１
（℃）と徐冷工程終了温度Ｔ２（℃）を下記式を満足す
るように設定する。 ５３０＋１０ｎ＋Ａ≦Ｔ１≦６３０＋１０ｎ＋Ａ …（１） Ｔ２≦４２０＋１０ｎ＋Ａ …（２） ただし、ｎは、ガラス中の窒素と酸素の合計ｅｑ％を１
００ｅｑ％としたときの窒素のｅｑ％であり、Ａは、ガ
ラス組成によって定まる値であって、０≦Ａ≦６００で
ある。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク等記
録媒体用のディスクとして利用可能なディスクをオキシ
ナイトライドガラスでプレス成形する場合の冷却速度に
着目したプレス成形方法に関するものである。
録媒体用のディスクとして利用可能なディスクをオキシ
ナイトライドガラスでプレス成形する場合の冷却速度に
着目したプレス成形方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク装置の分野では、記録密度
と転送速度の向上を目指して日進月歩の技術開発がなさ
れている。特に昨今は、転送速度の向上を目指してディ
スクの高速回転化が急務となっており、高速回転中にも
振動しない様な高比剛性ディスク材料が望まれている。
従来から使用されているアルミニウム製ディスク（以下
アルミ基板と言う）の比剛性は２６．７（ヤング率：７
２ＧＰａ／密度：２．７ｇ／ｃｍ3）であり、１０００
０ｒｐｍに及ぶ高速回転中での使用には、その２倍以上
の比剛性が必要と言われている。しかしながら、アルミ
基板の比剛性を倍増させるためには、セラミックスとの
複合化（ＭＭＣ）等の方法しかなく、コスト面から見て
実用可能性は低い。
と転送速度の向上を目指して日進月歩の技術開発がなさ
れている。特に昨今は、転送速度の向上を目指してディ
スクの高速回転化が急務となっており、高速回転中にも
振動しない様な高比剛性ディスク材料が望まれている。
従来から使用されているアルミニウム製ディスク（以下
アルミ基板と言う）の比剛性は２６．７（ヤング率：７
２ＧＰａ／密度：２．７ｇ／ｃｍ3）であり、１０００
０ｒｐｍに及ぶ高速回転中での使用には、その２倍以上
の比剛性が必要と言われている。しかしながら、アルミ
基板の比剛性を倍増させるためには、セラミックスとの
複合化（ＭＭＣ）等の方法しかなく、コスト面から見て
実用可能性は低い。
【０００３】一方、２．５インチサイズで使用されてい
るガラス製ディスク（以下ガラス基板）は、高比剛性化
し易いという点で注目を集めている。例えばガラスを適
当な温度で熱処理し、高ヤング率な結晶相を析出させる
ことでガラスセラミックス化し、ヤング率を向上させる
試みが多くなされている。例えば、特開平６−３２９４
４０号公報、特開平８−１１１０２４号公報、特開平８
−２２１７４７号公報には、二酸化リチウム結晶とαク
オーツ結晶を析出させる例が開示されている。また、特
開平９−７７５３１号公報には、尖晶石結晶を析出させ
ることによってヤング率を１０９〜１４４Ｇｐａ、比剛
性を３６〜４７に向上させた例が開示されている。
るガラス製ディスク（以下ガラス基板）は、高比剛性化
し易いという点で注目を集めている。例えばガラスを適
当な温度で熱処理し、高ヤング率な結晶相を析出させる
ことでガラスセラミックス化し、ヤング率を向上させる
試みが多くなされている。例えば、特開平６−３２９４
４０号公報、特開平８−１１１０２４号公報、特開平８
−２２１７４７号公報には、二酸化リチウム結晶とαク
オーツ結晶を析出させる例が開示されている。また、特
開平９−７７５３１号公報には、尖晶石結晶を析出させ
ることによってヤング率を１０９〜１４４Ｇｐａ、比剛
性を３６〜４７に向上させた例が開示されている。
【０００４】しかしながら、ガラスの比剛性自体は結晶
化により上がるものの、硬質結晶相と軟質ガラス相の複
合組織になっているため、ポリシングの際に微細な段差
が生じ、ディスクに必要とされる超鏡面が得られにくい
欠点がある。
化により上がるものの、硬質結晶相と軟質ガラス相の複
合組織になっているため、ポリシングの際に微細な段差
が生じ、ディスクに必要とされる超鏡面が得られにくい
欠点がある。
【０００５】一方、ガラスそのものの比剛性向上策とし
て、ガラスのヤング率を改善する効果が期待される希土
類を添加する方策も知られている。しかしながら、希土
類を添加するとガラスのヤング率が向上すると同時に比
重が増加し、その結果として比剛性は期待通りには向上
しない。
て、ガラスのヤング率を改善する効果が期待される希土
類を添加する方策も知られている。しかしながら、希土
類を添加するとガラスのヤング率が向上すると同時に比
重が増加し、その結果として比剛性は期待通りには向上
しない。
【０００６】ガラスの比重を著しく増加させることな
く、ヤング率を向上させる方策として、ガラス中の酸素
を窒素で置き換えたオキシナイトライドガラスを使用す
ることが検討されている。本願出願人は、高ヤング率を
与え得るオキシナイトライドガラスの組成について検討
し、その検討結果を既に出願した（特願平１１−９６９
８７号）。
く、ヤング率を向上させる方策として、ガラス中の酸素
を窒素で置き換えたオキシナイトライドガラスを使用す
ることが検討されている。本願出願人は、高ヤング率を
与え得るオキシナイトライドガラスの組成について検討
し、その検討結果を既に出願した（特願平１１−９６９
８７号）。
【０００７】また、本願出願人は、オキシナイトライド
ガラスの工業的生産方法の確立をも目指して、種々の検
討を行っている。オキシナイトライドガラスを、例えば
磁気ディスク等の記録媒体用ディスク等に適用するため
に、薄い円板形状のディスクにするには、プレス成形法
の採用が最も生産効率がよいと考えられることから、プ
レス成形に適した離型層、プレス条件、プレス成形用型
について検討を行い、それぞれの検討結果を既に出願し
た（特願平１１−３６８３３７号、特願平１１−３６８
３３８号、特願２０００−３９９９９号）。
ガラスの工業的生産方法の確立をも目指して、種々の検
討を行っている。オキシナイトライドガラスを、例えば
磁気ディスク等の記録媒体用ディスク等に適用するため
に、薄い円板形状のディスクにするには、プレス成形法
の採用が最も生産効率がよいと考えられることから、プ
レス成形に適した離型層、プレス条件、プレス成形用型
について検討を行い、それぞれの検討結果を既に出願し
た（特願平１１−３６８３３７号、特願平１１−３６８
３３８号、特願２０００−３９９９９号）。
【０００８】しかしながら、ガラス組成やプレス条件が
一定であっても、冷却工程の条件によっては、成形体に
歪みが生じたり、ガラス中に結晶相が生成することがあ
った。プレス後のガラス成形体は、厳しい表面平滑性
（例えば、ＪＩＳ Ｂ０６０１で規定される最大高さＲ
maxが１０ｎｍ以下、中心線平均粗さＲaが１ｎｍ以下）
が要求される磁気ディスク等の記録媒体用ディスクとす
るために、成形後、研磨工程に供されるが、ガラス中に
硬い結晶相が混入していると、どうしても平滑に研磨で
きず、結晶相の大きさに応じた凹凸ができてしまう。し
かし、結晶相の生成を抑制するためにガラスを急冷する
と、温度勾配のためか、成形体の歪み、特に反りが大き
くなってしまうという問題があった。
一定であっても、冷却工程の条件によっては、成形体に
歪みが生じたり、ガラス中に結晶相が生成することがあ
った。プレス後のガラス成形体は、厳しい表面平滑性
（例えば、ＪＩＳ Ｂ０６０１で規定される最大高さＲ
maxが１０ｎｍ以下、中心線平均粗さＲaが１ｎｍ以下）
が要求される磁気ディスク等の記録媒体用ディスクとす
るために、成形後、研磨工程に供されるが、ガラス中に
硬い結晶相が混入していると、どうしても平滑に研磨で
きず、結晶相の大きさに応じた凹凸ができてしまう。し
かし、結晶相の生成を抑制するためにガラスを急冷する
と、温度勾配のためか、成形体の歪み、特に反りが大き
くなってしまうという問題があった。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明では、
結晶相が生成せず、しかも歪み・反りの少ないプレス成
形体を得ることのできる冷却工程の最適条件を見出すこ
とを課題とした。
結晶相が生成せず、しかも歪み・反りの少ないプレス成
形体を得ることのできる冷却工程の最適条件を見出すこ
とを課題とした。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明では、型を用いて
オキシナイトライドガラスをプレス成形した後、プレス
成形用型内のガラスを冷却して、オキシナイトライドガ
ラスのプレス成形体を得るプレス成形方法において、ま
ず、４００℃／ｈｒ以上で冷却する急冷工程を行い、ガ
ラス温度が徐冷工程開始温度Ｔ１（℃）へ達した後は、
徐冷工程終了温度Ｔ２（℃）に到達するまで１００℃／
ｈｒ以下で冷却する徐冷工程を行うと共に、徐冷工程開
始温度Ｔ１（℃）と徐冷工程終了温度Ｔ２（℃）とが下
記式を満足するように設定するところに要旨を有する。 ５３０＋１０ｎ＋Ａ≦Ｔ１≦６３０＋１０ｎ＋Ａ …（１） Ｔ２≦４２０＋１０ｎ＋Ａ …（２） ただし、ｎは、ガラス中の窒素と酸素の合計ｅｑ％を１
００ｅｑ％としたときの窒素のｅｑ％であり、Ａは、ガ
ラス組成によって定まる値であって、０≦Ａ≦６００で
ある。
オキシナイトライドガラスをプレス成形した後、プレス
成形用型内のガラスを冷却して、オキシナイトライドガ
ラスのプレス成形体を得るプレス成形方法において、ま
ず、４００℃／ｈｒ以上で冷却する急冷工程を行い、ガ
ラス温度が徐冷工程開始温度Ｔ１（℃）へ達した後は、
徐冷工程終了温度Ｔ２（℃）に到達するまで１００℃／
ｈｒ以下で冷却する徐冷工程を行うと共に、徐冷工程開
始温度Ｔ１（℃）と徐冷工程終了温度Ｔ２（℃）とが下
記式を満足するように設定するところに要旨を有する。 ５３０＋１０ｎ＋Ａ≦Ｔ１≦６３０＋１０ｎ＋Ａ …（１） Ｔ２≦４２０＋１０ｎ＋Ａ …（２） ただし、ｎは、ガラス中の窒素と酸素の合計ｅｑ％を１
００ｅｑ％としたときの窒素のｅｑ％であり、Ａは、ガ
ラス組成によって定まる値であって、０≦Ａ≦６００で
ある。
【００１１】結晶化が起こり易い領域で急冷を行うこと
によって、硬度の高い結晶相の生成を抑制し、結晶化が
起こり易い領域以降においては徐冷することによって、
成形体の反りを小さくすることができた。
によって、硬度の高い結晶相の生成を抑制し、結晶化が
起こり易い領域以降においては徐冷することによって、
成形体の反りを小さくすることができた。
【００１２】オキシナイトライドガラスとしては、Ｍ1
−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ（Ｍ1は、Ｃａ、Ｍｇ、Ｙ、Ｇ
ｄ、ＣｅおよびＬａのうちの１種または２種以上）で表
されるオキシナイトライドガラス、Ｍ2−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ
（Ｍ2は、Ｃａおよび／またはＭｇ）で表されるオキシ
ナイトライドガラス、あるいはこれらの組成のガラスを
２種以上混合したオキシナイトライドガラスのいずれか
を用いることが好ましい。
−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ（Ｍ1は、Ｃａ、Ｍｇ、Ｙ、Ｇ
ｄ、ＣｅおよびＬａのうちの１種または２種以上）で表
されるオキシナイトライドガラス、Ｍ2−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ
（Ｍ2は、Ｃａおよび／またはＭｇ）で表されるオキシ
ナイトライドガラス、あるいはこれらの組成のガラスを
２種以上混合したオキシナイトライドガラスのいずれか
を用いることが好ましい。
【００１３】特に、Ｍ1がＣａ、Ｍｇ、Ｙ、Ｇｄおよび
Ｃｅのうちの１種であることが好ましく、この組成のオ
キシナイトライドガラスについては、５ｅｑ％≦Ｎ≦２
５ｅｑ％の範囲でのＭ1、ＡｌおよびＳｉの金属成分量
が図１〜５に示される斜線部内であり、かつ、Ｏ＋Ｎ=
１００ｅｑ％であると、比剛性の大きなガラス成形体を
得ることができる。Ｍ1がＣａのときのＡ値は２００、
Ｍｇのときは０、Ｙのときは５００、Ｇｄのときは６０
０、Ｃｅのときは５５０として、前記Ｔ１およびＴ２を
設定することが好ましい。
Ｃｅのうちの１種であることが好ましく、この組成のオ
キシナイトライドガラスについては、５ｅｑ％≦Ｎ≦２
５ｅｑ％の範囲でのＭ1、ＡｌおよびＳｉの金属成分量
が図１〜５に示される斜線部内であり、かつ、Ｏ＋Ｎ=
１００ｅｑ％であると、比剛性の大きなガラス成形体を
得ることができる。Ｍ1がＣａのときのＡ値は２００、
Ｍｇのときは０、Ｙのときは５００、Ｇｄのときは６０
０、Ｃｅのときは５５０として、前記Ｔ１およびＴ２を
設定することが好ましい。
【００１４】
【発明の実施の形態】オキシナイトライドガラスは、高
温での粘性が高いため、１２００℃以上の高温でプレス
成形される。成形後の型内のガラスを室温レベルまで冷
却して取り出すのであるが、前記したように、冷却条件
によって、成形体に反りが生じたり、硬い結晶相が生じ
ると、研磨を行っても、所望形状および表面性状の製品
が得られないことがある。そこで、本発明では、急冷と
徐冷を行うことで、前記課題を解決した。特に、ガラス
中の窒素量と、金属成分によって変わるＡ値とを徐冷工
程開始温度Ｔ１および徐冷工程終了温度Ｔ２と関連づけ
ることに成功したので、ガラス組成が変化しても、最適
の冷却条件を設定することができるようになった。以
下、本発明を詳細に説明する。
温での粘性が高いため、１２００℃以上の高温でプレス
成形される。成形後の型内のガラスを室温レベルまで冷
却して取り出すのであるが、前記したように、冷却条件
によって、成形体に反りが生じたり、硬い結晶相が生じ
ると、研磨を行っても、所望形状および表面性状の製品
が得られないことがある。そこで、本発明では、急冷と
徐冷を行うことで、前記課題を解決した。特に、ガラス
中の窒素量と、金属成分によって変わるＡ値とを徐冷工
程開始温度Ｔ１および徐冷工程終了温度Ｔ２と関連づけ
ることに成功したので、ガラス組成が変化しても、最適
の冷却条件を設定することができるようになった。以
下、本発明を詳細に説明する。
【００１５】本発明では、オキシナイトライドガラスを
プレス成形した後、まず、４００℃／ｈｒ以上の冷却速
度で冷却する急冷工程を行う。プレス成形直後に徐冷す
ると結晶相が生成し易いため、急冷によって結晶相の生
成を抑制するのである。より好ましい急冷速度は、４５
０℃／ｈｒ以上、さらに好ましくは５００℃／ｈｒ以上
である。急冷速度は速いほど好ましいが、実操業上は冷
却手段の能力による。急冷手段としては、冷却炉内での
対流空気による空冷、あるいは単に放冷する等の手段が
挙げられる。
プレス成形した後、まず、４００℃／ｈｒ以上の冷却速
度で冷却する急冷工程を行う。プレス成形直後に徐冷す
ると結晶相が生成し易いため、急冷によって結晶相の生
成を抑制するのである。より好ましい急冷速度は、４５
０℃／ｈｒ以上、さらに好ましくは５００℃／ｈｒ以上
である。急冷速度は速いほど好ましいが、実操業上は冷
却手段の能力による。急冷手段としては、冷却炉内での
対流空気による空冷、あるいは単に放冷する等の手段が
挙げられる。
【００１６】プレス成形温度は、ガラスの組成に応じ
て、１２００℃〜１９００℃で行うことが好ましい。ガ
ラスの組成に応じたプレス温度については、本願出願人
による特願平１１−３６８３３６号に詳細に説明されて
いる。従って、ガラス組成に応じた設定したプレス温度
から、徐冷工程開始温度Ｔ１までの温度領域が、急冷領
域となる。
て、１２００℃〜１９００℃で行うことが好ましい。ガ
ラスの組成に応じたプレス温度については、本願出願人
による特願平１１−３６８３３６号に詳細に説明されて
いる。従って、ガラス組成に応じた設定したプレス温度
から、徐冷工程開始温度Ｔ１までの温度領域が、急冷領
域となる。
【００１７】急冷後は、成形体の歪みを可及的に抑制す
るために、冷却速度１００℃／ｈｒ以下の徐冷工程を行
う。１００℃／ｈｒを超える冷却速度では、成形体の反
りを抑制することができない。徐冷速度は、オキシナイ
トライドガラスのヤング率、線膨張係数等の特性、成形
体の厚さ等を考慮して適宜設定可能であるが、５０℃／
ｈｒ以下が好ましく、３０℃／ｈｒ以下がより好まし
い。特に、ディスクのような薄いガラス成形体を得る場
合は、反りを生じやすいので、２５℃／ｈｒ以下の冷却
速度とすることが好ましい。ただしあまり遅い冷却速度
では、徐冷工程終了までに長時間要するため、３℃／ｈ
ｒ以上とすることが好ましい。放冷のみでは急冷されて
しまうため、徐冷速度を上記範囲に制御するには、加熱
しながら冷却するとよい。
るために、冷却速度１００℃／ｈｒ以下の徐冷工程を行
う。１００℃／ｈｒを超える冷却速度では、成形体の反
りを抑制することができない。徐冷速度は、オキシナイ
トライドガラスのヤング率、線膨張係数等の特性、成形
体の厚さ等を考慮して適宜設定可能であるが、５０℃／
ｈｒ以下が好ましく、３０℃／ｈｒ以下がより好まし
い。特に、ディスクのような薄いガラス成形体を得る場
合は、反りを生じやすいので、２５℃／ｈｒ以下の冷却
速度とすることが好ましい。ただしあまり遅い冷却速度
では、徐冷工程終了までに長時間要するため、３℃／ｈ
ｒ以上とすることが好ましい。放冷のみでは急冷されて
しまうため、徐冷速度を上記範囲に制御するには、加熱
しながら冷却するとよい。
【００１８】徐冷工程は、徐冷工程開始温度Ｔ１と徐冷
工程終了温度Ｔ２の間において行う。徐冷工程開始温度
Ｔ１（℃）は、ガラスの組成に応じて、所定の範囲に制
御する必要があり、下記式（１）を満足する温度とす
る。下記式で設定される範囲外の成形体の歪みを小さく
するためである。 ５３０＋１０ｎ＋Ａ≦Ｔ１≦６３０＋１０ｎ＋Ａ …（１） ただし、ｎは、ガラス中の窒素と酸素の合計を１００ｅ
ｑ％としたときの窒素のｅｑ％であり、Ａは、ガラス組
成によって定まる値であって、０≦Ａ≦６００である。
工程終了温度Ｔ２の間において行う。徐冷工程開始温度
Ｔ１（℃）は、ガラスの組成に応じて、所定の範囲に制
御する必要があり、下記式（１）を満足する温度とす
る。下記式で設定される範囲外の成形体の歪みを小さく
するためである。 ５３０＋１０ｎ＋Ａ≦Ｔ１≦６３０＋１０ｎ＋Ａ …（１） ただし、ｎは、ガラス中の窒素と酸素の合計を１００ｅ
ｑ％としたときの窒素のｅｑ％であり、Ａは、ガラス組
成によって定まる値であって、０≦Ａ≦６００である。
【００１９】急冷領域と徐冷領域の切り替え温度に相当
する徐冷工程開始温度Ｔ１は、式（１）から理解される
ように、ガラス中の窒素量ｎとガラスの組成（ガラス中
の金属元素の種類）で定まるＡ値によって上下する。ｎ
およびＡ値は、ガラスの粘性挙動に及ぼす影響が大き
く、プレス温度等もこれらの因子によって変動する。ま
た、Ｔ１は、ガラスの組成によって決まるガラス転移点
と結晶化温度領域にも影響を受けるため、１００℃の幅
を設けている。これらの因子の影響を考慮して徐冷工程
開始温度Ｔ１を設定することにより、本発明の目的が達
成される。Ａの値は各ガラス組成によって幅があるが、
０〜６００の範囲内に収まる。
する徐冷工程開始温度Ｔ１は、式（１）から理解される
ように、ガラス中の窒素量ｎとガラスの組成（ガラス中
の金属元素の種類）で定まるＡ値によって上下する。ｎ
およびＡ値は、ガラスの粘性挙動に及ぼす影響が大き
く、プレス温度等もこれらの因子によって変動する。ま
た、Ｔ１は、ガラスの組成によって決まるガラス転移点
と結晶化温度領域にも影響を受けるため、１００℃の幅
を設けている。これらの因子の影響を考慮して徐冷工程
開始温度Ｔ１を設定することにより、本発明の目的が達
成される。Ａの値は各ガラス組成によって幅があるが、
０〜６００の範囲内に収まる。
【００２０】一方、徐冷工程終了温度Ｔ２は、下記式
（２）を満足する温度とする。式中ｎおよびＡ値は前記
したとおりである。 Ｔ２≦４２０＋１０ｎ＋Ａ …（２） この式によってＴ２の上限が定まる。Ｔ２は上記式を満
足すれば何℃でも良いが、あまり低温にまで徐冷を行う
と、冷却効率が悪くなるので、適宜設定すればよい。徐
冷工程終了後は、適宜放冷する等して、室温にまで冷却
する。
（２）を満足する温度とする。式中ｎおよびＡ値は前記
したとおりである。 Ｔ２≦４２０＋１０ｎ＋Ａ …（２） この式によってＴ２の上限が定まる。Ｔ２は上記式を満
足すれば何℃でも良いが、あまり低温にまで徐冷を行う
と、冷却効率が悪くなるので、適宜設定すればよい。徐
冷工程終了後は、適宜放冷する等して、室温にまで冷却
する。
【００２１】上記した徐冷工程を行うことにより、プレ
ス成形体には結晶相や反りが生じなくなる。なお結晶相
の有無は、光学顕微鏡、ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）あ
るいはＸ線回折で調べることができる。また、反りの度
合いは例えば輪郭形状測定器等で測定可能である。
ス成形体には結晶相や反りが生じなくなる。なお結晶相
の有無は、光学顕微鏡、ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）あ
るいはＸ線回折で調べることができる。また、反りの度
合いは例えば輪郭形状測定器等で測定可能である。
【００２２】次に、本発明において好ましく用いられる
オキシナイトライドガラスの組成について説明する。オ
キシナイトライドガラスとしては、 Ｍ1−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ（Ｍ1は、Ｃａ、Ｍｇ、Ｙ、
Ｇｄ、ＣｅおよびＬａのうちの１種または２種以上）で
表されるオキシナイトライドガラス、 Ｍ2−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ（Ｍ2は、Ｃａおよび／またはＭ
ｇ）で表されるオキシナイトライドガラス、 およびのガラスを２種以上混合したオキシナイト
ライドガラスのいずれかを用いることが好ましい。
オキシナイトライドガラスの組成について説明する。オ
キシナイトライドガラスとしては、 Ｍ1−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ（Ｍ1は、Ｃａ、Ｍｇ、Ｙ、
Ｇｄ、ＣｅおよびＬａのうちの１種または２種以上）で
表されるオキシナイトライドガラス、 Ｍ2−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ（Ｍ2は、Ｃａおよび／またはＭ
ｇ）で表されるオキシナイトライドガラス、 およびのガラスを２種以上混合したオキシナイト
ライドガラスのいずれかを用いることが好ましい。
【００２３】において、通常はＭ1は、Ｃａ、Ｍｇ、
Ｙ、Ｇｄ、ＣｅおよびＬａのうちの１種である組成が知
られているが、２種以上の金属元素が混在していても構
わない。においても、ＭｇとＣａの両方が混在してい
ても良い。は、プレス前に２種以上の組成のガラスを
混合したような場合である。
Ｙ、Ｇｄ、ＣｅおよびＬａのうちの１種である組成が知
られているが、２種以上の金属元素が混在していても構
わない。においても、ＭｇとＣａの両方が混在してい
ても良い。は、プレス前に２種以上の組成のガラスを
混合したような場合である。
【００２４】本発明において好ましく用いられるオキシ
ナイトライドガラスは、Ｏ＋Ｎ=１００ｅｑ％とすると
きの窒素が５ｅｑ％≦Ｎ≦２５ｅｑ％のものである。窒
素が５ｅｑ％より少ないと、ヤング率の高いディスクが
得にくく、窒素が２５ｅｑ％を超えると、窒化珪素等が
析出する可能性がありディスクとしては好ましくないか
らである。
ナイトライドガラスは、Ｏ＋Ｎ=１００ｅｑ％とすると
きの窒素が５ｅｑ％≦Ｎ≦２５ｅｑ％のものである。窒
素が５ｅｑ％より少ないと、ヤング率の高いディスクが
得にくく、窒素が２５ｅｑ％を超えると、窒化珪素等が
析出する可能性がありディスクとしては好ましくないか
らである。
【００２５】Ｍ1、Ａｌ、Ｓｉの３つの金属成分の組成
比（Ｍ1＋Ａｌ＋Ｓｉ＝１００ｅｑ％）については、Ｃ
ａ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表せるＣａ系オキシナイトラ
イドガラスにおいては図１に示される組成図における斜
線部内、Ｍｇ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表せるＭｇ系オキ
シナイトライドガラスにおいては図２に示される組成図
における斜線部内、Ｙ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表せるＹ
系オキシナイトライドガラスにおいては図３に示される
組成図における斜線部内、Ｇｄ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで
表せるオキシナイトライドガラスにおいては図４に示さ
れる組成図における斜線部内、Ｃｅ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−
Ｎで表せるオキシナイトライドガラスにおいては図５に
示される組成図における斜線部内の組成比を選択するこ
とが、プレス成形性と得られる成形体の性能の点で最も
好ましい。これらの斜線部分の組成比は、本願出願人に
よって出願された特願平１１−９６９８７号に示される
ように、高ヤング率で均質なガラスを得ることのできる
組成として決定されたものである。
比（Ｍ1＋Ａｌ＋Ｓｉ＝１００ｅｑ％）については、Ｃ
ａ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表せるＣａ系オキシナイトラ
イドガラスにおいては図１に示される組成図における斜
線部内、Ｍｇ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表せるＭｇ系オキ
シナイトライドガラスにおいては図２に示される組成図
における斜線部内、Ｙ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表せるＹ
系オキシナイトライドガラスにおいては図３に示される
組成図における斜線部内、Ｇｄ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで
表せるオキシナイトライドガラスにおいては図４に示さ
れる組成図における斜線部内、Ｃｅ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−
Ｎで表せるオキシナイトライドガラスにおいては図５に
示される組成図における斜線部内の組成比を選択するこ
とが、プレス成形性と得られる成形体の性能の点で最も
好ましい。これらの斜線部分の組成比は、本願出願人に
よって出願された特願平１１−９６９８７号に示される
ように、高ヤング率で均質なガラスを得ることのできる
組成として決定されたものである。
【００２６】これらの組成を有するガラスにおけるＡ値
は、Ｍ1がＣａのときのＡ値は２００、Ｍｇのときは
０、Ｙのときは５００、Ｇｄのときは６００、Ｃｅのと
きは５５０である。Ａ値が正しく決定されないと、徐冷
工程の上限温度および下限温度を適切に設定できなくな
り、結晶相が生成したり、成形体の反りや歪みがひどく
なることとなる。Ｍ2−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ（Ｍ2は、Ｃａおよ
び／またはＭｇ）の場合もＡ値は上記と同様である。混
合系の場合は、適宜、混合比（当量比）を加味してＡ値
を決定するとよい。
は、Ｍ1がＣａのときのＡ値は２００、Ｍｇのときは
０、Ｙのときは５００、Ｇｄのときは６００、Ｃｅのと
きは５５０である。Ａ値が正しく決定されないと、徐冷
工程の上限温度および下限温度を適切に設定できなくな
り、結晶相が生成したり、成形体の反りや歪みがひどく
なることとなる。Ｍ2−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ（Ｍ2は、Ｃａおよ
び／またはＭｇ）の場合もＡ値は上記と同様である。混
合系の場合は、適宜、混合比（当量比）を加味してＡ値
を決定するとよい。
【００２７】オキシナイトライドガラスは、金属酸化物
（ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯ、ＣａＯ等）と、窒素源
となる窒化物（Ｓｉ3Ｎ4、ＡｌＮ、ＢＮ等）を、還元性
雰囲気下で混合し、高温で溶融後に急冷する方法によっ
て作製することができる。また、金属酸化物をＮ2ガス
やＮＨ3ガス中で溶融する方法、溶融ガラスにＮ2ガスや
ＮＨ3ガスをバブリングで吹き込む方法、多孔質ガラス
をＮＨ3ガス中で焼成する方法等も採用可能である。
（ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯ、ＣａＯ等）と、窒素源
となる窒化物（Ｓｉ3Ｎ4、ＡｌＮ、ＢＮ等）を、還元性
雰囲気下で混合し、高温で溶融後に急冷する方法によっ
て作製することができる。また、金属酸化物をＮ2ガス
やＮＨ3ガス中で溶融する方法、溶融ガラスにＮ2ガスや
ＮＨ3ガスをバブリングで吹き込む方法、多孔質ガラス
をＮＨ3ガス中で焼成する方法等も採用可能である。
【００２８】
【実施例】以下実施例によって本発明をさらに詳述する
が、下記実施例は本発明を制限するものではなく、本発
明の趣旨を逸脱しない範囲で変更実施することは、全て
本発明に含まれる。
が、下記実施例は本発明を制限するものではなく、本発
明の趣旨を逸脱しない範囲で変更実施することは、全て
本発明に含まれる。
【００２９】実験例 表１に示した組成のＭ1−Ａｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ（Ｍ1は、
Ｃａ、Ｍｇ、Ｙ、ＧｄまたはＣｅ）系オキシナイトライ
ドガラスを用いてプレス成形実験を行った。表中、オキ
シナイトライドガラスの組成は、酸素０および窒素Ｎの
和が１００ｅｑ％、残る金属元素の和が１００ｅｑ％と
なる。
Ｃａ、Ｍｇ、Ｙ、ＧｄまたはＣｅ）系オキシナイトライ
ドガラスを用いてプレス成形実験を行った。表中、オキ
シナイトライドガラスの組成は、酸素０および窒素Ｎの
和が１００ｅｑ％、残る金属元素の和が１００ｅｑ％と
なる。
【００３０】
【表１】
【００３１】プレス実験は、プレス後のディスクの厚み
１．２ｍｍ、直径９６ｍｍのディスクを成形することの
できる黒鉛製型内に、表１に示した組成のオキシナイト
ライドガラスのゴブを入れて、プレスすることにより行
った。プレス温度は、徐冷開始温度よりも２００〜４０
０℃高い温度で行った。プレス荷重４３２００Ｎ、プレ
ス時間１４０秒の条件でプレス成形を行い、プレス圧を
０にして各プレス温度から徐冷工程開始温度までは５０
０℃／ｈｒで急冷し、徐冷工程では加熱しながら２５℃
／ｈｒで冷却を行った。徐冷工程終了後は、再び放冷し
て、常温まで冷却した。
１．２ｍｍ、直径９６ｍｍのディスクを成形することの
できる黒鉛製型内に、表１に示した組成のオキシナイト
ライドガラスのゴブを入れて、プレスすることにより行
った。プレス温度は、徐冷開始温度よりも２００〜４０
０℃高い温度で行った。プレス荷重４３２００Ｎ、プレ
ス時間１４０秒の条件でプレス成形を行い、プレス圧を
０にして各プレス温度から徐冷工程開始温度までは５０
０℃／ｈｒで急冷し、徐冷工程では加熱しながら２５℃
／ｈｒで冷却を行った。徐冷工程終了後は、再び放冷し
て、常温まで冷却した。
【００３２】得られたディスクについて、反りと結晶相
の有無を調べた。反りは形状測定器でディスクの湾曲状
態を調べて、ディスクを水平面上においたときの最大高
さを反りとした。結晶相の有無は光学顕微鏡で調べた。
の有無を調べた。反りは形状測定器でディスクの湾曲状
態を調べて、ディスクを水平面上においたときの最大高
さを反りとした。結晶相の有無は光学顕微鏡で調べた。
【００３３】表２〜表４に、表１に示した各ガラス組成
について、ｎ、Ａ値、式（１）から算出したＴ１（℃）
および式（２）から算出したＴ２（℃）を示すと共に、
実際に徐冷を行った温度範囲、反り量、結晶相の有無を
併記した。
について、ｎ、Ａ値、式（１）から算出したＴ１（℃）
および式（２）から算出したＴ２（℃）を示すと共に、
実際に徐冷を行った温度範囲、反り量、結晶相の有無を
併記した。
【００３４】
【表２】
【００３５】
【表３】
【００３６】
【表４】
【００３７】各表から、徐冷を開始すべき温度よりも高
温域から徐冷を始めた場合には結晶相が生成することが
わかる。また、徐冷終了温度よりも高温で徐冷をやめた
場合には、反り量が大きくなることがわかった。従っ
て、式（１）および（２）の正当性が確認でき、最適の
徐冷領域をガラス組成別に把握できるようになった。
温域から徐冷を始めた場合には結晶相が生成することが
わかる。また、徐冷終了温度よりも高温で徐冷をやめた
場合には、反り量が大きくなることがわかった。従っ
て、式（１）および（２）の正当性が確認でき、最適の
徐冷領域をガラス組成別に把握できるようになった。
【００３８】
【発明の効果】本発明のオキシナイトライドガラスのプ
レス成形法によれば、急冷と徐冷を行うことで、硬く表
面平滑性に悪影響を及ぼすガラス結晶を生成させず、し
かも、薄い円板状のガラス成形体を製造する場合に非常
に起こりやすい反りの量を非常に低減させることができ
た。特に、ガラス中の窒素量と、ガラス中の金属成分の
種類によって定まるＡ値を、徐冷工程開始温度Ｔ１およ
び徐冷工程終了温度Ｔ２と関連付けることに成功したの
で、異なる組成のガラスにおいても最適の冷却条件を設
定することができ、各組成のディスクを歩留まり良好に
プレス成形できるようになった。
レス成形法によれば、急冷と徐冷を行うことで、硬く表
面平滑性に悪影響を及ぼすガラス結晶を生成させず、し
かも、薄い円板状のガラス成形体を製造する場合に非常
に起こりやすい反りの量を非常に低減させることができ
た。特に、ガラス中の窒素量と、ガラス中の金属成分の
種類によって定まるＡ値を、徐冷工程開始温度Ｔ１およ
び徐冷工程終了温度Ｔ２と関連付けることに成功したの
で、異なる組成のガラスにおいても最適の冷却条件を設
定することができ、各組成のディスクを歩留まり良好に
プレス成形できるようになった。
【００３９】従って、本発明法は高比剛性ディスクの製
造に適しており、また本発明法によって得られるオキシ
ナイトライドガラス製ディスクは、磁気ディスク等記録
媒体用のディスクに有用である。
造に適しており、また本発明法によって得られるオキシ
ナイトライドガラス製ディスクは、磁気ディスク等記録
媒体用のディスクに有用である。
【図１】５ｅｑ％≦Ｎ≦３０ｅｑ％の場合のＣａ−Ａｌ
−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるオキシナイトライドガラスに
おけるＣａ、Ａｌ、Ｓｉの金属成分の好ましい範囲を示
す組成図である。
−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるオキシナイトライドガラスに
おけるＣａ、Ａｌ、Ｓｉの金属成分の好ましい範囲を示
す組成図である。
【図２】５ｅｑ％≦Ｎ≦３０ｅｑ％の場合のＭｇ−Ａｌ
−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるオキシナイトライドガラスに
おけるＭｇ、Ａｌ、Ｓｉの金属成分の好ましい範囲を示
す組成図である。
−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるオキシナイトライドガラスに
おけるＭｇ、Ａｌ、Ｓｉの金属成分の好ましい範囲を示
す組成図である。
【図３】５ｅｑ％≦Ｎ≦３０ｅｑ％の場合のＹ−Ａｌ−
Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるオキシナイトライドガラスにお
けるＹ、Ａｌ、Ｓｉの金属成分の好ましい範囲を示す組
成図である。
Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるオキシナイトライドガラスにお
けるＹ、Ａｌ、Ｓｉの金属成分の好ましい範囲を示す組
成図である。
【図４】５ｅｑ％≦Ｎ≦３０ｅｑ％の場合のＧｄ−Ａｌ
−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるオキシナイトライドガラスに
おけるＧｄ、Ａｌ、Ｓｉの金属成分の好ましい範囲を示
す組成図である。
−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるオキシナイトライドガラスに
おけるＧｄ、Ａｌ、Ｓｉの金属成分の好ましい範囲を示
す組成図である。
【図５】５ｅｑ％≦Ｎ≦３０ｅｑ％の場合のＣｅ−Ａｌ
−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるオキシナイトライドガラスに
おけるＣｅ、Ａｌ、Ｓｉの金属成分の好ましい範囲を示
す組成図である。
−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるオキシナイトライドガラスに
おけるＣｅ、Ａｌ、Ｓｉの金属成分の好ましい範囲を示
す組成図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4G062 AA18 BB07 CC04 CC10 DA05 DA06 DB04 DB05 DC01 DD01 DE01 DF01 EA01 EB01 EC01 ED04 EE04 EF01 EG01 FA01 FB01 FC01 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ04 FK01 FL03 FL04 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ02 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK04 KK05 KK07 KK10 MM04 MM27 MM29 NN33
Claims (7)
- 【請求項１】 型を用いてオキシナイトライドガラスを
プレス成形した後、プレス成形用型内のガラスを冷却し
て、オキシナイトライドガラスのプレス成形体を得るプ
レス成形方法において、まず、４００℃／ｈｒ以上で冷
却する急冷工程を行い、ガラスの温度が徐冷工程開始温
度Ｔ１（℃）へ達した後は、徐冷工程終了温度Ｔ２
（℃）に到達するまで１００℃／ｈｒ以下で冷却する徐
冷工程を行うと共に、徐冷工程開始温度Ｔ１（℃）と徐
冷工程終了温度Ｔ２（℃）とが下記式を満足するように
設定することを特徴とするオキシナイトライドガラスの
プレス成形方法。 ５３０＋１０ｎ＋Ａ≦Ｔ１≦６３０＋１０ｎ＋Ａ …（１） Ｔ２≦４２０＋１０ｎ＋Ａ …（２） ただし、ｎは、ガラス中の窒素と酸素の合計ｅｑ％を１
００ｅｑ％としたときの窒素のｅｑ％であり、Ａは、ガ
ラス組成によって定まる値であって、０≦Ａ≦６００で
ある。 - 【請求項２】 オキシナイトライドガラスが、Ｍ1−Ａ
ｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ（Ｍ1は、Ｃａ、Ｍｇ、Ｙ、Ｇｄ、Ｃ
ｅおよびＬａのうちの１種または２種以上）で表される
オキシナイトライドガラス、Ｍ2−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ（Ｍ
2は、Ｃａおよび／またはＭｇ）で表されるオキシナイ
トライドガラス、あるいはこれらの組成のガラスを２種
以上混合したオキシナイトライドガラスのいずれかであ
る請求項１に記載のプレス成形方法。 - 【請求項３】 オキシナイトライドガラスが、Ｃａ−Ａ
ｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるＣａ系オキシナイトライド
ガラスであって、５ｅｑ％≦Ｎ≦２５ｅｑ％の範囲での
Ｃａ、ＡｌおよびＳｉの金属成分量が図１に示される組
成図における斜線部内であり、Ｏ＋Ｎ=１００ｅｑ％で
あり、Ａ値が２００である請求項２に記載のプレス成形
方法。 - 【請求項４】 オキシナイトライドガラスが、Ｍｇ−Ａ
ｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるＭｇ系オキシナイトライド
ガラスであって、５ｅｑ％≦Ｎ≦２５ｅｑ％の範囲での
Ｍｇ、ＡｌおよびＳｉの金属成分量が図２に示される組
成図における斜線部内であり、Ｏ＋Ｎ=１００ｅｑ％で
あり、Ａ値が０である請求項２に記載のプレス成形方
法。 - 【請求項５】 オキシナイトライドガラスが、Ｙ−Ａｌ
−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるＹ系オキシナイトライドガラ
スであって、５ｅｑ％≦Ｎ≦２５ｅｑ％の範囲でのＹ、
ＡｌおよびＳｉの金属成分量が図３に示されるＹ、Ａｌ
およびＳｉの組成図における斜線部内であり、Ｏ＋Ｎ=
１００ｅｑ％であり、かつＡ値が５００である請求項２
に記載のプレス成形方法。 - 【請求項６】 オキシナイトライドガラスが、Ｇｄ−Ａ
ｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるＧｄ系オキシナイトライド
ガラスであって、５ｅｑ％≦Ｎ≦２５ｅｑ％の範囲での
Ｇｄ、ＡｌおよびＳｉの金属成分量が図４に示される組
成図における斜線部内であり、Ｏ＋Ｎ=１００ｅｑ％で
あり、かつＡ値が６００である請求項２に記載のプレス
成形方法。 - 【請求項７】 オキシナイトライドガラスが、Ｃｅ−Ａ
ｌ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎで表されるＣｅ系オキシナイトライド
ガラスであって、５ｅｑ％≦Ｎ≦２５ｅｑ％の範囲での
Ｃｅ、ＡｌおよびＳｉの金属成分量が図５に示される組
成図における斜線部内であり、Ｏ＋Ｎ=１００ｅｑ％で
あり、かつＡ値が５５０である請求項２に記載のプレス
成形方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000370665A JP2002173330A (ja) | 2000-12-05 | 2000-12-05 | オキシナイトライドガラスのプレス成形方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000370665A JP2002173330A (ja) | 2000-12-05 | 2000-12-05 | オキシナイトライドガラスのプレス成形方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002173330A true JP2002173330A (ja) | 2002-06-21 |
Family
ID=18840515
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000370665A Withdrawn JP2002173330A (ja) | 2000-12-05 | 2000-12-05 | オキシナイトライドガラスのプレス成形方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002173330A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006516238A (ja) * | 2003-01-14 | 2006-06-29 | ディアモルフ アーベー | 新規なガラス材料及び前記ガラスの製造方法 |
| JP2016216355A (ja) * | 2011-04-21 | 2016-12-22 | Hoya株式会社 | ガラスブランク |
| CN109422448A (zh) * | 2017-08-31 | 2019-03-05 | Ａｇｃ株式会社 | 3d保护玻璃的制造方法 |
-
2000
- 2000-12-05 JP JP2000370665A patent/JP2002173330A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006516238A (ja) * | 2003-01-14 | 2006-06-29 | ディアモルフ アーベー | 新規なガラス材料及び前記ガラスの製造方法 |
| JP2016216355A (ja) * | 2011-04-21 | 2016-12-22 | Hoya株式会社 | ガラスブランク |
| CN106430918A (zh) * | 2011-04-21 | 2017-02-22 | Hoya株式会社 | 磁盘用玻璃坯料的制造方法及磁盘用玻璃基板的制造方法、玻璃坯料、磁盘用玻璃基板 |
| CN106430918B (zh) * | 2011-04-21 | 2019-05-14 | Hoya株式会社 | 磁盘用玻璃坯料的制造方法及磁盘用玻璃基板的制造方法、玻璃坯料、磁盘用玻璃基板 |
| CN109422448A (zh) * | 2017-08-31 | 2019-03-05 | Ａｇｃ株式会社 | 3d保护玻璃的制造方法 |
| CN109422448B (zh) * | 2017-08-31 | 2022-12-13 | Ａｇｃ株式会社 | 3d保护玻璃的制造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040805 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20080205 |