JP2002162663A

JP2002162663A - レンズのあおり装置

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Publication number: JP2002162663A
Application number: JP2000356639A
Authority: JP
Inventors: Koichi Otaka; 剛一大高
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 2000-11-22
Filing date: 2000-11-22
Publication date: 2002-06-07
Anticipated expiration: 2020-11-22
Also published as: US20030202261A1; US6636368B2; US20020060863A1; JP3898438B2; US6710949B2

Abstract

(57)【要約】【課題】浮上型光ヘッドに適した、軽量でかつ簡単な
構造のアクチュエータを用いたレンズのあおり装置を提
供すること。【解決手段】第１の基板１００には、レンズ１０１
と、レンズ１０１を支持する複数の梁１０２ａ〜１０２
ｄと、複数の梁１０２ａ〜１０２ｄに設けられた第１の
電極とが形成されており、第２の基板２００には、複数
の梁１０２ａ〜１０２ｄに空隙２０４を介して各々対向
する位置に第２の電極２０３ａ〜２０３ｄが形成されて
おり、電圧制御回路２５０は、複数の梁１０２ａ〜１０
２ｄに形成された第１の電極と第２の電極２０３ａ〜２
０３ｄとの間に電圧を印加して、複数の梁１０２ａ〜１
０２ｄに静電力を作用させて撓みを発生させ、レンズ１
０１のあおり方向を変更する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は，レンズのあおり装
置に関し、詳細には、浮上型光ヘッド等に適したアクチ
ュエータを用いたレンズのあおり装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】光ディスクドライブのピックアップ部分
のトラッキング調整用のあおり機構のアクチュエータと
しては、ムービング・コイル、永久磁石および磁性体を
用いたムービング・コイル型モータが主として使われて
いる（ラジオ技術社刊「光ディスク技術」１２４頁）。

【０００３】例えば、特許第２７１９９７４号では、磁
気駆動装置を用いた光ピックアップが開示されている。
同公報に示す光ピックアップの磁気駆動装置では、ばね
によって変位自在に支持されているレンズホルダにマグ
ネットが装備され、かつ、固定側には前記マグネットに
対向する磁性体ヨークならびに駆動コイルが設けられて
いる磁気駆動装置において、レンズホルダが変位する方
向の幅寸法をａ、ヨークの縦寸法をｂ、マグネットとヨ
ークのギャップ寸法をｇとし、レンズホルダがその可動
必要範囲において変位したとき、レンズホルダに作用す
る磁気的な力が前記変位距離にほぼ比例するように、ｘ
＝ｇ／（ｂ−ａ）の値が設定されているものである。

【０００４】また、特許第２７５７５３９号では、浮上
型光ヘッドのトラッキング調整方法としてリレーレンズ
を用いた方法が開示されている。同公報の浮遊型光ヘッ
ドは、レーザービームを光ディスクに収束させるための
対物レンズと、この対物レンズを動圧空気軸受効果によ
り光ディスクの表面から浮上させて、対物レンズと光デ
ィスクとの距離をほぼ一定に保持するためのスライダー
とを有し、駆動手段によって光ディスクの半径方向に沿
って駆動される可動部と、上記レーザービームの光源
と、フォーカシングおよびトラッキングのずれ量を検出
する検出手段と、この検出手段からの検出信号に基づい
てフォーカシング制御を行うフォーカシング制御手段と
を有する固定部とからなる浮上型光ヘッドにおいて、上
記固定部に、レーザービームの微細なトラッキング制御
を光学的に行う複数枚のレンズを組み合わせたレンズか
らなるトラッキング制御手段と、前記検出手段から出力
されるトラッキングのずれ量に対応した信号を、高周波
側の信号と低周波側の信号に分離する信号分離回路と、
この信号分離回路によって分離された低周波側の信号に
基づいて、前記駆動手段の駆動を制御する第１の駆動制
御回路と、上記信号分離回路によって分離された高周波
側の信号に基づいて、前記トラッキング制御手段におけ
るリレーレンズの一方を光軸と直交する方向へ移動させ
る駆動を制御する第２の駆動制御回路とを備えている。

【０００５】また、特開平５−９４６２８号公報では、
浮上型光ヘッドのトラッキング調整用アクチュエータと
してリニアモータを用いる方法が開示されている。同公
報の光学的記録再生装置では、レーザービームを光ディ
スクに収束させるための対物レンズと、この対物レンズ
を動圧空気軸受効果により光ディスクの表面から浮上さ
せて、対物レンズと光ディスクとの距離をほぼ一定に保
持するためのスライダーとを有し、駆動手段によって光
ディスクの半径方向に沿って駆動される可動部と、上記
レーザービームの光源と、フォーカシングおよびトラッ
キングのずれ量を検出する検出手段と、この検出手段か
らの検出信号に基づいてフォーカシング制御を行うフォ
ーカシング制御手段と、上記検出手段からの検出信号に
基づいてトラッキング制御を行うトラッキング制御手段
とを有する固定部とからなる浮上型光ヘッドにおいて、
上記固定部に設けられたトラッキング制御手段が、レン
ズを光軸方向と直交する方向に移動することによってト
ラッキングの制御を行うレンズを備え、このトラッキン
グ制御用のレンズを、高剛性の弾性支持部材によって支
持して光軸方向と直交する方向に移動可能としたもので
ある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ムービングコイル型アクチュエータ方式、リレーレンズ
方式、およびリニアモータ方式では、いずれも重量が重
く、浮上型光ヘッドには不向きである。また、かかる方
式では、重量が重いために、慣性が大きく高速のトラッ
キング補正を行うためのレンズのあおり調整が高速で行
えないという問題がある。さらに、かかる方式は、アク
チュエータ自体も構造が複雑なため、ヘッドの実装組立
が複雑になるという問題がある。

【０００７】本発明は、上記に鑑みてなされたものであ
り、浮上型光ヘッドに適した、軽量でかつ簡単な構造の
アクチュエータを用いたレンズのあおり装置を提供する
ことを目的とする。

【０００８】

【解決を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１にかかる発明は、光学材料により形成され
たレンズをあおるレンズのあおり装置において、前記レ
ンズを支持する複数の梁と、前記複数の梁に静電力を作
用させる静電力印加手段と、を備え、前記複数の梁に静
電力を作用させて撓みを発生させ、前記レンズをあおる
ものである。上記発明によれば、複数の梁はレンズを支
持し、静電力印加手段は複数の梁に静電力を作用させ、
複数の梁に作用する静電力によりレンズをあおり、レン
ズの角度を変更する。

【０００９】また、請求項２にかかる発明は、請求項１
にかかる発明において、前記複数の梁は、３つ以上であ
ることとした。上記発明によれば、３つ以上の梁を形成
する。

【００１０】また、請求項３にかかる発明によれば、請
求項１または請求項２にかかる発明において、前記複数
の梁は、螺旋状に形成されていることとした。上記発明
によれば、複数の梁を螺旋状に形成する。

【００１１】また、請求項４にかかる発明によれば、請
求項１〜請求項３のいずれか１つにかかる発明におい
て、前記複数の梁の幅は、前記レンズを支持する側が狭
く形成されているものである。上記発明によれば、複数
の梁の幅をレンズを支持する側を狭く形成する。

【００１２】また、請求項５にかかる発明によれば、請
求項１〜請求項４のいずれか１つにかかる発明におい
て、前記複数の梁の厚さはレンズを支持する側が薄く形
成されているものである。上記発明によれば、複数の梁
の厚さをレンズを支持する側を薄く形成する。

【００１３】また、請求項６にかかる発明は、請求項１
〜請求項５のいずれか１つにかかる発明において、前記
静電力印加手段は、前記複数の梁に形成された第１の電
極と、前記複数の梁に空隙を介して各々対向するように
形成された第２の電極と、前記複数の梁に形成された第
１の電極と前記第２の電極との間に電圧を印加して、前
記複数の梁に静電力を作用させる電圧印加手段と、を含
むものである。上記発明によれば、静電力印加手段で
は、電圧印加手段は、複数の梁に形成された第１の電極
と、前記複数の梁に空隙を介して各々対向するように形
成された第２の電極間に電圧を印加して、複数の梁に静
電力を作用させる。

【００１４】また、請求項７にかかる発明は、請求項６
にかかる発明において、前記空隙は、非平行な空隙であ
ることとした。上記発明によれば、空隙を非平行に形成
する。

【００１５】また、請求項８にかかる発明は、請求項１
〜請求項７のいずれか１つにかかる発明において、前記
レンズと前記複数の梁は、同一の材料で形成されている
こととした。上記発明によれば、レンズと複数の梁を同
一の材料で形成する。

【００１６】また、請求項９にかかる発明は、請求項６
〜請求項８のいずれか１つにかかる発明において、前記
レンズ、前記複数の梁、および前記第１の電極が形成さ
れた第１の基板と、前記第２の電極が形成された第２の
基板とが接合されて形成されることとした。上記発明に
よれば、レンズ、複数の梁、および第１の電極が形成さ
れた第１の基板と、第２の電極が形成された第２の基板
とを接合してレンズのあおり装置を形成する。

【００１７】また、請求項１０にかかる発明は、請求項
９にかかる発明において、前記第２の基板は半導体材料
であることとした。上記発明によれば、第２の基板を半
導体材料で形成する。

【００１８】また、請求項１１にかかる発明は、請求項
９または請求項１０にかかる発明において、前記第２の
基板には、前記電圧印加手段が設けられていることとし
た。上記発明によれば、電圧印加手段を第２の基板に形
成する。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明に
かかるレンズのあおり装置の好適な実施の形態を、（実
施の形態１）、（実施の形態２）の順に詳細に説明す
る。

【００２０】（実施の形態１）図１は実施の形態１にか
かるレンズのあおり装置の概略構成を示しており、
（ａ）はレンズのあおり装置の平面図、（ｂ）は、
（ａ）のＡ−Ａ断面図を示している。

【００２１】図１において、１００はレンズ１０１や４
つの梁１０２ａ〜１０２ｄが形成された第１の基板を示
している。１０１は第１の基板の略中央部に形成された
レンズを示している。１０２ａ〜１０２ｄは、レンズ１
０１を第１の基板１００の所定円Ｃに沿って４方向から
支持する４つの梁を示している。また、４つの梁１０２
ａ〜１０２ｄには、各々不図示の電極（第１の電極）が
形成されている。

【００２２】２００は電極等が形成された第２の基板を
示している。第１の基板１００の下面と第２の基板２０
０の上面は接合されている。この第２の基板２００に
は、レンズ１０１の円周と略同じ大きさの円形の開口部
２０１が形成されている。この開口部２０１を介してレ
ンズ１０１に光が入射する。また、第２の基板２００に
は、開口部２０１に沿ってリング状の凹部２０２が形成
されている。このリング状の凹部２０２の外周の大きさ
は所定円Ｃと略同じ大きさとなっている。第１の基板１
００の４つの梁１０２ａ〜１０２ｄと第２の基板２００
のリング状の凹部２０２間にはそれぞれ空隙２０４が形
成されている。

【００２３】そして、リング状の凹部２０２には、第１
の基板１００の４つの梁１０２ａ〜１０２ｄに空隙２０
４を介して各々対向する位置に、４つの電極（第２の電
極）２０３ａ〜２０３ｄ（２０３ａ、２０３ｃは図６参
照）が形成されている。２５０は、４つの梁１０２ａ〜
１０２ｄに形成された電極と、第２の基板２００の４つ
の電極２０３ａ〜２０３ｄ間に電圧を印加して、４つの
梁１０２ａ〜１０２ｄに静電力を作用させる電圧制御回
路を示している。電圧制御回路２５０により、梁１０２
ａ〜１０２ｄに形成された電極と電極２０３ａ〜２０３
ｄ間に電圧が印加されると、梁１０２ａ〜１０２ｄには
静電力により撓みが発生する。梁１０２ａ〜１０２ｄを
独立に撓ませれば、力学的な関係からレンズ１０１のあ
おり方向を任意に制御できることになる。電圧制御回路
２５０は、梁１０２ａ〜１０２ｄを独立に撓ませて、レ
ンズ１０１のあおり方向を任意の方向に制御する。な
お、電圧制御回路２５０は第２の基板２００に設けるこ
とにしても良い。

【００２４】つぎに、図１および図２を参照して梁を撓
ませてレンズ１０１のあおり方向を変更する場合を説明
する。図２は、梁を撓ませてレンズ１０１のあおり方向
を変更する場合を説明するための説明図である。

【００２５】図１は、梁１０２ａ〜１０２ｄのいずれに
も静電力が作用していない場合を示しており、レンズ１
０１の光軸は第１の基板１００に対して垂直となってい
る。ここで、電圧制御回路２５０は、例えば、梁１０２
ｄの電極と、梁１０２ｄに対して空隙２０４を介して対
向する位置に配された電極２０３ｄ間に電圧を印加する
と、梁（電極を含む）１０２ｄと電極２０３ｄ間に静電
力が作用し、図２に示す如く、梁１０２ｄは電極２０３
ｄに引きつけられるように撓むことになる。これによ
り、レンズ１０１のあおり方向が同図に示す如くとな
り、レンズ１０１の光軸も変更されることになる。すな
わち、レンズ１０１を固定している４つの梁１０２ａ〜
１０２ｄのうち１つの梁が撓むことにより、レンズ１０
１の光軸が撓んだ梁１０２ｄの方向にあおられる。この
ように、レンズ１０１を固定している梁１０２ａ〜１０
２ｄに静電力を作用させることにより、レンズの光軸を
任意の方向にあおることが可能となる。

【００２６】つぎに、図１のレンズのあおり装置の各部
の材料および形成方法等について説明する。レンズ１０
１としては、凸レンズ、凹レンズ、および非球面レンズ
等の種々のレンズを使用することができる。また、レン
ズ１０１、梁１０２ａ〜１０２ｄ、および第１の基板１
００は、図１に示したように、同じ材料で一体的に形成
することにしても良いし、レンズ１０１、梁１０２ａ〜
１０２ｄ、および第１の基板１００を別々に形成した後
に組み立てて一体構造とすることにしても良い。特に、
レンズの径が小さい微小レンズ（マイクロレンズ）の場
合には、マイクロマシニングの手法を用い、前者の如く
一体的に形成するほうが望ましい。

【００２７】梁１０２ａ〜１０２ｄの材料および寸法
は、梁で固定するレンズの寸法、重量、およびあおりの
範囲、ならびに静電力を発生させるために印加する電圧
の大きさ等の要素から決定される。梁の数は、あおりの
範囲により決めることができるが、少なくとも３本以上
必要である。梁に形成する電極は、梁毎に個別に形成し
ても良いが、梁側の電極をグランドとして使用する場合
には、各々の梁に共通の電極を形成することにしても良
い。

【００２８】梁１０２ａ〜１０２ｄに形成される電極と
しては、広く金属材料を用いることができる。また、梁
１０２ａ〜１０２ｄを半導体材料で形成する場合には、
不純物を注入／拡散して低抵抗化し、梁自体を電極とす
ることにしても良い。

【００２９】また、電極２０３ａ〜２０３ｄの材料とし
ては、ガラス、金属、半導体など種々の材料を用いるこ
とができる。電極の材料としては梁に形成する場合と同
様に金属材料を広く使用することができるが、第２の基
板２００にシリコンなどの半導体材料を用いる場合には
伝導型の異なる不純物を拡散し、ｐｎ接合による電極を
形成することにしても良い。

【００３０】つぎに、図１のレンズのあおり装置の製造
方法を図３〜図８を参照して説明する。図３（ａ）はレ
ンズ１０１および梁１０２ａ〜１０２ｄを形成する第１
の基板１００の平面図、図３（ｂ）は図３（ａ）のＡ−
Ａ断面図を示している。図４（ａ）はレンズ１０１およ
び梁１０２ａ〜１０２ｄが形成された第１の基板１００
の平面図、図４（ｂ）は図４（ａ）のＡ−Ａ断面図を示
している。

【００３１】図３において、１００は、レンズ１０１お
よび梁１０２ａ〜１０２ｄを一体的に形成するための第
１の基板を示している。第１の基板１００の材料として
は、紫外〜可視領域のレンズ１０１を使用する場合に
は、光学ガラスや石英ガラス等を使用し、赤外領域のレ
ンズ１０１を使用する場合には、半導体材料を使用す
る。

【００３２】図３の第１の基板１００に、フォトリソグ
ラフィーおよびドライエッチングの手法を使用して加工
を行い、図４に示すように、レンズ１０１と梁１０２ａ
〜１０２ｄを形成する。ここで、面積階調のパターンを
形成したフォトマスクまたはレジスト材料の熱変形手法
などを使用すると、レンズ形状、貫通した梁形状や厚さ
の変化した梁（図９参照）を形成することができる。ま
た、梁１０２ａ〜１０２ｄには、電圧を印加できるよう
に不図示の電極を形成する。梁１０２ａ〜１０２ｄを導
電性材料または半導体材料で形成して、梁自体を電極と
して用いることも可能である。

【００３３】図５（ａ）は、開口部２０１や電極２０３
ａ〜２０３ｄ等が形成される第２の基板２００の平面
図、図５（ｂ）は、図５（ａ）のＡ−Ａ断面図を示して
いる。図６（ａ）は、開口部２０１や電極２０３ａ〜２
０３ｄ等が形成された第２の基板２００の平面図、図６
（ｂ）は、図６（ａ）のＡ−Ａ断面図を示している。

【００３４】図５において、２００は、開口部２０１や
電極２０３ａ〜２０３ｄ等を形成するための第２の基板
を示している。第２の基板２００の材料としては、透光
性のガラス、シリコンなどの半導体材料や、セラミック
材料等を使用することができる。

【００３５】図５の第２の基板２００に対して、図６に
示すような、レンズ１０１への光路となる円形状の開口
部２０１を形成する。開口部２０１は、ドライエッチン
グの手法で形成でき、基板がシリコンの場合には水酸化
カリウム溶液などによる異方性エッチングの手法を用い
ることもできる。そして、フォトリソグラフィーおよび
ドライエッチングの手法を用いて、開口部２０１の周囲
にリング状の凹部２０２を形成する。このリング状の凹
部２０２は、梁１０２ａ〜１０２ｄとの間に空隙２０４
を形成するためのものである。なお、面積階調のパター
ンを形成したフォトマスクあるいはレジスト材料の熱変
形手法などを使用すると、基板に形成された梁に対して
非平行な凹部（図９参照）を形成することができる。

【００３６】そして、第２の基板２００のリング状の凹
部２０２に、第１の基板１００の４つの梁１０２ａ〜１
０２ｄに夫々対向する位置に、図６に示すような、電極
２０３ａ〜２０３ｄを形成する。電極２０３ａ〜２０３
ｄの材料としては、金属を広く使用できるが、第２の基
板２００がシリコンなどの半導体材料の場合には伝導型
の異なる不純物を注入／拡散しｐｎ接合を形成し電極領
域を形成することにしても良い。

【００３７】最後に、図７に示すように、図４に示すレ
ンズ１０１および梁１０２ａ〜１０２ｄを形成した第１
の基板１００の下面と図６に示す開口部２０１や電極２
０３ａ〜２０３ｄ等が形成される第２の基板２００の上
面とを接着剤等を用いて接合する。なお、接着層の介在
しない直接接合や陽極接合法等を使用することにしても
良い。図８は、完成したレンズあおり装置を示してい
る。

【００３８】以上説明したように、実施の形態１によれ
ば、静電力により撓む梁１０２ａ〜１０２ｄによりレン
ズ１０１の光軸を移動させることとしたので、少ない部
品で軽量のレンズのあおり装置を提供することが可能と
なる。

【００３９】また、実施の形態１では、静電力により撓
む梁を少なくとも３以上有しているので、精度の高いレ
ンズのあおり装置を提供することが可能となる。

【００４０】また、実施の形態１では、梁に作用する静
電力は、電極と空隙により形成されるので、部品の少な
いあおり装置とすることができる。

【００４１】また、実施の形態１では、レンズ、梁を同
一の材料で形成することとしたので、製造工程を短くす
ることが可能となる。

【００４２】また、実施の形態１では、レンズ、梁、第
１の電極が形成された第１の基板と第２の電極が形成さ
れた第２の基板とを接着／接合して形成することとした
ので、製造工程を短くすることが可能となる。

【００４３】また、実施の形態１では、第２の基板を半
導体材料としたので、異方性エッチング工法を用いるこ
とができ、製造コストを低くすることが可能となる。

【００４４】（実施の形態２）図９は実施の形態２にか
かるレンズのあおり装置の概略構成を示しており、同図
（ａ）は、実施の形態２にかかるレンズのあおり装置の
平面図、同図（ｂ）は、実施の形態２にかかるレンズの
あおり装置の断面図を示している。実施の形態２にかか
るレンズのあおり装置は、梁を３つとして、その形状を
螺旋形としたものである。

【００４５】図９において、３００はレンズ３０１や梁
３０２ａ〜３０２ｃが形成された第１の基板を示してい
る。３０１は第１の基板３００の略中央部に形成された
レンズを示している。３０２ａ〜３０２ｃは、レンズ３
０１を第１の基板３００の所定円に沿って、３方向から
支持する３つの梁を示している。この３つの梁３０２ａ
〜３０２ｃはレンズ３０１に沿って螺旋状に形成されて
いる。３つの梁３０２ａ〜３０２ｃの厚さは、第１の基
板３００側（外側）では厚く、レンズ３０１側に近づく
に従って厚さが薄く形成されている。また、３つの梁３
０２ａ〜３０２ｃの幅は、第１の基板３００側（外側）
では大きく、レンズ３０１側に近づくに従って小さく形
成されている。この３つの梁３０２ａ〜３０２ｃには、
各々不図示の電極（第１の電極）が形成されている。

【００４６】４００は電極４１２ａ〜４１２ｃ等が形成
される第２の基板を示している。この第２の基板４００
には、半円錐状の開口部４０１が形成されている。４１
０は、第２の基板４００上に形成された熱酸化膜を示し
ている。熱酸化膜４１０は、円形の開口部を有してお
り、この開口部の円周に沿って、上方に傾斜部４１１が
形成されている。そして、第１の基板３００の下面と熱
酸化膜４１０の上面は接着剤等で接合されている。第１
の基板３００の梁３０２ａ〜３０２ｃと熱酸化膜４１０
の傾斜部４１１の間には、非平行の空隙４０２が形成さ
れている。

【００４７】第１の基板４００の傾斜部４１１には、第
１の基板３００の３つの梁３０２ａ〜３０２ｃに各々空
隙４０２を介して対向する位置に電極（第２の電極）４
１２ａ〜４１２ｃが形成されている。不図示の電源制御
回路は、第１の基板３００の３つの梁３０２ａ〜３０２
ｃに形成された電極（３０２ｂは不図示）と、第２の基
板４００の３つの電極４１２ａ〜４１２ｃ間に電圧を印
加して、３つの梁３０２ａ〜３０２ｃに静電力を作用さ
せる。電圧制御回路により、梁３０２ａ〜３０２ｃに形
成された電極と電極４１２ａ〜４１２ｃ間に電圧が印加
されると、梁３０２ａ〜３０２ｃは静電力により撓みが
発生する。梁３０２ａ〜３０２ｃを独立に撓ませれば、
力学的な関係からレンズ３０１のあおり方向を任意に制
御できることになる。不図示の電圧制御回路は、梁３０
２ａ〜３０２ｃを独立に撓ませて、レンズ３０１のあお
り方向を任意の方向に制御する。なお、電圧制御回路は
第２の基板４００に設けることにしても良い。

【００４８】上記構造のレンズのあおり装置では、梁３
０２ａ〜３０２ｃと電極４１２ａ〜４１２ｃとの間の空
隙４０２を非平行になるように形成したので、電極４１
２ａ〜４１２ｃと梁３０２ａ〜３０２ｃ（電極を含む）
の間に電圧を印加すると、梁は空隙の狭い部分から撓み
を開始するため、より低い電圧で梁３０２ａ〜３０２ｃ
の撓みを得ることができる。

【００４９】また、梁３０２ａ〜３０２ｃをレンズ３０
１に沿って螺旋状に形成したので、直線上に形成した場
合に比して、梁の長さを長くできて梁の可動範囲を広く
することができ、レンズ３０１のあおり範囲を広くする
ことが可能となる。また、梁４１２ａ〜４１２ｃの厚さ
を、第１の基板３００側（外側）では厚くし、レンズ３
０１側に近づくに従って薄く形成したので、梁の厚さが
薄い所では静電力の作用による撓み量を大きくすること
ができ、レンズのあおり範囲を広くすることが可能とな
る。さらに、梁３０２ａ〜３０２ｃの幅をレンズ３０１
側で狭く、第１の基板３００側（外側）で広く形成した
ので、低電圧でレンズ３０１をあおることが可能とな
る。

【００５０】なお、本発明は、上記した実施の形態に限
定されるものではなく、発明の要旨を変更しない範囲で
適宜変形可能である。例えば、上述の実施の形態１およ
び実施の形態２のあおり装置およびその製造方法は光学
部分がレンズの場合について説明したが、これに限定さ
れるものではなく、ミラー、プリズム等のあおり装置が
必要な種々の光学部品に適用可能である。

【００５１】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１にかかる
発明によれば、レンズを支持する複数の梁と、複数の梁
に静電力を作用させる静電力印加手段とを備え、複数の
梁に作用する静電力によりレンズをあおることとしたの
で、簡単な構造でかつ軽量のレンズのあおり装置を提供
することが可能となる。

【００５２】また、請求項２にかかる発明によれば、請
求項１にかかる発明において、３つ以上の梁を形成する
こととしたので、請求項１にかかる発明の効果に加え
て、精度の高いあおり装置を提供することが可能とな
る。

【００５３】また、請求項３にかかる発明によれば、請
求項１または請求項２にかかる発明において、複数の梁
を螺旋状に形成したので、請求項１または請求項２にか
かる発明の効果に加えて、梁の長さを長くでき、あおり
範囲を広くすることが可能となる。

【００５４】また、請求項４にかかる発明によれば、請
求項１〜請求項３のいずれか１つにかかる発明におい
て、複数の梁の幅をレンズを支持する側を狭く形成する
こととしたので、請求項１〜請求項３のいずれか１つに
かかる発明の効果に加えて、低電圧でレンズをあおるこ
とが可能となる。

【００５５】また、請求項５にかかる発明によれば、請
求項１〜請求項４のいずれか１つにかかる発明におい
て、複数の梁の厚さをレンズを支持する側を薄く形成す
ることとしたので、請求項１〜請求項４のいずれか１つ
にかかる発明の効果に加えて、より低電圧でレンズをあ
おることが可能となる。

【００５６】また、請求項６にかかる発明によれば、請
求項１〜請求項５のいずれか１つにかかる発明におい
て、静電力印加手段では、電圧印加手段は、複数の梁に
形成された第１の電極と、複数の梁に空隙を介して各々
対向するように形成された第２の電極間に電圧を印加し
て、複数の梁に静電力を作用させることとしたので、請
求項１〜請求項５のいずれか１つにかかる発明の効果に
加えて、梁に作用する静電力を電極と空隙により形成で
き、少ない部品でレンズのあおり装置を実現することが
可能となる。

【００５７】また、請求項７にかかる発明によれば、請
求項６にかかる発明において、空隙を非平行に形成する
こととしたので、請求項６にかかる発明の効果に加え
て、低電圧で梁を撓ませることが可能となる。

【００５８】また、請求項８にかかる発明によれば、請
求項１〜請求項７のいずれか１つにかかる発明におい
て、レンズと複数の梁を同一の材料で形成することとし
たので、請求項１〜請求項７のいずれか１つにかかる発
明の効果に加えて、製造工程を簡略化でき製造工程を短
くすることが可能となる。

【００５９】また、請求項９にかかる発明によれば、請
求項６〜請求項８のいずれか１つにかかる発明におい
て、レンズ、複数の梁、および第１の電極が形成された
第１の基板と、第２の電極が形成された第２の基板とを
接合してレンズのあおり装置を形成することとしたの
で、請求項６〜請求項８のいずれか１つにかかる発明の
効果に加えて、より製造工程を短くすることが可能とな
る。

【００６０】また、請求項１０にかかる発明によれば、
請求項９にかかる発明において、第２の基板を半導体材
料で形成することとしたので、請求項９にかかる発明の
効果に加えて、第２の基板を異方性エッチング工法を用
いて加工することができ、製造コストを低減することが
可能となる。

【００６１】また、請求項１１にかかる発明によれば、
請求項９または請求項１０にかかる発明において、電圧
印加手段を第２の基板に形成することとしたので、請求
項９または請求項１０にかかる発明の効果に加えて、レ
ンズのあおり装置をよりコンパクトにできるとともに、
電圧印加手段から電極に印加される電圧の信号遅延を低
減することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施の形態１にかかるレンズのあおり装置の概
略構成を示す図である。

【図２】梁を撓ませてレンズのあおり方向を変更する場
合を説明するための説明図である。

【図３】レンズおよび梁を形成する第１の基板を示す図
である。

【図４】レンズおよび梁が形成された第１の基板を示す
図である。

【図５】開口部や電極等が形成する第２の基板を示す図
である。

【図６】開口部や電極等が形成された第２の基板を示す
図である。

【図７】第１の基板と第２の基板を接合する場合を説明
するための図である。

【図８】完成したレンズのあおり装置を示す図である。

【図９】実施の形態２にかかるレンズのあおり装置の概
略構成を示す図である。

【符号の説明】

１００第１の基板１０１レンズ１０２ａ〜１０２ｄ梁２００第２の基板２０１開口部２０２凹部２０３ａ〜２０３ｄ電極２０４空隙２５０電圧制御回路３００第１の基板３０１レンズ３０２ａ〜３０２ｃ梁４００第２の基板４０１開口部４０２空隙４１０熱酸化膜４１１傾斜部４１２ａ〜４１２ｃ電極

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光学材料により形成されたレンズをあお
るレンズのあおり装置において、前記レンズを支持する複数の梁と、前記複数の梁に静電力を作用させる静電力印加手段と、
を備え、前記複数の梁に静電力を作用させて撓みを発生させ、前
記レンズをあおることを特徴とするレンズのあおり装
置。
【請求項２】前記複数の梁は、３つ以上であることを
特徴とする請求項１に記載のレンズのあおり装置。
【請求項３】前記複数の梁は、螺旋状に形成されてい
ることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のレ
ンズのあおり装置。
【請求項４】前記複数の梁の幅は、前記レンズを支持
する側が狭く形成されていることを特徴とする請求項１
〜請求項３のいずれか１つに記載のレンズのあおり装
置。
【請求項５】前記複数の梁の厚さは、前記レンズを支
持する側が薄く形成されていることを特徴とする請求項
１〜請求項４のいずれか１つに記載のレンズのあおり装
置。
【請求項６】前記静電力印加手段は、前記複数の梁に形成された第１の電極と、前記複数の梁に空隙を介して各々対向する位置に形成さ
れた第２の電極と、前記複数の梁に形成された第１の電極と前記第２の電極
との間に電圧を印加して、前記複数の梁に静電力を作用
させる電圧印加手段と、を含むことを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれか
１つに記載のレンズのあおり装置。
【請求項７】前記空隙は、非平行な空隙であることを
特徴とする請求項６に記載のレンズのあおり装置。
【請求項８】前記レンズと前記複数の梁は、同一の材
料で形成されていることを特徴とする請求項１〜請求項
７のいずれか１つに記載のレンズのあおり装置。
【請求項９】前記レンズ、前記複数の梁、および前記
第１の電極が形成された第１の基板と、前記第２の電極
が形成された第２の基板とが接合されて形成されること
を特徴とする請求項６〜請求項８のいずれか１つに記載
のレンズのあおり装置。
【請求項１０】前記第２の基板は半導体材料であるこ
とを特徴とする請求項９に記載のレンズあおり装置。
【請求項１１】前記第２の基板には、前記電圧印加手
段が設けられていることを特徴とする請求項９または請
求項１０のいずれか１つに記載のレンズのあおり装置。