JP2002151633A - 樹脂封止型半導体装置 - Google Patents
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Abstract
が大き過ぎるとICチップが発熱した時に両者の間にそ
りの力が発生し、これにより熱剥れを生ずるという問題
がある。 【解決手段】 放熱部材7は熱伝導率が良く、かつ前記
封止樹脂6と線膨張係数が近似した第一の金属7aと、
熱伝導率と線膨張係数は前記第一の金属7aほど良好で
なくても良いが、表面に形成される酸化膜の進行が緩慢
な事で、前記封止樹脂6との密着性が良好な第二の金属
7bとのクラッド材より構成されている。
Description
置の放熱構造の改良に関する。
樹脂基板上に実装したICチップを射出成形により樹脂
封止するとともに、前記射出成形による封止樹脂の上面
側に金属製の放熱部材を一体化してなる半導体装置とし
てPGA(ピングリッドアレイ)やBGA(ボールグリ
ッドアレイ)が広く商品化されており、この構造に関し
ては本出願人が特開平1−201941号公報にてすで
に提案している。
の第1図〜第3図に示すごとく樹脂基板に実装したIC
チップを射出成形により樹脂封止する時に、成形用金型
の下金型にICチップを実装した樹脂基板、上金型に放
熱部材を各々保持した状態にて射出成形樹脂を注入口よ
り注入することにより前記射出成形による封止樹脂の上
面側に金属製の放熱部材を一体化している。そして第5
図〜第7図に示すごとく放熱部材としては単体の金属板
を使用し、前記放熱部材に切り欠き形状部を形成する事
で射出成形樹脂と放熱部材との密着性を高めた半導体装
置が開示されている。さらに特開平1−201941号
公報の明細書の第4頁左欄上段20行目〜右欄上段第7
行目に放熱部材の材質として熱伝導率の良好なアルミ
(Al)、銅(Cu)、真鍮(Bs)等の金属を用い、
必要に応じて前記射出成形樹脂との密着性を向上させる
為の表面処理として、租面化、メッキ処理、化学処理等
を施す事が有効である事が開示されている。
941号公報に開示された半導体装置では放熱部材とし
て熱伝導率の良好な金属板を使用する必要があること、
及び射出成形樹脂との密着性を高める必要がある事につ
いて開示がある。しかしながら、射出成形により封止樹
脂の上面側に金属製の放熱部材を一体化する構成におい
ては、上記問題にほかに射出成形樹脂と放熱部材との線
膨張係数の差に基づく剥れの問題がある。
張係数の差が大き過ぎるとICチップが発熱した時に両
者の間にそりの力が発生し、これにより熱剥れを生ずる
という問題がある。すなわちこの熱剥れの問題を含めて
放熱部材に要求される条件を考えると(A)熱伝導率が
良好、(B)成形樹脂との線膨張係数の差が小さい、
(C)成形樹脂との密着性が良好な事の3条件となる。
しかしこの3条件を満足出来るレベルで兼ね備えた金属
材料が存在せず、特性のどれかを我慢して放熱部材を選
定しているのが実情である。本発明は前記3条件を満足
出来るレベルで兼ね備えた放熱部材を有する樹脂封止型
半導体装置を提供する事を目的としている。
に、本発明のうち請求項1記載の発明は下面側に複数の
コンタクト電極を有する回路基板上に実装したICチッ
プを射出成形により樹脂封止するとともに、前記射出成
形による封止樹脂の上面側に金属製の放熱部材を一体化
してなる半導体装置において、前記放熱部材は異なる金
属を組み合わせたクラッド材であることを特徴としたも
のである。また、請求項2記載の発明は請求項1記載の
放熱部材を前記封止樹脂と線膨張係数が近似した第1の
金属と前記封止樹脂との密着性の良い第2の金属とのク
ラッド材であることを特徴とする。また、請求項3記載
の発明は、請求項2記載の発明の放熱部材を第1の金属
が銅であり、第2の金属がアルミであるであることを特
徴とする。さらに、請求項4記載の発明は、請求項2記
載の発明の放熱部材を第1の金属の両面に第2の金属を
積層した3層構造にしたことを特徴とする。
形態を説明する。図1は本発明の第1の実施の形態を示
すもので、図1(a)は樹脂封止型ボールグリッドアレ
イ(以下BGAと略記する)の平面図、図1(b)は断
面図である。図において1はBGAである。2は樹脂製
の回路基板、3はICチップ、4はコンタクト電極であ
る半田ボールであり、前記回路基板2の上面側にはIC
チップ3が搭載されると共に、ボンディングワイヤー5
によって回路基板2の上面電極に接続され、前記上面電
極は図示しないスルーホール電極によって下面側に複数
設けられた半田ボール4に接続されている。6は封止樹
脂、7は放熱部材であり、前記放熱部材7は前記ICチッ
プ3を封止するための封止樹脂6の射出成形時にインサ
ートモールドによって一体化されている。そして前記放
熱部材7は熱伝導率が良く、かつ前記封止樹脂6と線膨
張係数が近似した第一の金属7aと、熱伝導率と線膨張
係数は前記第一の金属7aほど良好でなくても良いが、
表面に形成される酸化膜の進行が緩慢な事で、前記封止
樹脂6との密着性が良好な第二の金属7bとのクラッド
材より構成されている。前記封止樹脂6はICチップ3
を遮光する為に顔料を混入して黒色になっており、前記
放熱部材7の上面も封止樹脂6と同色の黒色にしておく
事によって、射出成形時に前記放熱部材7が封止樹脂6
上面の中央から少し位置ずれしても、その位置ズレが目
立たないようにしている。
同様にICチップ3の発熱が封止樹脂6と放熱部材7を
介して上方に放熱される。そしてこの放熱時に封止樹脂
6と放熱部材7とが温度上昇に伴って膨張する。この時
両者の線膨張係数が近似していれば同じ率で伸びる事で
問題ないが、両者の膨張係数の差が大き過ぎるとICチ
ップ3が発熱した時に両者の間にそりの力が発生し、こ
れにより熱剥れを生ずるという結果となる。本発明では
放熱部材7としてクラッド材を用いていることによって
この熱剥れを防止している。すなわち放熱部材7は熱伝
導率が良く、かつ前記封止樹脂6と線膨張係数が近似し
た厚板の第一の金属7aをコア材とし、上下面に表面に
形成される酸化膜の進行が緩慢な事で、前記封止樹脂6
との密着性が良好な薄板の第二の金属7bを積層したク
ラッド材より構成されているため放熱部材としての性能
はほぼ第一の金属7aによって決定し、封止樹脂6との
密着性のみ第二の金属7bによって決定するという任務
の分担をさせることで、放熱部材7に要求される(A)
熱伝導率が良好、(B)成形樹脂との線膨張係数の差が
小さい、(C)成形樹脂との密着性が良好の3条件を満
足出来るレベルで兼ね備えた放熱部材を得ることが出来
る。
性を示すものであり、熱伝導率K(Kcal/mh℃)、線膨
張係数×10-6、熱伝導率Kに関する良好度、線膨張係
数βに関する良好度、成形樹脂との密着性の良好度とを
示し、また参考の為に、封止樹脂6の線膨張係数を示し
ている。表中の記号は、良好度の良い方から順番に◎、
○、△、×となっている。表1に示すごとく熱伝導率K
の良好度が◎のランクの材料としてはCuとAgがあ
り、またこれらのCu、Agは線膨張係数βの良好度も
○のランクにある為、放熱部材7のコア材となる第一の
金属7aに適することがわかる。
はAlが◎のランクでAgが○のランクにあり、これら
の材料が第二の金属7bに適することがわかる。表1に
示すAuやFeは線膨張係数βの良好度は◎のランクに
あるが、Auは高価なことや表面に酸化膜が形成されえ
ない為に封止樹脂6との密着性が得られず、またFeは
熱伝導率Kが極端に悪すぎて、いずれも放熱部材7の材
料に適さないことがわかる。
せたクラッド材の特性を示すものであり、採用可能な組
み合わせとしてCu−Al、Cu−Ag、Ag−Alの
3組を示したが熱伝導率Kに関する良好度、線膨張係数
βに関する良好度、成形樹脂との密着性の良好度におい
ては3組とも採用可能であるが、このうちAg−Alは
クラッド適性と価格の点において採用困難であり、結局
第一の金属としてはCuが最適であり、これに第二の金
属としてAlかAgを組み合わせたクラッド材が適する
ことがわかった。さらにこの2組のクラッド材のうちC
u―Agは、例え薄板の第二の金属7bであっても高価
なAgを使用することで価格的に不利であり、さらに密
着性を考慮するとCu―Alのクラッド材が最も適して
いることがわかる。すなわち放熱部材7としてCu―A
lのクラッド材を用いた場合を考えると、熱伝導率Kと
しては330のCuに対して190のAlが表面を薄く
覆っているが、容積の大きいCuの熱伝導率が支配的に
作用して十分な放熱が可能となり、また線膨張係数βに
ついても、23のAlに対して17のCUが支配するこ
とによってクラッド材全体の線膨張係数βはCuの線膨
張係数17に近い値となり、封止樹脂6の線膨張係数1
4との差が許容範囲となって熱剥れを生ずる問題が解消
された。
断面図であり、第一の金属7aとして210〜130ミ
クロンのCuを使用し、第二の金属7bとして20〜6
0ミクロンのAlを使用し厚さ230ミクロンのクラッ
ド材よりなる放熱部材7を構成した。さらに放熱部材7
の上面側の第二の金属7bの表面には前述の黒染層8を
形成して射出成形時の位置ずれをカバーするようにして
いる。図2(b)は放熱部材7の他の実施形態を示す断
面図であり、図2(a)と異なるところは、第二の金属
7bを第一の金属7aの封止樹脂6と接触する下面側の
みに積層した2層構造としており、第一の金属7aの上
面側に直接黒染層8を形成している。
の実施形態を示すもので、(a)はBGA1の断面図、
(b)は放熱部材の斜視図である。尚図3〜図6におい
て図1と同一要素には同一番号を付し説明を省略する。
図3は放熱部材17の中央部に凹部17aを形成し、こ
の凹部17aによってICチップ3と放熱部材7との距離
を小さくすることによってICチップ3の発熱をより放熱
部材17に伝わりやすくしている。
aを形成し、封止樹脂6の射出成形時にこの半抜孔27
aに注入することにより前記ICチップ3との距離を小さ
くして放熱効果を高めるとともに放熱部材27と封止樹
脂6との密着力を大きくしている。図5は蓋形状の放熱
部材37を用い、この放熱部材37の底部37aを樹脂
基板2の上面に形成されたアース電極に接続すること
で、ICチップ3に対するシールド効果をもたせてい
る。図6は放熱部材47に折曲部47aを形成すること
で封止樹脂6との密着力を大きくしている。
熱部材として封止樹脂と線張係数係数が近似した第一の
金属の表面に封止樹脂との密着性の良い第二の金属をク
ラッド材として構成している為、放熱部材に要求される
熱伝導率が良好、成形樹脂との線膨張係数の差が小さ
い、成形樹脂との密着性が良好な事の3条件を満足出来
るレベルで兼ね備えた金属部材を得ることができる。ま
た、前記第一の金属と第二の金属とを任意に選択するこ
とで、いろいろな特性の封止樹脂に適合した放熱部材を
準備することが可能となる。さらに放熱部材をクラッド
材として構成している為、加工コストを高価にすること
なく任意の特性を有する放熱部材が調達することかでき
る。
面図、(b)は断面図である。
脂封止型ボールグリッドアレイの断面図、(b)は本発
明における他の実施形態を示す樹脂封止型ボールグリッ
ドアレイの平面図である。
脂封止型ボールグリッドアレイの断面図、(b)は放熱
部材の斜視図である。
脂封止型ボールグリッドアレイの断面図、(b)は放熱
部材の斜視図である。
脂封止型ボールグリッドアレイの断面図、(b)は放熱
部材の斜視図である。
Claims (4)
- 【請求項1】 下面側に複数のコンタクト電極を有する
回路基板上に実装したICチップを射出成形により樹脂
封止するとともに、前記射出成形による封止樹脂の上面
側に金属製の放熱部材を一体化してなる半導体装置にお
いて、前記放熱部材は異なる金属を組み合わせたクラッ
ド材であることを特徴とする樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項2】 前記放熱部材は前記封止樹脂と線膨張係
数が近似した第1の金属と前記封止樹脂との密着性の良
い第2の金属とのクラッド材であることを特徴とする請
求項1記載の樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項3】 前記放熱部材は第1の金属が銅であ
り、第2の金属がアルミであることを特徴とする請求項
2記載の樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項4】 前記放熱部材は前記第1の金属の両面に
第2の金属を積層した3層構造であることを特徴とする
請求項2記載の樹脂封止型半導体装置。
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---|---|---|---|
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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US (1) | US6469380B2 (ja) |
JP (1) | JP2002151633A (ja) |
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