JP2002138087A - セサモールギ酸エステル及びセサモールの製造方法 - Google Patents
セサモールギ酸エステル及びセサモールの製造方法Info
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Abstract
て加えられる有機溶媒の存在下に、過カルボン酸により
酸化することにより、ヘリオトロピン酸の副生を抑え
て、セサモールを効率良く製造することができる。
Description
副生率が少ないセサモールギ酸エステルの製造方法、及
びそれを加水分解又は加アルコール分解することによる
セサモールの製造方法に関する。
ル(通称、セサモール)は、フェノール臭のある白色結
晶(融点65.5℃)であり、血圧降下剤等の医薬品の
製造原料として重要であり、他に酸化防止剤、抗菌剤、
除草剤、化粧品原料等の用途がある。従来、ヘリオトロ
ピンを原料とするセサモールの製造方法としては、例え
ば、(1)ヘリオトロピンを塩化メチレン溶媒中、苛性
ソーダ及びセレン化合物の存在下に、過酸化水素と反応
させる方法(Synthesis, 1989, March, 167)、(2)
ヘリオトロピンを塩化メチレン溶媒中、過酢酸または過
酸化水素と反応させる方法(J.Org.Chem.,1984, 49, 47
41、及び石油学会誌29, (5), 364(1986))、(3)ヘリ
オトロピンを塩化メチレン溶媒中、クロル過安息香酸と
反応させる方法(Ind. J. Chem. 1983, 22, 1150)、
(4)ヘリオトロピンをクロロホルム溶媒中、過ギ酸と
反応させる方法(USSR特許688492)、(5)ヘリオトロピ
ンを酢酸エチル溶媒中、過酢酸と反応させる方法(特開
平7-25868号公報)などが開示されている。上記(1)
の方法は毒性の高いセレン化合物を使用するため、工業
的な実施は困難である。また、上記(2)、(3)、
(4)の方法は、環境への影響から近年使用しにくくな
っているハロゲン含有溶剤を使用するため、工業的な実
施は困難である。上記(5)の方法は、非塩素系で汎用
溶媒である酢酸エチル中で行える利点はあるが、酢酸エ
チルを含むほとんどの汎用溶媒に難溶であるヘリオトロ
ピン酸が多く副生するため、アルカリ抽出工程を必要と
し、反応工程が複雑になる問題がある。特開平7-25868
号公報では、ヘリオトロピンを過酢酸により特定の有機
溶媒中で、水不在下で酸化することによりセサモールギ
酸エステルを製造し、これを単離することなく、塩基又
は水存在下に加水分解することによりセサモールを得る
方法、さらに有機層を水層から分離した後、有機層を蒸
留してセサモールを得る方法が示されている。この方法
では、ヘリオトロピン酸が多く副生するので、有機層と
水層を分離して、ヘリオトロピン酸を水層に分離してい
る。
と、セサモールの収率が低下したり、固体が析出して反
応マスの取り扱いが困難になるという問題があった。
造法を提供することである。
点を克服するために鋭意研究を行った結果、ヘリオトロ
ピンを、ギ酸の存在下に、過酢酸により酸化することに
より、ヘリオトロピン酸の副生率が著しく少なくなるこ
とを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち本発
明の第1は、ヘリオトロピンを、ギ酸及び必要に応じて
加えられる有機溶媒の存在下に、過カルボン酸により酸
化することを特徴とするセサモールギ酸エステルの製造
方法を提供する。本発明の第2は、ヘリオトロピン酸の
副生率が5モル%以下であることを特徴とする本発明の
第1に記載のセサモールギ酸エステルの製造方法を提供
する。本発明の第3は、ヘリオトロピン100重量%に
対して、ギ酸25〜500重量%を添加することを特徴
とする本発明の第1又は2に記載のセサモールギ酸エス
テルの製造方法を提供する。本発明の第4は、過カルボ
ン酸が炭素数1〜7の過カルボン酸であることを特徴と
する本発明の第1〜3のいずれかに記載のセサモールギ
酸エステルの製造方法を提供する。本発明の第5は、有
機溶媒が炭素数1〜7のカルボン酸;炭素数1〜7のカ
ルボン酸の炭素数1〜6のアルコールエステル;又はこ
れらの混合物であることを特徴とする本発明の第1〜4
のいずれかに記載のセサモールギ酸エステルの製造方法
を提供する。本発明の第6は、本発明の第1〜5のいず
れかに記載の製造方法により得られたセサモールギ酸エ
ステルを、水及び/又はアルコールを加えて分解するこ
とを特徴とするセサモールの製造方法を提供する。本発
明の第7は、塩基性触媒の存在下に、分解することを特
徴とする本発明の第6に記載のセサモールの製造方を提
供する。本発明の第8は、分解後、触媒を分離した上
で、低沸点物を分離し、続いてセサモールを蒸留回収す
ることを特徴とする本発明の第7に記載のセサモールの
製造方法を提供する。本発明の第9は、分解後、そのま
まの状態で、低沸点物を分離し、続いてセサモールを蒸
留回収することを特徴とする本発明の第7に記載のセサ
モールの製造方法を提供する。
は、ヘリオトロピンをギ酸存在下に過カルボン酸により
酸化することによりセサモールギ酸エステルを製造し、
これを加水分解あるいは加アルコール分解することによ
りセサモールを得ることを特徴とする。以下に、本発明
の方法を詳細に説明する。出発原料であるヘリオトロピ
ンは、例えばサフロール(樟脳油あるいはオコチア油に
含有される。)を苛性アルカリで加熱処理して異性化さ
せることにより得られるイソサフロールを、オゾンまた
は重クロム酸塩によって酸化することにより得られる。
ヘリオトロピンを原料にして、セサモールギ酸エステル
を経てセサモールを製造する本発明の方法は、下記の一
連の反応式で表わされる。
応)では、ヘリオトロピンをギ酸単独あるいはギ酸及び
溶媒に溶解し、過カルボン酸を添加することによりセサ
モールギ酸エステルとする。過カルボン酸としては炭素
数1〜7のものが好ましく、具体的には過ギ酸、過酢
酸、過プロピオン酸類、過酪酸類、過安息香酸などが挙
げられ、特に、過酢酸が好ましい。
ないし500重量%、好ましくは50ないし200重量
%である。ギ酸の量が25重量%未満の場合には、ヘリ
オトロピン酸が5モル%より多く副生するため不適であ
り、500重量%を超えると、精製工程で大量のギ酸を
留去する必要があり、エネルギー的に不利である。過カ
ルボン酸の量は、ヘリオトロピンに対して1ないし5モ
ル倍、好ましくは1ないし2モル倍である。過カルボン
酸の量が1モル倍未満の場合には反応転化率が理論的に
100モル%に到達せず、5モル倍を超えると、過カル
ボン酸の残存量が多くなり、不経済になったり、後処理
工程が煩雑となる。反応系に水分が存在すると、セサモ
ールギ酸エステルの加水分解が生じ、生成したセサモー
ルが過酢酸などの過カルボン酸により酸化されるため、
好ましくない。従って、ギ酸及び過カルボン酸に含まれ
る水分はできるだけ少ない方が好ましく、ギ酸について
は95重量%以上(水分5重量%以下)の純度、さらに
98重量%以上(水分2重量%以下)のものを使用する
ことが好ましく、過カルボン酸については水分を含まな
い酢酸エチル溶媒のものを使用することが好ましい。水
分を含まない過カルボン酸溶液、例えば、過酢酸の酢酸
エチル溶液は、アセトアルデヒドの酢酸エチル溶媒の空
気酸化等により得られる。
酢酸エチル、ギ酸エチルなどのエステル類、及び酢酸、
プロピオン酸などの有機酸類などの、過酸に対して安定
な溶媒の内、原料及び生成物を溶解できるものが用いら
れる。中でも酢酸エチルなどのエステル類が好ましい。
しかし、メタノール、エタノール、プロパノールなどの
アルコール類を使用すると、反応中にセサモールギ酸エ
ステルの加アルコール分解が起こり、生成したセサモー
ルが過酢酸などの過カルボン酸により酸化されてしまう
ため、好ましくない。溶媒の量は、ヘリオトロピンに対
して300重量%以下であり、好ましくは100重量%
以下である。溶媒が300重量%を超えると精製工程で
大量の溶媒を留去する必要があり、エネルギー的に不利
である。
00.5℃)あるいはギ酸と溶媒の混合系の沸点以下が
好ましく、例えば酢酸エチル(沸点77℃)を溶媒とし
て用いた場合、0ないし70℃、好ましくは30ないし
60℃で反応を行うことができる。反応温度が0℃以下
の場合には反応速度が小さくなりすぎるため不適であ
り、反応温度が70℃以上の場合は溶媒の沸騰が起こる
ため加熱量が大きくなり、エネルギー的に不利である。
反応時間は反応条件、使用する溶媒の量、種類によって
異なるが、通常2〜10時間である。反応圧力は常圧で
も、減圧でも、加圧でもよい。加圧下で反応を行えば、
更に反応温度を上げることができるので、反応時間を短
縮したり、沸点の低い溶媒を使用することもできる。減
圧下で反応を行えば、沸点の高い溶媒を使用することも
できる。反応は、ギ酸や溶媒を蒸発させながら、除熱し
たり、凝縮液から水分を分離しながら行うこともでき
る。
テル分解反応)では、水及び/又はアルコール類を加
え、加水分解及び/又は加アルコール分解反応によりセ
サモールを得る。アルコール類としては、メタノール、
エタノール、プロパノールなどが挙げられる。なお、1
段目の反応後、ギ酸、酢酸及び酢酸エチルなどの溶媒
は、留去しても留去せずそのままでも構わないが、好ま
しくは留去する。また、セサモールギ酸エステルは単離
しても、単離せず2段目のエステル分解反応を行っても
構わない。
ギ酸エステルに対し1ないし100モル倍、好ましくは
2ないし10モル倍である。水及び/又はアルコールの
量が1モル倍未満の場合には、反応転化率が理論的に1
00%に到達せず、100モル倍を超えると2段目の工
程あるいは精製工程で大量の溶媒を留去する必要があ
り、エネルギー的に不利である。
性ソーダなどの塩基性触媒を添加することができる。塩
基性触媒としては、特に制限はなく、苛性ソーダ、苛性
カリ、それらの酢酸塩、ギ酸塩などや、塩基性イオン交
換樹脂等が挙げられ、中でもコスト面で苛性ソーダが好
ましい。塩基性触媒の量は、使用する触媒の種類により
異なるが、例えば苛性ソーダやソーダ塩では、セサモー
ルギ酸エステルに対して0.01ないし5重量%、好ま
しくは0.1ないし1重量%である。このような触媒で
は、触媒が0.01重量%未満の場合には十分な反応速
度が得られず、5重量%を超えると原料コスト及び回収
コストの面から不利である。
するギ酸あるいはギ酸エステルを留去しながら反応を行
うため、その反応粗液の沸点で反応を行う。反応圧力は
特に制限はなく、常圧でも、減圧でも、加圧でもよい。
反応時間は反応条件、使用する触媒の量、種類によって
異なるが、通常1〜10時間である。
解反応終了後、必要に応じて触媒を中和または分離した
上で、残存する水あるいはアルコール、又はギ酸あるい
はギ酸エステル、溶媒等の低沸分を蒸留などにより分離
した後、セサモールを含む粗液を蒸留、または水蒸気蒸
留することにより、セサモールが純度99%以上で得ら
れる。セサモールは必要により更に再結晶したり、蒸留
したりして純度を上げることができる。
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 [実施例1]温度計、還流冷却器、攪拌機付きフラスコ
に、ヘリオトロピン1,000g、純度98重量%のギ
酸(水分2重量%)1,000g、酢酸エチル1,00
0gを仕込み、温度40℃で過酢酸の30重量%酢酸エ
チル溶液2,100gを3時間かけて滴下し、2時間熟
成後、過酢酸が消失していることを確認した。ガスクロ
マトグラフィ分析の結果、ギ酸エステル化反応粗液中の
セサモールギ酸エステルは14重量%、セサモールは4
重量%であり、ヘリオトロピン酸は検出されなかった。
ヘリオトロピン基準の反応収率(セサモールギ酸エステ
ルとセサモールの合計、以下同じ。)は87モル%であ
った。なお、該粗液は均一な溶液であり、固形分の析出
はなかった。上記粗液よりエバポレーターを用いてギ
酸、酢酸エチル、酢酸などの低沸分を留去し、釜残液
1,050gを得た。上記釜残液を20段のオールダー
ショウ蒸留塔を備えたフラスコに移液し、エタノール8
00g(沸点78.3℃)及び10重量%苛性ソーダ水
溶液20gを加え、沸騰状態で、副生するギ酸エチル
(沸点54.3℃)を留去しながら加アルコール分解反
応を行った。反応温度は反応開始時で82℃、反応終了
時(4.5時間後)で96℃であった。反応終了時に
は、ギ酸エチルや過剰のエタノールはほぼ完全に留去さ
れた。引き続き、セサモールの減圧蒸留(塔頂3mmH
g、110℃)を行い、純度99.2重量%のセサモー
ル(融点63−64℃)730gを得た。反応開始より
のヘリオトロピンからの通算収率は79モル%であっ
た。
きフラスコに、ヘリオトロピン1,000g、純度98
重量%のギ酸(水分2重量%)500gを仕込み、温度
40℃で過酢酸の30重量%酢酸エチル溶液2,000
gを1時間かけて滴下し、4時間熟成後、過酢酸が消失
していることを確認した。ガスクロマトグラフィ分析の
結果、ギ酸エステル化反応粗液中のセサモールギ酸エス
テルは21重量%、セサモールは7重量%であり、ヘリ
オトロピン酸は検出されなかった。反応収率は93モル
%であった。なお、該粗液は均一な溶液であり、固形分
の析出はなかった。上記粗液よりエバポレーターを用い
てギ酸、酢酸エチル、酢酸などの低沸分を留去し、釜残
液1,050gを得た。上記釜残液を、続いて実施例1
と同様に分解、蒸留処理して、純度99.2%のセサモ
ール(融点63−64℃)740gを得た。反応開始よ
りのヘリオトロピンからの通算収率は80モル%であっ
た。
きフラスコに、ヘリオトロピン500g、酢酸エチル5
00gを仕込み、温度50℃で過酢酸の30重量%酢酸
エチル溶液(酢酸6重量%を含む)1,030gを3時
間かけて滴下し、5時間熟成後、過酢酸が消失している
ことを確認した。ガスクロマトグラフィ分析の結果、ギ
酸エステル化反応粗液中のセサモールギ酸エステルは2
2重量%、ヘリオトロピン酸は2重量%であった。反応
収率は81モル%であり、ヘリオトロピン酸の副生率は
7モル%であった。また、フラスコの壁面には白色固体
が析出しており、NMR分析の結果、この白色固体はヘ
リオトロピン酸であることがわかった。壁に付着したヘ
リオトロピン酸も加えた、ヘリオトロピン酸の副生率は
15モル%であり、実施例1及び2に比べて目的物の収
率が低く、経済性が悪い。また、ヘリオトロピン酸の析
出により、反応マスの取り扱い性も悪くなった。
きフラスコに、ヘリオトロピン1,000g、純度98
重量%のギ酸(水分2重量%)1,500g、濃硫酸
0.2gを仕込み、温度50℃で過酸化水素の60重量
%水溶液560gを1時間かけて滴下し、さらに1時間
熟成した。ガスクロマトグラフィ分析の結果、ギ酸エス
テル化反応粗液中のセサモールギ酸エステルは2.8重
量%、セサモールは4.7重量%、ヘリオトロピンは
9.2重量%であり、ヘリオトロピン酸は検出されなか
った。また、反応器底部にタール状物質が見られた。ヘ
リオトロピン基準の反応収率は23モル%、選択率は3
3%であった。
酸が副生することなく、簡便なプロセスで、セサモール
を製造することができる。
Claims (9)
- 【請求項1】 ヘリオトロピンを、ギ酸及び必要に応じ
て加えられる有機溶媒の存在下に、過カルボン酸により
酸化することを特徴とするセサモールギ酸エステルの製
造方法。 - 【請求項2】 ヘリオトロピン酸の副生率が5モル%以
下であることを特徴とする請求項1に記載のセサモール
ギ酸エステルの製造方法。 - 【請求項3】 ヘリオトロピン100重量%に対して、
ギ酸25〜500重量%を添加することを特徴とする請
求項1又は2に記載のセサモールギ酸エステルの製造方
法。 - 【請求項4】 過カルボン酸が炭素数1〜7の過カルボ
ン酸であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに
記載のセサモールギ酸エステルの製造方法。 - 【請求項5】 有機溶媒が炭素数1〜7のカルボン酸;
炭素数1〜7のカルボン酸の炭素数1〜6のアルコール
エステル;又はこれらの混合物であることを特徴とする
請求項1〜4のいずれかに記載のセサモールギ酸エステ
ルの製造方法。 - 【請求項6】 請求項1〜5のいずれかに記載の製造方
法により得られたセサモールギ酸エステルを、水及び/
又はアルコールを加えて分解することを特徴とするセサ
モールの製造方法。 - 【請求項7】 塩基性触媒の存在下に、分解することを
特徴とする請求項6に記載のセサモールの製造方法。 - 【請求項8】 分解後、触媒を分離した上で、低沸点物
を分離し、続いてセサモールを蒸留回収することを特徴
とする請求項7に記載のセサモールの製造方法。 - 【請求項9】 分解後、そのままの状態で、低沸点物を
分離し、続いてセサモールを蒸留回収することを特徴と
する請求項7に記載のセサモールの製造方法。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP2001182037A JP2002138087A (ja) | 2000-06-19 | 2001-06-15 | セサモールギ酸エステル及びセサモールの製造方法 |
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JP2000182755 | 2000-06-19 | ||
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---|---|
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017101020A (ja) * | 2015-11-25 | 2017-06-08 | 宇部興産株式会社 | 高純度フェノール化合物の製造方法 |
-
2001
- 2001-06-15 JP JP2001182037A patent/JP2002138087A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2017101020A (ja) * | 2015-11-25 | 2017-06-08 | 宇部興産株式会社 | 高純度フェノール化合物の製造方法 |
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