JP2002128586A5 - - Google Patents
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【特許請求の範囲】
【請求項1】 第1の反応容器内で、アルカリ金属と少なくともIII族金属を含む混合融液と第1の反応容器の外部から導入される窒素原料とを用いて、III族窒化物結晶を成長させるときに、アルカリ金属蒸気を第1の反応容器内に閉じ込めることを特徴とする結晶成長方法。
【請求項2】 第1の反応容器内で、アルカリ金属と少なくともIII族金属を含む混合融液と第1の反応容器の外部から導入される窒素原料とを用いて、III族窒化物結晶を成長させるときに、窒素原料が第1の反応容器の外部から第1の反応容器内に通過する領域を、アルカリ金属蒸気が塞がないようにすることを特徴とする結晶成長方法。
【請求項3】 第1の反応容器内で、アルカリ金属と少なくともIII族金属を含む混合融液と第1の反応容器の外部から導入される窒素原料とを用いて、III族窒化物結晶を成長させるときに、アルカリ金属と少なくともIII族金属を含む混合融液の表面より上部の温度を、アルカリ金属蒸気が凝縮しない温度以上に制御することを特徴とする結晶成長方法。
【請求項4】 第1の反応容器内で、アルカリ金属と少なくともIII族金属を含む混合融液と第1の反応容器の外部から導入される窒素原料とを用いて、III族窒化物結晶を成長させるときに、窒素原料が第1の反応容器の外部から第1の反応容器内に通過する領域を、温度制御することを特徴とする結晶成長方法。
【請求項5】 第1の反応容器内で、アルカリ金属と少なくともIII族金属を含む混合融液と第1の反応容器の外部から導入される窒素原料とを用いて、III族窒化物結晶を成長させるときに、第1の反応容器の外側に第2の反応容器を設け、第2の反応容器の外側から窒素原料を導入し、第2の反応容器内の窒素原料を第1の反応容器内に導入しつつ、第1の反応容器内にアルカリ金属蒸気を閉じ込めることを特徴とする結晶成長方法。
【請求項6】 請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載の結晶成長方法において、窒素原料を、第1の反応容器あるいは第2の反応容器の水平方向から、もしくは、水平方向よりも下側方向から、第1の反応容器あるいは第2の反応容器内に導入することを特徴とする結晶成長方法。
【請求項7】 第1の反応容器内で、アルカリ金属と少なくともIII族金属を含む混合融液と第1の反応容器の外部から導入される窒素原料とを用いて、III族窒化物結晶を成長させる結晶成長装置であって、アルカリ金属と少なくともIII族金属を含む混合融液が保持されている第1の反応容器の外側には、混合融液内あるいは混合融液表面で、III族窒化物が結晶成長可能な温度に制御できるように第1の加熱装置が設けられており、さらに、混合融液の表面より上部の温度を制御できるように、第2の加熱装置が第1の加熱装置の上部に設けられていることを特徴とする結晶成長装置。
【請求項8】 第1の反応容器内で、アルカリ金属と少なくともIII族金属を含む混合融液と第1の反応容器の外部から導入される窒素原料とを用いて、III族窒化物結晶を成長させる結晶成長装置であって、窒素原料が第1の反応容器の外部から第1の反応容器内に通過する領域を温度制御するために、前記領域の外側には第3の加熱装置が設けられていることを特徴とする結晶成長装置。
【請求項9】 第1の反応容器内で、アルカリ金属と少なくともIII族金属を含む混合融液と第1の反応容器の外部から導入される窒素原料とを用いて、III族窒化物結晶を成長させる結晶成長装置であって、第1の反応容器の外側には第2の反応容器が設けられており、第2の反応容器の外側から窒素原料を導入し、第2の反応容器内の窒素原料を第1の反応容器内に導入しつつ、第1の反応容器内にアルカリ金属蒸気を閉じ込めるようになっていることを特徴とする結晶成長装置。
【請求項10】 請求項7乃至請求項9のいずれか一項に記載の結晶成長装置において、窒素原料を、第1の反応容器あるいは第2の反応容器の水平方向から、もしくは、水平方向よりも下側方向から、第1の反応容器あるいは第2の反応容器内に導入するようになっていることを特徴とする結晶成長装置。
【請求項11】 請求項1乃至請求項6のいずれか一項に記載の結晶成長方法を用いて結晶成長させたIII族窒化物結晶。
【請求項12】 請求項11記載のIII族窒化物結晶を用いて作製されたIII族窒化物半導体デバイス。
【請求項13】
アルカリ金属とIII族金属と窒素原料とを含む混合融液を保持する反応容器と、
前記反応容器の温度を前記アルカリ金属が凝縮する温度以上に加熱する加熱装置とを備える結晶製造装置。
【請求項14】
前記窒素原料を前記反応容器内へ供給する供給管をさらに備える、請求項13に記載の結晶製造装置。
【請求項15】
前記供給管の温度を制御する制御手段をさらに備える、請求項14に記載の結晶製造装置。
【請求項16】
前記制御手段は、前記窒素原料が前記供給管を通過可能な温度に前記供給管の温度を制御する、請求項15に記載の結晶製造装置。
【請求項17】
前記制御手段は、前記供給管内のアルカリ金属を除去可能な温度に前記供給管の温度を制御する、請求項15に記載の結晶製造装置。
【請求項18】
アルカリ金属とIII族金属と窒素原料とを含む混合融液を反応容器内に保持する工程と、
前記反応容器の温度を前記アルカリ金属が凝縮する温度以上に加熱する工程とを備えるIII族窒化物結晶の製造方法。
【請求項19】
前記窒素原料を前記反応容器内へ供給する工程をさらに備える、請求項18に記載のIII族窒化物結晶の製造方法。
【請求項20】
前記窒素原料を前記反応容器内へ供給する供給管の温度を制御する工程をさらに備える、請求項19に記載のIII族窒化物結晶の製造方法。
【請求項21】
前記温度を制御する工程は、前記窒素原料が前記供給管を通過可能な温度に前記供給管の温度を制御する、請求項20に記載のIII族窒化物結晶の製造方法。
【請求項22】
前記温度を制御する工程は、前記供給管内のアルカリ金属を除去可能な温度に前記供給管の温度を制御する、請求項20に記載のIII族窒化物結晶の製造方法。
【請求項1】 第1の反応容器内で、アルカリ金属と少なくともIII族金属を含む混合融液と第1の反応容器の外部から導入される窒素原料とを用いて、III族窒化物結晶を成長させるときに、アルカリ金属蒸気を第1の反応容器内に閉じ込めることを特徴とする結晶成長方法。
【請求項2】 第1の反応容器内で、アルカリ金属と少なくともIII族金属を含む混合融液と第1の反応容器の外部から導入される窒素原料とを用いて、III族窒化物結晶を成長させるときに、窒素原料が第1の反応容器の外部から第1の反応容器内に通過する領域を、アルカリ金属蒸気が塞がないようにすることを特徴とする結晶成長方法。
【請求項3】 第1の反応容器内で、アルカリ金属と少なくともIII族金属を含む混合融液と第1の反応容器の外部から導入される窒素原料とを用いて、III族窒化物結晶を成長させるときに、アルカリ金属と少なくともIII族金属を含む混合融液の表面より上部の温度を、アルカリ金属蒸気が凝縮しない温度以上に制御することを特徴とする結晶成長方法。
【請求項4】 第1の反応容器内で、アルカリ金属と少なくともIII族金属を含む混合融液と第1の反応容器の外部から導入される窒素原料とを用いて、III族窒化物結晶を成長させるときに、窒素原料が第1の反応容器の外部から第1の反応容器内に通過する領域を、温度制御することを特徴とする結晶成長方法。
【請求項5】 第1の反応容器内で、アルカリ金属と少なくともIII族金属を含む混合融液と第1の反応容器の外部から導入される窒素原料とを用いて、III族窒化物結晶を成長させるときに、第1の反応容器の外側に第2の反応容器を設け、第2の反応容器の外側から窒素原料を導入し、第2の反応容器内の窒素原料を第1の反応容器内に導入しつつ、第1の反応容器内にアルカリ金属蒸気を閉じ込めることを特徴とする結晶成長方法。
【請求項6】 請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載の結晶成長方法において、窒素原料を、第1の反応容器あるいは第2の反応容器の水平方向から、もしくは、水平方向よりも下側方向から、第1の反応容器あるいは第2の反応容器内に導入することを特徴とする結晶成長方法。
【請求項7】 第1の反応容器内で、アルカリ金属と少なくともIII族金属を含む混合融液と第1の反応容器の外部から導入される窒素原料とを用いて、III族窒化物結晶を成長させる結晶成長装置であって、アルカリ金属と少なくともIII族金属を含む混合融液が保持されている第1の反応容器の外側には、混合融液内あるいは混合融液表面で、III族窒化物が結晶成長可能な温度に制御できるように第1の加熱装置が設けられており、さらに、混合融液の表面より上部の温度を制御できるように、第2の加熱装置が第1の加熱装置の上部に設けられていることを特徴とする結晶成長装置。
【請求項8】 第1の反応容器内で、アルカリ金属と少なくともIII族金属を含む混合融液と第1の反応容器の外部から導入される窒素原料とを用いて、III族窒化物結晶を成長させる結晶成長装置であって、窒素原料が第1の反応容器の外部から第1の反応容器内に通過する領域を温度制御するために、前記領域の外側には第3の加熱装置が設けられていることを特徴とする結晶成長装置。
【請求項9】 第1の反応容器内で、アルカリ金属と少なくともIII族金属を含む混合融液と第1の反応容器の外部から導入される窒素原料とを用いて、III族窒化物結晶を成長させる結晶成長装置であって、第1の反応容器の外側には第2の反応容器が設けられており、第2の反応容器の外側から窒素原料を導入し、第2の反応容器内の窒素原料を第1の反応容器内に導入しつつ、第1の反応容器内にアルカリ金属蒸気を閉じ込めるようになっていることを特徴とする結晶成長装置。
【請求項10】 請求項7乃至請求項9のいずれか一項に記載の結晶成長装置において、窒素原料を、第1の反応容器あるいは第2の反応容器の水平方向から、もしくは、水平方向よりも下側方向から、第1の反応容器あるいは第2の反応容器内に導入するようになっていることを特徴とする結晶成長装置。
【請求項11】 請求項1乃至請求項6のいずれか一項に記載の結晶成長方法を用いて結晶成長させたIII族窒化物結晶。
【請求項12】 請求項11記載のIII族窒化物結晶を用いて作製されたIII族窒化物半導体デバイス。
【請求項13】
アルカリ金属とIII族金属と窒素原料とを含む混合融液を保持する反応容器と、
前記反応容器の温度を前記アルカリ金属が凝縮する温度以上に加熱する加熱装置とを備える結晶製造装置。
【請求項14】
前記窒素原料を前記反応容器内へ供給する供給管をさらに備える、請求項13に記載の結晶製造装置。
【請求項15】
前記供給管の温度を制御する制御手段をさらに備える、請求項14に記載の結晶製造装置。
【請求項16】
前記制御手段は、前記窒素原料が前記供給管を通過可能な温度に前記供給管の温度を制御する、請求項15に記載の結晶製造装置。
【請求項17】
前記制御手段は、前記供給管内のアルカリ金属を除去可能な温度に前記供給管の温度を制御する、請求項15に記載の結晶製造装置。
【請求項18】
アルカリ金属とIII族金属と窒素原料とを含む混合融液を反応容器内に保持する工程と、
前記反応容器の温度を前記アルカリ金属が凝縮する温度以上に加熱する工程とを備えるIII族窒化物結晶の製造方法。
【請求項19】
前記窒素原料を前記反応容器内へ供給する工程をさらに備える、請求項18に記載のIII族窒化物結晶の製造方法。
【請求項20】
前記窒素原料を前記反応容器内へ供給する供給管の温度を制御する工程をさらに備える、請求項19に記載のIII族窒化物結晶の製造方法。
【請求項21】
前記温度を制御する工程は、前記窒素原料が前記供給管を通過可能な温度に前記供給管の温度を制御する、請求項20に記載のIII族窒化物結晶の製造方法。
【請求項22】
前記温度を制御する工程は、前記供給管内のアルカリ金属を除去可能な温度に前記供給管の温度を制御する、請求項20に記載のIII族窒化物結晶の製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000318723A JP3966682B2 (ja) | 2000-10-19 | 2000-10-19 | 結晶成長方法、結晶成長装置、結晶製造装置および結晶の製造方法 |
US09/981,848 US6780239B2 (en) | 2000-10-19 | 2001-10-16 | Crystal growth method, crystal growth apparatus, group-III nitride crystal and group-III nitride semiconductor device |
US10/878,904 US20050026318A1 (en) | 2000-10-19 | 2004-06-28 | Crystal growth method, crystal growth apparatus, group-III nitride crystal and group-III nitride semiconductor device |
US12/139,230 US8562737B2 (en) | 2000-10-19 | 2008-06-13 | Crystal growth method, crystal growth apparatus, group-III nitride crystal and group III nitride semiconductor device |
US13/966,801 US20130330264A1 (en) | 2000-10-19 | 2013-08-14 | Crystal growth method, crystal growth apparatus, group-iii nitride crystal and group-iii nitride semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000318723A JP3966682B2 (ja) | 2000-10-19 | 2000-10-19 | 結晶成長方法、結晶成長装置、結晶製造装置および結晶の製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007074497A Division JP4768656B2 (ja) | 2007-03-22 | 2007-03-22 | 結晶成長装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002128586A JP2002128586A (ja) | 2002-05-09 |
JP2002128586A5 true JP2002128586A5 (ja) | 2006-06-29 |
JP3966682B2 JP3966682B2 (ja) | 2007-08-29 |
Family
ID=18797304
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000318723A Expired - Lifetime JP3966682B2 (ja) | 2000-10-19 | 2000-10-19 | 結晶成長方法、結晶成長装置、結晶製造装置および結晶の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3966682B2 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6780239B2 (en) | 2000-10-19 | 2004-08-24 | Ricoh Company, Ltd. | Crystal growth method, crystal growth apparatus, group-III nitride crystal and group-III nitride semiconductor device |
JP4560287B2 (ja) * | 2002-11-08 | 2010-10-13 | 株式会社リコー | Iii族窒化物の結晶製造方法 |
US7220311B2 (en) | 2002-11-08 | 2007-05-22 | Ricoh Company, Ltd. | Group III nitride crystal, crystal growth process and crystal growth apparatus of group III nitride |
US7261775B2 (en) | 2003-01-29 | 2007-08-28 | Ricoh Company, Ltd. | Methods of growing a group III nitride crystal |
JP4603498B2 (ja) | 2005-03-14 | 2010-12-22 | 株式会社リコー | Iii族窒化物結晶の製造方法及び製造装置 |
CN101175875B (zh) * | 2005-05-12 | 2010-12-15 | 株式会社理光 | Ⅲ族氮化物结晶的制造方法及ⅲ族氮化物结晶的制造装置 |
JP4192220B2 (ja) | 2005-08-10 | 2008-12-10 | 株式会社リコー | 結晶成長装置および製造方法 |
EP1775356A3 (en) | 2005-10-14 | 2009-12-16 | Ricoh Company, Ltd. | Crystal growth apparatus and manufacturing method of group III nitride crystal |
JP4732146B2 (ja) * | 2005-11-21 | 2011-07-27 | 株式会社リコー | 結晶成長装置および製造方法 |
JP4856934B2 (ja) | 2005-11-21 | 2012-01-18 | 株式会社リコー | GaN結晶 |
US20070215034A1 (en) | 2006-03-14 | 2007-09-20 | Hirokazu Iwata | Crystal preparing device, crystal preparing method, and crystal |
JP5129527B2 (ja) | 2006-10-02 | 2013-01-30 | 株式会社リコー | 結晶製造方法及び基板製造方法 |
JP4768656B2 (ja) * | 2007-03-22 | 2011-09-07 | 株式会社リコー | 結晶成長装置 |
JP5108641B2 (ja) * | 2008-06-12 | 2012-12-26 | 住友電気工業株式会社 | GaN単結晶基板、窒化物系半導体エピタキシャル基板、及び、窒化物系半導体素子 |
JP5278456B2 (ja) * | 2011-01-28 | 2013-09-04 | 株式会社リコー | Iii族窒化物結晶の製造方法 |
-
2000
- 2000-10-19 JP JP2000318723A patent/JP3966682B2/ja not_active Expired - Lifetime
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