JP2002127649A - 隠蔽情報形成体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は、偽造と贋造の両方に対して防止効果
があり、しかもその一部を構成する剥離層の形成状態の
検査を従来のニス検査機でも可能とした、スクラッチオ
フタイプの隠蔽情報形成体の提供を目的とする。 【解決手段】基材上に設けられた地紋と隠蔽情報の上に
剥離層と隠蔽性のスクラッチオフインキ層が少なくとも
積層されており、地紋には励起光線（１）照射時のみに
発光する蛍光体が、剥離層には前記励起光線（１）より
波長の短い励起光線（２）照射時のみに発光する蛍光体
がそれぞれ含まれていることを特徴とする隠蔽情報形成
体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、スクラッチオフイ
ンキ層を爪または硬貨等で引っ掻き取ると下部に隠蔽さ
れている隠蔽情報が現出するようにした、スクラッチオ
フくじ、スクラッチオフタイプの隠蔽性はがき等の隠蔽
情報形成体に関する。

【０００２】

【従来の技術】現行のスクラッチオフくじやその他、表
示内容のセキュリティ性が高い印刷物等においては、抽
選情報等の下に彩紋、万線、砂目等からなる地紋を設
け、切り貼りによる贋造防止策としているケースが多
い。また、地紋に蛍光顔料、蛍光染料等の蛍光体を混入
して偽造防止策としているケースも種々見られる。

【０００３】しかし、これらを含む種々の偽造・贋造防
止策がくじ等において施されているのにも拘わらず、近
年のカラーコピー機やカラースキャナー等の進化によ
り、偽造や贋造等による被害、または事件が多発してい
る。例えば、くじの当たり券をコピーした後、このコピ
ーの抽選番号形成部上に剥離ニス層の代替として透明な
フィルムを貼付けて当たり券を偽造するケースや、くじ
の本券をカラースキャナーでスキャニングし、さらにこ
のスキャンニング情報を電子製版装置上で加工し抽選番
号の部分に切り貼り加工するといった手口等である。要
するに、従来策のままでは十分なセキュリティ対策とは
いえず、カラーコピー防止や、一目で判断のつく偽造防
止策の付加が必要となっている。

【０００４】偽造防止策の簡便な方法の一つとして、従
来のスクラッチオフくじにおいて、その抽選情報上を覆
っているオーバープリントニスからなる剥離層に蛍光顔
料を添加し、紫外線照射時における剥離層からの発光の
有無あるいは発光色を確認することで真偽の判定に資す
ることが考えられる。しかし、従来のスクラッチオフく
じの抽選情報の下層に形成してある地紋には既に蛍光体
が含有されているので、真偽判定時には地紋と剥離層の
両方が発光してしまい、地紋の発光が確認できなくなっ
てしまう。これでは偽造防止効果が従来のものと較べて
向上したとは言えず、偽造防止効果が相殺されてしま
う。

【０００５】また、前記剥離層は透明であるため、剥離
層の形成状態の確認、すなわちくじ製造時における剥離
層のカスレ、カケ、ヌケ等の検査が光学的な読み取り方
式では非常に困難であった。剥離層にカスレ、カケ、ヌ
ケ等があるとその上に被覆してあるスクラッチオフイン
キ層が剥離層の欠陥部分では引っ掻き取ることができな
いことになり、重大欠陥になる。よってこの剥離層の検
査方法の確立が従前から強く望まれていた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な事情に着目してなされたものであり、偽造と贋造の両
者に対して防止効果があり、しかもその一部を構成する
剥離層の形成状態の検査を従来のニス検査機でも可能と
した、スクラッチオフタイプの隠蔽情報形成体の提供を
目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
達成するためになされたものであり、請求項１に記載の
隠蔽情報形成体は、基材上に設けられた地紋と隠蔽情報
の上に剥離層と隠蔽性のスクラッチオフインキ層が少な
くとも積層されており、地紋には励起光線（１）照射時
のみに発光する蛍光体が、剥離層には前記励起光線
（１）より波長が短い励起光線（２）照射時のみに発光
する蛍光体がそれぞれ含まれていることを特徴とする。

【０００８】また、請求項２に記載の隠蔽情報形成体
は、基材上に設けられた地紋と隠蔽情報の上に剥離層と
隠蔽性のスクラッチオフインキ層が少なくとも積層され
ており、地紋には蛍光体が含まれていると共に、剥離層
は光学的変色性顔料を含有する層形成材料により形成さ
れていることを特徴とする。

【０００９】さらにまた、請求項３に記載の隠蔽情報形
成体は、請求項２に記載の隠蔽情報形成体において、光
学的変色材料が酸化チタンの薄膜を微少フレーク状にし
たものであることを特徴とする。

【００１０】さらにまた、請求項４に記載の隠蔽情報形
成体は、請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載
の隠蔽情報形成体において、スクラッチオフインキ層上
の一部には剥離層の層形成材料により検証部が設けられ
ていることを特徴とする。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明による実施の形態に
ついて図面を参照にして説明する。

【００１２】図１は、本発明の一実施形態による隠蔽情
報形成体１の概略の断面構成を示す説明図である。この
隠蔽情報形成体１は、基本的には基材２上に地紋３と隠
蔽情報４が設けられ、さらにこれらを覆うように剥離層
５と隠蔽性のスクラッチオフインキ層６が積層されてい
る。

【００１３】隠蔽情報形成体１を構成する基材２は、カ
ード紙、板紙、あるいは紙を主体とするアルミ箔等との
ラミネート紙等の紙基材、塩化ビニル、ポリエステル等
を主体とする不透明なプラスチックシート等からなる。

【００１４】この基材２上に設けられる地紋３は網点や
万線等の粗密や重ね合わせ、あるいは各種彩紋等からな
るものであり、オフセットインキ、グラビアインキ、ス
クリーンインキ、インキジェットインキ、転写インキ等
を使用し、オフセット印刷、グラビア印刷、フレキソ印
刷等の汎用の画像形成手段により形成される。

【００１５】この地紋３は一般的には抽選番号の書き換
えや切り貼り等による贋造、あるいは複写がしにくいよ
うに設けるものであるが、本発明においてはさらに偽造
防止の効果を高めるため、励起光線（１）を照射した時
のみに発光する蛍光顔料、蛍光染料等の蛍光体を含ませ
ている。本明細書における励起光線（１）とは、蛍光体
に照射すると蛍光を生ぜしめる紫外線、可視光線、赤外
線等であり、特定の波長の励起光線を示すものではな
く、後述する励起光線（２）よりも波長の長い励起光線
をいう。

【００１６】各励起光線の一例を挙げると、励起光線
（１）を３６５ｎｍの紫外線、励起光線（２）を２５
３．７ｎｍの紫外線とする組み合わせ、あるいは励起光
線（１）を６３６ｎｍの電子線、励起光線（２）を３６
５ｎｍの紫外線とする組み合わせである。

【００１７】励起光線（１）により蛍光を発する蛍光体
としては、例えば励起光線（１）を波長が３６５ｎｍの
紫外線とした場合には、蛍光顔料としては酸化亜鉛、硫
化亜鉛、硫化バリウム等が、蛍光染料としてはフルオレ
セイン、エオシン等が適用できる。

【００１８】また、この上に設けられている隠蔽情報４
は、抽選情報、暗証番号、個人情報等であり、これも前
記地紋３と同様、オフセットインキ、グラビアインキ、
スクリーンインキ、インキジェットインキ、転写インキ
等を使用し、オフセット印刷、グラビア印刷、フレキソ
印刷等の汎用の画像形成手段により形成される。図２は
基材２上に形成された地紋３と隠蔽情報４の関係を示し
ている。

【００１９】一方、これらの地紋３や隠蔽情報４を覆う
ように形成されているのが剥離層５である。この剥離層
５はその上に形成されている隠蔽性のスクラッチオフイ
ンキ層６が隠蔽情報４を現出させようとした時に簡単に
引っ掻き取れるような剥離性と偽造防止機能とを付加す
る目的、さらにはこの剥離層５の形成状態の確認が従来
のニス検査機でもできるようにすることを目的として設
けてあるものである。

【００２０】具体的には、励起光線（１）より波長の短
い励起光線（２）を照射した時のみに蛍光を発する蛍光
体がウレタン樹脂、アクリル樹脂、ニトロセルロース等
のバインダー樹脂中に含まれてなるオーバープリントニ
スからなっている。

【００２１】波長が３６５ｎｍの励起光線（１）に対応
して励起光線（２）を２５３．７ｎｍの紫外線とした場
合には、剥離層（５）にはＺｎ₂ＳｉＯ₄：Ｍｎ、ＺｎＣ
ｄＳ：Ａｇ等の蛍光体から適宜のものを選択してそれぞ
れ混入させればよい。

【００２２】剥離層（５）形成の当たっては、前記蛍光
体は粒径が０．０１μｍから１００μｍの範囲のものを
用いる。粒径が０．０１μｍ以下であると十分な発光強
度が得られず、１００μｍ以上だと印刷適性や剥離性を
保持することができなくなる。また、配合比は０．１％
から８０％までの範囲である。配合率が０．１％以下だ
と十分な発光強度が得られず、８０％以上であると印刷
適性や剥離性を保持することができないし、透明度が低
下し、下部の隠蔽情報４が判読できないことがある。

【００２３】この剥離層５は、グラビア印刷、スクリー
ン印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷等により膜厚が
０．１μｍから１００μｍの範囲で形成される。膜厚が
０．１μｍ以下だと十分な剥離性や発光強度を確保する
ことができない。また、１００μｍ以上だと基材２との
間に段差ができ、その上に隠蔽性のスクラッチオフイン
キ層６を形成することが困難となる。

【００２４】地紋４ならびに剥離層５が以上のような構
成であると、励起光線（１）照射時には地紋４の発光み
のが確認でき、励起光線（２）照射時には剥離層５の発
光のみが確認できるようになる。

【００２５】他方、スクラッチオフインキ層６は、隠蔽
情報４を隠蔽すると共に、隠蔽情報４を現出させようと
する時には剥離層５との界面から簡単に引っ掻き取れる
ように設けてあるものである。

【００２６】このスクラッチオフインキ層６は、層内に
凝集破壊し易い脆弱性の樹脂を溶剤に溶かした樹脂バイ
ンダー中に、隠蔽性の顔料としてアルミニウム粉末、真
鍮粉末、銅粉末等の金属粉末、カーボンブラック粉末、
あるいはタルク、カオリン等の体質顔料を混合したも
の、あるいは、これらにさらに適宜の着色顔料や染料を
加えたインキよりなる。

【００２７】凝集破壊し易い樹脂としては、例えば、ポ
リエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリプロ
ピレン、ポリスチレン、スチレン系重合体、スチレン−
ブタジエンゴム、各種ワックス、ロジン、テンペル系樹
脂、テンペル系重合体等の樹脂のうちのいずれか２種以
上を適宜の比率にて配合したブレンド樹脂が使用でき
る。また、これらの樹脂を溶解する溶剤としては、トル
エン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
キシレン、シクロヘキサノール、酢酸イソブチル、シク
ロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチレングリコー
ルモノブチルエーテル等のグリコール誘導体等、または
これらの混合溶媒が使用できる。

【００２８】スクラッチオフインキ層６は前述したイン
キを使用し、グラビア印刷、スクリーン印刷、フレキソ
印刷、オフセット印刷等により形成される。このスクラ
ッチオフインキ層６は剥離層５の上のみに設けるだけで
なく、剥離層５の無いところにも設けておき、引っ掻き
取ることのできないスクラッチオフインキ層の部分を意
図的に設定しておいても良い。

【００２９】また、スクラッチオフインキ層５や基材２
の他の部分には必要に応じて所望の画像７を施しておい
ても良いし、さらにその上に耐摩耗性を持たせるために
保護ニス層を施しておいても良い。また、基材２の隠蔽
情報４が形成されていない面に、隠蔽性をより確実にす
るための隠蔽層８を、基材２の種類、厚さ、光透過性等
を勘案して設けておいても良い。

【００３０】一方、図３には本発明の他の実施形態に係
る隠蔽情報形成体１１の概略の構成が示してある。この
隠蔽情報形成体１１は、前述した隠蔽情報形成体１とほ
ぼ同様の構成をしており、基本的には基材１２上に地紋
１３と隠蔽情報１４が設けられ、さらにこれらを覆うよ
うに剥離層１５と隠蔽性のスクラッチオフインキ層１６
が積層されている。

【００３１】隠蔽情報形成体１１を隠蔽情報形成体１と
較べてみると、基材１２、地紋１３、隠蔽情報１４、ス
クラッチオフィンキ層１６のそれぞれの構成は隠蔽情報
形成体１の基材２、地紋３、隠蔽情報４，スクラッチオ
フインキ層６と同様の構成となっている。両者の間で異
なるのは剥離層である。

【００３２】隠蔽情報形成体１１を構成する剥離層１５
は、この層の上に形成されている隠蔽性のスクラッチオ
フインキ層１６が隠蔽情報１４を現出させようとした時
に簡単に引っ掻き取れるような剥離性と偽造防止機能と
を付加する目的、さらにはこの剥離層１５の形成状態が
従来のニス検査機でも確認できるようにすることを目的
として設ける点では剥離層５の形成目的と同じである。

【００３３】しかし、その具体的な構成は全く異なる。
すなわち、剥離層１５は光学的変色効果のある顔料を含
有する層形成材料で形成されている。光学的変色効果の
ある顔料とは、見る角度によって前記層形成材料が色変
化するようにな機能を有する顔料である。具体的には、
酸化チタンの薄膜を微少フレーク状にしたもの、あるい
は屈折率の異なる金属が積層されてなる薄膜を微少フレ
ーク状にしたものである。このような構成の光学的変色
性顔料が含有された層形成材料、例えばオーバープリン
トニスにより形成された剥離層１５は、見る角度により
その色が変化して観察されるようになる。見る角度によ
って色が異なるということは、たとえこの剥離層１５が
透明であったとしても、この色変化は従来のニス検査機
でも認識できることになる。したがって、ニス検査機を
この色変化が確認できる位置に予め設置してこの剥離層
１５の形成を行えば、形成時におけるカスレ、カケ、ヌ
ケ等の確認がこのニス検査機でも確実に行うことができ
るようになる。

【００３４】前記した光学的変色性顔料は粒径が０．０
１μｍから１００μｍの範囲のものを用いる。粒径が
０．０１μｍ以下だと十分な光学的変色効果が得られ
ず、１００μｍ以上だと層の形成性やスクラッチオフ適
性を得ることができない。また、配合比は１％から８０
％までの範囲である。配合比が１％以下だと十分な光学
的変色効果が得られず、８０％以上だと印刷適性、剥離
性を保持することができず、また、透明度が低下して下
部の隠蔽情報１４が判読できないことがある。

【００３５】この剥離層１５は、前述した構成のオーバ
ープリントニスを使用し、グラビア印刷、フレキソ印
刷、オフセット印刷等により、膜厚が０．１μｍから１
００μｍの範囲で形成される。膜厚が０．１ｍ以下だと
十分な剥離性や発光強度を確保することができない。ま
た、１００μｍ以上だと基材１２との間に段差が生じ、
その上に隠蔽性のスクラッチオフインキ層１６を形成す
ることが困難となる。

【００３６】以上、本発明を種々の実施の形態により説
明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例
えば図１に示す構成の隠蔽情報形成体１においては、ス
クラッチオフインキ層６上の一部に剥離層５を形成する
する層形成材料で検証部９を設けたり、あるいは図３に
構成を示す隠蔽情報形成体１１においては、スクラッチ
オフインキ層１６上の一部に剥離層１５を形成する層形
成材料で検証部１９を設けておいても良い。このような
検証部を形成しておくと、スクラッチオフインキ層を引
っ掻き取る前から蛍光発色や光学的変色が確認でき、隠
蔽情報形成体の真偽の鑑定に役立てることができるよう
にもなる。

【００３７】

【発明の効果】本発明は、以上のような構成であるた
め、下記の如き効果を有する。すなわち、偽造防止策が
地紋と剥離層との２ヶ所に、しかもそれぞれ別の形態で
施してあるため、従来のものより偽造防止の効果が一段
と向上する。また、剥離層には励起光線（２）にのみに
発光する蛍光体あるいは光学的変色効果を有する光学的
変色性顔料が含有されているので、剥離層形成時に励起
光線（２）を照射するかあるいは光学的変色が得られる
角度に検査用の光線を照射しながらニス検査機により蛍
光あるいは反射光の状態を検知することにより、カス
レ、カケ、ヌケ等の不具合を検査することが可能とな
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態を示す説明図である。

【図２】基材上に形成された地紋と隠蔽情報の関係を示
す説明図である。

【図３】本発明の他の実施形態を示す説明図である。

【符号の説明】

１、１１ 隠蔽情報形成体 ２、１２ 基材 ３、１３ 地紋 ４、１４ 隠蔽情報 ５、１５ 剥離層 ６、１６ スクラッチオフインキ層 ７、１７ 画像 ８ 隠蔽層 ９、１９ 検証部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2C005 HA02 HB12 JA09 JB14 JB17 JB19 KA24 WA02 2H113 AA01 AA03 AA06 BC05 BC09 CA32 CA34 CA35 CA39 CA40 CA42 CA46 DA03 DA04 DA07 DA66

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基材上に設けられた地紋と隠蔽情報の上に
   剥離層と隠蔽性のスクラッチオフインキ層が少なくとも
   積層されており、地紋には励起光線（１）照射時のみに
   発光する蛍光体が、剥離層には前記励起光線（１）より
   波長の短い励起光線（２）照射時のみに発光する蛍光体
   がそれぞれ含まれていることを特徴とする隠蔽情報形成
   体。
2. 【請求項２】基材上に設けられた地紋と隠蔽情報の上に
   剥離層と隠蔽性のスクラッチオフインキ層が少なくとも
   積層されており、地紋には蛍光体が含まれていると共
   に、剥離層は光学的変色性顔料を含有する層形成材料に
   より形成されていることを特徴とする隠蔽情報形成体。
3. 【請求項３】光学的変色性顔料が酸化チタンの薄膜を微
   少フレーク状にしたものであることを特徴とする請求項
   ２に記載の隠蔽情報形成体。
4. 【請求項４】スクラッチオフインキ層上の一部には剥離
   層の層形成材料により検証部が形成されていることを特
   徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載
   の隠蔽情報形成体。