JP2002126679A - Apparatus and method for cleaning metallic plate and metallic plate processing method - Google Patents

Apparatus and method for cleaning metallic plate and metallic plate processing method

Info

Publication number
JP2002126679A
JP2002126679A JP2000322328A JP2000322328A JP2002126679A JP 2002126679 A JP2002126679 A JP 2002126679A JP 2000322328 A JP2000322328 A JP 2000322328A JP 2000322328 A JP2000322328 A JP 2000322328A JP 2002126679 A JP2002126679 A JP 2002126679A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal plate
cleaning
fixing
moving
relaxing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000322328A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4156787B2 (en
Inventor
Yoshihiro Horimoto
由弘 堀本
Shinichiro Minato
眞一郎 湊
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2000322328A priority Critical patent/JP4156787B2/en
Priority to CN 01136132 priority patent/CN1223465C/en
Publication of JP2002126679A publication Critical patent/JP2002126679A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4156787B2 publication Critical patent/JP4156787B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To surely clean a metallic plate without causing deterioration in mechanical strength of the metallic plate and melting of the metallic plate caused by the staying of processing solution. SOLUTION: Having discharged etching processing solution from a processing tank 16, aluminum web 14 is held by pressing devices 22 and 24 which are arranged at most upstream and downstream portions of etching processing equipment 12. Then, cleaning solution is delivered to the web 14 from cleaning sprays 36 to start the cleaning of the web 14. Then, a moving roll 30 arranged between the pressing device 22 and the tank 16 is moved to generate a sagging portion 14S for the web 14, a specific carrier roll 32 is rotated in the forward or the backward direction so that the cleaning solution is applied to the entire web 14 to surely clean the web 14.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、金属板洗浄装置、
金属板洗浄方法及び金属板処理方法に関し、特に、一例
として平版印刷版を製造する工程においてエッチング処
理液をアルミウエブから除去するために適用される。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a metal plate cleaning apparatus,
The present invention relates to a method for cleaning a metal plate and a method for processing a metal plate, and more particularly, to a method for manufacturing a lithographic printing plate, which is applied to remove an etching treatment liquid from an aluminum web, for example.

【0002】[0002]

【従来の技術】金属板を処理液によって処理した後、不
要な処理液を除去するための金属板洗浄装置及び金属板
洗浄方法として、平版印刷版を製造する工程においてア
ルミウエブからエッチング処理液を除去するため洗浄装
置及び洗浄方法を例に挙げて説明する。
2. Description of the Related Art As a metal plate cleaning apparatus and a metal plate cleaning method for removing unnecessary processing liquid after treating a metal plate with a processing liquid, an etching liquid is removed from an aluminum web in a process of manufacturing a lithographic printing plate. A description will be given of a cleaning apparatus and a cleaning method for removal, taking as an example.

【0003】近年の製版法(電子写真製版法を含む)で
は、製版工程の自動化を容易にすべく、感光性印刷版や
感熱性印刷板等の平版印刷版が広く用いられている。平
版印刷版は、一般にシート状或いはコイル状のアルミニ
ウム板等の支持体(アルミウエブあるいはアルミニウム
帯板)を順次送出して搬送し、例えば、砂目立て、陽極
酸化、シリケート処理、その他化成処理等の表面処理を
単独又は適宜組み合わせて行い、次いで、感光層又は感
熱層(以下、これらをまとめて「塗布膜」という)の塗
布、乾燥処理を行った後に所望のサイズに切断されるこ
とで製造される。
In recent plate making methods (including an electrophotographic plate making method), a lithographic printing plate such as a photosensitive printing plate or a heat-sensitive printing plate is widely used in order to facilitate automation of a plate making process. The lithographic printing plate generally sends out and transports a support (aluminum web or aluminum strip) such as a sheet-like or coil-like aluminum plate in order, for example, graining, anodic oxidation, silicate treatment, and other chemical conversion treatments. It is manufactured by performing surface treatment alone or in an appropriate combination, then coating and drying a photosensitive layer or a heat-sensitive layer (hereinafter, these are collectively referred to as a “coating film”), and then cut into a desired size. You.

【0004】この平版印刷版は、露光、現像処理、ガム
引き等の製版処理が行われ、印刷機にセットされ、イン
クが塗布されることで、紙面に文字、画像等が印刷され
る。
The lithographic printing plate is subjected to plate making processes such as exposure, development, gumming, and the like, and is set in a printing machine. By applying ink, characters, images, and the like are printed on paper.

【0005】平版印刷版の製造工程においては、支持体
であるアルミニウム帯板の表面を粗面化するために、処
理槽内に貯留された所定のエッチング処理液にアルミニ
ウム帯板を浸漬するエッチング処理が行われることがあ
るが、特定の場合にはエッチング処理を停止すると共
に、アルミニウム帯板に付着したエッチング処理液を除
去して、局所的なエッチングの進行を防止する必要が生
じる。
In the manufacturing process of a lithographic printing plate, in order to roughen the surface of an aluminum strip as a support, an etching treatment is performed by immersing the aluminum strip in a predetermined etching solution stored in a processing tank. However, in certain cases, it is necessary to stop the etching process and to remove the etching solution attached to the aluminum strip to prevent the local progress of etching.

【0006】図7には、このようなアルミニウム帯板の
表面処理装置112が示されている(特公平8−986
号公報参照)。
FIG. 7 shows such an aluminum strip surface treatment apparatus 112 (Japanese Patent Publication No. Hei 8-986).
Reference).

【0007】この表面処理装置112では、エッチング
処理の停止時には、アルミニウム帯板114をプレス装
置116によって挟んだ後、移動用ローラ118を図7
に二点鎖線で示す位置へと移動させることで、エッチン
グ処理槽120内に弛みをつくることが出来る。そし
て、この状態で洗浄スプレー122から洗浄液を吐出し
てアルミニウム帯板114を洗浄する。このとき、アル
ミニウム帯板114と搬送用ローラ124との間に隙間
ができ、エッチング処理液がトラップ(滞留)されない
ようになるため、走行中のアルミニウム帯板114を緊
急に走行停止させることが可能になっている。
In the surface treatment device 112, when the etching process is stopped, the aluminum roller 114 is sandwiched by the pressing device 116, and then the moving roller 118 is moved to the position shown in FIG.
By moving to the position shown by the two-dot chain line, slack can be created in the etching bath 120. Then, in this state, the cleaning liquid is discharged from the cleaning spray 122 to clean the aluminum strip 114. At this time, a gap is formed between the aluminum strip 114 and the transport roller 124, so that the etching solution is not trapped (stagnation), so that the running aluminum strip 114 can be stopped immediately. It has become.

【0008】ところが、図7に示す構成では、例えばア
ルミニウム帯板114のたるみ量が十分でなかったりし
た場合には、アルミニウム帯板114と搬送用ローラ1
24との間に必要な隙間を構成できず、エッチング処理
液が滞留してしまうおそれがある。従って、このように
エッチング処理液が滞留した状態で放置すると、アルミ
ニウム帯板114が局所的にエッチングされて薄手化さ
れてしまい、アルミニウム帯板114の機械的強度が低
下したり、溶断されてしまったりすることがあった。
However, in the configuration shown in FIG. 7, when the amount of slack of the aluminum strip 114 is not sufficient, for example, the aluminum strip 114 and the transport roller 1
24, a necessary gap cannot be formed, and the etching treatment liquid may stay. Therefore, if the etching treatment liquid is left standing in this state, the aluminum strip 114 is locally etched and thinned, and the mechanical strength of the aluminum strip 114 is reduced or blown. There was a curse.

【0009】しかも、最近では、エッチング効果を高め
るために、複数の搬送ローラを上下交互に配置すると共
にアルミニウム帯板をこれらの搬送ローラに順に巻きか
けてジグザグ状の搬送経路を構成する場合がある。この
場合、図7と同様の構成によってアルミニウム帯板をた
るませても、アルミニウム帯板全体にわたってたるみを
生じさせることが出来ないため、特定の搬送ローラとア
ルミニウム帯板との間では、エッチング処理液の滞留を
防止するために必要な隙間を構成できないことがある。
このため、たるみが生じていない部分での搬送ローラと
アルミニウム帯板との間では、洗浄後においてもエッチ
ング処理液が滞留して局所的にエッチングが進行し、ア
ルミニウム帯板の機械的強度低下や溶断を招くことがあ
る。
Furthermore, recently, in order to enhance the etching effect, there is a case where a plurality of conveying rollers are alternately arranged vertically and an aluminum strip is sequentially wound around these conveying rollers to form a zigzag conveying path. . In this case, even if the aluminum strip is sagged with the same configuration as that of FIG. 7, the entire aluminum strip cannot be sagged. In some cases, it is not possible to form a gap required to prevent the stagnation.
For this reason, between the transport roller and the aluminum strip in the portion where the slack does not occur, even after the cleaning, the etching treatment liquid stays and the etching progresses locally, and the mechanical strength of the aluminum strip is reduced. May cause fusing.

【0010】特に、近年では、平版印刷版の製造効率を
向上させる等の観点から、搬送速度を高めるためにアル
ミニウム帯板に作用させる張力を上昇させたり、エッチ
ング処理液として高濃度・高温度のものが使用されたり
することがある。このような条件の下では、僅かにエッ
チング処理液が滞留している場合でも、局所的なエッチ
ング進行となり、アルミニウム帯板の機械的強度低下や
溶断を招くことがあった。
In particular, in recent years, from the viewpoint of improving the production efficiency of a lithographic printing plate, the tension applied to an aluminum strip to increase the transport speed has been increased, or a high-concentration and high-temperature etching solution has been used. Things may be used. Under such conditions, even when the etching treatment liquid slightly stays, local etching progresses, which may lead to a decrease in mechanical strength or melting of the aluminum strip.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記事実を
考慮し、処理液の滞留による金属板の機械的強度低下や
溶断を招くことなく確実に洗浄できる金属板洗浄装置及
び金属板洗浄方法及び、金属板への所定の処理を施した
後さらに処理液の滞留による金属板の機械的強度低下や
溶断を招くことなく確実に洗浄できる金属板処理方法を
得ることを課題とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In consideration of the above fact, the present invention provides a metal plate cleaning apparatus and a metal plate cleaning method which can surely clean a metal plate without causing a decrease in mechanical strength or fusing due to stagnation of a processing solution. It is another object of the present invention to provide a metal plate processing method that can surely wash a metal plate without causing a reduction in mechanical strength or a fusing of the metal plate due to a stagnation of a processing liquid after performing a predetermined process on the metal plate.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明で
は、金属板を一定の搬送方向に搬送する搬送手段と、前
記金属板の少なくとも2箇所を固定可能な固定手段と、
前記固定手段の間に位置する金属板を洗浄液によって洗
浄する洗浄手段と、前記固定手段の間に位置する前記金
属板を弛緩させる弛緩手段と、前記弛緩部分によって弛
緩された前記金属板を前記固定手段の間において部分的
に移動させる移動手段と、を有することを特徴とする。
According to the first aspect of the present invention, there is provided a transfer means for transferring a metal plate in a fixed transfer direction, a fixing means capable of fixing at least two positions of the metal plate,
Cleaning means for cleaning the metal plate located between the fixing means with a cleaning liquid, relaxation means for relaxing the metal plate located between the fixing means, and fixing the metal plate relaxed by the relaxation portion; Moving means for partially moving between the means.

【0013】従って、通常状態では、搬送手段によって
金属板が一定の搬送方向に搬送される。この搬送によ
り、金属板に連続的に各種処理を施すことが可能とな
る。
Therefore, in the normal state, the metal plate is transported in a constant transport direction by the transport means. By this transport, it becomes possible to continuously perform various processes on the metal plate.

【0014】搬送手段による搬送を停止した状態で、固
定手段によって、金属板の少なくとも2箇所を固定する
ことができる。固定手段の間には洗浄手段が設けられて
いるので、金属板を洗浄し、金属板の表面に付着した付
着物(処理液等)を除去することができる。
[0014] At least two portions of the metal plate can be fixed by the fixing means while the conveyance by the conveyance means is stopped. Since the cleaning means is provided between the fixing means, it is possible to clean the metal plate and remove deposits (such as a processing solution) adhered to the surface of the metal plate.

【0015】また、固定手段の間に位置する金属板を、
弛緩手段によって弛緩させることができる。従って、例
えば、固定手段の間に配置された他の部材等と金属板と
の間に隙間を構成して金属板の表面に洗浄液が確実に行
き渡るようにし、金属板を洗浄することが可能となる。
Further, the metal plate located between the fixing means is
It can be relaxed by the relaxation means. Therefore, for example, it is possible to clean the metal plate by forming a gap between the metal plate and another member or the like disposed between the fixing means so that the cleaning liquid can reliably spread to the surface of the metal plate. Become.

【0016】さらに、弛緩された金属板を、移動手段に
よって固定手段の間で部分的に移動させることができ
る。従って、上記した他部材と金属板との間に構成され
た隙間が狭い場合や、金属板が他部材に接触してしまっ
ているような場合であっても、このように金属板を移動
させることで、金属板と全ての他部材との間に必要な隙
間が構成されるようにし、金属板を確実に洗浄すること
ができる。このため、局所的な処理液の残留による反応
進行を防止できる。また、洗浄液が金属板全体に行き渡
らないような場合でも、金属板を移動させることで、洗
浄液で洗浄される位置へと金属板を移動させることが可
能となるので、金属板全体にわたって確実に洗浄でき
る。
Further, the relaxed metal plate can be partially moved between the fixing means by the moving means. Therefore, even when the gap formed between the other member and the metal plate is narrow, or when the metal plate is in contact with the other member, the metal plate is moved in this manner. Thus, a necessary gap is formed between the metal plate and all the other members, and the metal plate can be reliably cleaned. For this reason, it is possible to prevent the progress of the reaction due to the local treatment liquid remaining. Also, even when the cleaning liquid does not spread over the entire metal plate, the metal plate can be moved to a position where the cleaning liquid is used to move the metal plate. it can.

【0017】請求項1の発明において、弛緩手段として
は特に限定されず、例えば、固定手段の少なくとも一方
を互いに接近する方向へと移動させるような構成でもよ
いが、請求項2に記載のように、前記弛緩手段が、前記
固定手段の間の前記金属板が部分的に巻きかけられるよ
うに配置され、金属板の経路長を減少させる方向へと移
動可能とされた移動ロール、であるような構成としても
よい。すなわち、移動ロールが移動して金属板の経路長
を減少させることで、固体手段の間に存在する金属板の
長さよりも、金属板の経路長が短くなるので、固定手段
の間の金属板に弛みを構成することができる。
In the first aspect of the present invention, the relaxing means is not particularly limited. For example, a configuration may be employed in which at least one of the fixing means is moved in a direction approaching each other. Wherein the relaxing means is a moving roll which is arranged so that the metal plate between the fixing means is partially wound, and is movable in a direction to reduce a path length of the metal plate. It may be configured. That is, since the moving roll moves to reduce the path length of the metal plate, the path length of the metal plate becomes shorter than the length of the metal plate existing between the solid means. The slack can be configured.

【0018】請求項3に記載の発明では、請求項1又は
請求項2に記載の発明において、前記搬送手段が、前記
固定手段の間に配置され前記金属板を搬送する搬送ロー
ル、を含んで構成され、前記移動手段が、前記搬送ロー
ルを正回転及び逆回転可能とすることにより構成されて
いることを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect of the invention, the transporting means includes a transport roll disposed between the fixing means and transporting the metal plate. Wherein the moving means is configured to enable the transport roll to rotate forward and reverse.

【0019】従って、固定手段の間の領域では、搬送ロ
ールによって金属板を搬送させることができる。また、
搬送ロールは正回転及び逆回転可能とされているので、
この正回転又は逆回転により、金属板を部分的に移動さ
せることができる。
Therefore, in the region between the fixing means, the metal plate can be transported by the transport roll. Also,
Since the transport roll can rotate forward and reverse,
The metal plate can be partially moved by the forward rotation or the reverse rotation.

【0020】しかも、搬送ロールを正回転及び逆回転可
能とすることで、搬送手段と移動手段とを兼ねるように
構成できるので、部品点数の増加を招かない。
In addition, since the transport roll can be rotated forward and backward, the transport roll can be used as both the transport unit and the moving unit, so that the number of components does not increase.

【0021】請求項4に記載の発明では、請求項1〜請
求項3に記載の発明において、前記固定手段が、前記搬
送ロールとの間で前記金属板を挟持可能とされたニップ
ロール、を含んで構成されていることを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, in the first to third aspects of the present invention, the fixing means includes a nip roll capable of holding the metal plate with the transport roll. It is characterized by comprising.

【0022】ニップロールによって金属板を挟持するこ
とで、金属板の特定部位(挟持された部分)は移動しな
いようにすることができる。例えば、複数の搬送ロール
を設けた場合には、特定の搬送ロールによって金属板を
移動させるようにし、他の搬送ロールについては、ニッ
プロールとの間で金属板を挟持して移動不能とする等、
金属板の所望の部位のみを移動させることが可能にな
り、金属板の移動範囲や移動量の細かな設定ができる。
By pinching the metal plate by the nip roll, a specific portion of the metal plate (the pinched portion) can be prevented from moving. For example, when a plurality of transport rolls are provided, the metal plate is moved by a specific transport roll, and for other transport rolls, the metal plate is sandwiched between the nip rolls to be immovable.
It is possible to move only a desired portion of the metal plate, and it is possible to finely set a moving range and a moving amount of the metal plate.

【0023】請求項5に記載の発明では、請求項1〜請
求項4に記載の発明において、前記金属板を洗浄した前
記洗浄液を受ける処理槽、を有することを特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, there is provided a processing tank for receiving the cleaning solution for cleaning the metal plate.

【0024】この処理槽により、洗浄液を周囲に飛散さ
せることなく回収することが可能になる。
This processing tank makes it possible to collect the cleaning liquid without scattering it to the surroundings.

【0025】請求項6に記載の発明では、請求項5に記
載の発明において、前記処理槽が、前記金属板を処理す
る処理液を貯留可能とされていることを特徴とする。
According to a sixth aspect of the present invention, in the fifth aspect of the invention, the processing tank is capable of storing a processing liquid for processing the metal plate.

【0026】従って、処理槽内の処理液に浸漬すること
で、金属板への各種処理が可能になる。しかも、金属板
を搬送手段によって搬送しながら処理することも可能で
あり、連続処理が可能になる。金属板を洗浄する場合に
は、処理槽から処理液を排出したのち洗浄すれば、処理
槽によって洗浄液を受けることができる。
Therefore, by immersing the metal plate in the processing solution in the processing tank, various types of processing can be performed on the metal plate. In addition, the metal plate can be processed while being conveyed by the conveying means, and continuous processing can be performed. When cleaning the metal plate, if the cleaning is performed after discharging the processing liquid from the processing tank, the cleaning liquid can be received by the processing tank.

【0027】請求項7に記載の発明では、金属板の少な
くとも2箇所を固定する固定工程と、前記固定工程によ
って固定された部分の間に位置する金属板を洗浄液によ
って洗浄する洗浄工程と、前記固定工程によって固定さ
れた部分の間に位置する金属板を弛緩させる弛緩工程
と、前記弛緩工程によって弛緩された前記金属板を前記
固定工程によって固定された部分の間において部分的に
移動させる移動工程と、を有することを特徴とする。
[0027] In the invention according to claim 7, a fixing step of fixing at least two places of the metal plate, a cleaning step of cleaning the metal plate located between the portions fixed by the fixing step with a cleaning liquid, A relaxing step of relaxing the metal plate located between the parts fixed by the fixing step, and a moving step of partially moving the metal plate relaxed by the relaxing step between the parts fixed by the fixing step And the following.

【0028】この金属板洗浄方法で金属板を洗浄する場
合、まず、固定工程によって、金属板の少なくとも2箇
所を固定する。この状態で、洗浄工程を行い、固定工程
によって固定された部分の間に位置する金属板を洗浄す
ることができる。
When a metal plate is cleaned by this metal plate cleaning method, first, at least two portions of the metal plate are fixed in a fixing step. In this state, the cleaning step is performed, and the metal plate located between the portions fixed by the fixing step can be cleaned.

【0029】また、弛緩工程では、固定工程によって固
定された部分の間に位置する金属板を弛緩させる。これ
により、固定された部分の間に配置された他の部材等と
金属板との間に隙間を構成して金属板の表面に洗浄液が
確実に行き渡るようにし、金属板を洗浄することが可能
となる。
In the relaxing step, the metal plate located between the parts fixed in the fixing step is relaxed. This makes it possible to form a gap between the metal plate and another member or the like disposed between the fixed portions so that the cleaning liquid can reliably spread to the surface of the metal plate, and the metal plate can be cleaned. Becomes

【0030】さらに、弛緩された金属板を、移動工程に
よって固定手段の間で部分的に移動させることができ
る。従って、上記した他部材と金属板との間に構成され
た隙間が狭い場合や、金属板が他部材に接触してしまっ
ているような場合であっても、このように金属板を移動
させることで、金属板と全ての他部材との間に必要な隙
間が構成されるようにし、金属板を確実に洗浄すること
ができる。このため、局所的な処理液の残留による反応
進行を防止できる。また、洗浄液が金属板全体に行き渡
らないような場合でも、金属板を移動させることで、洗
浄液で洗浄される位置へと金属板を移動させることがで
き、金属板全体にわたって確実に洗浄できる。
Further, the relaxed metal plate can be partially moved between the fixing means by the moving step. Therefore, even when the gap formed between the other member and the metal plate is narrow, or when the metal plate is in contact with the other member, the metal plate is moved in this manner. Thus, a necessary gap is formed between the metal plate and all the other members, and the metal plate can be reliably cleaned. For this reason, it is possible to prevent the progress of the reaction due to the local treatment liquid remaining. Further, even in a case where the cleaning liquid does not spread over the entire metal plate, the metal plate can be moved to a position where the cleaning liquid is cleaned by moving the metal plate, and the entire metal plate can be reliably cleaned.

【0031】なお、弛緩工程は、洗浄工程に先だって行
われてもよいし、一旦洗浄工程を行った後、弛緩工程を
行い、さらに洗浄工程を行ってもよい。さらには、洗浄
工程と弛緩工程とを並行して行ってもよい。
The relaxation step may be performed prior to the cleaning step, or the cleaning step may be performed once, then the relaxation step may be performed, and then the cleaning step may be performed. Further, the washing step and the relaxation step may be performed in parallel.

【0032】また、移動工程も、洗浄工程と並行して行
われてもよいし、洗浄工程を一時的に停止した後、移動
工程を行い、再度洗浄工程を行うようにしてもよい。
The moving step may be performed in parallel with the cleaning step, or the moving step may be performed after the cleaning step is temporarily stopped, and the cleaning step may be performed again.

【0033】請求項8に記載の発明では、金属板を処理
槽内の処理液に部分的に浸漬しつつ一定の搬送方向へ搬
送する搬送工程と、前記搬送工程の停止後に前記処理槽
内から処理液を排出する排出工程と、停止時に前記処理
槽の前後で前記金属板を固定する固定工程と、前記固定
工程によって固定された部分の間に位置する金属板を洗
浄液によって洗浄する洗浄工程と、前記固定工程によっ
て固定された部分の間に位置する金属板を弛緩させる弛
緩工程と、前記弛緩工程によって弛緩された前記金属板
を前記固定工程によって固定された部分の間において部
分的に移動させる移動工程と、を有することを特徴とす
る。
[0033] In the invention according to claim 8, the metal plate is partially immersed in the processing liquid in the processing tank and is transported in a certain transport direction while the metal plate is partially immersed in the processing liquid. A discharging step of discharging the processing liquid, a fixing step of fixing the metal plate before and after the processing tank at the time of stop, and a cleaning step of cleaning the metal plate positioned between the parts fixed by the fixing step with a cleaning liquid. A relaxing step of relaxing a metal plate located between the parts fixed by the fixing step, and partially moving the metal plate relaxed by the relaxing step between the parts fixed by the fixing step And a moving step.

【0034】この金属板処理装置では、搬送工程におい
て、金属板を処理槽内の処理液に部分的に浸漬しつつ一
定の搬送方向へ搬送する。これにより、金属板への各種
処理を連続して行うことができる。
In this metal plate processing apparatus, in the transfer step, the metal plate is transferred in a certain transfer direction while being partially immersed in the processing liquid in the processing tank. Thus, various processes on the metal plate can be continuously performed.

【0035】また、この金属板処理装置では、金属板を
洗浄し、付着した処理液を除去することもできる。この
場合には、まず、搬送工程の停止後に、排出工程におい
て、前記処理槽内から処理液を排出する。
In this metal plate processing apparatus, the metal plate can be washed to remove the processing liquid adhering thereto. In this case, first, after the transport step is stopped, in the discharging step, the processing liquid is discharged from the processing tank.

【0036】次ぎに、固定工程によって、金属板の少な
くとも2箇所を固定する。この状態で、洗浄工程を行
い、固定工程によって固定された部分の間に位置する金
属板を洗浄することができる。
Next, at least two portions of the metal plate are fixed in a fixing step. In this state, the cleaning step is performed, and the metal plate located between the portions fixed by the fixing step can be cleaned.

【0037】また、弛緩工程では、固定工程によって固
定された部分の間に位置する金属板を弛緩させる。これ
により、固定された部分の間に配置された他の部材等と
金属板との間に隙間を構成して金属板の表面に洗浄液が
確実に行き渡るようにし、金属板を洗浄することが可能
となる。
In the relaxing step, the metal plate located between the parts fixed in the fixing step is relaxed. This makes it possible to form a gap between the metal plate and another member or the like disposed between the fixed portions so that the cleaning liquid can reliably spread to the surface of the metal plate, and the metal plate can be cleaned. Becomes

【0038】さらに、弛緩された金属板を、移動工程に
よって固定手段の間で部分的に移動させることができ
る。従って、上記した他部材と金属板との間に構成され
た隙間が狭い場合や、金属板が他部材に接触してしまっ
ているような場合であっても、このように金属板を移動
させることで、金属板と全ての他部材との間に必要な隙
間が構成されるようにし、金属板を確実に洗浄すること
ができる。このため、局所的な処理液の残留による反応
進行を防止できる。また、洗浄液が金属板全体に行き渡
らないような場合でも、金属板を移動させることで、洗
浄液で洗浄される位置へと金属板を移動させることがで
き、金属板全体にわたって確実に洗浄できる。
Further, the relaxed metal plate can be partially moved between the fixing means by the moving step. Therefore, even when the gap formed between the other member and the metal plate is narrow, or when the metal plate is in contact with the other member, the metal plate is moved in this manner. Thus, a necessary gap is formed between the metal plate and all the other members, and the metal plate can be reliably cleaned. For this reason, it is possible to prevent the progress of the reaction due to the local treatment liquid remaining. Further, even in a case where the cleaning liquid does not spread over the entire metal plate, the metal plate can be moved to a position where the cleaning liquid is cleaned by moving the metal plate, and the entire metal plate can be reliably cleaned.

【0039】なお、請求項7に記載の発明と同様、弛緩
工程は、洗浄工程に先だって行われてもよいし、一旦洗
浄工程を行った後、弛緩工程を行い、さらに洗浄工程を
行ってもよい。さらには、洗浄工程と弛緩工程とを並行
して行ってもよい。
As in the seventh aspect of the present invention, the relaxation step may be performed prior to the cleaning step, or may be performed once after performing the cleaning step, then performing the relaxation step, and further performing the cleaning step. Good. Further, the washing step and the relaxation step may be performed in parallel.

【0040】また、移動工程も、洗浄工程と並行して行
われてもよいし、洗浄工程を一時的に停止した後、移動
工程を行い、再度洗浄工程を行うようにしてもよい。
The moving step may be performed in parallel with the cleaning step, or the moving step may be performed after the cleaning step is temporarily stopped, and then the cleaning step may be performed again.

【0041】[0041]

【発明の実施の形態】図1には、本発明の一実施形態の
金属板処理装置の例として、平版印刷版の支持体である
アルミウエブ14にエッチング処理を施すためのエッチ
ング処理装置12が示されている。このエッチング処理
装置12は、平版印刷版を製造する製造ラインの一部を
構成しており、アルミウエブ14は、図示しない搬送装
置によって、矢印A方向に搬送される。
FIG. 1 shows, as an example of a metal plate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, an etching processing apparatus 12 for performing an etching process on an aluminum web 14 which is a support of a lithographic printing plate. It is shown. The etching apparatus 12 constitutes a part of a production line for producing a lithographic printing plate, and the aluminum web 14 is transported in the direction of arrow A by a transport device (not shown).

【0042】エッチング処理装置12は、エッチング処
理液20が貯留される処理槽16を有している。処理槽
16は、隔壁18によって複数(本実施形態では第1処
理槽16A、第2処理槽16B、第3処理槽16C及び
最終処理槽16Dの4つ)に分けられている。それぞれ
の処理槽には、同一組成のエッチング処理液20を貯留
してもよいし、異なる組成のエッチング処理液20を貯
留してもよい。
The etching apparatus 12 has a processing tank 16 in which an etching solution 20 is stored. The processing tank 16 is divided into a plurality (four in this embodiment, a first processing tank 16A, a second processing tank 16B, a third processing tank 16C, and a final processing tank 16D) by a partition wall 18. Each of the processing tanks may store the etching solution 20 having the same composition or may store the etching solution 20 having a different composition.

【0043】処理槽16には図示しない排出口が設けら
れており、必要に応じてエッチング処理液20を排出さ
せることができるようになっている。
The processing tank 16 is provided with a discharge port (not shown) so that the etching processing liquid 20 can be discharged as required.

【0044】エッチング処理装置12の最上流部位及び
最下流部位には、それぞれプレス装置22、24が配置
されている。アルミウエブ14の搬送が停止された状態
でプレス装置22、24を駆動することで、アルミウエ
ブ14を板厚方向に挟み付けて固定することができる。
Press units 22 and 24 are arranged at the most upstream and downstream parts of the etching apparatus 12, respectively. By driving the pressing devices 22 and 24 in a state where the transport of the aluminum web 14 is stopped, the aluminum web 14 can be sandwiched and fixed in the thickness direction.

【0045】上流側のプレス装置22と処理槽16との
間には、2つの固定ロール26、28と、これら固定ロ
ール26、28の間の移動ロール30とが配置されてお
り、アルミウエブ14が固定ロール26、移動ロール3
0、固定ロール28の順に巻き掛けられている。
Two fixed rolls 26 and 28 and a moving roll 30 between the fixed rolls 26 and 28 are disposed between the press device 22 and the processing tank 16 on the upstream side. Is fixed roll 26, moving roll 3
0 and the fixed roll 28 are wound in this order.

【0046】移動ロール30は、図1及び図2に示す通
常位置と、図3〜図6に示す弛緩位置との間を移動可能
とされている。弛緩位置へと移動することで、プレス装
置22、24の間でのアルミウエブ14の経路を短く
し、アルミウエブ14に所定の弛みを生じさせることが
可能とされている。
The movable roll 30 is movable between a normal position shown in FIGS. 1 and 2 and a relaxed position shown in FIGS. By moving to the relaxation position, the path of the aluminum web 14 between the press devices 22 and 24 is shortened, and the aluminum web 14 can be caused to have a predetermined slack.

【0047】固定ロール28の下流側には、複数の搬送
ロール32(本実施形態では、第1搬送ロール32A〜
第8搬送ロール32H)が順に設けられている。これら
の搬送ロール32は交互に上下に配置されており、図1
からもわかるように、ジグザグ状の搬送経路を構成して
いる。これにより、直線状の搬送経路を構成した場合と
比較して、より狭いスペースで長い搬送経路を構成する
ことが可能になる。
A plurality of transport rolls 32 (in this embodiment, first transport rolls 32A to 32A)
An eighth transport roll 32H) is provided in order. These transport rolls 32 are arranged alternately up and down.
As can be seen from FIG. 3, the zigzag transport path is configured. This makes it possible to configure a long transport path in a narrower space than when a linear transport path is configured.

【0048】これらの搬送ロール32は上流側から順に
2つずつ、第1処理槽16Aから最終処理槽16Dまで
順に配置されており、上側の搬送ロール32A、32
C、32E、32Gは処理槽16の上方に、下側の搬送
ロール32B、32D、32F、32Hは処理槽16の
底面近傍に位置している。従って、図1から分かるよう
に、処理槽16にエッチング処理液20が貯留された状
態では、下側の搬送ロール32B、32D、32F、3
2Hの近傍においてアルミウエブ14がエッチング処理
液20に浸漬される。
[0048] These transport rolls 32 are arranged two by two from the upstream side in order from the first processing tank 16A to the final processing tank 16D.
C, 32E and 32G are located above the processing tank 16, and the lower transport rolls 32B, 32D, 32F and 32H are located near the bottom of the processing tank 16. Accordingly, as can be seen from FIG. 1, in a state where the etching treatment liquid 20 is stored in the treatment tank 16, the lower transport rolls 32B, 32D, 32F, 3
The aluminum web 14 is immersed in the etching solution 20 near 2H.

【0049】それぞれの搬送ロール32は、図示しない
モータ等の駆動源からの駆動力を受けて、互いに独立し
て回転(正回転及び逆回転)可能とされており、回転に
よって、部分的にアルミウエブ14を搬送方向又はその
逆方向に移動させることができる。これにより、搬送ロ
ール32は、本発明の搬送手段と移動手段とを兼ねてい
ることになる。従って、これらを別部材として設けた場
合と比較して、部品点数を少なくすることができる。
Each of the transport rolls 32 can rotate (forward rotation and reverse rotation) independently of each other by receiving a driving force from a driving source such as a motor (not shown). The web 14 can be moved in the transport direction or the reverse direction. Accordingly, the transport roll 32 serves as both the transport unit and the moving unit of the present invention. Therefore, the number of components can be reduced as compared with the case where these are provided as separate members.

【0050】上側に配置された搬送ロール32A、32
C、32E、32Gの近傍には、ニップロール34が設
けられている。それぞれのニップロール34は、対応す
る搬送ロール32A、32C、32E、32Gとの間で
アルミウエブ14を挟持可能とされており(図2参
照)、挟持した状態では、アルミウエブ14の移動を局
所的に阻止することができる。
The transport rolls 32A, 32 arranged on the upper side
Nip rolls 34 are provided near C, 32E, and 32G. Each nip roll 34 can sandwich the aluminum web 14 between the corresponding transport rolls 32A, 32C, 32E, and 32G (see FIG. 2). In the sandwiched state, the movement of the aluminum web 14 is localized. Can be blocked.

【0051】最も下流側の搬送ロール32Hとプレス装
置24との間には、支持ローラ38が設けられており、
アルミウエブ14が不用意に処理槽16等に接触しない
ように支持している。
A support roller 38 is provided between the most downstream transport roll 32H and the press device 24,
The aluminum web 14 is supported so as not to be inadvertently brought into contact with the processing tank 16 or the like.

【0052】それぞれの搬送ロール32の近傍には、洗
浄スプレー36が配置されている。これらの洗浄スプレ
ー36から洗浄液をアルミウエブ14に吐出して洗浄す
ることができる。
A cleaning spray 36 is arranged near each transport roll 32. A cleaning liquid can be discharged from these cleaning sprays 36 onto the aluminum web 14 for cleaning.

【0053】つぎに、本実施形態のエッチング処理装置
12を使用してアルミウエブ14をエッチング処理する
方法、及びアルミウエブ14を洗浄する方法について説
明する。
Next, a method for etching the aluminum web 14 using the etching apparatus 12 of the present embodiment and a method for cleaning the aluminum web 14 will be described.

【0054】アルミウエブ14をエッチング処理すると
きには、図1に示すように、処理槽16内にエッチング
処理液20を貯留しておく。また、プレス装置22、2
4及びニップロール34を開状態にし、アルミウエブ1
4を挟持しないようにする。図示しない搬送装置及び搬
送ロール32によって、アルミウエブ14が矢印A方向
に搬送されると、第1処理槽16Aから順に最終処理槽
16Dまでアルミウエブ14が浸漬されてエッチング処
理が進行し、アルミウエブ14の表面をエッチングする
ことができる(搬送工程)。
When etching the aluminum web 14, an etching solution 20 is stored in a processing tank 16 as shown in FIG. In addition, the press devices 22, 2
4 and the nip roll 34 are opened, and the aluminum web 1
4. Do not pinch. When the aluminum web 14 is transported in the direction of arrow A by the transport device and the transport roll 32 (not shown), the aluminum web 14 is immersed in order from the first processing tank 16A to the final processing tank 16D, and the etching process proceeds. 14 can be etched (transportation step).

【0055】アルミウエブ14の搬送を停止した場合に
は、エッチング処理液20に浸漬された部分のエッチン
グ進行を防止する必要が生じる。この場合、まず、全て
の処理槽16からエッチング処理液20を排出させる
(排出工程)。そして、プレス装置22、24及びニッ
プロール34を閉動作させ、アルミウエブ14を挟持す
る(固定工程)。これにより、アルミウエブ14は固定
され、不用意に移動しなくなる。また、これと同時に、
洗浄スプレー36からアルミウエブ14へ洗浄液を吐出
し、アルミウエブ14の洗浄を開始する(洗浄工程)。
このとき、処理槽16が洗浄後の洗浄液を受けるので、
洗浄液を周囲に飛散させることなく回収することができ
る。
When the transport of the aluminum web 14 is stopped, it is necessary to prevent the progress of the etching of the part immersed in the etching solution 20. In this case, first, the etching solution 20 is discharged from all the processing tanks 16 (a discharging step). Then, the press devices 22 and 24 and the nip roll 34 are closed, and the aluminum web 14 is clamped (fixing step). As a result, the aluminum web 14 is fixed and does not move carelessly. At the same time,
The cleaning liquid is discharged from the cleaning spray 36 to the aluminum web 14 to start cleaning the aluminum web 14 (cleaning step).
At this time, since the processing tank 16 receives the cleaning liquid after cleaning,
The washing liquid can be collected without being scattered around.

【0056】さらに、洗浄開始後に(あるいは洗浄と同
時に)、移動ロール30を図3に実線で示すように下降
させる。これにより、プレス装置22、24の間に存在
しているアルミウエブ14の長さに対して、固定ロール
26から移動ロール30、固定ロール28、搬送ロール
32及び支持ロール38によって構成されるアルミウエ
ブ14の経路長(アルミウエブ14を巻きかけ可能な長
さ)が短くなるので、アルミウエブ14に弛み部分14
Sが生じる(弛緩工程)。
Further, after the cleaning is started (or simultaneously with the cleaning), the moving roll 30 is lowered as shown by a solid line in FIG. Accordingly, the length of the aluminum web 14 existing between the press devices 22 and 24 is changed from the fixed roll 26 to the moving roll 30, the fixed roll 28, the transport roll 32, and the support roll 38. Since the length of the path 14 (the length at which the aluminum web 14 can be wound around) becomes short, the slack portion 14
S occurs (relaxation step).

【0057】この状態で、搬送ロール32の全部又は一
部を正回転又は逆回転させることで、弛み部分14Sを
所望の位置へと移動させる(移動工程)。例えば、図4
に示すように、下側の搬送ロール32B、32D、32
F、32Hのそれぞれについて、アルミウエブ14との
間に洗浄水が流れ込む十分な隙間が構成されるようにす
ることができる。また、図5に示すように、処理槽16
内においてアルミウエブ14を下流側(図5の右側)へ
と移動させたり、逆に、図6に示すように、処理槽16
内においてアルミウエブ14を上流側へと移動させたり
することができる。このため、アルミウエブ14の全体
に洗浄液を行き渡らせて、確実に洗浄することができ
る。例えば下側の搬送ロール32B、32D、32F、
32Hとアルミウエブ14との間に構成された隙間が少
ない場合や、アルミウエブ14が搬送ロール32B、3
2D、32F、32Hとの間に密着力が作用して密着し
てしまっているような場合には、搬送ロール32B、3
2D、32F、32Hの近傍のアルミウエブ14には洗
浄水が達しないことがある。このような場合でも、アル
ミウエブ14を前後に移動させることで、搬送ロール3
2B、32D、32F、32Hとアルミウエブ14の隙
間を広げたり、洗浄水が達しなかった部分を達する位置
へと移動させたりできる。また、上側の搬送ロール32
A、32C、32E、32Gの近傍のアルミウエブ14
についても、洗浄スプレー36の位置等によっては、洗
浄水が達しないことがある。このような場合でも、アル
ミウエブ14を前後に移動させることで、洗浄水が達し
ていない部分を洗浄水が達する位置(例えば洗浄スプレ
ー36の近傍)へと移動させることができる。
In this state, the slack portion 14S is moved to a desired position by rotating all or part of the transport roll 32 forward or backward (moving step). For example, FIG.
, The lower transport rolls 32B, 32D, 32
For each of F and 32H, a sufficient gap into which the cleaning water flows can be formed between the F and 32H. Also, as shown in FIG.
The aluminum web 14 is moved to the downstream side (the right side in FIG. 5) in the inside, and conversely, as shown in FIG.
The aluminum web 14 can be moved to the upstream side. For this reason, the cleaning liquid can be spread over the entire aluminum web 14 and the cleaning can be reliably performed. For example, the lower transport rolls 32B, 32D, 32F,
32H and the gap formed between the aluminum web 14 is small, or the aluminum web 14 is
In the case where close contact is exerted between 2D, 32F, and 32H due to the action of close contact, the transport rolls 32B, 3F
The cleaning water may not reach the aluminum web 14 near 2D, 32F, and 32H. Even in such a case, by moving the aluminum web 14 back and forth,
The gap between 2B, 32D, 32F, 32H and the aluminum web 14 can be widened, or a portion where the washing water has not reached can be moved to a position where it reaches. Also, the upper transport roll 32
Aluminum web 14 near A, 32C, 32E, 32G
Also, depending on the position of the cleaning spray 36, the cleaning water may not reach. Even in such a case, by moving the aluminum web 14 back and forth, it is possible to move a portion where the cleaning water has not reached to a position where the cleaning water reaches (for example, in the vicinity of the cleaning spray 36).

【0058】表1には、本発明の移動工程、すなわち、
上記したようにアルミウエブ14の弛み部分を前後に移
動させるときの、各搬送ロール38の動作及び弛み量の
一例が、数値にて示されている。以下、この表1に記載
した数値によって、本実施形態をさらに詳細に説明する
が、本発明がこれらの数値で示したものに限定されるも
のでないことはもちろんである。
Table 1 shows the transfer step of the present invention, that is,
An example of the operation and the amount of slack of each transport roll 38 when moving the slack portion of the aluminum web 14 back and forth as described above is shown by numerical values. Hereinafter, the present embodiment will be described in more detail with reference to the numerical values shown in Table 1, but it is needless to say that the present invention is not limited to those indicated by these numerical values.

【0059】[0059]

【表1】 [Table 1]

【0060】この例では、移動ロール30を下降させる
ことで、弛み量720mmの弛み部分14Sを構成して
いる。
In this example, the moving roll 30 is lowered to form the slack portion 14S having a slack amount of 720 mm.

【0061】そして、まず第1段階動作で、表中の設定
速度により各搬送ロール32を正回転させている。この
とき、第2搬送ロール32Bと第3搬送ロール32Cの
間、第4搬送ロール32Dと第5搬送ロール32Eの
間、及び第6搬送ロール32Fと第7搬送ロール32G
との間にそれぞれ5m/分の速度差が生じているので、
アルミウエブ14の弛み部分14Sが分散され、図4に
示すように、第1処理槽16Aから最終処理槽16Dの
全てにおいて均一な弛み量180mmとなっている。す
なわち、下側の全ての搬送ロール32B、32D、32
F、32Hとアルミウエブ14との間に、洗浄水が流れ
込むために必要な隙間が構成されていることになる。
First, in the first stage operation, each transport roll 32 is rotated forward at the set speed shown in the table. At this time, between the second transport roll 32B and the third transport roll 32C, between the fourth transport roll 32D and the fifth transport roll 32E, and between the sixth transport roll 32F and the seventh transport roll 32G.
Since there is a speed difference of 5 m / min between
The slack portion 14S of the aluminum web 14 is dispersed, and as shown in FIG. 4, a uniform slack amount is 180 mm in all of the first processing tank 16A to the final processing tank 16D. That is, all the lower transport rolls 32B, 32D, 32
A gap necessary for the washing water to flow is formed between the F, 32H and the aluminum web 14.

【0062】つぎに、第2段階動作として、第1搬送ロ
ール32A及び第8搬送ロール32Hは停止させ、第2
搬送ロール32B〜第7搬送ロール32Gを5m/分で
正回転させる。これにより、アルミウエブ14が全体と
して順に下流側へ送られることになるので、第1処理槽
16A内での弛み量は0mmになる。また、第2処理槽
16B及び第3処理槽16C内での弛み量は180mm
に維持されるが、最終処理槽16D内での弛み量が36
0mmに増大する。これにより、第8搬送ロール32H
とアルミウエブ14との隙間も大きくなるので、洗浄水
が流れ込みやすくなり、より効果的に洗浄できる。ま
た、アルミウエブ14に部分的に洗浄水が行き渡らない
領域があった場合でも(例えば、上側の搬送ロール32
A、32C、32E、32Gの近傍領域)、アルミウエ
ブ14を全体として順に下流側へ送ることで、このよう
な領域を洗浄水が達する位置へと移動させて洗浄するこ
とができる。
Next, as a second stage operation, the first transport roll 32A and the eighth transport roll 32H are stopped,
The transport rollers 32B to seventh transport roller 32G are rotated forward at 5 m / min. As a result, the aluminum webs 14 are sequentially sent to the downstream side as a whole, so that the slack amount in the first processing tank 16A becomes 0 mm. The amount of slack in the second processing tank 16B and the third processing tank 16C is 180 mm.
, But the amount of slack in the final processing tank 16D is 36
Increase to 0 mm. Thereby, the eighth transport roll 32H
The gap between the aluminum web 14 and the aluminum web 14 is also large, so that the washing water easily flows in, and the washing can be performed more effectively. Further, even when there is an area where the cleaning water does not partially reach the aluminum web 14 (for example, the upper transport roll 32
A, 32C, 32E, and 32G) and the aluminum web 14 as a whole are sequentially sent to the downstream side, so that such a region can be moved to a position where the washing water reaches and washed.

【0063】つぎに、第3段階動作として、第1搬送ロ
ール32A及び第8搬送ロール32Hは停止させ、第2
搬送ロール32B〜第7搬送ロール32Gを5m/分で
逆回転させる。これにより、アルミウエブ14が全体と
して順に上流側へ送られることになるので、最終処理槽
16D内での弛み量は0mmになる。また、第2処理槽
16B及び第3処理槽16C内での弛み量は180mm
に維持されるが、第1処理槽16A内での弛み量が36
0mmに増大する。これにより、第2搬送ロール32B
とアルミウエブ14との隙間も大きくなるので、洗浄水
が流れ込みやすくなり、より効果的に洗浄できる。ま
た、第2段階動作の場合と同様、アルミウエブ14に部
分的に洗浄水が行き渡らない領域があった場合でも、ア
ルミウエブ14を全体として順に上流側へ送ることで、
このような領域を洗浄水が達する位置へと移動させ、洗
浄することができる。
Next, as a third stage operation, the first transport roll 32A and the eighth transport roll 32H are stopped,
The conveying rolls 32B to 32G are reversely rotated at 5 m / min. As a result, the aluminum webs 14 are sent sequentially upstream as a whole, so that the slack amount in the final processing tank 16D becomes 0 mm. The amount of slack in the second processing tank 16B and the third processing tank 16C is 180 mm.
, But the amount of slack in the first processing tank 16A is 36
Increase to 0 mm. Thereby, the second transport roll 32B
The gap between the aluminum web 14 and the aluminum web 14 is also large, so that the washing water easily flows in, and the washing can be performed more effectively. Also, as in the case of the second stage operation, even when there is an area where the cleaning water does not partially reach the aluminum web 14, the aluminum web 14 is sent to the upstream side in order as a whole,
Such an area can be moved to a position where the cleaning water reaches, and can be cleaned.

【0064】第2段階動作及び第3段階動作は、必要に
応じて繰り返し行ってもよいし、アルミウエブ14が十
分に洗浄できた場合には、それぞれ1回のみとしてもよ
い。
The second-stage operation and the third-stage operation may be repeated as necessary, or may be performed only once each time the aluminum web 14 can be sufficiently cleaned.

【0065】このようにしてアルミウエブ14の洗浄が
終了すると、ニップロール34を開動作させる。次いで
移動ロール30を上昇させて弛み部分を解消し、アルミ
ウエブ14全体に張りを持たせ、搬送停止前の状態に戻
す。最後に、プレス装置22を開状態にして、アルミウ
エブ14の固定を解除する。以上により、本発明におけ
る溶断防止動作はすべて終了するので、例えば、処理槽
16内に再度エッチング処理液20を貯留すると共に図
示しない搬送装置によってアルミウエブ14を搬送し、
エッチング処理を連続的に施すことができる。
When the cleaning of the aluminum web 14 is completed, the nip roll 34 is opened. Next, the moving roll 30 is raised to eliminate the slack portion, and the entire aluminum web 14 is provided with tension, thereby returning the aluminum web 14 to the state before the stop of the conveyance. Finally, the pressing device 22 is opened, and the fixing of the aluminum web 14 is released. As described above, since all the fusing prevention operations in the present invention are completed, for example, the etching processing liquid 20 is again stored in the processing tank 16 and the aluminum web 14 is transported by a transport device (not shown).
The etching process can be performed continuously.

【0066】以上説明したように、本実施形態のエッチ
ング処理装置12では、プレス装置22によって固定さ
れた部分の間のアルミウエブ14に弛み部分14Sを生
じさせると共に、この弛み部分14Sを部分的に移動さ
せるようにすることで、洗浄水をアルミウエブ14の全
体に確実に行き渡るようにし、アルミウエブ14表面へ
のエッチング処理液の残留を防止している。このため、
平版印刷版製造ライン停止中において、残留したエッチ
ング処理液によるアルミウエブ14のエッチング進行を
防止でき、アルミウエブ14の薄手化による機械的強度
低下や溶断を確実に防止することができる。
As described above, in the etching apparatus 12 according to the present embodiment, the slack portion 14S is generated in the aluminum web 14 between the portions fixed by the press device 22, and the slack portion 14S is partially removed. By moving the cleaning solution, the cleaning water is surely spread over the entire aluminum web 14 and the etching treatment liquid is prevented from remaining on the surface of the aluminum web 14. For this reason,
While the lithographic printing plate production line is stopped, the progress of etching of the aluminum web 14 due to the remaining etching solution can be prevented, and a reduction in mechanical strength and fusing due to thinning of the aluminum web 14 can be reliably prevented.

【0067】特に、最近では、エッチング効果を高めて
平版印刷版の製造効率を向上させる等の観点から、アル
ミニウム帯板に作用させる張力を上昇させて搬送速度を
高めたり、エッチング処理液として高濃度・高温度のも
のを使用したりすることがある(例えば、比重1.3〜
1.5、電導度(電気伝導率)0.2〜0.4S/c
m、40〜80℃のもの、特に、NaOHの濃度が25
〜30質量%、Alの濃度が6〜8質量%のエッチング
処理液)。このような場合でも、アルミウエブ14の全
体に洗浄液を行き渡らせて確実にエッチング処理液を除
去できるため、アルミウエブ14の薄手化に伴う機械的
強度低下や溶断を防止できる。
In particular, recently, from the viewpoint of enhancing the etching effect and improving the production efficiency of the lithographic printing plate, the transport speed is increased by increasing the tension applied to the aluminum strip, or the high concentration of the etching solution is used. -High-temperature materials may be used (for example, specific gravity of 1.3 to 1.3).
1.5, conductivity (electric conductivity) 0.2 to 0.4 S / c
m, 40 to 80 ° C., especially when the concentration of NaOH is 25
Etching treatment liquid having an Al concentration of 6 to 8% by mass). Even in such a case, since the cleaning solution can be spread over the entire aluminum web 14 and the etching treatment solution can be reliably removed, a decrease in mechanical strength and fusing due to the thinning of the aluminum web 14 can be prevented.

【0068】なお、上記説明では、エッチング処理装置
12を使用し、アルミウエブ14に対するエッチング処
理と、アルミウエブ14の洗浄との双方を行えるものを
挙げて説明したが、本発明の金属板洗浄方法としては、
必ずしもアルミウエブ14に対するエッチング処理は含
まれていなくてもよい。すなわち、アルミウエブ14に
対するエッチング処理と洗浄とをそれぞれ別の装置を用
意して行ってもよく、この場合には、上記したエッチン
グ処理装置12と同一構成とされた洗浄装置を使用し
て、アルミウエブ14の洗浄を行えばよい。
In the above description, the etching apparatus 12 can be used to perform both the etching process on the aluminum web 14 and the cleaning of the aluminum web 14. as,
The etching process on the aluminum web 14 does not necessarily have to be included. That is, the etching process and the cleaning for the aluminum web 14 may be performed by preparing separate apparatuses, respectively. In this case, the cleaning apparatus having the same configuration as the etching processing apparatus 12 is used. The web 14 may be cleaned.

【0069】アルミウエブ14に施す処理としても、エ
ッチング処理に限られず、処理液がアルミウエブ14の
表面に付着するような処理であれば、本発明を適用し
て、付着処理液を確実にアルミウエブ14から除去する
ことができる。
The treatment applied to the aluminum web 14 is not limited to the etching treatment. If the treatment liquid adheres to the surface of the aluminum web 14, the present invention is applied, and the adhesion treatment liquid is surely applied to the aluminum web 14. It can be removed from the web 14.

【0070】また、処理対象物としても、アルミウエブ
14に限られず、処理液によって各種処理が施される各
種の金属を挙げることができる。
The object to be treated is not limited to the aluminum web 14, but may be various metals to be subjected to various treatments by a treatment liquid.

【0071】また、本実施形態では、複数の搬送ローラ
32を上下交互に配置することでアルミウエブ14をジ
グザグ状に搬送するようにすると共に、処理槽16とし
ても4つの処理槽に分けられたものを例に挙げたが、例
えば、処理槽が1層のみで構成されていたり、アルミウ
エブ14が略水平方向に搬送されるようになっていたり
してもよい。
In this embodiment, the aluminum web 14 is transported in a zigzag manner by alternately arranging a plurality of transport rollers 32, and the processing vessel 16 is divided into four processing vessels. Although the processing is described as an example, for example, the processing tank may be configured with only one layer, or the aluminum web 14 may be transported in a substantially horizontal direction.

【0072】[0072]

【発明の効果】請求項1に記載の発明では、金属板を一
定の搬送方向に搬送する搬送手段と、前記金属板の少な
くとも2箇所を固定可能な固定手段と、前記固定手段の
間に位置する金属板を洗浄液によって洗浄する洗浄手段
と、前記固定手段の間に位置する前記金属板を弛緩させ
る弛緩手段と、前記弛緩部分によって弛緩された前記金
属板を前記固定手段の間において部分的に移動させる移
動手段と、を有するので、金属板の表面に洗浄液が確実
に行き渡るようにして金属板を洗浄し、局所的な処理液
の残留による反応進行を防止できる。
According to the first aspect of the present invention, the transporting means for transporting the metal plate in a fixed transporting direction, the fixing means capable of fixing at least two places of the metal plate, and the position between the fixing means. Cleaning means for cleaning the metal plate to be cleaned with a cleaning liquid, relaxation means for relaxing the metal plate located between the fixing means, and partially fixing the metal plate relaxed by the relaxation portion between the fixing means. Since the cleaning device has the moving means for moving the metal plate, the metal plate is cleaned so that the cleaning liquid can surely reach the surface of the metal plate, and the reaction progress due to the local remaining of the processing liquid can be prevented.

【0073】請求項7に記載の発明では、金属板の少な
くとも2箇所を固定する固定工程と、前記固定工程によ
って固定された部分の間に位置する金属板を洗浄液によ
って洗浄する洗浄工程と、前記固定工程によって固定さ
れた部分の間に位置する金属板を弛緩させる弛緩工程
と、前記弛緩工程によって弛緩された前記金属板を前記
固定工程によって固定された部分の間において部分的に
移動させる移動工程と、を有するので、金属板の表面に
洗浄液が確実に行き渡るようにして金属板を洗浄し、局
所的な処理液の残留による反応進行を防止できる。
In the invention according to claim 7, the fixing step of fixing at least two places of the metal plate, the cleaning step of cleaning the metal plate located between the portions fixed by the fixing step with a cleaning liquid, A relaxing step of relaxing the metal plate located between the parts fixed by the fixing step, and a moving step of partially moving the metal plate relaxed by the relaxing step between the parts fixed by the fixing step Therefore, the metal plate is cleaned so that the cleaning liquid can reliably spread to the surface of the metal plate, and the reaction progress due to the local remaining of the processing liquid can be prevented.

【0074】請求項8に記載の発明では、金属板を処理
槽内の処理液に部分的に浸漬しつつ一定の搬送方向へ搬
送する搬送工程と、前記搬送工程の停止後に前記処理槽
内から処理液を排出する排出工程と、停止時に前記処理
槽の前後で前記金属板を固定する固定工程と、前記固定
工程によって固定された部分の間に位置する金属板を洗
浄液によって洗浄する洗浄工程と、前記固定工程によっ
て固定された部分の間に位置する金属板を弛緩させる弛
緩工程と、前記弛緩工程によって弛緩された前記金属板
を前記固定工程によって固定された部分の間において部
分的に移動させる移動工程と、を有するので、金属板へ
の各種処理を連続して行うことができると共に、洗浄時
には、金属板の表面に洗浄液が確実に行き渡るようにし
て金属板を洗浄し、局所的な処理液の残留による反応進
行を防止できる。
According to the present invention, the metal plate is partially immersed in the processing liquid in the processing tank and is transferred in a certain transfer direction while being immersed in the processing liquid. A discharging step of discharging the processing liquid, a fixing step of fixing the metal plate before and after the processing tank at the time of stop, and a cleaning step of cleaning the metal plate positioned between the parts fixed by the fixing step with a cleaning liquid. A relaxing step of relaxing a metal plate located between the parts fixed by the fixing step, and partially moving the metal plate relaxed by the relaxing step between the parts fixed by the fixing step And a moving step, so that various treatments on the metal plate can be performed continuously, and at the time of cleaning, the metal plate is cleaned so that the cleaning liquid is surely spread over the surface of the metal plate. It can be prevented and the reaction progress by remaining local processing solution.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態のエッチング処理装置の概
略構成を示す側面図である。
FIG. 1 is a side view showing a schematic configuration of an etching apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施形態のエッチング処理装置にお
いて固定工程を行っている状態を示す側面図である。
FIG. 2 is a side view showing a state where a fixing step is being performed in the etching apparatus according to the embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一実施形態のエッチング処理装置にお
いて弛緩工程を行っている状態を示す側面図である。
FIG. 3 is a side view showing a state in which a relaxation step is being performed in the etching apparatus according to the embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施形態のエッチング処理装置にお
いて移動工程を行っている状態を示す側面図である。
FIG. 4 is a side view showing a state where a moving step is being performed in the etching processing apparatus according to the embodiment of the present invention;

【図5】本発明の一実施形態のエッチング処理装置にお
いて移動工程を行っている状態を示す側面図である。
FIG. 5 is a side view showing a state where a moving step is performed in the etching apparatus according to the embodiment of the present invention.

【図6】本発明の一実施形態のエッチング処理装置にお
いて移動工程を行っている状態を示す側面図である。
FIG. 6 is a side view showing a state where a moving step is being performed in the etching apparatus according to the embodiment of the present invention;

【図7】従来のエッチング処理装置の概略構成を示す側
面図である。
FIG. 7 is a side view showing a schematic configuration of a conventional etching apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

12 エッチング処理装置(金属板処理装置) 14 アルミウエブ(金属板) 16 処理槽 20 エッチング処理液(処理液) 22 プレス装置(固定手段) 24 プレス装置(固定手段) 30 移動ロール(弛緩手段) 32 搬送ロール(移動手段、搬送手段) 34 ニップロール(固定手段) 36 洗浄スプレー(洗浄手段) Reference Signs List 12 etching apparatus (metal plate processing apparatus) 14 aluminum web (metal plate) 16 processing tank 20 etching processing liquid (processing liquid) 22 press apparatus (fixing means) 24 press apparatus (fixing means) 30 moving roll (relaxing means) 32 Transport roll (moving means, transport means) 34 Nip roll (fixing means) 36 Cleaning spray (cleaning means)

フロントページの続き Fターム(参考) 2H114 AA04 AA14 DA04 EA02 EA09 GA04 3B116 AA08 AB16 AB37 AB42 BB02 BB03 BB25 BB33 CD22 Continuation of the front page F term (reference) 2H114 AA04 AA14 DA04 EA02 EA09 GA04 3B116 AA08 AB16 AB37 AB42 BB02 BB03 BB25 BB33 CD22

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 金属板を一定の搬送方向に搬送する搬送
手段と、 前記金属板の少なくとも2箇所を固定可能な固定手段
と、 前記固定手段の間に位置する金属板を洗浄液によって洗
浄する洗浄手段と、 前記固定手段の間に位置する前記金属板を弛緩させる弛
緩手段と、 前記弛緩部分によって弛緩された前記金属板を前記固定
手段の間において部分的に移動させる移動手段と、 を有することを特徴とする金属板洗浄装置。
A transport unit configured to transport the metal plate in a predetermined transport direction; a fixing unit configured to fix at least two portions of the metal plate; and a cleaning unit configured to clean the metal plate located between the fixing units with a cleaning liquid. Means, relaxing means for relaxing the metal plate located between the fixing means, and moving means for partially moving the metal plate relaxed by the relaxing portion between the fixing means. A metal plate cleaning device characterized by the above-mentioned.
【請求項2】 前記弛緩手段が、前記固定手段の間の前
記金属板が部分的に巻きかけられるように配置され、金
属板の経路長を減少させる方向へと移動可能とされた移
動ロール、 であることを特徴とする請求項1に記載の金属板洗浄装
置。
2. A moving roll, wherein the relaxing means is arranged so that the metal plate between the fixing means is partially wound, and is movable in a direction to decrease a path length of the metal plate. The metal plate cleaning apparatus according to claim 1, wherein:
【請求項3】 前記搬送手段が、 前記固定手段の間に配置され前記金属板を搬送する搬送
ロール、を含んで構成され、 前記移動手段が、前記搬送ロールを正回転及び逆回転可
能とすることにより構成されていることを特徴とする請
求項1又は請求項2に記載の金属板洗浄装置。
3. The transporting means comprises a transporting roll disposed between the fixing means and transporting the metal plate, and the moving means enables the transporting roll to rotate forward and reverse. The metal plate cleaning apparatus according to claim 1, wherein the metal plate cleaning apparatus is configured by:
【請求項4】 前記固定手段が、前記搬送ロールとの間
で前記金属板を挟持可能とされたニップロール、 を含んで構成されていることを特徴とする請求項3に記
載の金属板洗浄装置。
4. The metal plate cleaning apparatus according to claim 3, wherein said fixing means includes a nip roll capable of holding said metal plate between said transport rolls. .
【請求項5】 前記金属板を洗浄した前記洗浄液を受け
る処理槽、を有することを特徴とする請求項1〜請求項
4のいずれかに記載の金属板洗浄装置。
5. The metal plate cleaning apparatus according to claim 1, further comprising a treatment tank that receives the cleaning liquid that has cleaned the metal plate.
【請求項6】 前記処理槽が、前記金属板を処理する処
理液を貯留可能とされていることを特徴とする金属板洗
浄装置。
6. A metal plate cleaning apparatus, wherein the processing tank is capable of storing a processing liquid for processing the metal plate.
【請求項7】 金属板の少なくとも2箇所を固定する固
定工程と、 前記固定工程によって固定された部分の間に位置する金
属板を洗浄液によって洗浄する洗浄工程と、 前記固定工程によって固定された部分の間に位置する金
属板を弛緩させる弛緩工程と、 前記弛緩工程によって弛緩された前記金属板を前記固定
工程によって固定された部分の間において部分的に移動
させる移動工程と、 を有することを特徴とする金属板洗浄方法。
7. A fixing step of fixing at least two places of the metal plate, a cleaning step of cleaning a metal plate located between the parts fixed by the fixing step with a cleaning liquid, and a part fixed by the fixing step. And a moving step of partially moving the metal plate relaxed in the relaxing step between portions fixed by the fixing step. Metal plate cleaning method.
【請求項8】 金属板を処理槽内の処理液に部分的に浸
漬しつつ一定の搬送方向へ搬送する搬送工程と、 前記搬送工程の停止後に前記処理槽内から処理液を排出
する排出工程と、 停止時に前記処理槽の前後で前記金属板を固定する固定
工程と、 前記固定工程によって固定された部分の間に位置する金
属板を洗浄液によって洗浄する洗浄工程と、 前記固定工程によって固定された部分の間に位置する金
属板を弛緩させる弛緩工程と、 前記弛緩工程によって弛緩された前記金属板を前記固定
工程によって固定された部分の間において部分的に移動
させる移動工程と、 を有することを特徴とする金属板処理方法。
8. A transporting step of transporting the metal plate in a certain transport direction while partially immersing the metal plate in the processing liquid in the processing tank, and a discharging step of discharging the processing liquid from the processing tank after the transporting step is stopped. A fixing step of fixing the metal plate before and after the processing tank at the time of stop; a cleaning step of cleaning a metal plate positioned between the parts fixed by the fixing step with a cleaning liquid; A relaxing step of relaxing the metal plate located between the fixed portions, and a moving step of partially moving the metal plate relaxed by the relaxing step between the portions fixed by the fixing step. A method for treating a metal plate, comprising:
JP2000322328A 2000-10-23 2000-10-23 Metal plate cleaning apparatus, metal plate cleaning method, and metal plate processing method Expired - Fee Related JP4156787B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000322328A JP4156787B2 (en) 2000-10-23 2000-10-23 Metal plate cleaning apparatus, metal plate cleaning method, and metal plate processing method
CN 01136132 CN1223465C (en) 2000-10-23 2001-10-23 Metal-plate washing device, method thereof and metal-plate treatment method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000322328A JP4156787B2 (en) 2000-10-23 2000-10-23 Metal plate cleaning apparatus, metal plate cleaning method, and metal plate processing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002126679A true JP2002126679A (en) 2002-05-08
JP4156787B2 JP4156787B2 (en) 2008-09-24

Family

ID=18800227

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000322328A Expired - Fee Related JP4156787B2 (en) 2000-10-23 2000-10-23 Metal plate cleaning apparatus, metal plate cleaning method, and metal plate processing method

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP4156787B2 (en)
CN (1) CN1223465C (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006281567A (en) * 2005-03-31 2006-10-19 Fuji Photo Film Co Ltd Manufacturing method of substrate for lithographic printing plate
CN115042459A (en) * 2022-07-20 2022-09-13 上海翊科聚合物科技有限公司 Continuous etching system of PTFE pipe

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4841996B2 (en) * 2006-03-31 2011-12-21 富士フイルム株式会社 Cleaning device, manufacturing apparatus for film with plating film, cleaning method, and manufacturing method for film with plating film
CN105171547B (en) * 2015-09-30 2017-06-09 无锡市方正金属捆带有限公司 Steel strip grinding device
CN117822077A (en) * 2024-03-04 2024-04-05 江苏倍科新材料有限公司 Production equipment for anodic oxidation treatment of aluminum coil

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006281567A (en) * 2005-03-31 2006-10-19 Fuji Photo Film Co Ltd Manufacturing method of substrate for lithographic printing plate
JP4648057B2 (en) * 2005-03-31 2011-03-09 富士フイルム株式会社 Method for producing support for lithographic printing plate
CN115042459A (en) * 2022-07-20 2022-09-13 上海翊科聚合物科技有限公司 Continuous etching system of PTFE pipe

Also Published As

Publication number Publication date
CN1349896A (en) 2002-05-22
JP4156787B2 (en) 2008-09-24
CN1223465C (en) 2005-10-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2002126679A (en) Apparatus and method for cleaning metallic plate and metallic plate processing method
JP3628919B2 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP4838929B2 (en) Substrate processing equipment
TWI254341B (en) An inclined liquid-draining device
JP4674904B2 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP4346967B2 (en) Resist stripping device
JPS63121678A (en) Method and device for etching chromium film
JP2008080270A (en) Washing liquid draining and drying apparatus, manufacturing apparatus of film having plated film, and washing liquid draining and drying method
JP2824031B2 (en) Substrate surface treatment equipment
JP4043410B2 (en) In-line development processor
JP4409901B2 (en) Residual liquid removal device
TWI335616B (en)
JP2002141269A (en) Substrate-processing system and method
KR20000063732A (en) Apparatus for peeling film of printed circuit board
JP4431180B2 (en) Substrate processing method
JPH1187891A (en) Equipment for treating printed circuit board
JPH08293660A (en) Apparatus and method for etching board
JP2000219984A (en) Metallic web cleaning method
JP2000219984A5 (en)
JPH11295905A (en) Method and device for peeling resist film
JP2010103551A (en) Substrate processing device
JP2001267289A (en) Substrate treatment method and apparatus
JP2009080416A (en) Method of developing conductive material and developing device of conductive material
JPH01217344A (en) Method for cleaning roll of photosensitive material processor
JP2001271191A (en) Liquid removing method for steel strip

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050907

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20061225

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080417

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080422

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080603

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080708

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080710

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110718

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110718

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120718

Year of fee payment: 4

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees