JP2009080416A - Method of developing conductive material and developing device of conductive material - Google Patents

Method of developing conductive material and developing device of conductive material Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of developing conductive material and a developing device of conductive material, capable of suppressing flaw of a silver salt-containing layer and developing unevenness. <P>SOLUTION: Three liquid turn bars 30 are disposed in a developing tank 16, and a developer 16A is blown out through slits axially formed on the circumferential surfaces of the liquid turn bars 30, whereby a photosensitive web 12 is floated from the liquid turn bars 30, and changed in direction in no contact. The photosensitive web 12 is carried in the developer 16A within the developing tank 16 at a carrying rate of 4m/min or more. A plurality of spray devices 50 provided with a nozzle 50A for spraying the developer 16A to both surfaces of the photosensitive web 12 is disposed on the upstream side and downstream side of the three liquid turn bars 20. The vicinity of the surfaces of the photosensitive web 12 is agitated by spraying the developer thereto through the nozzle 50a, and the developer is prevented from being stayed in the vicinity of the surfaces of the photosensitive web 12. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、支持体上に少なくとも1層の銀塩含有層を含有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理することにより導電性パターンを形成させる導電性材料の現像処理方法及び導電性材料の現像処理装置に関する。   The present invention relates to a development method and a conductive material for a conductive material, in which a conductive pattern is formed by exposing and developing a conductive material precursor containing at least one silver salt-containing layer on a support. This relates to a development processing apparatus.

銀塩感光材料を露光して現像処理した後、表面抵抗低減処理を施した透光性導電膜として、近年PDP(プラズマディスプレイパネル)の電磁波シールド膜が知られている。   In recent years, an electromagnetic wave shielding film of a plasma display panel (PDP) has been known as a light-transmitting conductive film that has been subjected to exposure processing of a silver salt photosensitive material and development processing and then subjected to surface resistance reduction processing.

特許文献1には、細線等のパターンを銀塩感光材料に露光し、現像、めっき処理して導電性膜を得る方法が開示されている。この方法のなかで現像処理については、現像工程、定着工程、水洗・安定化処理工程の順で実施されることが記載されている。また、得られた現像済み材料を活性化処理、無電解銅めっき、連続電解めっきで処理し、最終的に所望の導電性を持つ透明導電性膜が得られることが記載されている。   Patent Document 1 discloses a method of obtaining a conductive film by exposing a silver salt photosensitive material to a pattern such as a fine line, developing, and plating. In this method, it is described that the development processing is performed in the order of a development step, a fixing step, and a washing / stabilization processing step. Further, it is described that the obtained developed material is processed by activation treatment, electroless copper plating, and continuous electrolytic plating to finally obtain a transparent conductive film having desired conductivity.

特許文献2には、感光材料に乳剤層が実質的に最上層に配置され、乳剤層に酸化防止剤を含有する技術が開示されている。このなかで物理現像やめっき処理が速やかに行われるために乳剤層上に保護層を設けないことが有利であることが記載されている。また、保護層を設けない弊害として、外圧による影響を受けやすく、カブリが起きやすいことが示唆されており、この感光材料により外圧による影響を低減している。   Patent Document 2 discloses a technique in which an emulsion layer is substantially disposed on the uppermost layer of a light-sensitive material and an antioxidant is contained in the emulsion layer. Among them, it is described that it is advantageous not to provide a protective layer on the emulsion layer in order to perform physical development and plating processing promptly. Further, it has been suggested that the adverse effect of not providing a protective layer is that it is easily affected by external pressure and fog is likely to occur, and this photosensitive material reduces the influence of external pressure.

特許文献3、特許文献4には、銀塩感材を露光・現像処理して導電性パターンを得る工程において、銀塩感材の乳剤面には接触しないで、バック面のみローラに接触させて搬送する現像処理装置が開示されている。   In Patent Document 3 and Patent Document 4, in the step of exposing and developing a silver salt sensitive material to obtain a conductive pattern, only the back surface is brought into contact with the roller without contacting the emulsion surface of the silver salt sensitive material. A developing processing apparatus to be conveyed is disclosed.

特許文献5には、X線フィルム等の写真感光材料を搬送ローラに挟持(ニップ)搬送して処理する自動現像機が開示されている。   Patent Document 5 discloses an automatic developing machine that processes a photographic photosensitive material such as an X-ray film by being nipped by a conveying roller.

特許文献6には、写真感光材料の自動現像機において、写真感光材料を複数の挟持(ニップ)ローラにより搬送する構成が開示されている。
特開2006−352073号公報 特開2006−228469号公報 特開2007−207646号公報 特開2006−190535号公報 特開平5−61176号公報 特開2007−127984号公報
Patent Document 6 discloses a configuration in which a photographic photosensitive material is conveyed by a plurality of nipping rollers in an automatic developing machine for photographic photosensitive material.
JP 2006-352073 A JP 2006-228469 A JP 2007-207646 A JP 2006-190535 A JP-A-5-61176 JP 2007-127984 A

しかし、上記のような技術では、以下のような問題点がある。   However, the above technique has the following problems.

感光材料を特許文献1(特開2006−352073号公報)で述べられたような現像方法で現像するのに、特許文献5(特開平5−61176号公報)、特許文献6(特開2007−127984号公報)に記載されているようないわゆるローラ搬送の機器を用いた場合、微細なゴミや感光材料の両側のエッジの裁断くずなどが液中搬送ローラに付着し、キズを発生させることがある。特に、特許文献2(特開2006−228469号公報)に記載された保護層のない感光材料では著しく傷がつきやすく、乳剤面側を液中搬送ローラに接触させながら搬送させることは困難である。   In order to develop the photosensitive material by the development method described in Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 2006-352073), Patent Document 5 (Japanese Patent Laid-Open No. 5-61176) and Patent Document 6 (Japanese Patent Laid-Open No. 2007-2007). In the case of using a so-called roller transport device as described in Japanese Patent No. 127984), fine dust or cutting scraps on both sides of the photosensitive material may adhere to the submerged transport roller and cause scratches. is there. In particular, the photosensitive material without a protective layer described in Patent Document 2 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-228469) is extremely easily damaged, and it is difficult to convey the emulsion surface while contacting the submerged conveyance roller. .

また、特許文献4(特開2006−190535号公報)、特許文献3(特開2007−207646号公報)では、銀塩感材の乳剤面には接触しないでバック面のみローラに接触させるが、この文献で開示されている搬送方法では、一般的なハロゲン化銀感光材料で多く用いられている、連続する2個以上の処理槽(例えば、現像、定着、水洗)にフィルム上の被処理物を浸漬させて非接触で処理することには不向きである。   In Patent Document 4 (Japanese Patent Laid-Open No. 2006-190535) and Patent Document 3 (Japanese Patent Laid-Open No. 2007-207646), only the back surface is brought into contact with the roller without contacting the emulsion surface of the silver salt sensitive material. In the conveying method disclosed in this document, the processing object on the film is used in two or more continuous processing tanks (for example, development, fixing, washing with water) which are often used in general silver halide light-sensitive materials. It is not suitable for non-contact treatment by dipping.

さらには、特許文献4(特開2006−190535号公報)、特許文献3(特開2007−207646号公報)で示された方法では、搬送速度が早くなると(例えば4m/分以上)、挟持ローラがないため銀塩感材のいわゆる液境膜を適宜破壊し、現像反応を均一に進める手段がないため、銀塩感材への同伴液による流れムラが生じる。また、本発明者らの実験によれば、非接触搬送でも液境膜を破壊する手段が必要であることがわかってきた。   Further, in the methods disclosed in Patent Document 4 (Japanese Patent Laid-Open No. 2006-190535) and Patent Document 3 (Japanese Patent Laid-Open No. 2007-207646), when the conveyance speed is increased (for example, 4 m / min or more), the nipping roller Since there is no means for appropriately destroying the so-called liquid boundary film of the silver salt sensitive material and causing the development reaction to proceed uniformly, uneven flow due to the accompanying liquid to the silver salt sensitive material occurs. Further, according to experiments by the present inventors, it has been found that a means for breaking the liquid boundary film is necessary even in non-contact conveyance.

本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであり、感光材料の銀塩含有層にキズが発生することを抑制すると共に、現像ムラの発生を抑制することができる導電性材料の現像処理方法及び導電性材料の現像処理装置を提供することである。   The present invention has been made in view of such circumstances, and a method for developing a conductive material that can suppress the occurrence of scratches in the silver salt-containing layer of the photosensitive material and can suppress the occurrence of development unevenness. And an apparatus for developing a conductive material.

上記課題を解決するために、請求項1に記載の発明は、支持体上に少なくとも1層の銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理することにより導電性パターンを形成させる導電性材料の現像処理方法であって、前記導電性材料前駆体を現像処理液中で4m/分〜50m/分の搬送速度で、前記銀塩含有層に搬送ガイド部材が接触しないように搬送し、前記現像処理液中の少なくとも1箇所以上で前記銀塩含有層近傍の前記現像処理液を撹乱することを特徴としている。   In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 1 forms a conductive pattern by exposing and developing a conductive material precursor having at least one silver salt-containing layer on a support. A method for developing a conductive material, wherein the conductive material precursor is prevented from contacting the silver salt-containing layer at a conveyance speed of 4 m / min to 50 m / min in the developing solution. The developer is transported and disturbed in the vicinity of the silver salt-containing layer at at least one location in the developer.

請求項1に記載の発明によれば、導電性材料前駆体を現像処理液中で4m/分〜50m/分の搬送速度で、銀塩含有層に搬送ガイド部材が接触しないように搬送することで、銀塩含有層にキズが発生することを抑制することができる。さらに、現像処理液中の少なくとも1箇所以上で銀塩含有層近傍の現像処理液を撹乱することにより、銀塩含有層の液境膜が破壊されると共に、銀塩含有層の表面近傍に現像液が滞留することが抑制される。これにより、現像ムラの発生を抑制することができる。   According to the invention described in claim 1, the conductive material precursor is transported in the developing solution at a transport speed of 4 m / min to 50 m / min so that the transport guide member does not contact the silver salt-containing layer. Thus, it is possible to suppress the generation of scratches in the silver salt-containing layer. Furthermore, by disturbing the developing solution in the vicinity of the silver salt-containing layer at at least one location in the developing solution, the liquid boundary film of the silver salt-containing layer is destroyed and developed near the surface of the silver salt-containing layer. It is suppressed that a liquid retains. Thereby, the occurrence of uneven development can be suppressed.

一方、導電性材料前駆体の搬送速度が4m/分より小さいと、導電性材料前駆体を搬送ガイド部材に接触させずに安定して搬送することが困難となる。また、導電性材料前駆体の搬送速度が50m/分より大きいと、銀塩含有層の液境膜をほぼ均一に破壊することができず、現像ムラの発生を効果的に抑制することが困難となる。   On the other hand, when the conveyance speed of the conductive material precursor is less than 4 m / min, it is difficult to stably convey the conductive material precursor without contacting the conveyance guide member. Further, if the conveying speed of the conductive material precursor is higher than 50 m / min, the liquid film of the silver salt-containing layer cannot be almost uniformly broken, and it is difficult to effectively suppress the development unevenness. It becomes.

請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の導電性材料の現像処理方法において、実質的に表面に保護層を設けない銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理することを特徴としている。   According to a second aspect of the present invention, in the method for developing a conductive material according to the first aspect, the conductive material precursor having a silver salt-containing layer substantially not provided with a protective layer on the surface is exposed and developed. It is characterized by processing.

実質的に表面に保護層を設けない銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理する場合、現像処理液中で銀塩含有層が軟膜であるため、銀塩含有層にキズがつきやすいが、請求項2に記載の発明では、実質的に表面に保護層を設けない銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理しても、銀塩含有層にキズが発生することを抑制することができる。ここで「実質的に表面に保護層を有しない」とは、表面の保護層の厚みが0.5μm以下若しくは表面に保護層を全く有しない場合をいう。   When the conductive material precursor having a silver salt-containing layer that does not substantially have a protective layer on the surface is exposed and developed, the silver salt-containing layer is a soft film in the developing solution. In the invention according to claim 2, even if the conductive material precursor having a silver salt-containing layer that is substantially not provided with a protective layer is exposed and developed, the silver salt-containing layer is easily scratched. Scratches can be prevented from occurring. Here, “substantially has no protective layer on the surface” means that the thickness of the protective layer on the surface is 0.5 μm or less or has no protective layer on the surface.

請求項3に記載の発明は、支持体上に少なくとも1層の銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理することにより導電性パターンを形成させる導電性材料の現像処理装置であって、現像処理液で満たされた現像処理槽と、前記導電性材料前駆体を4m/分〜50m/分の搬送速度で搬送する搬送手段と、前記現像処理槽内に設けられ、前記銀塩含有層に接触しないように前記導電性材料前駆体を搬送させる搬送ガイド部材と、前記現像処理槽内に設けられ、少なくとも1箇所以上で前記銀塩含有層近傍の前記現像処理液を撹乱する撹乱手段と、を有することを特徴としている。   According to a third aspect of the present invention, there is provided a development processing apparatus for a conductive material that forms a conductive pattern by exposing and developing a conductive material precursor having at least one silver salt-containing layer on a support. A development processing tank filled with a development processing solution, a transport means for transporting the conductive material precursor at a transport speed of 4 m / min to 50 m / min, and provided in the development processing tank, A conveyance guide member that conveys the conductive material precursor so as not to contact the silver salt-containing layer, and the development processing tank provided in the development processing tank, and disturbs the development processing solution in the vicinity of the silver salt-containing layer in at least one place And a disturbing means.

請求項3に記載の発明によれば、搬送手段によって、導電性材料前駆体を現像処理液中で4m/分〜50m/分の搬送速度で搬送し、現像処理槽内に設けられた搬送ガイド部材により、銀塩含有層に接触しないように導電性材料前駆体を搬送させる。これにより、銀塩含有層にキズが発生することを抑制することができる。さらに、現像処理槽内に設けられた撹乱手段によって、現像処理液中の少なくとも1箇所以上で銀塩含有層近傍の現像処理液が撹乱されることにより、銀塩含有層の液境膜が破壊されると共に、銀塩含有層の表面近傍に現像液が滞留することが抑制される。これにより、現像ムラの発生を抑制することができる。   According to the third aspect of the present invention, the conductive material precursor is transported in the developing solution at a transport speed of 4 m / min to 50 m / min by the transport means, and the transport guide is provided in the development processing tank. The conductive material precursor is conveyed by the member so as not to contact the silver salt-containing layer. Thereby, it can suppress that a crack generate | occur | produces in a silver salt content layer. Furthermore, the developing solution in the vicinity of the silver salt-containing layer is disturbed by at least one location in the developing solution by the disturbing means provided in the developing tank, so that the liquid boundary film of the silver salt-containing layer is destroyed. In addition, the developer is prevented from staying near the surface of the silver salt-containing layer. Thereby, the occurrence of uneven development can be suppressed.

一方、導電性材料前駆体の搬送速度が4m/分より小さいと、導電性材料前駆体を搬送ガイド部材に接触させずに安定して搬送することが困難となる。また、導電性材料前駆体の搬送速度が50m/分より大きいと、銀塩含有層の液境膜をほぼ均一に破壊することができず、現像ムラの発生を効果的に抑制することが困難となる。   On the other hand, when the conveyance speed of the conductive material precursor is less than 4 m / min, it is difficult to stably convey the conductive material precursor without contacting the conveyance guide member. Further, if the conveying speed of the conductive material precursor is higher than 50 m / min, the liquid film of the silver salt-containing layer cannot be almost uniformly broken, and it is difficult to effectively suppress the development unevenness. It becomes.

請求項4に記載の発明は、請求項3に記載の導電性材料の現像処理装置において、前記撹乱手段は、前記銀塩含有層に現像処理液を吹き付けるノズルを備えた吹き付け装置であることを特徴としている。   According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the conductive material development processing apparatus according to the third aspect, wherein the disturbing means is a spraying device including a nozzle for spraying a development processing solution onto the silver salt-containing layer. It is a feature.

請求項4に記載の発明によれば、吹き付け装置のノズルから銀塩含有層に現像処理液を吹き付けることにより、銀塩含有層近傍の現像処理液が撹乱される。これにより、銀塩含有層の液境膜が破壊されると共に、銀塩含有層の表面近傍に現像液が滞留することが抑制される。   According to the fourth aspect of the present invention, the developing solution in the vicinity of the silver salt-containing layer is disturbed by spraying the developing solution from the nozzle of the spraying device onto the silver salt-containing layer. This destroys the liquid boundary film of the silver salt-containing layer and suppresses the developer from staying near the surface of the silver salt-containing layer.

請求項5に記載の発明は、請求項3に記載の導電性材料の現像処理装置において、前記撹乱手段は、前記導電性材料前駆体の搬送時に前記銀塩含有層と所定の間隔で対向し、弾性変形可能なブレードであることを特徴としている。   According to a fifth aspect of the present invention, there is provided the conductive material development processing apparatus according to the third aspect, wherein the disturbing unit faces the silver salt-containing layer at a predetermined interval when the conductive material precursor is transported. The blade is elastically deformable.

請求項5に記載の発明によれば、導電性材料前駆体の搬送時に銀塩含有層と所定の間隔で対向し、弾性変形可能なブレードが設けられているので、導電性材料前駆体が所定の速度で搬送されたときに現像処理液によりブレードが弾性変形し、銀塩含有層とブレードとの間に所定の間隔が形成される。このブレードによって、銀塩含有層近傍の現像処理液が撹乱される。このため、銀塩含有層の液境膜が破壊されると共に、銀塩含有層の表面近傍に現像液が滞留することが抑制される。   According to the fifth aspect of the present invention, the conductive material precursor is provided with the predetermined predetermined spacing and is provided with the elastically deformable blade when the conductive material precursor is conveyed. The blade is elastically deformed by the developing solution when it is conveyed at a speed of 5 mm, and a predetermined interval is formed between the silver salt-containing layer and the blade. The developing solution in the vicinity of the silver salt-containing layer is disturbed by this blade. For this reason, the liquid boundary film of the silver salt-containing layer is destroyed and the stay of the developer near the surface of the silver salt-containing layer is suppressed.

請求項6に記載の発明は、請求項3に記載の導電性材料の現像処理装置において、前記撹乱手段は、前記銀塩含有層と所定の間隔をおいて固定支持された板状体であることを特徴としている。   According to a sixth aspect of the present invention, in the development processing apparatus for a conductive material according to the third aspect, the disturbing means is a plate-like body fixedly supported at a predetermined interval from the silver salt-containing layer. It is characterized by that.

請求項6に記載の発明によれば、銀塩含有層と所定の間隔をおいて固定支持された板状体が設けられており、板状体によって、銀塩含有層近傍の現像処理液が撹乱される。このため、銀塩含有層の液境膜が破壊されると共に、銀塩含有層の表面近傍に現像液が滞留することが抑制される。   According to the invention described in claim 6, a plate-like body fixed and supported at a predetermined interval from the silver salt-containing layer is provided, and the plate-like body allows the developing solution in the vicinity of the silver salt-containing layer to be provided. Be disturbed. For this reason, the liquid boundary film of the silver salt-containing layer is destroyed and the stay of the developer near the surface of the silver salt-containing layer is suppressed.

請求項7に記載の発明は、請求項3に記載の導電性材料の現像処理装置において、前記撹乱手段は、前記銀塩含有層と所定の間隔をおいて配置されたローラであることを特徴としている。   A seventh aspect of the present invention is the conductive material development processing apparatus according to the third aspect, wherein the disturbing means is a roller disposed at a predetermined interval from the silver salt-containing layer. It is said.

請求項7に記載の発明によれば、銀塩含有層と所定の間隔をおいて配置されたローラが設けられており、ローラによって、銀塩含有層近傍の現像処理液が撹乱される。これにより、銀塩含有層の液境膜が破壊されると共に、銀塩含有層の表面近傍に現像液が滞留することが抑制される。   According to the seventh aspect of the present invention, the roller disposed at a predetermined interval from the silver salt-containing layer is provided, and the developing solution near the silver salt-containing layer is disturbed by the roller. This destroys the liquid boundary film of the silver salt-containing layer and suppresses the developer from staying near the surface of the silver salt-containing layer.

請求項8に記載の発明は、請求項3から請求項7までのいずれか1項に記載の導電性材料の現像処理装置において、実質的に表面に保護層を設けない銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理することを特徴としている。   An eighth aspect of the present invention is the conductive material development processing apparatus according to any one of the third to seventh aspects, further comprising a silver salt-containing layer substantially not provided with a protective layer on the surface. The conductive material precursor is exposed and developed.

実質的に表面に保護層を設けない銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理する場合、現像処理液中で銀塩含有層が軟膜であるため、銀塩含有層にキズがつきやすいが、請求項8に記載の発明では、実質的に表面に保護層を設けない銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理しても、銀塩含有層にキズが発生することを抑制することができる。ここで「実質的に表面に保護層を有しない」とは、表面の保護層の厚みが0.5μm以下若しくは表面に保護層を全く有しない場合をいう。   When the conductive material precursor having a silver salt-containing layer that does not substantially have a protective layer on the surface is exposed and developed, the silver salt-containing layer is a soft film in the developing solution. In the invention according to claim 8, even if the conductive material precursor having a silver salt-containing layer that does not substantially have a protective layer on the surface is exposed and developed, the silver salt-containing layer is easily scratched. Scratches can be prevented from occurring. Here, “substantially has no protective layer on the surface” means that the thickness of the protective layer on the surface is 0.5 μm or less or has no protective layer on the surface.

請求項9に記載の発明は、請求項3から請求項8までのいずれか1項に記載の導電性材料の現像処理装置において、前記搬送ガイド部材が、前記導電性材料前駆体を現像処理液中で方向転換させる液中ターンバーであることを特徴としている。   According to a ninth aspect of the present invention, in the conductive material development processing apparatus according to any one of the third to eighth aspects, the transport guide member develops the conductive material precursor into a development processing solution. It is characterized by being a submerged turn bar that changes direction inside.

請求項9に記載の発明によれば、搬送ガイド部材が、導電性材料前駆体を現像処理液中で方向転換させる液中ターンバーであるので、導電性材料前駆体を現像処理液中で効率よく搬送して現像処理することができる。   According to the invention described in claim 9, since the transport guide member is a submerged turn bar that changes the direction of the conductive material precursor in the developing solution, the conductive material precursor is efficiently removed in the developing solution. It can be transported and developed.

以上説明したように、本発明によれば、導電性材料前駆体を現像処理するときに、銀塩含有層にキズが発生することを抑制すると共に、現像ムラの発生を抑制することができる。   As described above, according to the present invention, when the conductive material precursor is developed, it is possible to suppress the occurrence of scratches in the silver salt-containing layer and to suppress the occurrence of development unevenness.

本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。なお、実質的に同一の機能を有する部材には全図面を通して同じ符号を付与し、重複する説明は省略する場合がある。   Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, the same code | symbol is provided to the member which has the substantially same function throughout all the drawings, and the overlapping description may be abbreviate | omitted.

図1には、本発明に係る導電性材料の処理方法が適用される導電性材料の処理装置が示されている。この処理装置は、支持フィルム上に銀塩含有層としてハロゲン化銀乳剤層を有する導電性材料前駆体を露光した後に配置され、露光が施された導電性材料前駆体の現像・定着・洗浄等を行う装置である。   FIG. 1 shows a conductive material processing apparatus to which a conductive material processing method according to the present invention is applied. This processing apparatus is disposed after exposing a conductive material precursor having a silver halide emulsion layer as a silver salt-containing layer on a support film, and developing, fixing, washing, etc. of the exposed conductive material precursor It is a device that performs.

図1に示されるように、処理装置10では、帯状の支持フィルム上にハロゲン化銀乳剤層を有する感光ウエブ12が複数の支持ローラ14にガイドされた状態で一定方向に搬送される。この感光ウエブ12は、図示しない露光装置により所望の細線状のパターン露光が施されたものである。   As shown in FIG. 1, in the processing apparatus 10, a photosensitive web 12 having a silver halide emulsion layer on a belt-like support film is conveyed in a fixed direction while being guided by a plurality of support rollers 14. The photosensitive web 12 has been subjected to a desired fine line pattern exposure by an exposure apparatus (not shown).

処理装置10には、感光ウエブ12の搬送方向に沿って上流側から下流側の順に、現像液16Aが貯留された現像処理槽16と、停止液18Aが貯留された現像停止処理槽18と、定着液20Aが貯留された定着槽20と、純水(洗浄液)22Aが貯留された第1水洗槽22と、純水(洗浄液)24Aが貯留された第2水洗槽24と、感光ウエブ12を乾燥させる乾燥装置26と、が配設されている。乾燥装置26には、千鳥状に配置された3本の支持ローラ14に感光ウエブ12が巻き掛けられており、3本の支持ローラ14より搬送方向上流側と搬送方向下流側で感光ウエブ12の表面に温風を吹き付ける温風発生装置28が配設されている。   The processing apparatus 10 includes, in order from the upstream side to the downstream side in the conveyance direction of the photosensitive web 12, a development processing tank 16 in which the developer 16A is stored, a development stop processing tank 18 in which the stop liquid 18A is stored, The fixing tank 20 in which the fixing liquid 20A is stored, the first water washing tank 22 in which pure water (cleaning liquid) 22A is stored, the second water washing tank 24 in which pure water (cleaning liquid) 24A is stored, and the photosensitive web 12. And a drying device 26 for drying. In the drying device 26, the photosensitive web 12 is wound around three support rollers 14 arranged in a staggered manner, and the photosensitive web 12 is positioned upstream and downstream in the transport direction from the three support rollers 14. A hot air generator 28 for blowing hot air on the surface is disposed.

処理装置10では、感光ウエブ12は現像処理槽16の上部に配置された支持ローラ14を経て現像処理槽16に搬送される。現像処理槽16内には、3本の液中ターンバー30が千鳥状に配置されている。液中ターンバー30は、感光ウエブ12と対向する面が円弧状に形成され、感光ウエブ12と対向しない面が平面状に形成されている。すなわち、下方側に配置された2本の液中ターンバー30は、円弧状の面が下方側を向いており、2本の液中ターンバー30の間で上方側に配置された1本の液中ターンバー30は、円弧状の面が上方側を向いている。感光ウエブ12は、下方側に配置された2本の液中ターンバー30と、これらの間で上方側に配置された1本の液中ターンバー30に掛け渡された状態で支持されている。3本の液中ターンバー30により、現像処理槽16内で感光ウエブ12を効率よく搬送し、現像処理を行うことができる。   In the processing apparatus 10, the photosensitive web 12 is conveyed to the development processing tank 16 through a support roller 14 disposed on the development processing tank 16. In the development processing tank 16, three submerged turn bars 30 are arranged in a staggered manner. The submerged turn bar 30 has a surface facing the photosensitive web 12 formed in an arc shape and a surface not facing the photosensitive web 12 formed in a flat shape. That is, the two submerged turn bars 30 arranged on the lower side have an arcuate surface facing the lower side, and one submerged turn bar 30 arranged on the upper side between the two submerged turn bars 30. The turn bar 30 has an arc-shaped surface facing upward. The photosensitive web 12 is supported in a state where it is stretched over two submerged turn bars 30 arranged on the lower side and one submerged turn bar 30 arranged on the upper side between them. By the three submerged turn bars 30, the photosensitive web 12 can be efficiently conveyed in the development processing tank 16 to perform development processing.

液中ターンバー30には、周面に軸方向に複数のスリット(図示省略)が形成されており、複数のスリットから所定量の現像液16Aが噴射されることにより、感光ウエブ12が液中ターンバー30から浮揚し、非接触となる。これにより、3本の液中ターンバー30に対し、感光ウエブ12はハロゲン化銀乳剤層が非接触となるように支持され、方向転換される。感光ウエブ12のハロゲン化銀乳剤層はウエット状態で軟膜のため、スリットから噴射される現像液16Aの量が強すぎて軟膜を破壊しないように所定の噴射量に調整することが望ましい。   The submerged turn bar 30 is formed with a plurality of slits (not shown) in the axial direction on the peripheral surface, and a predetermined amount of developer 16A is ejected from the plurality of slits, so that the photosensitive web 12 is submerged in the submerged turn bar. It floats from 30 and becomes non-contact. As a result, the photosensitive web 12 is supported by the three submerged turn bars 30 so that the silver halide emulsion layer is not in contact, and the direction is changed. Since the silver halide emulsion layer of the photosensitive web 12 is a soft film in the wet state, it is desirable that the amount of the developer 16A sprayed from the slit is too strong to be adjusted to a predetermined spray amount so as not to break the soft film.

現像処理槽16内には、3本の液中ターンバー30の搬送方向上流側と搬送方向下流側のそれぞれの部位に、感光ウエブ12の両面に現像液16Aを吹き付ける撹乱手段としての複数の吹き付け装置50が設けられている。吹き付け装置50は、円筒状の部材からなり、感光ウエブ12と所定の間隔で対向するように配置されている。吹き付け装置50の周面の感光ウエブ12と対向する位置には、感光ウエブ12に現像液16Aを吹き付ける複数のノズル50Aが形成されている。複数のノズル50Aから感光ウエブ12の両面に現像液16Aを吹き付けることで、感光ウエブ12の両面近傍の現像液16Aが撹乱され、現像液16Aが感光ウエブ12の両面近傍に滞留することが抑制される。特に感光ウエブ12の表面のハロゲン化銀乳剤層近傍を撹乱することで、ハロゲン化銀乳剤層の液境膜が破壊され、現像反応が促進される。これにより、現像液現像ムラの発生を抑制することができる。   In the development processing tank 16, a plurality of spraying devices serving as disturbing means for spraying the developer 16A on both surfaces of the photosensitive web 12 to the upstream and downstream portions of the three submerged turn bars 30 in the transport direction. 50 is provided. The spraying device 50 is made of a cylindrical member and is disposed so as to face the photosensitive web 12 at a predetermined interval. A plurality of nozzles 50 </ b> A that spray the developer 16 </ b> A onto the photosensitive web 12 are formed at positions facing the photosensitive web 12 on the peripheral surface of the spraying device 50. By spraying the developer 16A on both surfaces of the photosensitive web 12 from the plurality of nozzles 50A, the developer 16A near the both surfaces of the photosensitive web 12 is disturbed, and the developer 16A is prevented from staying near both surfaces of the photosensitive web 12. The Particularly, by disturbing the vicinity of the silver halide emulsion layer on the surface of the photosensitive web 12, the liquid boundary film of the silver halide emulsion layer is destroyed, and the development reaction is accelerated. Thereby, generation | occurrence | production of a developing solution development nonuniformity can be suppressed.

本実施形態では、吹き付け装置50は、感光ウエブ12の搬送方向における1本目の液中ターンバー30より上流側に3箇所、1本目と2本目の液中ターンバー30の間に2箇所、2本目と3本目の液中ターンバー30の間に2箇所、3本目の液中ターンバー30より下流側に3箇所設けられている。また、吹き付け装置50は、周面に軸方向に沿って4本のノズル50Aを備えている。吹き付け装置50による現像液16Aの吹き付け量は5〜10l/min×4本に設定されており、ノズル50Aのサイズは、スリット幅が0.5mm、長さが180mmに設定されている。また、ノズル50Aと感光ウエブ12との間隔は、3〜5mmに設定されている。   In the present embodiment, the spraying device 50 has three locations upstream of the first submerged turn bar 30 in the conveying direction of the photosensitive web 12, two locations between the first and second submerged turnbars 30, and the second one. Two locations are provided between the third submerged turn bar 30 and three locations downstream of the third submerged turn bar 30. Further, the spraying device 50 includes four nozzles 50A along the axial direction on the peripheral surface. The amount of developer 16A sprayed by the spraying device 50 is set to 5 to 10 l / min × 4, and the nozzle 50A has a slit width of 0.5 mm and a length of 180 mm. The interval between the nozzle 50A and the photosensitive web 12 is set to 3 to 5 mm.

感光ウエブ12の搬送方向下流側の現像処理槽16の出口には、感光ウエブ12と対向するようにエアーナイフ34が配設されている。エアーナイフ34は感光ウエブ12にエアーを吹き付けるものであり、現像処理槽16内を搬送された感光ウエブ12は、現像処理槽16の出口でエアーナイフ34から吹き付けられるエアーにより現像液16Aが掻き落とされ、現像処理槽16及び現像停止処理槽18の上部に配置された搬送ガイド部材36を経て次の現像停止処理槽18に導入される。搬送ガイド部材36は、感光ウエブ12と対向する面が円弧状に形成されており、円弧状面に軸方向に沿って複数のスリット(図示省略)が設けられている。搬送ガイド部材36は、スリットから所定量のエアーを噴出することで、感光ウエブ12を搬送ガイド部材36とほぼ非接触で方向転換させることができる。   An air knife 34 is disposed at the outlet of the development processing tank 16 on the downstream side in the conveyance direction of the photosensitive web 12 so as to face the photosensitive web 12. The air knife 34 blows air onto the photosensitive web 12, and the developer 16 </ b> A is scraped off by the air blown from the air knife 34 at the outlet of the developing bath 16 in the photosensitive web 12 conveyed in the developing bath 16. Then, the toner is introduced into the next development stop processing tank 18 through a conveyance guide member 36 disposed above the development processing tank 16 and the development stop processing tank 18. The conveyance guide member 36 has a surface facing the photosensitive web 12 formed in an arc shape, and a plurality of slits (not shown) are provided on the arc surface along the axial direction. The conveyance guide member 36 can change the direction of the photosensitive web 12 in a substantially non-contact manner with the conveyance guide member 36 by ejecting a predetermined amount of air from the slit.

現像停止処理槽18内には、下方側に液中ターンバー38が配置されており、液中ターンバー38で感光ウエブ12はハロゲン化銀乳剤層が非接触となるように支持され、方向転換される。液中ターンバー38には、周面に軸方向に複数のスリット(図示省略)が形成されており、複数のスリットから所定量の停止液18Aが噴射されることにより、感光ウエブ12が液中ターンバー38から浮揚し、非接触となる。現像停止処理槽18内を搬送された感光ウエブ12は、現像停止処理槽18の出口で、感光ウエブ12の両面に対向して配置されたエアーナイフ34で停止液18Aが掻き落とされ、現像停止処理槽18及び定着槽20の上部に配置された搬送ガイド部材36を経て次の定着槽20に導入される。   A submerged turn bar 38 is disposed in the development stop processing tank 18 on the lower side, and the submerged turn bar 38 supports and changes the direction of the photosensitive web 12 so that the silver halide emulsion layer is not in contact. . The submerged turn bar 38 is formed with a plurality of slits (not shown) in the axial direction on the peripheral surface, and a predetermined amount of stop liquid 18A is ejected from the plurality of slits, whereby the photosensitive web 12 is submerged in the submerged turn bar. It floats from 38 and becomes non-contact. The photosensitive web 12 transported in the development stop processing tank 18 is scraped off by the air knife 34 disposed opposite to both surfaces of the photosensitive web 12 at the exit of the development stop processing tank 18 to stop development. The toner is introduced into the next fixing tank 20 through a conveyance guide member 36 disposed above the processing tank 18 and the fixing tank 20.

以下、上記の現像処理槽16と同様に、感光ウエブ12は、定着槽20内に配置された3本の液中ターンバー40でハロゲン化銀乳剤層が非接触の状態で方向転換され、定着槽20の出口で、感光ウエブ12の両面に対向して配置されたエアーナイフ34で定着液20Aが掻き落とされ、定着槽20及び第1水洗槽22の上部に配置された搬送ガイド部材36を経て次の第1水洗槽22に導入される。液中ターンバー40は、周面に軸方向に形成された複数のスリットから所定量の定着液20Aが噴射されるものであり、これにより感光ウエブ12が液中ターンバー40から浮揚し、非接触となる。   Thereafter, similar to the development processing tank 16 described above, the photosensitive web 12 is redirected by the three submerged turn bars 40 disposed in the fixing tank 20 so that the silver halide emulsion layer is not in contact with the fixing tank 20. At the outlet 20, the fixing solution 20 </ b> A is scraped off by an air knife 34 disposed opposite to both surfaces of the photosensitive web 12, and passes through a conveyance guide member 36 disposed above the fixing tank 20 and the first washing tank 22. It introduce | transduces into the following 1st washing tank 22. FIG. The submerged turn bar 40 is configured such that a predetermined amount of the fixing solution 20A is ejected from a plurality of slits formed in the axial direction on the peripheral surface, whereby the photosensitive web 12 floats from the submerged turn bar 40 and is not contacted. Become.

その後、感光ウエブ12は、第1水洗槽22内の液中ターンバー42でハロゲン化銀乳剤層が非接触の状態で方向転換され、第1水洗槽22の出口で感光ウエブ12の両面に対向して配置されたエアーナイフ34で洗浄液が掻き落とされ、第1水洗槽22及び第2水洗槽24の上部に配置された搬送ガイド部材36を経て第2水洗槽24に導入される。さらに、感光ウエブ12は、第2水洗槽24内の液中ターンバー44でハロゲン化銀乳剤層が非接触の状態で方向転換される。液中ターンバー42、44は、周面に軸方向に形成された複数のスリットから所定量の純水22A、24Aが噴射されるものであり、これにより感光ウエブ12が液中ターンバー42、44から浮揚し、非接触となる。   Thereafter, the direction of the photosensitive web 12 is changed by the submerged turn bar 42 in the first washing tank 22 so that the silver halide emulsion layer is not in contact with the photosensitive web 12, and faces the both sides of the photosensitive web 12 at the outlet of the first washing tank 22. The cleaning liquid is scraped off by the air knife 34 arranged in this manner, and is introduced into the second water washing tank 24 through the conveyance guide member 36 arranged above the first water washing tank 22 and the second water washing tank 24. Further, the direction of the photosensitive web 12 is changed by the submerged turn bar 44 in the second washing tank 24 while the silver halide emulsion layer is not in contact. The submerged turn bars 42 and 44 are configured such that a predetermined amount of pure water 22A and 24A is ejected from a plurality of slits formed in the axial direction on the peripheral surface, whereby the photosensitive web 12 is ejected from the submerged turn bars 42 and 44. Levitation and non-contact.

第2水洗槽24の出口には、感光ウエブ12の両面に対向するように2対のエアーナイフ34が配置されており、第2水洗槽24から出た感光ウエブ12はエアーナイフ34から吹き出されるエアーにより洗浄液が掻き落とされ、第2水洗槽24の上部に配置された搬送ガイド部材36を経て乾燥装置26に搬送される。   Two pairs of air knives 34 are arranged at the outlet of the second rinsing tank 24 so as to face both surfaces of the photosensitive web 12, and the photosensitive web 12 coming out of the second rinsing tank 24 is blown out from the air knife 34. The cleaning liquid is scraped off by the air to be transported to the drying device 26 through the transport guide member 36 disposed at the upper part of the second water washing tank 24.

乾燥装置26では、温風発生装置28から発生する温風により感光ウエブ12の両面が乾燥され、感光ウエブ12は乾燥装置26の上部に配置された支持ローラ14を経て搬送される。また、処理装置10には、現像処理槽16の上流側に感光ウエブ12を送り出す送り出しローラ(図示省略)が配置され、温風発生装置28の下流側に感光ウエブ12を巻き取る巻き取りローラ(図示省略)が配置されており、送り出しローラ(図示省略)と巻き取りローラ(図示省略)の回転により、感光ウエブ12が一定の搬送速度で搬送される。図示していないが処理装置10は感光ウエブ12を一定のテンションで搬送できるようにトルク調整機構を持っている。感光ウエブ12の搬送速度は、4m/分〜50m/分が好ましく、8m/分〜30m/分がより好ましく、10m/分〜20m/分がさらに好ましくい。   In the drying device 26, both surfaces of the photosensitive web 12 are dried by the warm air generated from the warm air generating device 28, and the photosensitive web 12 is conveyed through the support roller 14 disposed on the upper portion of the drying device 26. Further, the processing device 10 is provided with a delivery roller (not shown) for sending the photosensitive web 12 upstream of the development processing tank 16, and a take-up roller for winding the photosensitive web 12 downstream of the hot air generator 28. The photosensitive web 12 is transported at a constant transport speed by the rotation of the feed roller (not illustrated) and the take-up roller (not illustrated). Although not shown, the processing apparatus 10 has a torque adjusting mechanism so that the photosensitive web 12 can be conveyed with a constant tension. The conveyance speed of the photosensitive web 12 is preferably 4 m / min to 50 m / min, more preferably 8 m / min to 30 m / min, and even more preferably 10 m / min to 20 m / min.

また、感光ウエブ12の搬送速度が4m/分より小さいと、感光ウエブ12を現像処理槽16内の液中ターンバー30に接触させずに安定して搬送することが困難となる。また、感光ウエブ12の搬送速度が50m/分より大きいと、ハロゲン化銀乳剤層の液境膜をほぼ均一に破壊することができず、現像ムラの発生を効果的に抑制することが困難となる。   Further, if the conveyance speed of the photosensitive web 12 is less than 4 m / min, it is difficult to stably convey the photosensitive web 12 without contacting the submerged turn bar 30 in the development processing tank 16. Further, if the conveying speed of the photosensitive web 12 is higher than 50 m / min, the liquid boundary film of the silver halide emulsion layer cannot be almost uniformly broken, and it is difficult to effectively suppress the development unevenness. Become.

このような処理装置10では、複数の支持ローラ14、32、34と液中ターンバー30、38、40、42、44等によって、感光ウエブ12が現像処理槽16、現像停止処理槽18、定着槽20、第1水洗槽22、第2水洗槽24内を搬送されることで、現像、現像停止、定着、洗浄の各処理が行われる。これによって、細線メッシュ状の現像銀画像(導電膜)が形成された感光ウエブ12が得られる。   In such a processing apparatus 10, the photosensitive web 12 is developed into the development processing tank 16, the development stop processing tank 18, and the fixing tank by a plurality of support rollers 14, 32, 34 and submerged turn bars 30, 38, 40, 42, 44, etc. 20, development, development stop, fixing, and washing are performed by being conveyed through the first washing tank 22 and the second washing tank 24. As a result, a photosensitive web 12 on which a fine-line mesh developed silver image (conductive film) is formed is obtained.

処理装置10には、現像処理槽16と定着槽20との間に、停止液18Aが貯留された現像停止処理槽18が配置されている。停止液18Aは、pH1以上pH5以下が好ましく、pH2以上pH3以下がより好ましい。停止液のpHが、pH1以上pH5以下の範囲を外れると、現像液中の銀が導電性材料の銀線エッジ部に局部的に析出することを効果的に抑制することができなくなる。停止液18Aとして、例えば、酢酸、コハク酸、マレイン酸、クエン酸等が用いられる。本実施形態では、5%酢酸が用いられている。   In the processing apparatus 10, a development stop processing tank 18 in which a stop liquid 18 </ b> A is stored is disposed between the development processing tank 16 and the fixing tank 20. The stop liquid 18A is preferably pH 1 or more and pH 5 or less, more preferably pH 2 or more and pH 3 or less. If the pH of the stop solution is out of the range of pH 1 or more and pH 5 or less, it becomes impossible to effectively suppress the silver in the developer from locally depositing on the silver wire edge portion of the conductive material. For example, acetic acid, succinic acid, maleic acid, citric acid or the like is used as the stop liquid 18A. In this embodiment, 5% acetic acid is used.

ここで、現像・定着・洗浄の各処理は、銀塩写真フィルム、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる現像処理技術を適用することができる。現像液、定着液、洗浄液もこれらに準じて適宜適用することができる。例えば、現像液としては、特に限定しないが、PQ現像液、MQ現像液、MAA現像液等を用いることもでき、例えば、富士フイルム社製のCN−16、CR−56、CP45X、FD−3、パピトール、KODAK社製のC−41、E−6、RA−4、D−19、D−72などの現像液、又はそのキットに含まれる現像液、また、D−85などのリス現像液を用いることができる。なお、定着処理は、未露光部分の銀塩を除去して安定化させる目的で行われる。   Here, development processing techniques used for silver salt photographic films, printing plate-making films, photomask emulsion masks, and the like can be applied to the development, fixing, and washing processes. A developing solution, a fixing solution, and a cleaning solution can be appropriately applied according to these. For example, the developer is not particularly limited, but PQ developer, MQ developer, MAA developer and the like can also be used. For example, CN-16, CR-56, CP45X, FD-3 manufactured by FUJIFILM Corporation. Developers such as C-41, E-6, RA-4, D-19, and D-72 manufactured by KODAK, Papitol, or a developer included in the kit, and a lith developer such as D-85 Can be used. The fixing process is performed for the purpose of removing and stabilizing the silver salt in the unexposed part.

本実施形態では、感光ウエブ12のハロゲン化銀乳剤層の表面に保護層が設けられていない。また、感光ウエブ12を搬送するときの張力は、3N/m以上、150N/m以下とすることが好ましい。張力を3N/m未満にすると、支持ローラ14、34等が回転しなくなり、フィルムに傷がつく場合がある。また150N/mを超えると、感光ウエブ12に皺が発生して液中ターンバー表面にフィルムが接触して現像銀画像に傷をつける場合がある。   In this embodiment, a protective layer is not provided on the surface of the silver halide emulsion layer of the photosensitive web 12. Further, the tension when the photosensitive web 12 is conveyed is preferably 3 N / m or more and 150 N / m or less. If the tension is less than 3 N / m, the support rollers 14, 34, etc. will not rotate, and the film may be damaged. On the other hand, if it exceeds 150 N / m, wrinkles may occur on the photosensitive web 12, and the film may come into contact with the surface of the turnbar in the liquid and damage the developed silver image.

次に、本実施形態の導電性材料の処理方法が適用される処理装置10の作用について説明する。   Next, the operation of the processing apparatus 10 to which the conductive material processing method of the present embodiment is applied will be described.

処理装置10では、複数の支持ローラ14、32、34と液中ターンバー30、38、40、42、44等によって、感光ウエブ12が現像処理槽16、現像停止処理槽18、定着槽20、第1水洗槽22、第2水洗槽24内を搬送される。これにより、感光ウエブ12に現像、現像停止、定着、洗浄の各処理が行われる。そして、感光ウエブ12を乾燥装置26により乾燥させることで、細線メッシュ状の現像銀画像(導電膜)が形成された感光ウエブ12(導電性材料)が得られる。処理装置10により処理されて得られた感光ウエブ12は、透光性電磁波シールド膜に好適に使用できる。すなわち、処理装置10により感光ウエブ12を処理して発現された細線メッシュ状の銀パターンに、Cu、Agなどのめっき処理によって金属を所定量付与することで、透光性電磁波シールド膜が形成される。   In the processing apparatus 10, the photosensitive web 12 is developed into a development processing tank 16, a development stop processing tank 18, a fixing tank 20, a first tank by a plurality of support rollers 14, 32, 34 and submerged turn bars 30, 38, 40, 42, 44. The inside of the 1 water washing tank 22 and the 2nd water washing tank 24 is conveyed. As a result, each process of development, development stop, fixing, and washing is performed on the photosensitive web 12. Then, the photosensitive web 12 is dried by the drying device 26 to obtain the photosensitive web 12 (conductive material) on which a fine-line mesh-shaped developed silver image (conductive film) is formed. The photosensitive web 12 obtained by processing by the processing apparatus 10 can be suitably used for a light-transmitting electromagnetic wave shielding film. That is, a light-transmitting electromagnetic wave shielding film is formed by applying a predetermined amount of metal to a thin-line mesh silver pattern expressed by processing the photosensitive web 12 by the processing apparatus 10 by plating treatment of Cu, Ag or the like. The

この処理装置10では、現像処理槽16内で感光ウエブ12が3本の液中ターンバー30によって非接触で搬送されるので、感光ウエブ12の表面のハロゲン化銀乳剤層にキズが発生することを抑制することができる。また、感光ウエブ12の裏面と液中ターンバー30とが非接触であるので、感光ウエブ12の裏面にキズが発生することを抑制することができる。   In this processing apparatus 10, since the photosensitive web 12 is conveyed in a non-contact manner by the three submerged turn bars 30 in the development processing tank 16, scratches are generated in the silver halide emulsion layer on the surface of the photosensitive web 12. Can be suppressed. Moreover, since the back surface of the photosensitive web 12 and the submerged turn bar 30 are not in contact with each other, it is possible to suppress the generation of scratches on the back surface of the photosensitive web 12.

また、現像処理槽16内の3本の液中ターンバー30の上流側と下流側のそれぞれの部位に、感光ウエブ12の両面に現像液16Aを吹き付ける複数の吹き付け装置50が設けられており、吹き付け装置50の複数のノズル50Aから感光ウエブ12の両面に現像液16Aが吹き付けられる。これにより、感光ウエブ12の両面近傍の現像液16Aが撹乱され、感光ウエブ12の両面近傍に同じ現像液16Aが滞留することが抑制される。特に感光ウエブ12の表面のハロゲン化銀乳剤層近傍が撹乱されることにより、ハロゲン化銀乳剤層の液境膜が破壊されると共に、感光ウエブ12の表面のハロゲン化銀乳剤層近傍に同じ現像液16Aが滞留することが抑制される。このため、感光ウエブ12の現像反応が促進され、現像ムラの発生を抑制することができる。従って、感光ウエブ12を現像液16A中で4m/分以上、特に8m/分以上の比較的高速で搬送しても、現像ムラの発生を抑制することができる。   Also, a plurality of spraying devices 50 for spraying the developer 16A on both surfaces of the photosensitive web 12 are provided at the upstream and downstream portions of the three submerged turn bars 30 in the developing tank 16, respectively. The developer 16 </ b> A is sprayed on both surfaces of the photosensitive web 12 from the plurality of nozzles 50 </ b> A of the apparatus 50. Thereby, the developer 16A in the vicinity of both surfaces of the photosensitive web 12 is disturbed, and the same developer 16A is suppressed from staying in the vicinity of both surfaces of the photosensitive web 12. Particularly, when the vicinity of the silver halide emulsion layer on the surface of the photosensitive web 12 is disturbed, the liquid boundary film of the silver halide emulsion layer is destroyed, and the same development is performed in the vicinity of the silver halide emulsion layer on the surface of the photosensitive web 12. The retention of the liquid 16A is suppressed. For this reason, the development reaction of the photosensitive web 12 is promoted, and the occurrence of development unevenness can be suppressed. Therefore, even when the photosensitive web 12 is conveyed in the developer 16A at a relatively high speed of 4 m / min or more, particularly 8 m / min or more, the occurrence of development unevenness can be suppressed.

また、感光ウエブ12は、ハロゲン化銀乳剤層の表面に保護層が設けられていない。ハロゲン化銀乳剤層の表面に実質的に保護層を設けない場合には、感光ウエブ12のハロゲン化銀乳剤層はウエット状態で軟膜のため、ハロゲン化銀乳剤層にキズが付きやすい。しかし、処理装置10では、表面に保護層を全く設けない感光ウエブ12、又は保護層の厚みが極めて薄い(例えば、保護層の厚みが0.5μm以下の)感光ウエブでも、ハロゲン化銀乳剤層のキズの発生を抑制することができる。   The photosensitive web 12 is not provided with a protective layer on the surface of the silver halide emulsion layer. In the case where a protective layer is not substantially provided on the surface of the silver halide emulsion layer, the silver halide emulsion layer of the photosensitive web 12 is a soft film in a wet state, so that the silver halide emulsion layer is easily scratched. However, in the processing apparatus 10, even if the photosensitive web 12 has no protective layer on the surface or the photosensitive layer has a very thin thickness (for example, the protective layer has a thickness of 0.5 μm or less), the silver halide emulsion layer The generation of scratches can be suppressed.

もともと一般的な写真感光材料であれば、現像処理後にめっき等をすることがないので1対の搬送ローラによる搬送に耐えうるような十分な保護層を乳剤面上に設けることができるので、本発明の処理装置10を用いる必要はなかった。現像後にめっきをかけるためには現像後に銀線が表面に出ている必要があるので、ハロゲン化銀乳剤層に保護層が設けられなくなり、本発明の処理装置10のように感光ウエブ12のハロゲン化銀乳剤層に非接触で現像処理を行うことが必要になった。   Since a general photographic photosensitive material is not subjected to plating after development processing, a sufficient protective layer that can withstand conveyance by a pair of conveyance rollers can be provided on the emulsion surface. It was not necessary to use the processing apparatus 10 of the invention. In order to apply plating after development, it is necessary that the silver wire is exposed on the surface after development. Therefore, a protective layer is not provided on the silver halide emulsion layer, and the halogen of the photosensitive web 12 as in the processing apparatus 10 of the present invention. It was necessary to perform development processing in a non-contact manner on the silver halide emulsion layer.

また、処理装置10では、現像処理槽16と定着槽20との間に、停止液18Aが貯留された現像停止処理槽18が配置されており、現像処理槽16を出た感光ウエブ12は、現像停止処理槽18内に搬送され、現像停止処理が行われる。   Further, in the processing apparatus 10, a development stop processing tank 18 in which a stop solution 18 </ b> A is stored is disposed between the development processing tank 16 and the fixing tank 20, and the photosensitive web 12 exiting the development processing tank 16 is It is transported into the development stop processing tank 18 and development stop processing is performed.

現像処理槽16と定着槽20との間に現像停止処理槽18を設けない場合、現像後の定着初期又は現像後の定着槽入口でのスクイズ部において、現像の局部暴走(溶解物理現象の1種)により銀線エッジ部のにじみ、ギザギザ、樹状の銀析出(黒ジミ)、スジムラが発生しやすい。これらの銀線エッジ部のにじみ、ギザギザ等の欠陥は現像後透過光で見ていてもよく判らないが、透明導電性膜前駆体(めっき前の現像済み品)をめっきすると、上記の銀線エッジ部の欠陥がめっきで増幅され透過でも見えるようになる。PDP(プラズマディスプレイパネル)の電磁波シールドフィルムとするには、透過で目視可能なムラは故障となる。特に、保護層がない感光ウエブにおいては、現像の局部暴走が顕著に発現し、搬送速度が上がるとスクイズしきれず同伴する現像液が増えるので、ムラもひどくなる傾向がある。   In the case where the development stop processing tank 18 is not provided between the development processing tank 16 and the fixing tank 20, local runaway of development (1 of dissolution physics phenomenon) in the squeeze part at the initial stage of fixing after development or at the inlet of the fixing tank after development. Depending on the seed, bleeding of the edge of the silver wire, jaggedness, dendritic silver deposition (black spots), and uneven stripes are likely to occur. Blemish and jagged defects on these silver wire edges can be seen with the transmitted light after development, but when the transparent conductive film precursor (developed product before plating) is plated, the above silver wire Edge defects are amplified by plating and can be seen through. In order to obtain an electromagnetic wave shielding film for a PDP (plasma display panel), unevenness that is visible through transmission becomes a failure. In particular, in a photosensitive web without a protective layer, local runaway of development develops remarkably, and as the transport speed increases, the developer that can be squeezed and increases, the unevenness tends to become severe.

本実施形態の処理装置10では、現像処理槽16を出た感光ウエブ12は、現像停止処理槽18内に搬送され、現像停止処理が行われることにより、現像の局部暴走、すなわち現像液中に微少量溶け込んでいるハロゲン化銀が定着液と接触し、現像液中の銀が感光ウエブ12の銀線上に局部的に析出する現象を抑制できる。このため、感光ウエブ12の銀線エッジ部のにじみ、ギザギザ等の欠陥の発生を抑制することができ、滑らかな銀線エッジ部を得ることができる。   In the processing apparatus 10 of the present embodiment, the photosensitive web 12 exiting the development processing tank 16 is conveyed into the development stop processing tank 18 and subjected to the development stop processing, thereby causing local runaway of development, that is, in the developer. It is possible to suppress the phenomenon that the silver halide dissolved in a minute amount comes into contact with the fixing solution, and the silver in the developer is locally deposited on the silver wire of the photosensitive web 12. For this reason, it is possible to suppress the occurrence of defects such as bleeding and jaggedness of the silver wire edge portion of the photosensitive web 12, and a smooth silver wire edge portion can be obtained.

次に、本発明の処理装置の他の実施形態について説明する。   Next, another embodiment of the processing apparatus of the present invention will be described.

図2には、本発明の第2実施形態の処理装置で用いられる現像処理槽60が示されている。なお、第1実施形態と同一の部材には同じ符号を付与し、重複する説明は省略する。図2に示されるように、現像処理槽60内には、下方側の2本の液中ターンバー62と、上方側の2本の支持ローラ64とが略千鳥状に配置されている。液中ターンバー62と近接対向する位置には、感光ウエブ12の搬送方向における上流側と下流側に、感光ウエブ12の裏面側で感光ウエブ12をガイドするガイドローラ65が配設されている。また、感光ウエブ12の搬送方向における2本の液中ターンバー62の上流側と下流側には、感光ウエブ12の表面に現像液16Aを吹き付ける複数の吹き付け装置50が配設されている。また、感光ウエブ12を挟んで複数の吹き付け装置50とそれぞれ対向する位置には、感光ウエブ12の裏面側で感光ウエブ12をガイドする複数のガイドローラ66が配設されている。   FIG. 2 shows a development processing tank 60 used in the processing apparatus according to the second embodiment of the present invention. In addition, the same code | symbol is provided to the member same as 1st Embodiment, and the overlapping description is abbreviate | omitted. As shown in FIG. 2, in the developing tank 60, two lower liquid turn bars 62 and two upper support rollers 64 are arranged in a staggered pattern. Guide rollers 65 for guiding the photosensitive web 12 on the back side of the photosensitive web 12 are disposed at positions upstream and downstream in the conveying direction of the photosensitive web 12 at positions close to the submerged turn bar 62. A plurality of spraying devices 50 that spray the developer 16 </ b> A onto the surface of the photosensitive web 12 are disposed on the upstream side and the downstream side of the two submerged turn bars 62 in the conveying direction of the photosensitive web 12. Further, a plurality of guide rollers 66 for guiding the photosensitive web 12 on the back side of the photosensitive web 12 are disposed at positions facing the plurality of spraying devices 50 with the photosensitive web 12 interposed therebetween.

図3に示されるように、吹き付け装置50は、円筒状部材の周面に軸方向に沿って4本のノズル50Aが設けられており、ノズル50Aから現像液16Aが感光ウエブ12の表面に吹き付けられる。ノズル50Aから感光ウエブ12の表面に吹き付けられた現像液16Aは、図3中の矢印に示すように感光ウエブ12の表面の上下方向に流れる。図2に示されるように、現像処理槽60には、現像処理槽60内の現像液16Aが導入されるチューブ68が設けられており、チューブ68はポンプ70を介して液中ターンバー62に接続されている。液中ターンバー62は、円筒状部材からなり、周面に軸方向に沿って複数のスリットを備えている。ポンプ70によってチューブ68を通って液中ターンバー62に導入された現像液16Aは、図2中の矢印に示すように複数のスリットから現像処理槽60内に噴射される。これにより、液中ターンバー62に対して感光ウエブ12が浮揚し、感光ウエブ12のハロゲン化銀乳剤層が非接触となるように支持された状態で方向転換される。また、現像処理槽60の出口には、現像処理槽60の上部に支持ローラ14が配置されており、支持ローラ14と感光ウエブ12を挟んで対向する位置には押圧ローラ72が配設されている。   As shown in FIG. 3, the spraying device 50 is provided with four nozzles 50 </ b> A along the axial direction on the circumferential surface of the cylindrical member, and the developer 16 </ b> A sprays the surface of the photosensitive web 12 from the nozzles 50 </ b> A. It is done. The developer 16A sprayed from the nozzle 50A onto the surface of the photosensitive web 12 flows in the vertical direction on the surface of the photosensitive web 12 as shown by the arrows in FIG. As shown in FIG. 2, the developing tank 60 is provided with a tube 68 into which the developing solution 16 </ b> A in the developing tank 60 is introduced, and the tube 68 is connected to the submerged turn bar 62 through a pump 70. Has been. The submerged turn bar 62 is made of a cylindrical member, and includes a plurality of slits along the axial direction on the circumferential surface. The developer 16A introduced into the submerged turn bar 62 through the tube 68 by the pump 70 is jetted into the developing tank 60 from a plurality of slits as indicated by arrows in FIG. As a result, the photosensitive web 12 floats with respect to the submerged turn bar 62, and the direction is changed while the silver halide emulsion layer of the photosensitive web 12 is supported in a non-contact manner. Further, a support roller 14 is disposed at the top of the development processing tank 60 at the outlet of the development processing tank 60, and a pressing roller 72 is disposed at a position facing the support roller 14 with the photosensitive web 12 interposed therebetween. Yes.

このような現像処理槽16では、感光ウエブ12の表面が2本の液中ターンバー30によって非接触で搬送されるので、感光ウエブ12の表面のハロゲン化銀乳剤層にキズが発生することを抑制することができる。また、現像処理槽16内の2本の液中ターンバー30の上流側と下流側に、感光ウエブ12の表面に現像液16Aを吹き付ける複数の吹き付け装置50が設けられており、感光ウエブ12の裏面がガイドローラ66でガイドされた状態で、吹き付け装置50の複数のノズル50Aから感光ウエブ12の表面に現像液16Aが吹き付けられる。これにより、感光ウエブ12の表面のハロゲン化銀乳剤層近傍が撹乱され、ハロゲン化銀乳剤層の液境膜が破壊されると共に、感光ウエブ12の表面近傍に同じ現像液16Aが滞留することが抑制される。このため、現像反応が促進され、現像ムラの発生を抑制することができる。従って、感光ウエブ12を現像液16A中で4m/分以上、特に8m/分以上の比較的高速で搬送しても、現像ムラの発生を抑制することができる。   In such a development processing tank 16, since the surface of the photosensitive web 12 is conveyed in a non-contact manner by the two submerged turn bars 30, the generation of scratches on the silver halide emulsion layer on the surface of the photosensitive web 12 is suppressed. can do. In addition, a plurality of spraying devices 50 for spraying the developer 16 </ b> A onto the surface of the photosensitive web 12 are provided on the upstream side and the downstream side of the two submerged turn bars 30 in the development processing tank 16. Is guided to the surface of the photosensitive web 12 from the plurality of nozzles 50A of the spraying device 50 in a state where the developer 16A is guided by the guide roller 66. As a result, the vicinity of the silver halide emulsion layer on the surface of the photosensitive web 12 is disturbed, the liquid boundary film of the silver halide emulsion layer is destroyed, and the same developer 16A stays in the vicinity of the surface of the photosensitive web 12. It is suppressed. For this reason, the development reaction is promoted, and the occurrence of development unevenness can be suppressed. Therefore, even when the photosensitive web 12 is conveyed in the developer 16A at a relatively high speed of 4 m / min or more, particularly 8 m / min or more, the occurrence of development unevenness can be suppressed.

図4には、本発明の第3実施形態の処理装置で用いられる撹乱手段としてのブレードが示されている。なお、第1実施形態及び第2実施形態と同一の部材には同じ符号を付与し、重複する説明は省略する。図4に示されるように、感光ウエブ12の表面と対向する位置には、支持体82に支持されたブレード80が配設されている。ブレード80は、弾性変形可能な薄板状の部材で形成されている。図4(A)に示されるように、感光ウエブ12が静止しているときは、ブレード80の先端部80Aは感光ウエブ12の表面に接触している。図4(B)に示されるように、感光ウエブ12が矢印方向に搬送されると、現像液の流れによりブレード80が弾性変形して先端部80Aが感光ウエブ12の表面から離れる。これにより、ブレード80の先端部80Aが感光ウエブ12の表面に所定の間隔で対向した状態となる。   FIG. 4 shows a blade as disturbance means used in the processing apparatus according to the third embodiment of the present invention. In addition, the same code | symbol is provided to the member same as 1st Embodiment and 2nd Embodiment, and the overlapping description is abbreviate | omitted. As shown in FIG. 4, a blade 80 supported by a support 82 is disposed at a position facing the surface of the photosensitive web 12. The blade 80 is formed of a thin plate member that can be elastically deformed. As shown in FIG. 4A, when the photosensitive web 12 is stationary, the tip 80A of the blade 80 is in contact with the surface of the photosensitive web 12. As shown in FIG. 4B, when the photosensitive web 12 is conveyed in the direction of the arrow, the blade 80 is elastically deformed by the flow of the developer, and the tip 80A is separated from the surface of the photosensitive web 12. As a result, the tip 80A of the blade 80 is in a state of facing the surface of the photosensitive web 12 at a predetermined interval.

本実施形態では、ブレード80として、厚さが0.5mm、長さが20mmのウレタンブレードを用いる。また、ブレード80の硬度(JISA硬度)は50〜90度である。また本実施形態では、感光ウエブ12を搬送したときに、ブレード80の先端部80Aと感光ウエブ12との間隔が0.1〜0.5mmとなるように調整している。   In this embodiment, a urethane blade having a thickness of 0.5 mm and a length of 20 mm is used as the blade 80. Further, the blade 80 has a hardness (JISA hardness) of 50 to 90 degrees. In the present embodiment, when the photosensitive web 12 is conveyed, the distance between the tip 80A of the blade 80 and the photosensitive web 12 is adjusted to 0.1 to 0.5 mm.

このようなブレード80では、図4(B)に示されるように、感光ウエブ12が矢印方向に搬送されると、現像液の流れによりブレード80の先端部80Aが感光ウエブ12の表面に所定の間隔で対向した状態となる。このブレード80の先端部80Aにより、感光ウエブ12の表面のハロゲン化銀乳剤層近傍の現像液が撹乱され、ハロゲン化銀乳剤層の液境膜が破壊されると共に、感光ウエブ12の表面近傍に同じ現像液が滞留することが抑制される。このため、現像反応が促進され、現像ムラの発生を抑制することができる。従って、感光ウエブ12を現像液16A中で4m/分以上、特に8m/分以上の比較的高速で搬送しても、現像ムラの発生を抑制することができる。   In such a blade 80, as shown in FIG. 4B, when the photosensitive web 12 is conveyed in the direction of the arrow, the tip 80A of the blade 80 is formed on the surface of the photosensitive web 12 by a flow of the developer. It will be in the state which opposed at intervals. The tip 80A of the blade 80 disturbs the developer near the silver halide emulsion layer on the surface of the photosensitive web 12, destroys the liquid boundary film of the silver halide emulsion layer, and closes the surface of the photosensitive web 12 to the vicinity. It is suppressed that the same developing solution stays. For this reason, the development reaction is promoted, and the occurrence of development unevenness can be suppressed. Therefore, even when the photosensitive web 12 is conveyed in the developer 16A at a relatively high speed of 4 m / min or more, particularly 8 m / min or more, the occurrence of development unevenness can be suppressed.

また、ブレード80に代えて、感光ウエブ12の表面に所定の間隔をおいて対向するように、剛性を有する板状の邪魔板(板状体)を固定支持してもよい。このとき、邪魔板と感光ウエブ12との間隔は、0.1〜0.5mmに設定することが好ましい。剛性を有する邪魔板を設けた場合でも、感光ウエブ12の表面のハロゲン化銀乳剤層近傍の現像液が邪魔板によって撹乱され、ハロゲン化銀乳剤層の液境膜が破壊されると共に、感光ウエブ12の表面近傍に同じ現像液が滞留することが抑制される。このため、現像ムラの発生を抑制することができる。   Further, instead of the blade 80, a rigid plate-like baffle plate (plate-like body) may be fixedly supported so as to face the surface of the photosensitive web 12 at a predetermined interval. At this time, the distance between the baffle plate and the photosensitive web 12 is preferably set to 0.1 to 0.5 mm. Even when a baffle plate having rigidity is provided, the developer in the vicinity of the silver halide emulsion layer on the surface of the photosensitive web 12 is disturbed by the baffle plate, and the liquid boundary film of the silver halide emulsion layer is destroyed. It is suppressed that the same developing solution stays in the vicinity of the surface of 12. For this reason, the occurrence of development unevenness can be suppressed.

図5には、本発明の第4実施形態の処理装置で用いられる撹乱手段としてのローラが示されている。なお、第1〜第3実施形態と同一の部材には同じ符号を付与し、重複する説明は省略する。図5に示されるように、感光ウエブ12の表面と対向する位置にはローラ90が配設されている。ローラ90は、軸方向に沿って感光ウエブ12の表面と所定の間隔で対向する円柱状のローラ部90Aと、ローラ部90Aの両端部にローラ部90Aより半径が大きい円形状のフランジ部90Bと、を備えている。フランジ部90Bは、感光ウエブ12の幅方向両側でガイドローラ66の周面の両端部と接触するように配置されており、このフランジ部90Bによりローラ部90Aと感光ウエブ12の表面とが所定の間隔で対向した状態となる。ローラ部90Aと感光ウエブ12との間隔は、0.1〜0.5mmに設定されている。   FIG. 5 shows a roller as disturbance means used in the processing apparatus according to the fourth embodiment of the present invention. In addition, the same code | symbol is provided to the member same as 1st-3rd embodiment, and the overlapping description is abbreviate | omitted. As shown in FIG. 5, a roller 90 is disposed at a position facing the surface of the photosensitive web 12. The roller 90 includes a cylindrical roller portion 90A facing the surface of the photosensitive web 12 at a predetermined interval along the axial direction, and a circular flange portion 90B having a larger radius than the roller portion 90A at both ends of the roller portion 90A. It is equipped with. The flange portion 90B is disposed so as to come into contact with both end portions of the circumferential surface of the guide roller 66 on both sides in the width direction of the photosensitive web 12, and the roller portion 90A and the surface of the photosensitive web 12 are predetermined by the flange portion 90B. It will be in the state which opposed at intervals. The interval between the roller portion 90A and the photosensitive web 12 is set to 0.1 to 0.5 mm.

このようなローラ90では、ローラ部90Aが感光ウエブ12の表面に所定の間隔で対向しているので、ローラ部90Aにより、感光ウエブ12の表面のハロゲン化銀乳剤層近傍の現像液が撹乱され、ハロゲン化銀乳剤層の液境膜が破壊されると共に、感光ウエブ12の表面近傍に同じ現像剤が滞留することが抑制される。このため、現像反応が促進され、現像ムラの発生を抑制することができる。従って、感光ウエブ12を現像液中で4m/分以上、特に8m/分以上の比較的高速で搬送しても、現像ムラの発生を抑制することができる。   In such a roller 90, since the roller portion 90A faces the surface of the photosensitive web 12 at a predetermined interval, the developing solution near the silver halide emulsion layer on the surface of the photosensitive web 12 is disturbed by the roller portion 90A. In addition, the liquid boundary film of the silver halide emulsion layer is destroyed, and the same developer is prevented from staying in the vicinity of the surface of the photosensitive web 12. For this reason, the development reaction is promoted, and the occurrence of development unevenness can be suppressed. Therefore, even if the photosensitive web 12 is transported in the developer at a relatively high speed of 4 m / min or more, particularly 8 m / min or more, development unevenness can be suppressed.

次に、処理装置10を用いて、感光ウエブ12の現像ムラとハロゲン化銀乳剤層のキズの状態を調べる実験を行った。   Next, using the processing apparatus 10, an experiment was conducted to examine the development unevenness of the photosensitive web 12 and the scratch state of the silver halide emulsion layer.

吹き付け装置50は、ノズル50Aからの現像液の吹き付け量を5〜10l/min×4本に設定し、ノズル50Aのサイズは、幅が0.5mm、長さが180mmに設定した。また、ノズル50Aと感光ウエブ12との間隔を3〜5mmに設定した。ブレード80は、厚さが0.5mm、長さが20mmのウレタンブレードを用い、ブレード80の硬度(JISA硬度)は50〜90度に設定した。また、邪魔板とローラ90は、感光ウエブ12との間隔を0.1〜0.5mmに設定した。この条件にて、感光ウエブ12の現像処理を行い感光ウエブ12の現像ムラとハロゲン化銀乳剤層のキズの発生状態を調べた。また、感光ウエブ12は、ハロゲン化銀乳剤層の表面に保護層を設けないものを用いた。この実験の結果を表1に示す。表1では、極めて良好な場合を◎、良好な場合を○、キズ又は現像ムラが少量認められた場合を△として評価した。   In the spraying device 50, the amount of developer sprayed from the nozzle 50A was set to 5 to 10 l / min × 4, and the size of the nozzle 50A was set to 0.5 mm in width and 180 mm in length. The interval between the nozzle 50A and the photosensitive web 12 was set to 3 to 5 mm. As the blade 80, a urethane blade having a thickness of 0.5 mm and a length of 20 mm was used, and the hardness (JISA hardness) of the blade 80 was set to 50 to 90 degrees. The distance between the baffle plate and the roller 90 was set to 0.1 to 0.5 mm between the photosensitive web 12. Under this condition, the development of the photosensitive web 12 was carried out to examine the development unevenness of the photosensitive web 12 and the occurrence of scratches in the silver halide emulsion layer. The photosensitive web 12 used was a silver halide emulsion layer having no protective layer on the surface. The results of this experiment are shown in Table 1. In Table 1, the case of very good was evaluated as ◎, the case of good was evaluated as ◯, and the case where a small amount of scratches or development unevenness was observed was evaluated as △.

Figure 2009080416

表1に示されるように、吹き付け装置50では、感光ウエブ12の現像ムラ、キズともに極めて良好であることが確認された。また、ブレード80では、感光ウエブ12の現像ムラ、キズともにほぼ良好であることが確認された。さらに、邪魔板、ローラ90では、感光ウエブ12の現像ムラは良好であるが、キズが少量発生することがわかった。従って、本発明の撹乱手段によれば、感光ウエブ12の現像ムラを抑制できると共に、ハロゲン化銀乳剤層のキズの発生を低減できることがわかった。
Figure 2009080416

As shown in Table 1, in the spraying device 50, it was confirmed that both development unevenness and scratches on the photosensitive web 12 were extremely good. In addition, it was confirmed that in the blade 80, both development unevenness and scratches on the photosensitive web 12 were almost satisfactory. Further, it was found that the baffle plate and the roller 90 have good development unevenness on the photosensitive web 12, but a small amount of scratches occurred. Therefore, it has been found that according to the disturbing means of the present invention, the uneven development of the photosensitive web 12 can be suppressed and the generation of scratches in the silver halide emulsion layer can be reduced.

次に、感光ウエブ12について説明する。感光ウエブ12は、例えば、光透過性支持体上に銀塩が含有した銀塩含有層(本実施形態では、ハロゲン化銀乳剤層)を設けた、感光材料からなる長尺幅広フレキシブル基材である。また、本実施形態では、銀塩含有層上には実質的に保護層が設けられていないが、銀塩含有層上には保護層が設けられていてもよく、この保護層とは例えばゼラチンや高分子ポリマーといったバインダーからなる層を意味し、擦り傷防止や力学特性を改良する効果を発現するために銀塩含有層上に形成される。保護層の厚みは0.02〜20μmであることが好ましく、より好ましくは0.1〜10μmであり、さらに好ましくは0.3〜3μmである。   Next, the photosensitive web 12 will be described. The photosensitive web 12 is, for example, a long and wide flexible base material made of a photosensitive material provided with a silver salt-containing layer (in this embodiment, a silver halide emulsion layer) containing a silver salt on a light-transmitting support. is there. In this embodiment, a protective layer is not substantially provided on the silver salt-containing layer. However, a protective layer may be provided on the silver salt-containing layer. And a layer made of a binder such as a polymer, and is formed on the silver salt-containing layer in order to exhibit the effects of preventing scratches and improving mechanical properties. It is preferable that the thickness of a protective layer is 0.02-20 micrometers, More preferably, it is 0.1-10 micrometers, More preferably, it is 0.3-3 micrometers.

これらの銀塩含有層や保護層の組成などは、銀塩写真フィルム、印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に適用されるハロゲン化銀乳剤層(銀塩含有層)や保護層を適宜適用することができる。   The composition of these silver salt-containing layers and protective layers includes silver halide emulsion layers (silver salt-containing layers) and protective layers applied to silver salt photographic films, photographic paper, printing plate-making films, emulsion masks for photomasks, etc. Layers can be applied as appropriate.

特に、感光ウエブ12(感光材料)としては、銀塩写真フィルム(銀塩感光材料)が好ましく、白黒銀塩写真フィルム(白黒銀塩感光材料)が最もよい。また、銀塩含有層に適用する銀塩としては、特にハロゲン化銀が最も好適である。   In particular, as the photosensitive web 12 (photosensitive material), a silver salt photographic film (silver salt photosensitive material) is preferable, and a black and white silver salt photographic film (black and white silver salt photosensitive material) is the best. The silver salt applied to the silver salt-containing layer is most preferably silver halide.

一方、光透過性支持体としては、単層のプラスチックフィルムや、これを2層以上組み合わせた多層フィルムを適用することができる。プラスチックフィルムの原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、及びポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類;ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリスチレン、EVAなどのポリオレフィン類;ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂;その他、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリサルホン(PSF)、ポリエーテルサルホン(PES)、ポリカーボネート(PC)、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース(TAC)などを用いることができる。   On the other hand, as the light-transmitting support, a single-layer plastic film or a multilayer film in which two or more layers are combined can be applied. Examples of the raw material for the plastic film include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate; polyolefins such as polyethylene (PE), polypropylene (PP), polystyrene, and EVA; polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, and the like. In addition, use polyetheretherketone (PEEK), polysulfone (PSF), polyethersulfone (PES), polycarbonate (PC), polyamide, polyimide, acrylic resin, triacetylcellulose (TAC), etc. Can do.

これらの中でも、透明性、耐熱性、取り扱いやすさ及び価格の点から、支持体としてのプラスチックフィルムは、銀塩写真フィルム(銀塩感光材料)に通常適用されるポリエチレンテレフタレートフィルムやセルロールトリアセテートフィルム、また、その他、ポリイミドフィルムであることが好ましい。特に、ポリエチレンテレフタレートフィルムであることが最も好ましい。   Among these, from the viewpoint of transparency, heat resistance, ease of handling, and cost, the plastic film as the support is a polyethylene terephthalate film or cellulose triacetate film that is usually applied to silver salt photographic films (silver salt photosensitive materials). In addition, a polyimide film is preferable. Particularly preferred is a polyethylene terephthalate film.

また、ディスプレイ用の電磁波遮蔽材では透明性が要求されるため、支持体の透明性は高いことが望ましい。この場合における光透過性支持体の全可視光透過率は70〜100%が好ましく、さらに好ましくは85〜100%であり、特に好ましくは90〜100%である。   Moreover, since the electromagnetic shielding material for displays requires transparency, it is desirable that the support has high transparency. In this case, the total visible light transmittance of the light transmissive support is preferably 70 to 100%, more preferably 85 to 100%, and particularly preferably 90 to 100%.

感光ウエブ12の幅は、例えば、50cm以上とし、厚みは50〜200μmとすることがよい。   The width of the photosensitive web 12 is, for example, 50 cm or more, and the thickness is preferably 50 to 200 μm.

なお、本実施形態では、光透過性電磁波遮蔽材料を製造する装置及び製造方法について説明したが、これに限られず、例えば、その他工業品などの微細な導電性金属部からなる細線状パターンを有する光透過性導電性材料の製造装置及び製造方法としても適用することができる。   In addition, although this embodiment demonstrated the apparatus and manufacturing method which manufacture a light-transmitting electromagnetic wave shielding material, it is not restricted to this, For example, it has a fine line pattern which consists of fine electroconductive metal parts, such as other industrial goods The present invention can also be applied as a manufacturing apparatus and a manufacturing method of a light transmissive conductive material.

本発明の第1実施形態における導電性材料の処理方法が適用された導電性材料の処理装置を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the processing apparatus of the electroconductive material to which the processing method of the electroconductive material in 1st Embodiment of this invention was applied. 本発明の第2実施形態における導電性材料の処理装置に用いられる現像処理槽を示す構成図である。It is a block diagram which shows the image development processing tank used for the processing apparatus of the electroconductive material in 2nd Embodiment of this invention. 図2に示される吹き付け装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the spraying apparatus shown by FIG. 本発明の第3実施形態における導電性材料の処理装置に用いられるブレードを示す構成図である。It is a block diagram which shows the braid | blade used for the processing apparatus of the electroconductive material in 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態における導電性材料の処理装置に用いられるローラを示す構成図である。It is a block diagram which shows the roller used for the processing apparatus of the electroconductive material in 3rd Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

10 処理装置
12 感光ウエブ(導電性材料前駆体)
16 現像処理槽
16A 現像液
30 液中ターンバー(搬送ガイド部材)
34 エアーナイフ
36 搬送ガイド部材
50 吹き付け装置(撹乱手段)
50A ノズル
60 ガイドローラ
60 現像処理槽
62 液中ターンバー(搬送ガイド部材)
80 ブレード(撹乱手段)
80A 先端部
90 ローラ(撹乱手段)
90A ローラ部(撹乱手段)
10 Processing device 12 Photosensitive web (conductive material precursor)
16 Development tank 16A Developer 30 Submerged turn bar (conveyance guide member)
34 Air knife 36 Conveying guide member 50 Spraying device (disturbing means)
50A Nozzle 60 Guide roller 60 Development processing tank 62 Submerged turn bar (conveyance guide member)
80 blade (disturbing means)
80A tip 90 roller (disturbing means)
90A Roller part (disturbing means)

Claims (9)

支持体上に少なくとも1層の銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理することにより導電性パターンを形成させる導電性材料の現像処理方法であって、
前記導電性材料前駆体を現像処理液中で4m/分〜50m/分の搬送速度で、前記銀塩含有層に搬送ガイド部材が接触しないように搬送し、
前記現像処理液中の少なくとも1箇所以上で前記銀塩含有層近傍の前記現像処理液を撹乱することを特徴とする導電性材料の現像処理方法。
A method of developing a conductive material, wherein a conductive pattern is formed by exposing and developing a conductive material precursor having at least one silver salt-containing layer on a support,
The conductive material precursor is transported in a developing solution at a transport speed of 4 m / min to 50 m / min so that a transport guide member does not contact the silver salt-containing layer,
A developing method for a conductive material, wherein the developing solution in the vicinity of the silver salt-containing layer is disturbed at least at one or more locations in the developing solution.
実質的に表面に保護層を設けない銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理することを特徴とする請求項1に記載の導電性材料の現像処理方法。   2. The method for developing a conductive material according to claim 1, wherein the conductive material precursor having a silver salt-containing layer substantially not provided with a protective layer is exposed and developed. 支持体上に少なくとも1層の銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理することにより導電性パターンを形成させる導電性材料の現像処理装置であって、
現像処理液で満たされた現像処理槽と、
前記導電性材料前駆体を4m/分〜50m/分の搬送速度で搬送する搬送手段と、
前記現像処理槽内に設けられ、前記銀塩含有層に接触しないように前記導電性材料前駆体を搬送させる搬送ガイド部材と、
前記現像処理槽内に設けられ、少なくとも1箇所以上で前記銀塩含有層近傍の前記現像処理液を撹乱する撹乱手段と、
を有することを特徴とする導電性材料の現像処理装置。
A conductive material development processing apparatus for forming a conductive pattern by exposing and developing a conductive material precursor having at least one silver salt-containing layer on a support,
A developing tank filled with a developing solution;
Conveying means for conveying the conductive material precursor at a conveying speed of 4 m / min to 50 m / min;
A conveyance guide member provided in the development processing tank and configured to convey the conductive material precursor so as not to contact the silver salt-containing layer;
Disturbing means provided in the developing processing tank, for disturbing the developing processing solution in the vicinity of the silver salt-containing layer in at least one place,
An apparatus for developing a conductive material, comprising:
前記撹乱手段は、前記銀塩含有層に現像処理液を吹き付けるノズルを備えた吹き付け装置であることを特徴とする請求項3に記載の導電性材料の現像処理装置。   The developing device for a conductive material according to claim 3, wherein the disturbing unit is a spraying device including a nozzle for spraying a developing solution onto the silver salt-containing layer. 前記撹乱手段は、前記導電性材料前駆体の搬送時に前記銀塩含有層と所定の間隔で対向し、弾性変形可能なブレードであることを特徴とする請求項3に記載の導電性材料の現像処理装置。   4. The development of a conductive material according to claim 3, wherein the disturbing means is a blade that is elastically deformable and faces the silver salt-containing layer at a predetermined interval when the conductive material precursor is conveyed. Processing equipment. 前記撹乱手段は、前記銀塩含有層と所定の間隔をおいて固定支持された板状体であることを特徴とする請求項3に記載の導電性材料の現像処理装置。   4. The development processing apparatus for a conductive material according to claim 3, wherein the disturbing means is a plate-like body fixedly supported at a predetermined interval from the silver salt-containing layer. 前記撹乱手段は、前記銀塩含有層と所定の間隔をおいて配置されたローラであることを特徴とする請求項3に記載の導電性材料の現像処理装置。   The developing apparatus for conductive material according to claim 3, wherein the disturbing unit is a roller disposed at a predetermined interval from the silver salt-containing layer. 実質的に表面に保護層を設けない銀塩含有層を有する導電性材料前駆体を露光し、現像処理することを特徴とする請求項3から請求項7までのいずれか1項に記載の導電性材料の現像処理装置。   The conductive material according to any one of claims 3 to 7, wherein the conductive material precursor having a silver salt-containing layer substantially not provided with a protective layer is exposed and developed. Development processing equipment for functional materials. 前記搬送ガイド部材が、前記導電性材料前駆体を現像処理液中で方向転換させる液中ターンバーであることを特徴とする請求項3から請求項8までのいずれか1項に記載の導電性材料の現像処理装置。   The conductive material according to any one of claims 3 to 8, wherein the transport guide member is a submerged turn bar that changes the direction of the conductive material precursor in a developing solution. Development processing equipment.
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