JP5079269B2 - Conveying device and production apparatus for film with plating film - Google Patents

Conveying device and production apparatus for film with plating film Download PDF

Info

Publication number
JP5079269B2
JP5079269B2 JP2006176288A JP2006176288A JP5079269B2 JP 5079269 B2 JP5079269 B2 JP 5079269B2 JP 2006176288 A JP2006176288 A JP 2006176288A JP 2006176288 A JP2006176288 A JP 2006176288A JP 5079269 B2 JP5079269 B2 JP 5079269B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
cylindrical body
plating
roller
tank
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2006176288A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2008007797A (en
Inventor
浩一 齋藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to JP2006176288A priority Critical patent/JP5079269B2/en
Publication of JP2008007797A publication Critical patent/JP2008007797A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5079269B2 publication Critical patent/JP5079269B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、帯状長尺のフィルムを一定方向に搬送する搬送装置及びめっき被膜付きフィルムの製造装置に係り、特に、フィルムを搬送しながらフィルム導電面にめっき被膜を形成する電解めっき浴槽や、フィルムを洗浄する洗浄液槽などの液槽内に液中ローラを備えた搬送装置及びめっき被膜付きフィルムの製造装置に関する。   The present invention relates to a transport device for transporting a strip-like long film in a fixed direction and a manufacturing apparatus for a film with a plating film, and in particular, an electroplating bath or film for forming a plating film on a film conductive surface while transporting a film. The present invention relates to a transport apparatus provided with a submerged roller in a liquid tank such as a cleaning liquid tank for cleaning the film and a manufacturing apparatus for a film with a plating film.

従来、帯状長尺のフィルムに連続的にめっきを行う際には、フィルムを低張力で一定方向に搬送しながら連続的にめっき浴槽を通過させる。   Conventionally, when continuously plating a strip-like long film, the film is continuously passed through the plating bath while being transported in a certain direction with low tension.

このような装置では、めっき浴槽内に配置される液中ローラを外部から力を加えて回転させ、フィルムと液中ローラとのスリップを抑制することが行われている。例えば、特許文献1に記載の装置では、処理浴槽内の液中ローラのフィルムに接触しない部分に羽根を設け、この羽根に液を吹き当てて、液中ローラを回転させている。しかし、羽根に液を吹き当てる構成では、液中ローラの回転速度をフィルムの搬送速度に同期させることは非常に困難であり、また任意の搬送速度への変更に対応することはほとんど無理である。このため、フィルムと液中ローラとのスリップを抑えることができず、フィルム表面に擦り傷が発生してしまう。   In such an apparatus, the submerged roller disposed in the plating bath is rotated by applying a force from the outside to suppress the slip between the film and the submerged roller. For example, in the apparatus described in Patent Document 1, a blade is provided in a portion of the processing bath that does not contact the film of the submerged roller, and the submerged roller is rotated by spraying the vane with the liquid. However, in the configuration in which liquid is sprayed on the blades, it is very difficult to synchronize the rotation speed of the submerged roller with the film conveyance speed, and it is almost impossible to cope with the change to an arbitrary conveyance speed. . For this reason, slip between the film and the submerged roller cannot be suppressed, and scratches are generated on the film surface.

また、特許文献2に記載の装置では、めっき浴槽の外部に設けた駆動装置と液中ローラの軸部とをチェーンで動作結合して液中ローラを回転させている。この装置では、チェーンはめっき浴槽内の処理液中と空中とを往復移動するため、チェーンに付着した処理液は、チェーンを回転させる空中の回転駆動部品類に転写付着し、水分が蒸発して析出物が発生する。このため、駆動装置の動きが安定しなくなると共に、駆動装置の腐食が進み、フィルム(被めっき製品)に析出物が付着したり、また、フィルム表面に傷を発生させる大きな要因となる。
特開平10−147897号公報 特開2000−64089号公報
Moreover, in the apparatus described in Patent Document 2, a driving device provided outside the plating bath and a shaft portion of the submerged roller are operatively coupled by a chain to rotate the submerged roller. In this device, the chain reciprocates between the treatment liquid in the plating bath and the air, so the treatment liquid adhering to the chain is transferred and attached to the rotary drive components in the air that rotate the chain, causing moisture to evaporate. Precipitates are generated. For this reason, the movement of the driving device becomes unstable, the corrosion of the driving device proceeds, and deposits adhere to the film (product to be plated) or become a major factor that causes scratches on the film surface.
JP-A-10-147897 JP 2000-64089 A

本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、低張力でフィルムを搬送させてもフィルム表面に傷が発生することを抑制できる搬送装置及びめっき被膜付きフィルムの製造装置を提供することである。   This invention is made | formed in view of this situation, The objective is the manufacturing apparatus of the conveying apparatus and plating film with a plating film which can suppress that a film | membrane surface generate | occur | produces a damage | wound even if it conveys a film with low tension. Is to provide.

上記課題を解決するために、請求項1に記載の発明に係る搬送装置は、帯状のフィルムを一定方向に搬送する搬送装置であって、液槽内の液中で、一定方向に搬送される前記フィルムと接触して送る液中ローラを備え、前記液中ローラは、前記フィルムと接触する円筒体と、前記液槽に固定支持された軸体と、前記円筒体に固定され前記円筒体の両端部を塞ぐと共に、前記軸体に軸受を介して回転自在に支持される側面体と、を有して構成されており、前記円筒体の両端部に前記円筒体の内部の空気を排出するための複数の開孔が設けられていることを特徴としている。 In order to solve the above-mentioned problem, the transport device according to the first aspect of the present invention is a transport device that transports a belt-shaped film in a certain direction, and is transported in a certain direction in the liquid in the liquid tank. A submerged roller that contacts and feeds the film, the submerged roller comprising: a cylindrical body that is in contact with the film; a shaft that is fixedly supported by the liquid tank; and a cylindrical body that is fixed to the cylindrical body. And a side body that is rotatably supported by the shaft body via a bearing, and exhausts air inside the cylindrical body to both ends of the cylindrical body. For this purpose, a plurality of apertures are provided .

請求項1に記載の発明によれば、液槽内の液中に設けられた液中ローラは、フィルムと接触する円筒体と、液槽に固定支持された軸体と、円筒体に固定され円筒体の両端部を塞ぐと共に、軸体に軸受を介して回転自在に支持される側面体と、を備えている。一定方向に搬送されるフィルムが円筒体に接触すると、円筒体は、軸体に軸受を介して支持された側面体の回転により、フィルムの搬送方向に回転する。円筒体とすることで、重量を軽量化してより少ない力で回転させることができ、低張力でフィルムを搬送させても液中ローラが安定して回転する。これによって、液中ローラの回転速度をフィルムの搬送速度に同期させることが可能となり、フィルムと円筒体とのスリップが抑制され、フィルム表面の傷の発生が抑制される。また、液中ローラの回転速度を任意の搬送速度に変更することが可能であり、搬送速度を変更してもフィルムと円筒体とのスリップが抑制される。また、液中ローラを外部の駆動装置と接続しないので、駆動装置に液が付着して析出物が固着することがなく、液中ローラの回転を安定化させることが可能となる。 According to the first aspect of the present invention, the submerged roller provided in the liquid in the liquid tank is fixed to the cylindrical body that is in contact with the film, the shaft body fixedly supported by the liquid tank, and the cylindrical body. A side body is provided that closes both ends of the cylindrical body and is rotatably supported by the shaft through a bearing. When the film transported in a certain direction comes into contact with the cylindrical body, the cylindrical body rotates in the film transport direction by the rotation of the side body supported by the shaft body via the bearing. By using a cylindrical body, it is possible to reduce the weight and rotate it with less force, and the submerged roller rotates stably even when the film is conveyed with low tension. This makes it possible to synchronize the rotation speed of the submerged roller with the conveyance speed of the film, suppress slippage between the film and the cylindrical body, and suppress the occurrence of scratches on the film surface. Moreover, it is possible to change the rotation speed of the submerged roller to an arbitrary conveyance speed, and even if the conveyance speed is changed, slip between the film and the cylindrical body is suppressed. Further, since the submerged roller is not connected to an external driving device, the liquid does not adhere to the driving device and deposits do not adhere, and the rotation of the submerged roller can be stabilized.

また、円筒体の両端部に円筒体の内部の空気を排出するための複数の開孔が設けられており、液槽内に液中ローラを浸漬したとき、液中ローラの内部の空気が開孔から液槽内に排出され、液中ローラの内部の空気が液槽内の液で置換される。これにより、軸受の隙間から液槽内の液が液中ローラの内部に浸入し、空気層と液層とができて液中ローラの回転が不安定になることが抑制される。 In addition, a plurality of holes for discharging the air inside the cylindrical body are provided at both ends of the cylindrical body, and when the submerged roller is immersed in the liquid tank, the air inside the submerged roller is opened. The liquid is discharged from the hole into the liquid tank, and the air inside the liquid roller is replaced with the liquid in the liquid tank. Thereby, it is suppressed that the liquid in a liquid tank permeates into the inside of a submerged roller from the clearance of a bearing, and an air layer and a liquid layer are made and rotation of a submerged roller becomes unstable.

請求項に記載の発明は、請求項に記載の搬送装置において、前記フィルムと接触する前記円筒体の周面に、スパイラル状の溝が形成されていることを特徴としている。 According to a second aspect of the present invention, there is provided the conveying apparatus according to the first aspect, wherein a spiral groove is formed on a peripheral surface of the cylindrical body that contacts the film.

請求項に記載の発明によれば、フィルムと接触する円筒体の周面にスパイラル状の溝が形成されているので、フィルムの搬送時に表面に同伴された(付着した)液をスパイラル状の溝に沿って円筒体の脇に逃がす流れができ、フィルムと円筒体とが接触する溝の肩部でフィルムの保持力が発生する。これにより、フィルムと液中ローラとのスリップがよりいっそう抑制され、フィルム表面の擦り傷の発生が抑制される。 According to the second aspect of the present invention, since the spiral groove is formed on the peripheral surface of the cylindrical body that comes into contact with the film, the liquid accompanying (attached) to the surface during the transport of the film is removed from the spiral shape. A flow is allowed to escape to the side of the cylinder along the groove, and a film holding force is generated at the shoulder of the groove where the film and the cylinder come into contact. Thereby, the slip between the film and the submerged roller is further suppressed, and the occurrence of scratches on the film surface is suppressed.

請求項に記載の発明は、請求項1又は請求項2に記載の搬送装置において、前記軸体は前記円筒体を貫通していることを特徴としている。 According to a third aspect of the present invention, in the transfer device according to the first or second aspect , the shaft body penetrates the cylindrical body.

請求項に記載の発明によれば、軸体は円筒体を貫通しており、軸体に軸受を介して側面体が支持されている。これによって、液中ローラの構成を簡略化し、コストを低減できる。 According to invention of Claim 3 , the shaft body has penetrated the cylindrical body, and the side body is supported by the shaft body via the bearing. Thereby, the configuration of the submerged roller can be simplified and the cost can be reduced.

請求項に記載の発明は、請求項1から請求項までのいずれか1項に記載の搬送装置において、前記軸受は、樹脂製の転がり軸受、又は滑り軸受であることを特徴としている。 According to a fourth aspect of the present invention, in the conveyance device according to any one of the first to third aspects, the bearing is a resin rolling bearing or a sliding bearing.

請求項に記載の発明によれば、軸受が樹脂製の転がり軸受、又は滑り軸受であり、軸体に軸受を介して支持された側面体及び円筒体をスムーズに回転させることが可能となる。 According to the fourth aspect of the present invention, the bearing is a resin rolling bearing or a sliding bearing, and it is possible to smoothly rotate the side body and the cylindrical body supported by the shaft body via the bearing. .

請求項に記載の発明は、請求項1から請求項までのいずれか1項に記載の搬送装置において、前記軸体における前記軸受の両側には、前記側面体の軸方向の移動を規制する規制板が設けられていることを特徴としている。 According to a fifth aspect of the present invention, in the conveyance device according to any one of the first to fourth aspects, the axial movement of the side body is restricted on both sides of the bearing in the shaft body. It is characterized in that a regulating plate is provided.

請求項に記載の発明によれば、軸体における軸受の両側に規制板が設けられていることで、側面体の軸方向の移動が規制される。 According to the fifth aspect of the present invention, the restriction plate is provided on both sides of the bearing in the shaft body, so that the movement of the side body in the axial direction is restricted.

請求項に記載の発明に係るめっき被膜付きフィルムの製造装置は、帯状のフィルムの導電面をカソード給電ローラに接触させ、前記導電面に電解めっき浴よりめっき被膜を形成する電解めっき浴槽と、前記電解めっき浴槽の下流側で前記フィルムを洗浄する洗浄槽と、前記電解めっき浴槽又は前記洗浄槽に請求項1から請求項までのいずれか1項に記載の搬送装置と、を有することを特徴としている。 An apparatus for producing a film with a plating film according to the invention of claim 6 is an electrolytic plating bath in which a conductive surface of a belt-shaped film is brought into contact with a cathode feeding roller, and a plating film is formed on the conductive surface from an electrolytic plating bath; It has the washing tank which wash | cleans the said film in the downstream of the said electrolytic plating bathtub, and the conveying apparatus of any one of Claim 1 to 5 in the said electrolytic plating bathtub or the said washing tank. It is a feature.

請求項に記載の発明によれば、電解めっき浴槽又は洗浄槽に請求項1から請求項までのいずれか1項に記載の搬送装置が設けられているので、電解めっき浴槽又は洗浄槽の液中に設けられた液中ローラの回転速度をフィルムの搬送速度に同期させることが可能となる。このため、フィルムと円筒体とのスリップが抑制され、フィルム表面の傷の発生が抑制される。また、液中ローラの回転速度を任意の搬送速度に変更することが可能であり、搬送速度を変更してもフィルムと円筒体とのスリップが抑制される。また、液中ローラを外部の駆動装置と接続しないので、駆動装置にめっき液などが付着して析出物が固着することがなく、液中ローラの回転を安定化させることが可能となる。 According to invention of Claim 6 , since the conveying apparatus of any one of Claim 1 to Claim 5 is provided in the electroplating bath or the washing tank, the electroplating bath or the washing tank It becomes possible to synchronize the rotation speed of the submerged roller provided in the liquid with the transport speed of the film. For this reason, the slip of a film and a cylindrical body is suppressed and generation | occurrence | production of the damage | wound of a film surface is suppressed. Moreover, it is possible to change the rotation speed of the submerged roller to an arbitrary conveyance speed, and even if the conveyance speed is changed, slip between the film and the cylindrical body is suppressed. Further, since the submerged roller is not connected to an external driving device, the plating solution or the like does not adhere to the driving device and deposits do not adhere, and the rotation of the submerged roller can be stabilized.

本発明は、上記のように構成したので、帯状のフィルムを低張力で搬送しても、液槽内の液中ローラの回転を安定化させ、液中ローラとフィルムとのスリップを抑制することができ、フィルム表面の傷の発生を抑制することができる。   Since the present invention is configured as described above, even if a belt-like film is conveyed with low tension, the rotation of the submerged roller in the liquid tank is stabilized and slippage between the submerged roller and the film is suppressed. And the occurrence of scratches on the film surface can be suppressed.

本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。なお、実質的に同一の機能を有する部材には全図面を通して同じ符号を付与し、重複する説明は省略する場合がある。   Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, the same code | symbol is provided to the member which has the substantially same function throughout all the drawings, and the overlapping description may be abbreviate | omitted.

図1は、本発明の一実施形態に係る洗浄装置200Aが搭載されためっき被膜付きフィルムの製造装置10を示す概略構成図である。   FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a film-coated film manufacturing apparatus 10 on which a cleaning apparatus 200A according to an embodiment of the present invention is mounted.

このめっき被膜付きフィルムの製造装置10は、図1に示すように、露光装置12、現像装置14、電解めっき装置16、後処理装置17及び巻取装置19から構成されている。   As shown in FIG. 1, the film-coated film manufacturing apparatus 10 includes an exposure device 12, a developing device 14, an electrolytic plating device 16, a post-processing device 17, and a winding device 19.

まず、露光装置12について説明する。露光装置12は、被めっき素材として、銀塩含有層が設けられた帯状の長尺幅広フィルムからなる光透過性感光ウエブ18を搬送しながら、所望の細線状パターン(例えば、格子状、ハニカム状などのパターン)露光を行う装置である。このパターン露光により、感光ウエブ18の銀塩含有層の露光部にはパターン化された細線状の金属銀部が形成される。   First, the exposure apparatus 12 will be described. The exposure apparatus 12 carries a desired thin line pattern (for example, a lattice shape, a honeycomb shape) while conveying a light-transmitting photosensitive web 18 made of a strip-like long wide film provided with a silver salt-containing layer as a material to be plated. Etc.) is a device that performs exposure. By this pattern exposure, a patterned thin metal silver portion is formed in the exposed portion of the silver salt-containing layer of the photosensitive web 18.

露光装置12には、光透過性感光ウエブ18の搬送路に沿って複数の搬送ローラ対20が設けられており、これらの搬送ローラ対20は、駆動ローラとニップローラとから構成される。   The exposure device 12 is provided with a plurality of conveyance roller pairs 20 along the conveyance path of the light-transmissive photosensitive web 18, and these conveyance roller pairs 20 are constituted by drive rollers and nip rollers.

露光装置12には、搬送方向の最上流部に供給部が設けられている。供給部には、ローラ状に巻かれた長尺幅広の光透過性感光ウエブ18を収納するマガジン22がセットされる。光透過性感光ウエブ18には、光透過性感光ウエブ18を引き出して下流側に向けて搬送するための引出ローラ22Aが設けられている。   The exposure apparatus 12 is provided with a supply unit at the most upstream part in the transport direction. A magazine 22 for storing a long and wide light-transmitting photosensitive web 18 wound in a roller shape is set in the supply section. The light transmissive photosensitive web 18 is provided with a drawing roller 22A for pulling out the light transmissive photosensitive web 18 and transporting it toward the downstream side.

そして、供給部からの搬送方向下流側は、露光ユニット24が設けられている。この露光ユニット24により、光透過性感光ウエブ18に露光が行われる。露光ユニット24は、フォトマスクを利用した連続面露光ユニットであってもよく、レーザービームによる走査露光ユニットあってもよい。この走査露光ユニットとしては、ガスレーザー、発光ダイオード、半導体レーザー、半導体レーザー又は半導体レーザーを励起光源に用いた固体レーザーと非線形光学結晶を組合わせた第二高調波発光光源(SHG)等の単色高密度光を用いた走査露光方式を好ましく適用することができる。また走査露光ユニットとしては、さらにKrFエキシマレーザー、ArFエキシマレーザー、F2レーザー等を用いた走査露光方式も適用することができる。   An exposure unit 24 is provided on the downstream side in the transport direction from the supply unit. The exposure unit 24 exposes the light transmissive photosensitive web 18. The exposure unit 24 may be a continuous surface exposure unit using a photomask or a scanning exposure unit using a laser beam. This scanning exposure unit includes a monochromatic high light source such as a gas laser, a light emitting diode, a semiconductor laser, a semiconductor laser, or a second harmonic light source (SHG) that combines a solid state laser using a semiconductor laser and a nonlinear optical crystal. A scanning exposure method using density light can be preferably applied. Further, as the scanning exposure unit, a scanning exposure method using a KrF excimer laser, ArF excimer laser, F2 laser, or the like can also be applied.

また、走査露光ユニットをコンパクトで、安価なものにするために、露光は、半導体レーザー、半導体レーザーあるいは固体レーザーと非線形光学結晶を組合わせた第二高調波発生光源(SHG)を適用することがよい。特にコンパクトで、安価、さらに寿命が長く、安定性が高い装置を設計するためには、半導体レーザーを適用することがよい。   Further, in order to make the scanning exposure unit compact and inexpensive, a second harmonic generation light source (SHG) combining a semiconductor laser, a semiconductor laser, or a solid-state laser and a nonlinear optical crystal may be applied for exposure. Good. In order to design a device that is particularly compact, inexpensive, long-life, and highly stable, it is preferable to apply a semiconductor laser.

走査露光ユニットのレーザー光源としては、具体的には、波長430〜460nmの青色半導体レーザー(2001年3月の第48回応用物理学関係連合講演会で日亜化学発表)、半導体レーザー(発振波長約1060nm)を導波路状の反転ドメイン構造を有するLiNbO3のSHG結晶により波長変換して取り出した約530nmの緑色レーザー、波長約685nmの赤色半導体レーザー(日立タイプNo.HL6738MG)、波長約650nmの赤色半導体レーザー(日立タイプNo.HL6501MG)などが好ましく適用でききる。 Specifically, as a laser light source of the scanning exposure unit, a blue semiconductor laser having a wavelength of 430 to 460 nm (announced by Nichia Chemical at the 48th Applied Physics Related Conference in March 2001), a semiconductor laser (oscillation wavelength about 1060 nm) a waveguide-like inverted domain structure about 530nm green laser taken out by wavelength conversion by the SHG crystal of LiNbO 3 having a wavelength of about 685nm of the red semiconductor laser (Hitachi type No.HL6738MG), a wavelength of about 650nm A red semiconductor laser (Hitachi type No. HL6501MG) or the like can be preferably applied.

なお、露光装置12は、上記構成に限られず、銀塩写真フィルムや印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる通常の露光装置を適用することができる。   The exposure apparatus 12 is not limited to the above-described configuration, and a normal exposure apparatus used for a silver salt photographic film, photographic paper, a printing plate making film, a photomask emulsion mask, or the like can be applied.

次に、現像装置14について説明する。現像装置14は、露光装置12の搬送方向の下流側に配置され、所望の細線状パターン露光が施された光透過性感光ウエブ18を現像・定着・洗浄を行う装置である。   Next, the developing device 14 will be described. The developing device 14 is disposed on the downstream side in the transport direction of the exposure device 12 and is a device that develops, fixes, and cleans the light-transmitting photosensitive web 18 that has been subjected to a desired fine line pattern exposure.

現像装置14には、搬送方向の上流側から順に、現像槽26、漂白定着槽28、及び水洗槽30が設けられており、水洗槽30は、第1水洗槽30A、第2水洗槽30B、第3水洗槽30C、及び第4水洗槽30Dからなる。現像槽26には、例えば、現像液26Lが所定量貯蔵され、漂白定着槽28には、漂白定着液28Lが所定量貯蔵され、第1水洗槽30A〜第4水洗槽30Dには、洗浄液30Lが所定量貯蔵されている。各処理槽26〜30内のローラとガイドによって感光ウエブ18が各処理槽26〜30の液内を搬送されることで、現像・定着・洗浄の各処理が行われるようになっている。また、現像槽26の最上流側には、駆動ローラ32Aと従動ローラ32Bとを備えた搬入ローラ対32が配置されており、この搬入ローラ対32は、露光装置12から搬出される感光ウエブ18を現像液26L内に案内している。   The developing device 14 is provided with a developing tank 26, a bleach-fixing tank 28, and a water washing tank 30 in order from the upstream side in the transport direction. The water washing tank 30 includes a first water washing tank 30A, a second water washing tank 30B, It consists of the 3rd water washing tank 30C and the 4th water washing tank 30D. For example, a predetermined amount of developer 26L is stored in the developing tank 26, a predetermined amount of bleach-fixing liquid 28L is stored in the bleach-fixing tank 28, and a cleaning liquid 30L is stored in the first washing tank 30A to the fourth washing tank 30D. Is stored in a predetermined amount. The photosensitive web 18 is conveyed through the liquid in the processing tanks 26 to 30 by the rollers and guides in the processing tanks 26 to 30 so that the development, fixing, and cleaning processes are performed. In addition, on the most upstream side of the developing tank 26, a carry-in roller pair 32 including a driving roller 32A and a driven roller 32B is disposed. The carry-in roller pair 32 is a photosensitive web 18 carried out from the exposure device 12. Is guided into the developer 26L.

ここで、現像・定着・洗浄の各処理は、銀塩写真フィルム、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる通常の現像処理技術を適用することができる。現像液26L、漂白定着液28L、洗浄液30Lもこれらに準じて適宜適用することができる。例えば、現像液26Lとしては、特に限定しないが、PQ現像液、MQ現像液、MAA現像液等を用いることもでき、例えば、富士フィルム社製のCN−16、CR−56、CP45X、FD−3、パピトール、KODAK社製のC−41、E−6、RA−4、D−19、D−72などの現像液、又はそのキットに含まれる現像液、また、D−85などのリス現像液を用いることができる。なお、定着処理は、未露光部分の銀塩を除去して安定化させる目的で行われる。   Here, the development, fixing, and washing processes can be performed by ordinary development processing techniques used for silver salt photographic films, printing plate-making films, photomask emulsion masks, and the like. The developing solution 26L, the bleach-fixing solution 28L, and the cleaning solution 30L can be appropriately applied according to these. For example, the developer 26L is not particularly limited, but PQ developer, MQ developer, MAA developer, and the like can also be used. For example, CN-16, CR-56, CP45X, FD- manufactured by Fuji Film Co., Ltd. 3. Developer such as C-41, E-6, RA-4, D-19, D-72 manufactured by Papitor, KODAK, or a developer included in the kit, or lith development such as D-85 A liquid can be used. The fixing process is performed for the purpose of removing and stabilizing the silver salt in the unexposed part.

また、現像液26Lには、画質を向上させる目的で、画質向上剤を含有することができる。画質向上剤としては、例えば、ベンゾトリアゾールなどの含窒素へテロ環化合物を挙げることができる。また、リス現像液を利用する場合特に、ポリエチレングリコールを使用することも好ましい。   Further, the developer 26L can contain an image quality improver for the purpose of improving the image quality. Examples of the image quality improver include nitrogen-containing heterocyclic compounds such as benzotriazole. In addition, it is also preferable to use polyethylene glycol, particularly when a lith developer is used.

なお、現像装置14では、各処理槽26〜30の液内を通過した感光ウエブ18は、乾燥させず現像装置14から排出されるようになっている。   In the developing device 14, the photosensitive web 18 that has passed through the liquid in each of the processing tanks 26 to 30 is discharged from the developing device 14 without being dried.

次に、電解めっき装置16について説明する。電解めっき装置16は、露光・現像を施され、細線状の金属銀部が形成された感光ウエブ18に対し、電解めっき処理を施し、当該金属銀部に導電性微粒子を担持させめっき(導電性金属部)を形成する装置である。   Next, the electroplating apparatus 16 will be described. The electrolytic plating apparatus 16 performs electroplating on the photosensitive web 18 that has been exposed and developed to form a fine-line-shaped metallic silver portion, and carries conductive fine particles on the metallic silver portion to perform plating (conductive property). This is an apparatus for forming a metal part.

電解めっき装置16には、感光ウエブ18の搬送方向上流側に、水洗槽30を通過した後の感光ウエブ18の水分を除去する水分除去装置40Aが配設されている。水分除去装置40Aには、感光ウエブ18の両側にエアーナイフ装置42、44が配置されており、感光ウエブ18の両側からエアーナイフを吹き付けることで、感光ウエブ18に付着した水分を除去する。   In the electroplating apparatus 16, a moisture removing device 40 </ b> A that removes moisture from the photosensitive web 18 after passing through the washing tank 30 is disposed on the upstream side in the conveyance direction of the photosensitive web 18. In the moisture removing device 40A, air knife devices 42 and 44 are arranged on both sides of the photosensitive web 18, and the air knife is blown from both sides of the photosensitive web 18 to remove moisture adhering to the photosensitive web 18.

図2に示すように、水分除去装置40Aを通過した感光ウエブ18は、支持ローラ46と支持ローラ48によって案内され、感光ウエブ18の金属銀部に接触しながら給電を行うカソード給電ローラ50Aに搬送される。感光ウエブ18を挟んでカソード給電ローラ50Aと対向する位置には、感光ウエブ18の金属銀部をカソード給電ローラ50Aに押圧して接触させる弾性ローラ52Aが配設されている。この弾性ローラ52Aは、回転可能に支持された芯金の外周面にゴムなどからなる弾性体層を備えるものである。弾性体層としてウレタンゴムなどが用いられる。弾性ローラ52Aを押圧することで、感光ウエブ18とカソード給電ローラ50Aとを密着させることができる。   As shown in FIG. 2, the photosensitive web 18 that has passed through the moisture removing device 40 </ b> A is guided by the support roller 46 and the support roller 48, and is conveyed to the cathode power supply roller 50 </ b> A that supplies power while being in contact with the metal silver portion of the photosensitive web 18. Is done. An elastic roller 52A that presses and contacts the metallic silver portion of the photosensitive web 18 against the cathode power supply roller 50A is disposed at a position facing the cathode power supply roller 50A across the photosensitive web 18. The elastic roller 52A is provided with an elastic layer made of rubber or the like on the outer peripheral surface of a core metal supported rotatably. Urethane rubber or the like is used as the elastic layer. By pressing the elastic roller 52A, the photosensitive web 18 and the cathode power supply roller 50A can be brought into close contact with each other.

カソード給電ローラ50Aより感光ウエブ18の搬送方向下流側には、めっき液61で満たされためっき槽60Aが配置されている。めっき槽60Aのめっき液61中には液中ローラ62Aが設けられており、液中ローラ62Aの周面に感光ウエブ18が巻き掛けられている。この工程では、カソード給電ローラ50Aに接触させた感光ウエブ18の金属銀部をめっき槽60Aのめっき液61中で液中ローラ62Aにより搬送する。銅ボールを積層充填したケース64Aをアノード電極にして、カソード電極をカソード給電ローラ50Aとして、直流電源(整流器)66Aにより給電し、感光ウエブ18に層状のめっき被膜を形成する。本実施形態では、直流電源66Aにより、カソード給電ローラ50Aからアノード電極であるケース64Aへ給電し、感光ウエブ18に、0.2〜10A/dm2の電流密度となるようにしてめっき被膜を形成する。 A plating tank 60A filled with a plating solution 61 is disposed on the downstream side in the transport direction of the photosensitive web 18 from the cathode power supply roller 50A. A submerged roller 62A is provided in the plating solution 61 of the plating tank 60A, and the photosensitive web 18 is wound around the peripheral surface of the submerged roller 62A. In this step, the metallic silver portion of the photosensitive web 18 brought into contact with the cathode power supply roller 50A is conveyed by the submerged roller 62A in the plating solution 61 of the plating tank 60A. A case 64A in which copper balls are stacked and filled is used as an anode electrode, and the cathode electrode is used as a cathode power supply roller 50A, and power is supplied from a DC power source (rectifier) 66A to form a layered plating film on the photosensitive web 18. In this embodiment, the DC power supply 66A supplies power from the cathode power supply roller 50A to the case 64A that is an anode electrode, and a plating film is formed on the photosensitive web 18 so as to have a current density of 0.2 to 10 A / dm 2. To do.

ここで、電解めっき処理として、例えば、プリント配線板などで用いられている電解めっき技術を適用することができ、電解めっきは電解銅めっきであることが好ましい。本実施形態では、めっき液61として、電解銅めっき浴液が適用されている。電解銅めっき浴としては、硫酸銅浴、ピロリン酸銅浴、ホウフッ化銅浴等が挙げられる。電解銅めっき液に含まれる化学種としては、硫酸銅や塩化銅、めっき液の安定性、導電性を高め、均一電着性の増加を図る硫酸、アノードの溶解促進及び添加剤の補助効果作用の塩素、浴の安定化やめっき緻密性を向上させるための添加剤としてポリエチレンオキサイド、ビピリジン等が挙げられる。   Here, as the electroplating treatment, for example, an electroplating technique used in a printed wiring board can be applied, and the electroplating is preferably electrolytic copper plating. In the present embodiment, an electrolytic copper plating bath solution is applied as the plating solution 61. Examples of the electrolytic copper plating bath include a copper sulfate bath, a copper pyrophosphate bath, and a copper borofluoride bath. Chemical species contained in the electrolytic copper plating solution include copper sulfate and copper chloride, sulfuric acid to improve the stability and conductivity of the plating solution, and to increase the uniform electrodeposition, acceleration of dissolution of the anode and auxiliary effect of additives Examples of additives for improving chlorine and bath stabilization and plating denseness include polyethylene oxide and bipyridine.

なお、めっき槽60Aの下部には循環パイプ(図示省略)が連結されており、めっき槽60A内のめっき液61が循環パイプに供給され、フィルター(図示省略)を通すことでめっき液61中の異物が除去され、めっき槽60A内に戻される構成となっている。   A circulation pipe (not shown) is connected to the lower part of the plating tank 60A, and the plating solution 61 in the plating tank 60A is supplied to the circulation pipe and passes through a filter (not shown). The foreign matter is removed and returned to the plating tank 60A.

図2に示すように、めっき槽60Aより感光ウエブ18の搬送方向下流側には、感光ウエブ18を洗浄する洗浄水71で満たされた洗浄槽70Aが配設されている。めっき槽60Aの上部と洗浄槽70Aの上方には、感光ウエブ18を空中搬送する2つのローラ74、76が略水平に設けられている。ローラ74、76は、感光ウエブ18の移動に伴って従動回転する。また、洗浄槽70A内の洗浄水71中には液中ローラ72Aが設けられており、液中ローラ72Aの周面に感光ウエブ18が巻き掛けられている。これにより、感光ウエブ18は、めっき槽60Aのめっき液61内を通過した後、2つのローラ74、76によって案内され、洗浄槽70Aの洗浄水71内に搬送される。洗浄槽70Aを通過した感光ウエブ18は、液中ローラ72Aと上部に配置された支持ローラ80に案内されて搬送される。   As shown in FIG. 2, a cleaning tank 70A filled with cleaning water 71 for cleaning the photosensitive web 18 is disposed downstream of the plating tank 60A in the conveying direction of the photosensitive web 18. Two rollers 74 and 76 for conveying the photosensitive web 18 in the air are provided substantially horizontally above the plating tank 60A and above the cleaning tank 70A. The rollers 74 and 76 are driven to rotate as the photosensitive web 18 moves. A submerged roller 72A is provided in the cleaning water 71 in the cleaning tank 70A, and the photosensitive web 18 is wound around the peripheral surface of the submerged roller 72A. As a result, the photosensitive web 18 passes through the plating solution 61 of the plating tank 60A, is guided by the two rollers 74 and 76, and is conveyed into the cleaning water 71 of the cleaning tank 70A. The photosensitive web 18 that has passed through the cleaning tank 70A is guided and conveyed by the submerged roller 72A and the support roller 80 disposed above.

また、めっき槽60Aの上部であってローラ74より搬送方向上流側には、感光ウエブ18の表裏に圧接される1対の液絞りローラ82が配設されている。また、洗浄槽70Aの上部であって支持ローラ80より搬送方向上流側には、感光ウエブ18の表裏に圧接される1対の液絞りローラ84が配設されている。液絞りローラ82、84は、感光ウエブ18の移動に伴って従動回転する。液絞りローラ82の周面はめっき液61と接触し、液絞りローラ84の周面は洗浄水71と接触しており、液絞りローラ82、84は常に濡れた状態で使用される。   A pair of liquid squeezing rollers 82 that are in pressure contact with the front and back of the photosensitive web 18 are disposed on the upper side of the plating tank 60 </ b> A and upstream of the roller 74 in the transport direction. In addition, a pair of liquid squeezing rollers 84 that are in pressure contact with the front and back of the photosensitive web 18 are disposed above the cleaning tank 70 </ b> A and upstream of the support roller 80 in the transport direction. The liquid squeezing rollers 82 and 84 are driven to rotate as the photosensitive web 18 moves. The peripheral surface of the liquid squeezing roller 82 is in contact with the plating solution 61, and the peripheral surface of the liquid squeezing roller 84 is in contact with the cleaning water 71. The liquid squeezing rollers 82 and 84 are always used in a wet state.

ローラ74とローラ76の下部には、ローラ74、76をそれぞれ洗浄する洗浄装置200A、202Aが設けられている。洗浄装置200A、202Aは、洗浄水205で満たされた樋状の洗浄液受け槽204を備えており、ローラ74、76の下部が洗浄水205に浸漬されている。洗浄液受け槽204の側部のオーバーフロー堰206で洗浄水205をオーバーフローさせることで、洗浄水205の量を一定に保っている。洗浄液受け槽204からオーバーフローした洗浄水205は排出管210を通って排出される。洗浄液受け槽204には、洗浄水205を供給する供給管216が接続されている。洗浄液受け槽204の上方部には、洗浄水管理槽220が配設されており、洗浄水管理槽220内の洗浄水205が複数の供給管216に分岐されて各洗浄液受け槽204に供給される。   Below the rollers 74 and 76, cleaning devices 200A and 202A for cleaning the rollers 74 and 76 are provided. The cleaning apparatuses 200 </ b> A and 202 </ b> A include a bowl-shaped cleaning liquid receiving tank 204 filled with cleaning water 205, and the lower portions of the rollers 74 and 76 are immersed in the cleaning water 205. The amount of the cleaning water 205 is kept constant by overflowing the cleaning water 205 by the overflow weir 206 on the side of the cleaning liquid receiving tank 204. The cleaning water 205 overflowed from the cleaning liquid receiving tank 204 is discharged through the discharge pipe 210. A supply pipe 216 for supplying cleaning water 205 is connected to the cleaning liquid receiving tank 204. A cleaning water management tank 220 is disposed above the cleaning liquid receiving tank 204, and the cleaning water 205 in the cleaning water management tank 220 is branched into a plurality of supply pipes 216 and supplied to each cleaning liquid receiving tank 204. The

上記構成の電解めっき装置16では、まず、帯状長尺幅広の感光ウエブ18が矢印方向に搬送され、エアーナイフ装置42、44によって感光ウエブ18に付着した水分が除去される。その後、カソード給電ローラ50Aと弾性ローラ52Aとのニップ部で感光ウエブ18の金属銀部をカソード給電ローラ50Aに接触させた後、めっき槽60Aに搬送する。その際、銅ボールを積層、充填したケース64Aをアノード電極とし、カソード給電ローラ50Aをカソード電極として、直流電源66Aにより給電し、感光ウエブ18の金属銀部の電解めっきにより銅めっき被膜を形成する。さらに、感光ウエブ18は、めっき槽60Aを通過した後、ローラ74、76によって案内されて洗浄槽70Aに搬送され、感光ウエブ18に付着しためっき液が洗浄水71によって洗浄される。   In the electroplating apparatus 16 having the above-described configuration, first, the belt-like long and wide photosensitive web 18 is conveyed in the direction of the arrow, and the water adhering to the photosensitive web 18 is removed by the air knife apparatuses 42 and 44. Thereafter, the metallic silver portion of the photosensitive web 18 is brought into contact with the cathode power supply roller 50A at the nip portion between the cathode power supply roller 50A and the elastic roller 52A, and then conveyed to the plating tank 60A. At that time, a case 64A in which copper balls are stacked and filled is used as an anode electrode, and a cathode power supply roller 50A is used as a cathode electrode. . Further, after passing through the plating tank 60 </ b> A, the photosensitive web 18 is guided by rollers 74 and 76 and conveyed to the cleaning tank 70 </ b> A, and the plating solution adhering to the photosensitive web 18 is washed with the washing water 71.

図示を省略するが、電解めっき装置16では、水分除去装置40Aと、カソード給電ローラ50Aと、めっき槽60Aと、洗浄槽70Aとを備えたユニットが複数配置されており(本実施形態では8ユニット)、上記のような工程が複数回繰り返されることで、感光ウエブ18に所定の厚みの銅めっきが形成される。   Although illustration is omitted, in the electroplating apparatus 16, a plurality of units each including a moisture removing apparatus 40A, a cathode feeding roller 50A, a plating tank 60A, and a cleaning tank 70A are arranged (in this embodiment, 8 units). ), The above-described steps are repeated a plurality of times, whereby copper plating having a predetermined thickness is formed on the photosensitive web 18.

さらに、感光ウエブ18の搬送方向下流側には、ニッケルめっきを施すための水分除去装置40Bと、カソード給電ローラ50Bと、めっき槽60Bと、洗浄槽70Bとを備えたユニットが複数配置されており(本実施形態では8ユニット)、上記と同様の工程が複数回繰り返されることで、感光ウエブ18に所定の厚みのニッケルめっきが形成される。   Further, a plurality of units including a moisture removing device 40B for performing nickel plating, a cathode power supply roller 50B, a plating tank 60B, and a cleaning tank 70B are arranged on the downstream side of the photosensitive web 18 in the conveying direction. (In this embodiment, 8 units) By repeating the same process as described above a plurality of times, nickel plating having a predetermined thickness is formed on the photosensitive web 18.

このような電解めっき装置16では、めっき槽60A、60Bと洗浄槽70A、70Bに、それぞれ液中ローラ62A、62B、72A、72Bが設けられている。これらの液中ローラ62A、62B、72A、72Bの構成は同じであるので、ここでは、液中ローラ62Aの例を図3から図5に基づき説明する。   In such an electroplating apparatus 16, submerged rollers 62A, 62B, 72A, and 72B are provided in plating tanks 60A and 60B and cleaning tanks 70A and 70B, respectively. Since the submerged rollers 62A, 62B, 72A, and 72B have the same configuration, an example of the submerged roller 62A will be described with reference to FIGS.

図3および図4に示すように、液中ローラ62Aは、フレーム166に固定支持された円柱状の軸体152と、この軸体152が挿通される円筒体154を備えている。円筒体154の両端部はそれぞれ側面体156で塞がれており、側面体156は軸受158を介して軸体152に支持されている。すなわち、軸体152が軸受158を介して側面体156を貫通する構成となっている。   As shown in FIGS. 3 and 4, the submerged roller 62 </ b> A includes a columnar shaft body 152 fixedly supported by a frame 166 and a cylindrical body 154 through which the shaft body 152 is inserted. Both ends of the cylindrical body 154 are closed by side bodies 156, and the side bodies 156 are supported by the shaft body 152 via bearings 158. That is, the shaft body 152 is configured to penetrate the side body 156 via the bearing 158.

円筒体154の周面の両端部には、複数の円形状の開孔160が所定の間隔で形成されている。また、開孔160より中央部側の感光ウエブ18と接触する円筒体154の周面には、スパイラル状の溝162が形成されている。また、軸体152の軸受158の両端部には、側面体156の軸方向の移動(ウォーク)を規制する規制板164が、軸受158のボールと接触可能に設けられている。   A plurality of circular openings 160 are formed at predetermined intervals on both ends of the peripheral surface of the cylindrical body 154. A spiral groove 162 is formed on the peripheral surface of the cylindrical body 154 that contacts the photosensitive web 18 closer to the center than the opening 160. Further, at both ends of the bearing 158 of the shaft body 152, a restriction plate 164 that restricts the movement (walk) of the side body 156 in the axial direction is provided so as to be in contact with the ball of the bearing 158.

円筒体154は、樹脂で形成されており、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、フッ素樹脂(例えばPTFE(ポリテトラフルオロエチレン)など)が用いられている。樹脂は、使用するめっき液61等の耐薬品性から適宜に選定される。   The cylindrical body 154 is formed of a resin, and for example, polyvinyl chloride, polypropylene, or a fluororesin (for example, PTFE (polytetrafluoroethylene)) is used. The resin is appropriately selected from the chemical resistance of the plating solution 61 used.

軸受158は、樹脂製の転がり軸受、滑り軸受などが用いられる。耐薬品性から転がり軸受の材質として、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)、ポリプロピレンが望ましく、滑り軸受としては、耐薬品性、耐塵埃、及び、耐析出物付着性(析出物が付着しにくい)からNTN社製ベアリングFL3700などが望ましい。また、軸受158の材質として耐薬品性の樹脂を用いることで、めっき液61中に液中ローラ62Aを配設しても液中ローラ62Aの回転を安定化させることが可能となる。   As the bearing 158, a resin rolling bearing, a sliding bearing, or the like is used. PTFE (polytetrafluoroethylene) and polypropylene are desirable as materials for rolling bearings because of their chemical resistance, and sliding bearings are resistant to chemicals, dust, and deposit resistance (precipitation of deposits). NTN bearing FL3700 is desirable. Further, by using a chemical-resistant resin as the material of the bearing 158, it is possible to stabilize the rotation of the submerged roller 62A even if the submerged roller 62A is disposed in the plating solution 61.

図5に示すように、円筒体154の周面に形成されるスパイラル状の溝162の寸法形状は、ピッチが1〜10mm望ましくは2〜3mm、溝巾が1〜5mm望ましくは1.1〜2mm、溝162の深さが0.1〜3mm望ましくは0.2〜0.5mmに設定されている。また、円筒体154の外周面と溝162上部の肩部円弧R1の半径、溝162の底部円弧R2の半径は、0.2〜1mm望ましくは0.3〜0.6mmに設定されている。   As shown in FIG. 5, the dimensional shape of the spiral groove 162 formed on the peripheral surface of the cylindrical body 154 has a pitch of 1 to 10 mm, preferably 2 to 3 mm, and a groove width of 1 to 5 mm, preferably 1.1 to. The depth of 2 mm and the groove 162 is set to 0.1 to 3 mm, preferably 0.2 to 0.5 mm. Further, the radius of the outer peripheral surface of the cylindrical body 154 and the shoulder arc R1 above the groove 162 and the radius of the bottom arc R2 of the groove 162 are set to 0.2 to 1 mm, preferably 0.3 to 0.6 mm.

このような液中ローラ62Aでは、固定支持された軸体152に軸受158を介して側面体156が支持されており、両端部の側面体156とこれらに支持された円筒体154が回転する。これにより、一定方向に搬送される感光ウエブ18が円筒体154の周面に接触すると、円筒体154が感光ウエブ18に従動してその搬送方向にスムーズに回転する。円筒体154を用いることで、重量を軽量化してより少ない力で回転させることができ、低張力で感光ウエブ18を搬送させても液中ローラ62Aが安定して回転し、感光ウエブ18を送ることができる。   In such a submerged roller 62A, the side body 156 is supported by the shaft body 152 that is fixedly supported via the bearing 158, and the side body 156 at both ends and the cylindrical body 154 supported by these rotate. As a result, when the photosensitive web 18 conveyed in a certain direction comes into contact with the peripheral surface of the cylindrical body 154, the cylindrical body 154 is driven by the photosensitive web 18 and smoothly rotates in the conveying direction. By using the cylindrical body 154, it is possible to reduce the weight and rotate it with less force. Even if the photosensitive web 18 is conveyed with low tension, the submerged roller 62A rotates stably and sends the photosensitive web 18. be able to.

これにより、液中ローラ62Aの回転速度を感光ウエブ18の搬送速度に同期させることができ、感光ウエブ18と円筒体154とのスリップを抑制し、感光ウエブ18表面の傷の発生を抑制することができる。また、液中ローラ62Aの回転速度を任意の搬送速度に変更することが可能であり、搬送速度を変更しても感光ウエブ18と円筒体154とのスリップによる感光ウエブ18表面の傷の発生を抑制することができる。また、液中ローラ62Aを外部の駆動装置と接続しないので、駆動装置の部品などにめっき液61が付着して析出物が固着することを抑制できる。このため、液中ローラ62Aの回転が安定化し、感光ウエブ18とのスリップを抑制することができる。   Thereby, the rotation speed of the submerged roller 62A can be synchronized with the conveyance speed of the photosensitive web 18, the slip between the photosensitive web 18 and the cylindrical body 154 is suppressed, and the occurrence of scratches on the surface of the photosensitive web 18 is suppressed. Can do. In addition, the rotation speed of the submerged roller 62A can be changed to an arbitrary conveyance speed. Even if the conveyance speed is changed, the surface of the photosensitive web 18 is not damaged due to slippage between the photosensitive web 18 and the cylindrical body 154. Can be suppressed. In addition, since the submerged roller 62A is not connected to an external driving device, it is possible to suppress the deposit of the plating solution 61 and the deposit on the components of the driving device. For this reason, the rotation of the submerged roller 62A is stabilized, and slippage with the photosensitive web 18 can be suppressed.

また、円筒体154の周面の両端部に複数の開孔160が設けられており、めっき槽60A内に液中ローラ62Aを浸漬したとき、円筒体154の内部の空気が開孔160からめっき槽60A内に排出され、円筒体154の内部の空気がめっき液61で置換される。これにより、軸受158の隙間からめっき液61が液中ローラ62Aの内部に浸入し、空気層と処理液層とができて液中ローラ62Aの回転が不安定になることが抑制される。   A plurality of apertures 160 are provided at both ends of the peripheral surface of the cylindrical body 154. When the submerged roller 62A is immersed in the plating tank 60A, the air inside the cylindrical body 154 is plated from the apertures 160. It is discharged into the tank 60 </ b> A, and the air inside the cylindrical body 154 is replaced with the plating solution 61. Thereby, it is suppressed that the plating solution 61 enters the inside of the submerged roller 62A from the gap between the bearings 158 to form an air layer and a processing liquid layer, and the rotation of the submerged roller 62A becomes unstable.

さらに、円筒体154の周面にスパイラル状の溝162が形成されているので、感光ウエブ18の搬送時に表面に同伴された(付着した)めっき液61をスパイラル状の溝162に沿って脇に逃がす流れが生じる。これにより、感光ウエブ18と円筒体154とが接触する溝162の肩部で感光ウエブ18の保持力が発生し、感光ウエブ18を液中ローラ62Aとスリップさせずに搬送することができ、感光ウエブ18表面の擦り傷の発生を抑制することができる。   Further, since the spiral groove 162 is formed on the peripheral surface of the cylindrical body 154, the plating solution 61 accompanying (attached) to the surface when the photosensitive web 18 is conveyed is placed along the spiral groove 162 to the side. A flow to escape occurs. As a result, the holding force of the photosensitive web 18 is generated at the shoulder portion of the groove 162 where the photosensitive web 18 and the cylindrical body 154 come into contact, and the photosensitive web 18 can be conveyed without slipping with the submerged roller 62A. Generation of scratches on the surface of the web 18 can be suppressed.

なお、図3から図5に基づいて液中ローラ62Aの構成及び作用について説明したが、液中ローラ62B、72A、72Bも液中ローラ62Aと同じ構成であり、同様の作用が得られる。   Although the configuration and operation of the submerged roller 62A have been described with reference to FIGS. 3 to 5, the submerged rollers 62B, 72A, and 72B have the same configuration as the submerged roller 62A, and the same operation is obtained.

次いで、図1に示すように、めっきが施された感光ウエブ18は、フィルム張力を検出できるローラ125を介して、めっき液を除去する洗浄液115(水)の入った水洗部114、めっき被膜を保護する防錆処理液117の入った防錆処理部116を経て、過剰な防錆処理液を除去する洗浄液119(水)の入った水洗部118に搬送される。さらに、めっきが施された感光ウエブ18は、水分を除去する乾燥炉をもつ乾燥工程部120を経て、速度調整部121を経て、バランスローラ部122を経て、張力調整された後、アキュムレータ123を通してロール状フィルム124Aとする。こうしてめっき被膜付きフィルムが得られる。   Next, as shown in FIG. 1, the photosensitive web 18 that has been plated is subjected to a washing unit 114 containing a cleaning solution 115 (water) for removing the plating solution and a plating film through a roller 125 that can detect the film tension. After passing through the rust prevention treatment part 116 containing the rust prevention treatment liquid 117 to be protected, it is conveyed to the water washing part 118 containing the cleaning liquid 119 (water) for removing the excessive rust prevention treatment liquid. Further, the plated photosensitive web 18 passes through a drying process section 120 having a drying furnace for removing moisture, passes through a speed adjusting section 121, passes through a balance roller section 122, and is adjusted in tension, and then passed through an accumulator 123. The roll film 124A is used. Thus, a film with a plating film is obtained.

実質的なフィルム搬送張力は、5N/m以上200N/m以下とすることが好ましい。実際に張力を5N/m未満にすると、フィルムが蛇行し始め、搬送経路の制御がうまくいかなかった。また200N/mを超えると、フィルムの形成されるめっき被膜金属が内部歪みを持つために、製品にカールが発生するなどの問題があった。   The substantial film transport tension is preferably 5 N / m or more and 200 N / m or less. When the tension was actually less than 5 N / m, the film began to meander and the control of the conveyance path was not successful. On the other hand, when it exceeds 200 N / m, the plated film metal on which the film is formed has internal distortion, which causes problems such as curling of the product.

このようにして、感光ウエブ18の細線状金属銀部にめっき(導電性金属部)が形成される。このような工程により、めっき被膜付きフィルムを得ることができる。   In this way, plating (conductive metal portion) is formed on the fine-line metal silver portion of the photosensitive web 18. By such a process, a film with a plating film can be obtained.

なお、電解めっき装置16のめっき槽の数は、所望のめっき膜厚(導電性金属部の厚み)に応じて8セット以上増設してもよい。この数に応じて、所望のめっき膜厚(導電性金属部の厚み)を容易に得ることができる。   Note that the number of plating tanks of the electrolytic plating apparatus 16 may be increased by 8 sets or more according to a desired plating film thickness (thickness of the conductive metal portion). A desired plating film thickness (thickness of the conductive metal portion) can be easily obtained according to this number.

次に、感光ウエブ18について説明する。被めっき素材としての感光ウエブ18は、例えば、光透過性支持体上に銀塩(例えばハロゲン化銀)が含有した銀塩含有層を設けた、感光材料からなる長尺幅広フレキシブル基材である。また、銀塩含有層上には保護層が設けられていてもよく、この保護層とは例えばゼラチンや高分子ポリマーといったバインダーからなる層を意味し、擦り傷防止や力学特性を改良する効果を発現するために銀塩含有層上に形成される。保護層の厚みは0.02〜20μmであることが好ましく、より好ましくは0.1〜10μmであり、さらに好ましくは0.3〜3μmである。   Next, the photosensitive web 18 will be described. The photosensitive web 18 as a material to be plated is, for example, a long and wide flexible base material made of a photosensitive material in which a silver salt-containing layer containing a silver salt (for example, silver halide) is provided on a light-transmitting support. . Further, a protective layer may be provided on the silver salt-containing layer, and this protective layer means a layer made of a binder such as gelatin or a high molecular polymer, and exhibits an effect of preventing scratches and improving mechanical properties. In order to do so, it is formed on the silver salt-containing layer. It is preferable that the thickness of a protective layer is 0.02-20 micrometers, More preferably, it is 0.1-10 micrometers, More preferably, it is 0.3-3 micrometers.

これらの銀塩含有層や保護層の組成などは、銀塩写真フィルム、印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に適用されるハロゲン化銀乳剤層(銀塩含有層)や保護層を適宜適用することができる。   The composition of these silver salt-containing layers and protective layers includes silver halide emulsion layers (silver salt-containing layers) and protective layers applied to silver salt photographic films, photographic paper, printing plate-making films, emulsion masks for photomasks, etc. Layers can be applied as appropriate.

特に、感光ウエブ18(感光材料)としては、銀塩写真フィルム(銀塩感光材料)が好ましく、白黒銀塩写真フィルム(白黒銀塩感光材料)が最もよい。また、銀塩含有層に適用する銀塩としては、特にハロゲン化銀が最も好適である。   In particular, as the photosensitive web 18 (photosensitive material), a silver salt photographic film (silver salt photosensitive material) is preferable, and a black and white silver salt photographic film (black and white silver salt photosensitive material) is the best. The silver salt applied to the silver salt-containing layer is most preferably silver halide.

一方、光透過性支持体としては、単層のプラスチックフィルムや、これを2層以上組み合わせた多層フィルムを適用することができる。プラスチックフィルムの原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、及びポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類;ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリスチレン、EVAなどのポリオレフィン類;ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂;その他、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリサルホン(PSF)、ポリエーテルサルホン(PES)、ポリカーボネート(PC)、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース(TAC)などを用いることができる。   On the other hand, as the light-transmitting support, a single-layer plastic film or a multilayer film in which two or more layers are combined can be applied. Examples of the raw material for the plastic film include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate; polyolefins such as polyethylene (PE), polypropylene (PP), polystyrene, and EVA; polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, and the like. In addition, use polyetheretherketone (PEEK), polysulfone (PSF), polyethersulfone (PES), polycarbonate (PC), polyamide, polyimide, acrylic resin, triacetylcellulose (TAC), etc. Can do.

これらの中でも、透明性、耐熱性、取り扱いやすさ及び価格の点から、支持体としてのプラスチックフィルムは、銀塩写真フィルム(銀塩感光材料)に通常適用されるポリエチレンテレフタレートフィルムやセルロールトリアセテートフィルム、また、その他、ポリイミドフィルムであることが好ましい。特に、ポリエチレンテレフタレートフィルムであることが最も好ましい。   Among these, from the viewpoint of transparency, heat resistance, ease of handling, and cost, the plastic film as the support is a polyethylene terephthalate film or cellulose triacetate film that is usually applied to silver salt photographic films (silver salt photosensitive materials). In addition, a polyimide film is preferable. Particularly preferred is a polyethylene terephthalate film.

また、ディスプレイ用の電磁波遮蔽材では透明性が要求されるため、支持体の透明性は高いことが望ましい。この場合における光透過性支持体の全可視光透過率は70〜100%が好ましく、さらに好ましくは85〜100%であり、特に好ましくは90〜100%である。   Moreover, since the electromagnetic shielding material for displays requires transparency, it is desirable that the support has high transparency. In this case, the total visible light transmittance of the light transmissive support is preferably 70 to 100%, more preferably 85 to 100%, and particularly preferably 90 to 100%.

感光ウエブ18の幅は、例えば、50cm以上とし、厚みは50〜200μmとすることがよい。   For example, the width of the photosensitive web 18 is preferably 50 cm or more, and the thickness is preferably 50 to 200 μm.

また、感光ウエブ18には、露光・現像後、その露光部に金属銀部が形成されるが、この金属銀部に含まれる金属銀の質量が、露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して50質量%以上の含有率であることが好ましく、80質量%以上であることがさらに好ましい。露光部に含まれる銀の質量が露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して50質量%以上であれば、その後の電解めっき処理で高い導電性を得ることができるため好ましい。   Further, after exposure / development, the photosensitive web 18 is formed with a metallic silver portion in the exposed portion. The mass of the metallic silver contained in the metallic silver portion is the silver contained in the exposed portion before the exposure. It is preferable that it is a content rate of 50 mass% or more with respect to the mass of 80 mass% or more. If the mass of silver contained in the exposed portion is 50% by mass or more with respect to the mass of silver contained in the exposed portion before exposure, it is preferable because high electroconductivity can be obtained in subsequent electrolytic plating treatment.

露光及び現像処理により形成された金属銀部に導電性を付与するために、上述の電解めっき装置16によって、金属銀部に導電性金属粒子を担持させる電解メッキ処理を行う。すなわち、めっき被膜付きフィルムの製造装置10では、被めっき素材として、銀塩含有層が設けられた光透過性感光ウエブ18を用い、これの銀塩含有層に露光・現像を行って被めっき部として所望の細線状金属銀部を形成する。この細線状金属銀部は、銀塩含有層に露光・現像して形成されるため、非常に細い細線でパターン化された細線状金属銀部となる。このような光透過性感光ウエブ18に対し、電解めっき処理を施すと、細線状金属銀部上に導電性粒子が担持され、これが導電性金属部となる。このため、得られる電磁波遮蔽材料は、非常に細い細線でパターン化された細線状金属部と大面積の光透過部とを有することとなる。   In order to impart conductivity to the metal silver portion formed by the exposure and development processing, the above-described electroplating apparatus 16 performs an electrolytic plating process for supporting the conductive metal particles on the metal silver portion. That is, in the apparatus 10 for producing a film with a plating film, a light-transmitting photosensitive web 18 provided with a silver salt-containing layer is used as a material to be plated, and the silver salt-containing layer is exposed and developed to be plated. As a desired fine-line metal silver portion is formed. Since this fine line-shaped metallic silver part is formed by exposing and developing the silver salt-containing layer, it becomes a fine line-shaped metallic silver part patterned with very fine fine lines. When electroplating is performed on such a light-transmitting photosensitive web 18, conductive particles are supported on the fine-line metal silver portion, which becomes the conductive metal portion. For this reason, the electromagnetic wave shielding material obtained has a fine line-shaped metal part patterned with very fine fine lines and a large area light transmission part.

以上のような構成のめっき被膜付きフィルムの製造装置10では、感光ウエブ18を搬送する液中ローラ62A、72A、62B、72Bが設けられているので、感光ウエブ18をめっき液61または洗浄水71中で液中ローラ62A、72A、62B、72Bとスリップさせずに搬送することができ、感光ウエブ18表面の傷の発生を抑制できる。このため、帯状長尺で幅広の感光ウエブ18を低張力で搬送しながら、感光ウエブ18の表面に傷の少ない高品質のめっき被膜を連続的に形成できる。このため、安価な設備で高い生産性を有するめっき被膜付きフィルムの製造装置10を実現できる。   In the apparatus 10 for producing a film with a plating film having the above-described configuration, the submerged rollers 62A, 72A, 62B, and 72B for conveying the photosensitive web 18 are provided. In particular, it can be conveyed without slipping with the submerged rollers 62A, 72A, 62B, 72B, and the occurrence of scratches on the surface of the photosensitive web 18 can be suppressed. Therefore, it is possible to continuously form a high-quality plating film with few scratches on the surface of the photosensitive web 18 while conveying the long and wide photosensitive web 18 with low tension. For this reason, the manufacturing apparatus 10 of the film with a plating film which has high productivity with an inexpensive installation is realizable.

なお、上記実施形態では、めっき槽60A、60B、洗浄槽70A、70Bに液中ローラ62A、62B、72A、72Bが配設されているが、この構成に限定するものではない。例えば、汎用の処理液や洗浄液などが入った液槽中に配設される液中ローラにも本発明を適用可能である。   In the above embodiment, the submerged rollers 62A, 62B, 72A and 72B are disposed in the plating tanks 60A and 60B and the cleaning tanks 70A and 70B, but the present invention is not limited to this configuration. For example, the present invention can also be applied to a submerged roller disposed in a liquid tank containing a general-purpose processing liquid or cleaning liquid.

本発明の一実施形態におけるめっき被膜付きフィルムの製造装置を示す概略縦断面図である。It is a schematic longitudinal cross-sectional view which shows the manufacturing apparatus of the film with a plating film in one Embodiment of this invention. 図1に示す製造装置で用いられる電解めっき装置に配設されるめっき槽及び洗浄槽付近を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the plating tank arrange | positioned by the electrolytic plating apparatus used with the manufacturing apparatus shown in FIG. 1, and a washing tank vicinity. 図2に示すめっき槽内に設けられる液中ローラを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the submerged roller provided in the plating tank shown in FIG. 図2に示すめっき槽内に設けられる液中ローラを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the submerged roller provided in the plating tank shown in FIG. 液中ローラの円筒体の周面を示す拡大断面図である。It is an expanded sectional view which shows the surrounding surface of the cylindrical body of a submerged roller.

符号の説明Explanation of symbols

10 めっき被膜付きフィルム製造装置
16 電解めっき装置
18 感光ウエブ(フィルム)
60A めっき槽(液槽)
60B めっき槽(液槽)
62A 液中ローラ
62B 液中ローラ
61 めっき液(液)
70A 洗浄槽(液槽)
70B 洗浄槽(液槽)
71 洗浄水(液)
72A 液中ローラ
72B 液中ローラ
152 軸体
154 円筒体
156 側面体
158 軸受
160 開孔
162 溝
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Film production apparatus with plating film 16 Electrolytic plating apparatus 18 Photosensitive web (film)
60A plating tank (liquid tank)
60B plating tank (liquid tank)
62A Submerged roller 62B Submerged roller 61 Plating solution (liquid)
70A Cleaning tank (liquid tank)
70B Cleaning tank (liquid tank)
71 Washing water (liquid)
72A Submerged roller 72B Submerged roller 152 Shaft body 154 Cylindrical body 156 Side body 158 Bearing 160 Open hole 162 Groove

Claims (6)

帯状のフィルムを一定方向に搬送する搬送装置であって、
液槽内の液中で、一定方向に搬送される前記フィルムと接触して送る液中ローラを備え、
前記液中ローラは、
前記フィルムと接触する円筒体と、
前記液槽に固定支持された軸体と、
前記円筒体に固定され前記円筒体の両端部を塞ぐと共に、前記軸体に軸受を介して回転自在に支持される側面体と、
を有して構成されており、
前記円筒体の両端部に前記円筒体の内部の空気を排出するための複数の開孔が設けられていることを特徴とする搬送装置。
A transport device for transporting a belt-shaped film in a certain direction,
In the liquid in the liquid tank, provided with a submerged roller to send in contact with the film conveyed in a certain direction,
The submerged roller is
A cylindrical body in contact with the film;
A shaft fixedly supported in the liquid tank;
A side body which is fixed to the cylindrical body and closes both ends of the cylindrical body, and which is rotatably supported by the shaft body via a bearing;
It is configured to have,
A conveying device , wherein a plurality of openings for discharging air inside the cylindrical body are provided at both ends of the cylindrical body .
前記フィルムと接触する前記円筒体の周面に、スパイラル状の溝が形成されていることを特徴する請求項1に記載の搬送装置。 The conveying device according to claim 1, wherein a spiral groove is formed on a peripheral surface of the cylindrical body that contacts the film . 前記軸体は前記円筒体を貫通していることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の搬送装置。 The conveying device according to claim 1, wherein the shaft body passes through the cylindrical body . 前記軸受は、樹脂製の転がり軸受、又は滑り軸受であることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれか1項に記載の搬送装置。 The said bearing is a resin-made rolling bearing or a sliding bearing, The conveying apparatus of any one of Claim 1- Claim 3 characterized by the above-mentioned. 前記軸体における前記軸受の両側には、前記側面体の軸方向の移動を規制する規制板が設けられていることを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれか1項に記載の搬送装置。 The restriction plate which restricts the movement of the axial direction of the side body is provided in the both sides of the bearing in the shaft body, The statement given in any 1 paragraph of Claims 1-4 characterized by things. Conveying device. 帯状のフィルムの導電面をカソード給電ローラに接触させ、前記導電面に電解めっき浴よりめっき被膜を形成する電解めっき浴槽と、An electroplating bath in which the conductive surface of the belt-shaped film is brought into contact with the cathode feeding roller, and a plating film is formed on the conductive surface from an electroplating bath;
前記電解めっき浴槽の下流側で前記フィルムを洗浄する洗浄槽と、A washing tank for washing the film on the downstream side of the electrolytic plating bath;
前記電解めっき浴槽又は前記洗浄槽に請求項1から請求項5までのいずれか1項に記載の搬送装置と、The conveying apparatus according to any one of claims 1 to 5, wherein the electrolytic plating bath or the cleaning tank is used.
を有することを特徴とするめっき被膜付きフィルムの製造装置。An apparatus for producing a film with a plating film, comprising:
JP2006176288A 2006-06-27 2006-06-27 Conveying device and production apparatus for film with plating film Expired - Fee Related JP5079269B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006176288A JP5079269B2 (en) 2006-06-27 2006-06-27 Conveying device and production apparatus for film with plating film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006176288A JP5079269B2 (en) 2006-06-27 2006-06-27 Conveying device and production apparatus for film with plating film

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008007797A JP2008007797A (en) 2008-01-17
JP5079269B2 true JP5079269B2 (en) 2012-11-21

Family

ID=39066269

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006176288A Expired - Fee Related JP5079269B2 (en) 2006-06-27 2006-06-27 Conveying device and production apparatus for film with plating film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5079269B2 (en)

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2724834B2 (en) * 1988-02-25 1998-03-09 京セラ株式会社 Guide roller
JP2004018949A (en) * 2002-06-17 2004-01-22 Toray Ind Inc Method for manufacturing cathode roll for plating and film with plating coat
JP2004035949A (en) * 2002-07-03 2004-02-05 Fuji Kako Kk Continuous surface treatment tank for metallic foil tape, and turning roll in liquid

Also Published As

Publication number Publication date
JP2008007797A (en) 2008-01-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4786393B2 (en) Cleaning device and production device for film with plating film
JP4841996B2 (en) Cleaning device, manufacturing apparatus for film with plating film, cleaning method, and manufacturing method for film with plating film
JP2007270321A5 (en)
JP2006348351A (en) Device and method for producing film with plated coating
JP4694282B2 (en) Apparatus and method for producing film with plating film
JP2006283133A (en) Device and method for producing light transparent and electrically conductive material, electroplating device, and electroplating method
JP2006144120A (en) Method for producing electromagnetic wave shielding light transmission window material and plating apparatus used for the method
JP2006286410A (en) Manufacturing device and manufacturing method of light transmittable conductive material
JP2008248337A (en) Energization processing apparatus and manufacturing apparatus for film with plated film
JP5673582B2 (en) Pretreatment method for electroplating and method for producing copper clad laminated resin film by electroplating method including the pretreatment method
JP2006283137A (en) Method and device for producing film with plated coating film
JP5079269B2 (en) Conveying device and production apparatus for film with plating film
JP2008080270A (en) Washing liquid draining and drying apparatus, manufacturing apparatus of film having plated film, and washing liquid draining and drying method
JP4805195B2 (en) Bearing body, liquid draining device, and apparatus for producing film with plating film
JP2009256757A (en) Film support device and apparatus for forming film with plated coating
JP4884948B2 (en) Electromagnetic wave shielding material roll body and manufacturing method thereof, electromagnetic wave shielding film for display
JP4889982B2 (en) Electromagnetic wave shielding material roll for display and manufacturing method thereof
JP4799970B2 (en) Manufacturing method of electromagnetic shielding material roll body
KR20080102994A (en) Method of developing photosensitive material and method of producing conductive layer attached film
JP2008163407A (en) Plating apparatus, submerged roller, and method of plating film
WO2022224886A1 (en) Wet processing device and method for manufacturing flexible printed board
JP4799971B2 (en) Electromagnetic wave shielding material roll body and manufacturing method thereof
JP5171383B2 (en) Photosensitive material development processing method, method for producing film with conductive film, and photosensitive material development processing apparatus
JP2008163405A (en) Plating apparatus and submerged roller
JP2008163408A (en) Plating apparatus, submerged roller, and method of plating film

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090217

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090824

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110705

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110830

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120522

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120723

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120807

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120829

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150907

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees