JP2002124450A - 電子線露光装置用露光マスクデータの作成方法および電子線露光装置用露光マスクならびに露光方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 集積回路のマスクパターンを複数の領域に分
割する際にパターンが限度を超えて細くなったり、断線
したりしないようにする。 【解決手段】 集積回路のマスクパターンを複数の矩形
領域に分割し、仮想区切り線が重なるパターンを検出し
て、同パターンの幅が基準値以下の場合には、矩形領域
の位置を仮想区切り線に直交する方向に移動して仮想区
切り線とパターンとの重なりを解消する。その上で各矩
形領域のマスクパターンを露光マスクの支柱の幅に相当
する間隔をおいて配列した露光マスクのデータを作成
し、同データを用いて露光マスクを作成する。また、区
切り線を部分的に突出させてパターンの微細化を回避す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電子線露光装置用
露光マスクデータの作成方法、および電子線露光装置用
露光マスク、ならびに露光マスクを用いた電子線露光装
置による露光方法に関し、特に集積回路全体のマスクパ
ターンを複数の領域に分割して各領域のマスクパターン
ごとにパターンを形成した露光マスクを製作するための
電子線露光装置用露光マスクデータの作成方法、および
同電子線露光装置用露光マスク、ならびに同露光マスク
を用いた電子線露光装置による露光方法に関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】電子線露光装置ではスループット向上の
ため、露光マスクを用いた電子線露光方法が採られてい
る。図７および図８は電子線露光装置用の露光マスクを
示す裏面図および断面側面図である。これらの図面に示
したように、露光マスク１０２は、たとえばシリコンの
薄膜から成るマスク本体１０４を、縦横に格子状に配置
した支柱１０６により支持し、マスク本体１０４を補強
した構造となっている。支柱１０６もシリコンにより形
成され、支柱１０６とマスク本体１０４との間には酸化
シリコン膜１０８が介在している。そして、マスクパタ
ーンは、支柱１０６以外の各矩形領域、すなわちマスク
パターン領域１１０に形成され、半導体ウエハーに対す
る電子線の１回の照射は各マスクパターン領域１１０を
通じて行われる。

【０００３】露光マスク１０２がこのように分割されて
いることから、露光マスク１０２を作成する際には、集
積回路全体のマスクパターンは、各マスクパターン領域
１１０に対応づけて、碁盤目状に分割され、碁盤目の各
矩形領域ごとのマスクパターンデータ、すなわちマスク
パターンを構成する各パターンを描画するために必要な
情報を含むデータを用いて、各マスクパターン領域１１
０のマスクパターンが形成される。

【０００４】図９は集積回路のマスクパターンの一例を
示す平面図、図１０は図９のマスクパターンを、露光マ
スク作成のために分割した状態を示す平面図である。こ
の例では、図９に示したマスクパターン１１２が、図１
０に示したように４つの矩形領域に分割されており、各
矩形領域１１４、１１６、１１８、１２０の各マスクパ
ターンデータにより、たとえば露光マスク１０２（図
７）における対応するマスクパターン領域１１０にパタ
ーンが形成される。すなわち、各矩形領域のマスクパタ
ーンは、支柱１０６の幅に相当する間隔１２２をおいて
露光マスク１０２上に形成される。なお、上述のように
各マスクパターン領域１１０を通じて１回の照射が行わ
れるので、マスクパターン１１２は、１回の照射で露光
可能な大きさの領域に分割され、各矩形領域１１４、１
１６、１１８、１２０はそのような大きさとなってい
る。

【０００５】ところで、集積回路のマスクパターンを複
数の矩形領域に分割する場合、矩形領域の区切り線が、
マスクパターンを構成する何らかのパターンに重ったと
きは、そのパターンは２つの領域に分離されることにな
る。図１１の（Ａ）および（Ｂ）は領域分割の結果、パ
ターンが２つの領域に分離された場合の一例を示す平面
図である。この例では、図１１の（Ａ）に示したよう
に、縦に延在する領域の区切り線１２４が、同じく縦に
延在するパターン１２６に重なっており、その結果、パ
ターン１２６は、図１１の（Ｂ）に示したように、矩形
領域１２８、１３０にそれぞれ分割されることになる。
なお、領域の区切り線は実際にそのような線を描画した
りするものではなく、あくまでも仮想的なものである。

【０００６】このように１つのパターンが２つの領域に
分割された場合、露光マスクを作成して半導体ウェハー
を露光する際、パターン１２６の各矩形領域１２８、１
３０に含まれるパターン１３２、１３４はそれぞれ異な
るショットで露光されるので、非常に細いパターンを露
光することになる。その結果、もとのパターン１２６の
太さによっては、パターン１３２、１３４の幅が露光装
置の解像限界を下回ってしまい、露光強度が急激に低下
して、ウェハー上に配線などを形成することができず断
線を生じる場合がある。

【０００７】図１２の（Ａ）および（Ｂ）はパターン幅
と露光強度との関係を示すグラフである。図中、横軸は
パターンを横断する方向に延在するＸ座標の値を表し、
縦軸は露光強度を表している。そして図１２の（Ａ）
は、図１１の（Ａ）に示したパターン１２６に対応する
露光強度を示し、（Ｂ）は図１１の（Ｂ）に示したパタ
ーン１３２または１３４に対応する露光強度を示してい
る。図１２の（Ｂ）に示したように、パターン幅が細い
場合には、露光強度が必要なレベル１３６を上回らず、
配線の切断などが生じてしまう。さらに、露光する際の
露光マスクやショットの位置ずれが存在すると、半導体
ウェハーに形成されたパターン１２６に対応する配線な
どが、１本のパターンとして形成されず、２本のパター
ンに分離してしまう場合もある。

【０００８】特開平１１−３２９９５７号公報には、パ
ターンの配列ピッチを求め、ピッチにもとづいてフィー
ルドサイズ（パターン分割位置）を変更する方法が開示
されているが、この方法は、メモリセルのパターンな
ど、規則的な配列を有するパターンでしか使用できず、
したがって、メモリの周辺回路やロジックパターンな
ど、パターンの配列が場所により異なるような場合には
適用できない。また、パターンの配列方向がＸ方向かＹ
方向かをあらかじめ指定しなければならず、場所により
パターンの配列方向の異なるロジックパターンには適用
できない。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような問
題を解決するためになされたもので、その目的は、パタ
ーンが規則的に配列されていない場合でも、集積回路の
マスクパターンを複数の領域に分割する際にパターンが
限度を超えて細くなったり、断線したりしないようにし
て電子線露光装置用の露光マスクデータを作成する方法
を提供することにある。また、本発明は、パターンが規
則的に配列されていない場合でも、集積回路のマスクパ
ターンを複数の領域に分割する際にパターンが限度を超
えて細くなったり、断線したりしないようにして電子線
露光装置用の露光マスクデータを作成し、同露光マスク
データを用いてパターンを形成した電子線露光装置用露
光マスクを提供することにある。さらに、本発明は、パ
ターンが規則的に配列されていない場合でも、集積回路
のマスクパターンを複数の領域に分割する際にパターン
が限度を超えて細くなったり、断線したりしないように
して電子線露光装置用の露光マスクデータを作成し、同
露光マスクデータにより製作した電子線露光装置用露光
マスクを用いた電子線露光装置による露光方法を提供す
ることにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するため、電子線露光装置で使用する露光マスクを製
作するための露光マスクデータを作成する方法であっ
て、前記露光マスクの縦横の格子状に延在する支柱によ
り区切られた各マスクパターン領域に対応づけて、集積
回路のマスクパターンを複数の矩形領域に分割し、前記
矩形領域の仮想区切り線が重なる、前記マスクパターン
に含まれるパターンを検出し、検出した前記パターン
の、前記仮想区切り線に直交する方向の幅が基準値以下
か否かを判定し、判定結果が正の場合には、前記仮想区
切り線により区切られた前記矩形領域の位置を前記仮想
区切り線に直交する方向に移動して前記仮想区切り線と
前記パターンとの重なりを解消し、その上で各矩形領域
のマスクパターンを前記支柱の幅に相当する間隔をおい
て配列するとともに、前記支柱に対応するパターンを配
置した前記露光マスクのデータを作成することを特徴と
する。

【００１１】また、本発明は、電子線露光装置で使用す
る露光マスクであって、前記露光マスクの縦横の格子状
に延在する支柱により区切られた各マスクパターン領域
に対応づけて、集積回路のマスクパターンを複数の矩形
領域に分割し、前記矩形領域の仮想区切り線が重なる、
前記マスクパターンに含まれるパターンを検出し、検出
した前記パターンの、前記仮想区切り線に直交する方向
の幅が基準値以下か否かを判定し、判定結果が正の場合
には、前記仮想区切り線により区切られた前記矩形領域
の位置を前記仮想区切り線に直交する方向に移動して前
記仮想区切り線と前記パターンとの重なりを解消し、そ
の上で各矩形領域の前記マスクパターンを前記支柱の幅
に相当する間隔をおいて配列するとともに、前記支柱に
対応するパターンを配置した前記露光マスクのデータを
作成し、作成した前記露光マスクデータによりパターン
を形成したことを特徴とする。

【００１２】また、本発明は、露光マスクを用いた電子
線露光装置による露光方法であって、露光マスクの縦横
の格子状に延在する支柱により区切られた各マスクパタ
ーン領域に対応づけて、集積回路のマスクパターンを複
数の矩形領域に分割し、前記矩形領域の仮想区切り線が
重なる、前記マスクパターンに含まれるパターンを検出
し、検出した前記パターンの、前記仮想区切り線に直交
する方向の幅が基準値以下か否かを判定し、判定結果が
正の場合には、前記仮想区切り線により区切られた前記
矩形領域の位置を前記仮想区切り線に直交する方向に移
動して前記仮想区切り線と前記パターンとの重なりを解
消し、その上で各矩形領域の前記マスクパターンを前記
支柱の幅に相当する間隔をおいて配列するとともに、前
記支柱に対応するパターンを配置した前記露光マスクの
データを作成し、作成した露光マスクデータによりパタ
ーンを形成した前記露光マスクを用い、前記位置を移動
させた矩形領域に対応するマスクパターン領域を通じて
露光する際には、露光対象を、前記矩形領域を移動させ
た方向に、対応する移動量だけ移動させることを特徴と
する。

【００１３】すなわち、本発明の電子線露光装置用露光
マスクデータの作成方法では、集積回路のマスクパター
ンを複数の矩形領域に分割し、仮想区切り線が重なるパ
ターンを検出して、同パターンの幅が基準値以下の場合
には、矩形領域の位置を仮想区切り線に直交する方向に
移動して仮想区切り線とパターンとの重なりを解消す
る。その上で各矩形領域のマスクパターンを上記支柱の
幅に相当する間隔をおいて配列した露光マスクのデータ
を作成する。そして、本発明の電子線露光装置用露光マ
スクでは、このような露光マスクデータを用いて露光マ
スクを作成する。

【００１４】したがって、この露光マスクでは、パター
ンが規則的に配列されていない場合でも従来のように幅
が基準値以下の細いパターンが２つの領域に分割されさ
らに細いパターンとなることを回避でき、露光対象を常
に十分な露光強度で露光して、集積回路の配線などが限
度を超えて細くなったり、切断されるといった不具合の
発生を防止できる。

【００１５】また、本発明の露光マスクを用いた電子線
露光装置による露光方法では、上記露光マスクを用い、
上記位置を移動させた矩形領域に対応するマスクパター
ン領域を通じて露光する際には、露光対象を、矩形領域
を移動させた方向に、対応する移動量だけ移動させるの
で、露光対象上の本来の位置を正しく露光することがで
きる。

【００１６】また、本発明は、電子線露光装置で使用す
る露光マスクを製作するための露光マスクデータを作成
する方法であって、前記露光マスクの縦横の格子状に延
在する支柱により区切られた各マスクパターン領域に対
応づけて、集積回路のマスクパターンを複数の矩形領域
に分割し、前記矩形領域の仮想区切り線が横断し、かつ
前記仮想区切り線に直交する方向への前記仮想区切り線
からの突出量が基準値以下である、前記マスクパターン
に含まれるパターンを検出し、検出した前記パターンを
横断する前記仮想区切り線を、前記パターンの箇所にお
いて前記パターンの突出方向に突出させて前記パターン
を横断しないように迂回させ、その上で各領域の前記マ
スクパターンを前記支柱の幅に相当する間隔をおいて配
列するとともに、前記支柱に対応するパターンを配置し
た前記露光マスクのデータを作成することを特徴とす
る。

【００１７】また、本発明は、電子線露光装置で使用す
る露光マスクであって、前記露光マスクの縦横の格子状
に延在する支柱により区切られた各マスクパターン領域
に対応づけて、集積回路のマスクパターンを複数の矩形
領域に分割し、前記矩形領域の仮想区切り線が横断し、
かつ前記仮想区切り線に直交する方向への前記仮想区切
り線からの突出量が基準値以下である、前記マスクパタ
ーンに含まれるパターンを検出し、検出した前記パター
ンを横断する前記仮想区切り線を、前記パターンの箇所
において前記パターンの突出方向に突出させて前記パタ
ーンを横断しないように迂回させ、その上で各領域の前
記マスクパターンを前記支柱の幅に相当する間隔をおい
て配列するとともに、前記支柱に対応するパターンを配
置した前記露光マスクのデータを作成し、作成した前記
露光マスクデータによりパターンを形成したことを特徴
とする。

【００１８】すなわち、本発明の電子線露光装置用露光
マスクデータの作成方法では、集積回路のマスクパター
ンを複数の矩形領域に分割した際に、仮想区切り線が横
断し、かつ仮想区切り線に直交する方向への仮想区切り
線からの突出量が基準値以下であるパターンを検出し
て、同パターンを横断する仮想区切り線を、パターンの
箇所においてパターンの突出方向に突出させてパターン
を横断しないように迂回させる。その上で各矩形領域の
マスクパターンを上記支柱の幅に相当する間隔をおいて
配列した露光マスクのデータを作成する。そして本発明
の電子線露光装置用露光マスクでは、このような露光マ
スクデータを用いて露光マスクを作成する。

【００１９】したがって、作成した露光マスクでは、コ
ンタクトパターンなどがマトリクス状に配列され、かつ
偶数行と奇数行の位置がずれているような場合でも、コ
ンタクトパターンが２つの領域に分割されて細いパター
ンとなることを回避でき、露光対象を常に十分な露光強
度で露光して、集積回路に形成するコンタクトなどが限
度を超えて細くなったり、切断されるといった不具合の
発生を防止できる。

【００２０】また、本発明は、電子線露光装置で使用す
る露光マスクを製作するための露光マスクデータを作成
する方法であって、前記露光マスクの縦横の格子状に延
在する支柱により区切られた各マスクパターン領域に対
応づけて、集積回路のマスクパターンを複数の矩形領域
に分割し、前記矩形領域の縦横の仮想区切り線が交差す
る箇所に存在し、かつ同交差箇所近傍で縦横の前記仮想
区切り線にそれぞれ平行な方向での幅がともに基準値以
下である、前記マスクパターンに含まれるパターンを検
出し、検出した前記パターンを横断する縦横の前記仮想
区切り線のいずれか一方または両方を、前記パターンが
同時に３つ以上の領域に分割されないように、前記交差
箇所近傍においてそれぞれの延在方向に直交する方向に
突出させ、その上で各領域の前記マスクパターンを前記
支柱の幅に相当する間隔をおいて配列するとともに、前
記支柱に対応するパターンを配置した前記露光マスクの
データを作成することを特徴とする。

【００２１】また、本発明は、電子線露光装置で使用す
る露光マスクであって、前記露光マスクの縦横の格子状
に延在する支柱により区切られた各マスクパターン領域
に対応づけて、集積回路のマスクパターンを複数の矩形
領域に分割し、前記矩形領域の縦横の仮想区切り線が交
差する箇所に存在し、かつ同交差箇所近傍で縦横の前記
仮想区切り線にそれぞれ平行な方向での幅がともに基準
値以下である、前記マスクパターンに含まれるパターン
を検出し、検出した前記パターンを横断する縦横の前記
仮想区切り線のいずれか一方または両方を、前記パター
ンが同時に３つ以上の領域に分割されないように、前記
交差箇所近傍においてそれぞれの延在方向に直交する方
向に突出させ、その上で各領域の前記マスクパターンを
前記支柱の幅に相当する間隔をおいて配列するととも
に、前記支柱に対応するパターンを配置した前記露光マ
スクのデータを作成し、作成した前記露光マスクデータ
によりパターンを形成したことを特徴とする。

【００２２】すなわち、本発明の電子線露光装置用露光
マスクデータの作成方法では、集積回路のマスクパター
ンを、複数の矩形領域に分割した際に、矩形領域の縦横
の仮想区切り線が交差する箇所に存在し、かつ同交差箇
所近傍で縦横の仮想区切り線にそれぞれ平行な方向での
幅がともに基準値以下であるパターンを検出する。そし
て、検出したパターンを横断する縦横の仮想区切り線の
いずれか一方または両方を、パターンが同時に３つ以上
の領域に分割されないように、交差箇所近傍において各
延在方向に直交する方向に突出させ、その上で各領域の
マスクパターンを上記支柱の幅に相当する間隔をおいて
配列した露光マスクのデータを作成する。本発明の電子
線露光装置用露光マスクでは、この露光マスクデータを
用いて露光マスクを作成する。

【００２３】したがって、この露光マスクでは、パター
ンが斜めに延在しており縦横の仮想区切り線の交差箇所
がそのパターンに重なったような場合でも、パターンが
３つ以上の領域に分割されて微細化することを回避で
き、露光対象を常に十分な露光強度で露光して、集積回
路の配線などが限度を超えて細くなったり、切断される
といった不具合の発生を防止できる。

【００２４】

【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態例につい
て図面を参照して説明する。図１は本発明による電子線
露光装置用露光マスクデータの作成方法の実施の形態例
における各工程を示すフローチャートである。以下で
は、図１および他の図面を参照して、本発明による電子
線露光装置用露光マスクデータの作成方法の実施の形態
例について説明し、同時に本発明の電子線露光装置用露
光マスクおよび露光マスクを用いた電子線露光装置によ
る露光方法の実施の形態例について説明する。

【００２５】ここでは、図７および図８を参照して説明
したように、全体が縦横の格子状に延在する支柱１０６
により区切られ、複数のマスクパターン領域１１０がマ
トリクス状に配列された形態の露光マスクを作成する。
まず、集積回路のマスクパターンのデータを用意する
（ステップＳ１）。このマスクパターンのデータは一種
のＣＡＤデータであり、設計されたマスクパターンを平
面上に描画するために必要な情報をすべて含んでいる。
次に、マスクパターン領域１１０（図７）のサイズおよ
び支柱１０６の幅を設定し（ステップＳ２）、またパタ
ーンの幅の大小を判定するための基準値を設定する（ス
テップＳ３）。この基準値は、たとえばパターンの幅と
して許容できる最小値よりやや大きい値に設定する。

【００２６】その後、上記マスクパターンデータにより
表される集積回路のマスクパターンを、露光マスクの縦
横の格子状に延在する支柱１０６により区切られた各マ
スクパターン領域１１０に対応づけて、上記マスクパタ
ーン領域１１０のサイズにしたがい重複しない複数の矩
形領域に分割する（ステップＳ４）。そして、上記矩形
領域の区切り線が重る、マスクパターンに含まれるパタ
ーンをすべて検出し（ステップＳ５）、検出したパター
ンの、区切り線に直交する方向の幅が基準値以下か否か
を判定する（ステップＳ６）。この判定結果が正の場合
には（ステップＳ６でＹＥＳ）、上記区切り線に係る矩
形領域の位置を区切り線に直交する方向に移動して区切
り線と、検出したすべてのパターンとの重なりを解消す
る（ステップＳ７）。

【００２７】ステップＳ６、Ｓ７についてさらに詳しく
説明する。図２の（Ａ）および（Ｂ）は縦の区切り線が
重なったパターンの一例を示す平面図である。図２の
（Ａ）に示したように、パターン２、４に縦の区切り線
６が重なっており、パターン２の幅Ｌ１は十分に広い
が、パターン４の幅Ｌ２は細いものとなっている。この
パターン４の幅Ｌ２が上記基準値以下であったとする
と、矩形領域の位置を右方向に若干移動させる。その結
果、この区切り線６は、図２の（Ｂ）に示したように、
図面上で右に若干移動して区切り線６とパターン４との
重なりが解消する。

【００２８】なお、各マスクパターン領域１１０のサイ
ズは変更しないので、区切り線６を挟む矩形領域を上の
ように移動させた場合には、これらの矩形領域に連なっ
て横に配列された矩形領域もすべて同様に移動させるこ
とになる。また、図３の（Ａ）および（Ｂ）は横の区切
り線が重なったパターンの一例を示す平面図である。図
３の（Ａ）に示したように、パターン８、１０に横の区
切り線１２が重なっており、パターン８の幅Ｌ３は十分
に広いが、パターン１０の幅Ｌ４は細いものとなってい
る。このパターン１０の幅Ｌ４が上記基準値以下であっ
たとすると、矩形領域の位置を下方向に若干移動させ
る。その結果、この区切り線１２は、図３の（Ｂ）に示
したように、図面上で下に若干移動して区切り線１２と
パターン１０との重なりが解消する。なお、この場合に
も区切り線１２を挟む矩形領域を上のように移動させた
場合には、これらの矩形領域に連なって縦に配列された
矩形領域はすべて同様に移動させることになる。

【００２９】このように矩形領域を移動させた上で各矩
形領域のマスクパターンを支柱１０６の幅に相当する間
隔をおいて配列し、また支柱に対応するパターンを配置
した露光マスクのデータを作成する（ステップＳ８）。
このデータが表す露光マスクは、各矩形領域のマスクパ
ターンが支柱１０６の幅に相当する間隔をおいて配列さ
れているという点で、図１０と同種のものとなる。

【００３０】この露光マスクデータを用いて作成した露
光マスクでは、上述のように矩形領域を移動させたた
め、パターンが規則的に配列されていない場合でも従来
のように幅が基準値以下の細いパターンが２つの領域に
分割されさらに細いパターンとなることを回避でき、露
光対象を常に十分な露光強度で露光して、集積回路の回
路パターンなどが限度を超えて細くなったり、切断され
るといった不具合の発生を防止できる。

【００３１】また、この露光マスクを用い、上記位置を
移動させた矩形領域に対応するマスクパターン領域１１
０を通じて露光する際には、照射対象である半導体ウェ
ハーを、矩形領域を移動させた方向に、対応する移動量
だけ移動させる。その結果、上述のような矩形領域の移
動によるパターンの位置ずれが解消し、半導体ウェハー
上の本来の位置を正しく露光することができる。

【００３２】次に露光マスクの作成方法の一例について
説明する。図４は露光マスクの作成方法の一例を示す工
程図である。まず、上述のように作成した露光マスクデ
ータを用いて、図４の（Ａ）に示したように、シリコン
基板１４の表面に形成したフォトレジスト層１６をパタ
ーンニングし、シリコン基板１４のエッチング用マスク
１８を形成する。次に、図４の（Ｂ）に示したように、
エッチング用マスク１８をマスクとしてシリコン基板１
４をエッチングしフォトレジスト層１６を除去した後、
図４の（Ｃ）に示したように、裏面エッチング用マスク
１９を形成し、このマスクを用いて支柱１０６以外の箇
所をエッチングして、図４の（Ｄ）に示したように、露
光マスク２０を完成させる。

【００３３】次に、本発明の第２の実施の形態例につい
て説明する。図５の（Ａ）および（Ｂ）はマトリクス状
に配列されたコンタクトを形成するためのマスクパター
ンの一例を示す部分平面図である。このマスクパターン
では、各コンタクト用のパターンがマトリクス状に配列
されているが、偶数行と奇数行の位置が若干ずれてい
る。したがって、このようなマスクパターンを上述の場
合と同様、複数の矩形領域に分割すると、領域の区切り
線２２は、図５の（Ａ）に示したように、かならずいず
れかのパターン２４を横断することになる。

【００３４】そこで、第２の実施の形態例では、矩形領
域の区切り線２２が横断し、かつ区切り線２２に直交す
る方向への区切り線からのパターン２４の突出量が上記
基準値以下であるパターン２６、２８を検出し、検出し
たパターン２６、２８を横断する区切り線２２を、図５
の（Ｂ）に示したように、パターンの箇所においてパタ
ーンの突出方向に部分的に突出させてパターン２６、２
８を横断しないように迂回させる。その上で各領域のマ
スクパターンを支柱の幅に相当する間隔をおいて配列す
るとともに、支柱に対応するパターンを配置した露光マ
スクのデータを作成し、また、同データを用いてパター
ンを形成した露光マスクを作成する。

【００３５】したがって、作成した露光マスクでは、パ
ターンがマトリクス状に配列され、かつ偶数行と奇数行
の位置がずれているような場合でも、パターンが２つの
領域に分割されて細いパターンとなることを回避でき、
露光対象を常に十分な露光強度で露光して、集積回路に
形成するコンタクトなどが限度を超えて細くなったり、
切断されるといった不具合の発生を防止できる。

【００３６】なお、第２の実施の形態例では上述のよう
に、区切り線を部分的に突出させるので、その突出量に
相当する幅だけ、各マスクパターン領域１１０（図７）
の幅をあらかじめ広く確保しておく。これにより、区切
り線の突出部のパターンも、対応するマスクパターン領
域１１０に形成することができる。また、第２の実施の
形態例では最初の実施の形態例のように矩形領域は移動
させないので、露光時に半導体ウェアーを移動させる必
要はない。

【００３７】次に、本発明の第３の実施の形態例につい
て説明する。図６の（Ａ）ないし（Ｃ）は斜めに延在す
るパターンを含むマスクパターンの一例を示す部分平面
図である。図６の（Ａ）は、上述のような集積回路のマ
スクパターンの領域分割の結果、区切り線３０が斜めの
パターン３２を横断した場合を示し、図６の（Ｂ）は、
縦横の仮想区切り線３４、３６が交差する箇所がパター
ン３２の縁部上に存在し、図６の（Ｃ）は、縦横の仮想
区切り線３４、３６が交差する箇所がパターン３２上に
存在する場合を示している。

【００３８】図６の（Ａ）の場合には、区切り線３４が
横断しても、パターン３２に対応する配線などの幅が問
題となる程度に細くなる可能性は低いが、図６の（Ｂ）
および（Ｃ）の場合は、パターン３２が３つ、または４
つの領域に分割されるため、露光マスクを用いて形成し
た配線の切断などが生じる可能性が高い。

【００３９】そこで、第３の実施の形態例では、図の例
の場合、矩形領域の縦横の仮想区切り線３４、３６が交
差する箇所に存在し、かつ同交差箇所近傍で縦横の仮想
区切り線にそれぞれ平行な方向での幅がともに基準値以
下であるパターン３２を検出し、検出したパターンを横
断する縦横の仮想区切り線のいずれか一方または両方
を、パターンが同時に３つ以上の領域に分割されないよ
うに、交差箇所近傍において各延在方向に直交する方向
に部分的に突出させる。

【００４０】図６の（Ｂ）では、区切り線３６を交差箇
所近傍で上方に突出させており、その結果、パターン３
２は２つの領域３８、４０にのみ分割されることにな
る。また、図６の（Ｃ）では、点線３６Ａで示したよう
に、区切り線３６を交差箇所の左側で上方に、右側で下
方に突出させており、その結果、パターン３２はこの場
合にも２つの領域３８、４０にのみ分割されることにな
る。

【００４１】このように区切り線を操作した後、各領域
のマスクパターンを支柱の幅に相当する間隔をおいて配
列するとともに、支柱に対応するパターンを配置した露
光マスクのデータを作成し、同データを用いて露光マス
クを作成する。したがって、作成した露光マスクでは、
パターンが斜めに延在しており縦横の区切り線の交差箇
所がそのパターンに重なったような場合でも、パターン
が複数の領域に分割されて微細化することを回避でき、
露光対象を常に十分な露光強度で露光して、集積回路の
配線などが限度を超えて細くなったり、切断されるとい
った不具合の発生を防止できる。

【００４２】なお、この第３の実施の形態例でも、区切
り線を部分的に突出させるので、その突出量に相当する
幅だけ、各マスクパターン領域１１０（図７）の幅をあ
らかじめ広く確保し、区切り線の突出部のパターンが、
対応するマスクパターン領域１１０に形成されるように
する。また、第３の実施の形態例でも最初の実施の形態
例のように矩形領域は移動させないので、露光時に半導
体ウェアーを移動させる必要はない。

【００４３】

【発明の効果】以上説明したように本発明の電子線露光
装置用露光マスクデータの作成方法では、集積回路のマ
スクパターンを複数の矩形領域に分割し、仮想区切り線
が重なるパターンを検出して、同パターンの幅が基準値
以下の場合には、矩形領域の位置を仮想区切り線に直交
する方向に移動して仮想区切り線とパターンとの重なり
を解消する。その上で各矩形領域のマスクパターンを上
記支柱の幅に相当する間隔をおいて配列した露光マスク
のデータを作成する。そして、本発明の電子線露光装置
用露光マスクでは、このような露光マスクデータを用い
て露光マスクを作成する。

【００４４】したがって、この露光マスクでは、パター
ンが規則的に配列されていない場合でも従来のように幅
が基準値以下の細いパターンが２つの領域に分割されさ
らに細いパターンとなることを回避でき、露光対象を常
に十分な露光強度で露光して、集積回路の配線などが限
度を超えて細くなったり、切断されるといった不具合の
発生を防止できる。

【００４５】また、本発明の露光マスクを用いた電子線
露光装置による露光方法では、上記露光マスクを用い、
上記位置を移動させた矩形領域に対応するマスクパター
ン領域を通じて露光する際には、露光対象を、矩形領域
を移動させた方向に、対応する移動量だけ移動させるの
で、露光対象上の本来の位置を正しく露光することがで
きる。

【００４６】さらに、本発明の電子線露光装置用露光マ
スクデータの作成方法では、集積回路のマスクパターン
を複数の矩形領域に分割した際に、仮想区切り線が横断
し、かつ仮想区切り線に直交する方向への仮想区切り線
からの突出量が基準値以下であるパターンを検出して、
同パターンを横断する仮想区切り線を、パターンの箇所
においてパターンの突出方向に突出させてパターンを横
断しないように迂回させる。その上で各矩形領域のマス
クパターンを上記支柱の幅に相当する間隔をおいて配列
した露光マスクのデータを作成する。そして本発明の電
子線露光装置用露光マスクでは、このような露光マスク
データを用いて露光マスクを作成する。

【００４７】したがって、作成した露光マスクでは、コ
ンタクトパターンなどがマトリクス状に配列され、かつ
偶数行と奇数行の位置がずれているような場合でも、コ
ンタクトパターンが２つの領域に分割されて細いパター
ンとなることを回避でき、露光対象を常に十分な露光強
度で露光して、集積回路に形成するコンタクトなどが限
度を超えて細くなったり、切断されるといった不具合の
発生を防止できる。

【００４８】そして、本発明の電子線露光装置用露光マ
スクデータの作成方法では、集積回路のマスクパターン
を、複数の矩形領域に分割した際に、矩形領域の縦横の
仮想区切り線が交差する箇所に存在し、かつ同交差箇所
近傍で縦横の仮想区切り線にそれぞれ平行な方向での幅
がともに基準値以下であるパターンを検出する。そし
て、検出したパターンを横断する縦横の仮想区切り線の
いずれか一方または両方を、パターンが同時に３つ以上
の領域に分割されないように、交差箇所近傍において各
延在方向に直交する方向に突出させ、その上で各領域の
マスクパターンを上記支柱の幅に相当する間隔をおいて
配列した露光マスクのデータを作成する。本発明の電子
線露光装置用露光マスクでは、この露光マスクデータを
用いて露光マスクを作成する。

【００４９】したがって、この露光マスクでは、パター
ンが斜めに延在しており縦横の仮想区切り線の交差箇所
がそのパターンに重なったような場合でも、パターンが
３つ以上の領域に分割されて微細化することを回避で
き、露光対象を常に十分な露光強度で露光して、集積回
路の配線などが限度を超えて細くなったり、切断される
といった不具合の発生を防止できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による電子線露光装置用露光マスクデー
タの作成方法の実施の形態例における各工程を示すフロ
ーチャートである。

【図２】（Ａ）および（Ｂ）は縦の区切り線が重なった
パターンの一例を示す平面図である。

【図３】（Ａ）および（Ｂ）は横の区切り線が重なった
パターンの一例を示す平面図である。

【図４】露光マスクの作成方法を示す工程図である。

【図５】（Ａ）および（Ｂ）はマトリクス状に配列され
たコンタクトを形成するためのマスクパターンの一例を
示す部分平面図である。

【図６】（Ａ）ないし（Ｃ）は斜めに延在するパターン
を含むマスクパターンの一例を示す部分平面図である。

【図７】電子線露光装置用の露光マスクを示す裏面図で
ある。

【図８】電子線露光装置用の露光マスクを示す断面側面
図である。

【図９】集積回路のマスクパターンの一例を示す平面図
である。

【図１０】図９のマスクパターンを、露光マスク作成の
ために分割した状態を示す平面図である。

【図１１】（Ａ）ないし（Ｃ）は領域分割の結果、パタ
ーンが２つの領域に分離された場合の一例を示す平面図
である。

【図１２】（Ａ）および（Ｂ）はパターン幅と露光強度
との関係を示すグラフである。

【符号の説明】

２、４、８、１０……パターン、６、１２……区切り
線、１４……シリコン基板、１６……フォトレジスト
層、１８……エッチング用マスク、２０……露光マス
ク、２２……領域の区切り線、２４、２６、２８……パ
ターン、３０……区切り線、３２……パターン、３４、
３６……仮想区切り線、１０２……露光マスク、１０４
……マスク本体、１０６……支柱、１０８……酸化シリ
コン膜、１１０……マスクパターン領域、１１２……マ
スクパターン、１１４、１１６、１１８、１２０……矩
形領域、１２４……区切り線、１２６……パターン、１
２８、１３０……矩形領域、１３２、１３４……パター
ン。

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 電子線露光装置で使用する露光マスクを
   製作するための露光マスクデータを作成する方法であっ
   て、 前記露光マスクの縦横の格子状に延在する支柱により区
   切られた各マスクパターン領域に対応づけて、集積回路
   のマスクパターンを複数の矩形領域に分割し、 前記矩形領域の仮想区切り線が重なる、前記マスクパタ
   ーンに含まれるパターンを検出し、 検出した前記パターンの、前記仮想区切り線に直交する
   方向の幅が基準値以下か否かを判定し、 判定結果が正の場合には、前記仮想区切り線により区切
   られた前記矩形領域の位置を前記仮想区切り線に直交す
   る方向に移動して前記仮想区切り線と前記パターンとの
   重なりを解消し、 その上で各矩形領域のマスクパターンを前記支柱の幅に
   相当する間隔をおいて配列するとともに、前記支柱に対
   応するパターンを配置した前記露光マスクのデータを作
   成することを特徴とする電子線露光装置用露光マスクデ
   ータの作成方法。
2. 【請求項２】 電子線露光装置で使用する露光マスクで
   あって、 前記露光マスクの縦横の格子状に延在する支柱により区
   切られた各マスクパターン領域に対応づけて、集積回路
   のマスクパターンを複数の矩形領域に分割し、 前記矩形領域の仮想区切り線が重なる、前記マスクパタ
   ーンに含まれるパターンを検出し、 検出した前記パターンの、前記仮想区切り線に直交する
   方向の幅が基準値以下か否かを判定し、 判定結果が正の場合には、前記仮想区切り線により区切
   られた前記矩形領域の位置を前記仮想区切り線に直交す
   る方向に移動して前記仮想区切り線と前記パターンとの
   重なりを解消し、 その上で各矩形領域の前記マスクパターンを前記支柱の
   幅に相当する間隔をおいて配列するとともに、前記支柱
   に対応するパターンを配置した前記露光マスクのデータ
   を作成し、 作成した前記露光マスクデータによりパターンを形成し
   たことを特徴とする電子線露光装置用露光マスク。
3. 【請求項３】 露光マスクを用いた電子線露光装置によ
   る露光方法であって、 露光マスクの縦横の格子状に延在する支柱により区切ら
   れた各マスクパターン領域に対応づけて、集積回路のマ
   スクパターンを複数の矩形領域に分割し、 前記矩形領域の仮想区切り線が重なる、前記マスクパタ
   ーンに含まれるパターンを検出し、 検出した前記パターンの、前記仮想区切り線に直交する
   方向の幅が基準値以下か否かを判定し、 判定結果が正の場合には、前記仮想区切り線により区切
   られた前記矩形領域の位置を前記仮想区切り線に直交す
   る方向に移動して前記仮想区切り線と前記パターンとの
   重なりを解消し、 その上で各矩形領域の前記マスクパターンを前記支柱の
   幅に相当する間隔をおいて配列するとともに、前記支柱
   に対応するパターンを配置した前記露光マスクのデータ
   を作成し、 作成した前記露光マスクデータによりパターンを形成し
   た前記露光マスクを用い、前記位置を移動させた矩形領
   域に対応するマスクパターン領域を通じて露光する際に
   は、露光対象を、前記矩形領域を移動させた方向に、対
   応する移動量だけ移動させることを特徴とする露光マス
   クを用いた電子線露光装置による露光方法。
4. 【請求項４】 電子線露光装置で使用する露光マスクを
   製作するための露光マスクデータを作成する方法であっ
   て、 前記露光マスクの縦横の格子状に延在する支柱により区
   切られた各マスクパターン領域に対応づけて、集積回路
   のマスクパターンを複数の矩形領域に分割し、 前記矩形領域の仮想区切り線が横断し、かつ前記仮想区
   切り線に直交する方向への前記仮想区切り線からの突出
   量が基準値以下である、前記マスクパターンに含まれる
   パターンを検出し、 検出した前記パターンを横断する前記仮想区切り線を、
   前記パターンの箇所において前記パターンの突出方向に
   突出させて前記パターンを横断しないように迂回させ、 その上で各領域の前記マスクパターンを前記支柱の幅に
   相当する間隔をおいて配列するとともに、前記支柱に対
   応するパターンを配置した前記露光マスクのデータを作
   成することを特徴とする電子線露光装置用露光マスクデ
   ータの作成方法。
5. 【請求項５】 電子線露光装置で使用する露光マスクで
   あって、 前記露光マスクの縦横の格子状に延在する支柱により区
   切られた各マスクパターン領域に対応づけて、集積回路
   のマスクパターンを複数の矩形領域に分割し、 前記矩形領域の仮想区切り線が横断し、かつ前記仮想区
   切り線に直交する方向への前記仮想区切り線からの突出
   量が基準値以下である、前記マスクパターンに含まれる
   パターンを検出し、 検出した前記パターンを横断する前記仮想区切り線を、
   前記パターンの箇所において前記パターンの突出方向に
   突出させて前記パターンを横断しないように迂回させ、 その上で各領域の前記マスクパターンを前記支柱の幅に
   相当する間隔をおいて配列するとともに、前記支柱に対
   応するパターンを配置した前記露光マスクのデータを作
   成し、 作成した前記露光マスクデータによりパターンを形成し
   たことを特徴とする電子線露光装置用露光マスク。
6. 【請求項６】 電子線露光装置で使用する露光マスクを
   製作するための露光マスクデータを作成する方法であっ
   て、 前記露光マスクの縦横の格子状に延在する支柱により区
   切られた各マスクパターン領域に対応づけて、集積回路
   のマスクパターンを複数の矩形領域に分割し、 前記矩形領域の縦横の仮想区切り線が交差する箇所に存
   在し、かつ同交差箇所近傍で縦横の前記仮想区切り線に
   それぞれ平行な方向での幅がともに基準値以下である、
   前記マスクパターンに含まれるパターンを検出し、 検出した前記パターンを横断する縦横の前記仮想区切り
   線のいずれか一方または両方を、前記パターンが同時に
   ３つ以上の領域に分割されないように、前記交差箇所近
   傍においてそれぞれの延在方向に直交する方向に突出さ
   せ、 その上で各領域の前記マスクパターンを前記支柱の幅に
   相当する間隔をおいて配列するとともに、前記支柱に対
   応するパターンを配置した前記露光マスクのデータを作
   成することを特徴とする電子線露光装置用露光マスクデ
   ータの作成方法。
7. 【請求項７】 電子線露光装置で使用する露光マスクで
   あって、 前記露光マスクの縦横の格子状に延在する支柱により区
   切られた各マスクパターン領域に対応づけて、集積回路
   のマスクパターンを複数の矩形領域に分割し、 前記矩形領域の縦横の仮想区切り線が交差する箇所に存
   在し、かつ同交差箇所近傍で縦横の前記仮想区切り線に
   それぞれ平行な方向での幅がともに基準値以下である、
   前記マスクパターンに含まれるパターンを検出し、 検出した前記パターンを横断する縦横の前記仮想区切り
   線のいずれか一方または両方を、前記パターンが同時に
   ３つ以上の領域に分割されないように、前記交差箇所近
   傍においてそれぞれの延在方向に直交する方向に突出さ
   せ、 その上で各領域の前記マスクパターンを前記支柱の幅に
   相当する間隔をおいて配列するとともに、前記支柱に対
   応するパターンを配置した前記露光マスクのデータを作
   成し、 作成した前記露光マスクデータによりパターンを形成し
   たことを特徴とする電子線露光装置用露光マスク。