JP2002121595A - 循環式水槽システムの洗浄方法及び循環式水槽システム用洗浄剤組成物 - Google Patents

循環式水槽システムの洗浄方法及び循環式水槽システム用洗浄剤組成物

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JP2002121595A JP2000312031A JP2000312031A JP2002121595A JP 2002121595 A JP2002121595 A JP 2002121595A JP 2000312031 A JP2000312031 A JP 2000312031A JP 2000312031 A JP2000312031 A JP 2000312031A JP 2002121595 A JP2002121595 A JP 2002121595A
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茂斗志 吉田
Masashi Yoshida
政司 吉田
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Abstract

(57)【要約】 【課題】人体に対しての害やシステムに対するダメージ
が極めて少なく、レジオネラ属菌等が生息する生物膜等
を有効に除去することが可能な循環式水槽システムの洗
浄方法及び該方法等に用いる洗浄剤組成物を提供するこ
と。 【解決手段】循環式水槽システムにおいて、第４級アン
モニウム塩及び２−フェノキシエタノールを合計で１５
０〜５０００ｐｐｍの濃度で含む水又は湯を少なくとも
１回循環させた後、排水する循環式水槽システムの洗浄
方法、及び第４級アンモニウム塩と、２−フェノキシエ
タノールと、第４級アンモニウム塩及び２−フェノキシ
エタノールを溶解するアルコールとを含む循環式水槽シ
ステム用洗浄剤組成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、水又は湯の循環式
システムを備えた、共同浴場、家庭用浴槽、屋内外プー
ル等の循環式水槽システムの洗浄方法及び該方法等に用
いる循環式水槽システム用洗浄剤組成物に関する。更に
詳細には、人体に対しての害やシステムに対するダメー
ジが極めて少なく、レジオネラ属菌等が生息する生物膜
(バイオフィルム)等を有効に除去することが可能な循環
式水槽システムの洗浄方法及び該方法等に用いる循環式
水槽システム用洗浄剤組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】水又は湯の循環式システムを備えた、共
同浴場、家庭用浴槽、屋内外プール等の循環式水槽シス
テムは、その浄化のために通常、プレフィルターやヘア
キャッチャー等の循環経路に粗大汚濁物を除去する装
置、並びに濾材を充填した濾過機等を備える。また、該
システムの殺菌消毒のために、主に次亜塩素酸ナトリウ
ム溶液やイソシアヌル酸ナトリウム等を所定濃度で水又
は湯に溶解させて循環させることが行なわれている。更
に、浴槽水のみを消毒するために、オゾン、紫外線、光
触媒、塩素剤等が使用されることもある。しかし、近
年、このような浄化、殺菌を施した循環式水槽システム
においてもレジオネラ症等の感染が問題となっており、
特に、エアロゾルを発生させ、人の呼吸器に該エアロゾ
ルが吸入される恐れがある、渦流浴、泡風呂、ジャグジ
ー等が備えられた循環式水槽ではこのような問題の解決
が急務である。
【０００３】このようなレジオネラ症の原因としては、
循環式水槽システムにおける、曲がった管路や継目、更
には浄化槽等の物理的洗浄が困難な箇所に、耐塩素性菌
や藻類による生物膜が形成され、該生物膜内にレジオネ
ラ属菌等が生息するために、殺菌消毒のための、上記次
亜塩素酸ナトリウム溶液等の塩素系殺菌剤が該レジオネ
ラ属菌等に対して所望の作用を示さないことが考えられ
る。このような生物膜は、新設の循環式水槽システムに
おいて、毎日水や湯を交換した場合であっても数ヶ月で
形成されることがある。そして、形成された生物膜は、
物理的に除去しうる場所に形成されることが少なく、化
学的に除去する必要が生じるが、従来の塩素系殺菌剤の
濃度では、十分に除去することができないのが実状であ
る。そこで、塩素系殺菌剤の濃度を高くすることで、生
物膜を除去する方法が考えられる。しかし、塩素系殺菌
剤の濃度を高くしたために循環式水槽システム自体が破
壊された例もあり、塩素系殺菌剤はシステムに対して多
大なダメージを与えるため、生物膜を除去しうる程度に
濃度を高くすることができないという問題がある。しか
も、塩素系殺菌剤の濃度を高くすると人体に対しても悪
影響を与えるという問題が生じる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、人体に対しての害やシステムに対するダメージが極
めて少なく、レジオネラ属菌等が生息する生物膜(バイ
オフィルム)等を有効に除去することが可能な循環式水
槽システムの洗浄方法及び該方法等に用いる循環式水槽
システム用洗浄剤組成物を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するため鋭意検討を重ねた結果、第４級アンモニ
ウム塩及び２−フェノキシエタノールを、人体に対して
の害やシステムに対するダメージが極めて少ない特定の
濃度で、循環水や湯に溶解させて、システム内を循環さ
せることにより、塩素系殺菌剤では十分な除去ができな
かったレジオネラ属菌等が生息する生物膜等をも除去し
うることを見出した。また、第４級アンモニウム塩及び
２−フェノキシエタノールを、循環水や湯に所望濃度で
溶解させるために、特定のアルコールを溶媒に用いるこ
とを見出し本発明を完成した。すなわち、本発明によれ
ば、循環式水槽システムにおいて、第４級アンモニウム
塩及び２−フェノキシエタノールを合計で１５０〜５０
００ｐｐｍの濃度で含む水又は湯を少なくとも１回循環
させた後、排水することを特徴とする循環式水槽システ
ムの洗浄方法が提供される。また本発明によれば、第４
級アンモニウム塩と、２−フェノキシエタノールと、前
記第４級アンモニウム塩及び２−フェノキシエタノール
を溶解するアルコールとを含むことを特徴とする循環式
水槽システム用洗浄剤組成物が提供される。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下本発明を更に詳細に説明す
る。本発明の循環式水槽システムの洗浄方法は、スーパ
ー銭湯、温泉施設、宿泊施設の浴場、養護施設の浴場等
の共同浴場、家庭用浴槽、屋内外プール等の水又は湯を
循環させる装置を備える循環式水槽システムの洗浄方法
であって、特に、エアロゾルを発生させる渦流浴、泡風
呂、ジャグジー等の装置を備える循環式水槽システムの
洗浄方法に有効である。本発明の洗浄方法では、循環式
水槽システムにおいて、第４級アンモニウム塩及び２−
フェノキシエタノールを特定濃度で含む水又は湯を少な
くとも２回循環させた後、排水する工程を行なうことを
特徴とする。
【０００７】前記第４級アンモニア塩としては、例え
ば、オクチルトリメチルアンモニウムクロライド、デシ
ルトリメチルアンモニウムクロライド、ドデシルトリメ
チルアンモニウムクロライド、テトラデシルトリメチル
アンモニウムクロライド、ヘキサデシルトリメチルアン
モニウムクロライド、オクタデシルトリメチルアンモニ
ウムクロライド、オクタデセニルトリメチルアンモニウ
ムクロライド、オクタデカジエニルトリメチルアンモニ
ウムクロライド、ジオクチルトリメチルアンモニウムク
ロライド、ジデシルトリメチルアンモニウムクロライ
ド、ジドデシルトリメチルアンモニウムクロライド、ジ
テトラデシルトリメチルアンモニウムクロライド、ジヘ
キサデシルトリメチルアンモニウムクロライド、ジオク
タデシルトリメチルアンモニウムクロライド、ジオクタ
デセニルトリメチルアンモニウムクロライド、ジオクタ
デカジエニルトリメチルアンモニウムクロライド、オク
チルジメチルエチルアンモニウムクロライド、デシルジ
メチルエチルアンモニウムクロライド、ドデシルジメチ
ルエチルアンモニウムクロライド、テトラデシルジメチ
ルエチルアンモニウムクロライド、ヘキサデシルジメチ
ルエチルアンモニウムクロライド、オクタデシルジメチ
ルエチルアンモニウムクロライド、オクタデセニルジメ
チルエチルアンモニウムクロライド、オクタデカジエニ
ルジメチルエチルアンモニウムクロライド、ジオクチル
ジメチルエチルアンモニウムクロライド、ジデシルジメ
チルエチルアンモニウムクロライド、ジドデシルジメチ
ルエチルアンモニウムクロライド、ジテトラデシルジメ
チルエチルアンモニウムクロライド、ジヘキサデシルジ
メチルエチルアンモニウムクロライド、ジオクタデシル
ジメチルエチルアンモニウムクロライド、ジオクタデセ
ニルジメチルエチルアンモニウムクロライド、ジオクタ
デカジエニルジメチルエチルアンモニウムクロライド、
オクチルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、デ
シルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、ドデシ
ルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、テトラデ
シルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、ヘキサ
デシルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、オク
タデシルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、オ
クタデセニルジメチルベンジルアンモニウムクロライ
ド、オクタデカジエニルジメチルベンジルアンモニウム
クロライド、ジオクチルジメチルベンジルアンモニウム
クロライド、ジデシルジメチルベンジルアンモニウムク
ロライド、ジドデシルジメチルベンジルアンモニウムク
ロライド、ジテトラデシルジメチルベンジルアンモニウ
ムクロライド、ジヘキサデシルジメチルベンジルアンモ
ニウムクロライド、ジオクタデシルジメチルベンジルア
ンモニウムクロライド、ジオクタデセニルジメチルベン
ジルアンモニウムクロライド、ジオクタデカジエニルジ
メチルベンジルアンモニウムクロライド等が挙げられ
る。これらは、市販品としての商品名「ＡＲＱＵＤ Ｃ
Ｂ−５０」、「ＡＲＱＵＤ Ｓ−５０」（ライオンアク
ゾ株式会社製）等を用いることができる。
【０００８】本発明の洗浄方法において、循環させる水
又は湯に溶解させる前記第４級アンモニウム塩及び２−
フェノキシエタノールの濃度は、１５０〜５０００ｐｐ
ｍ、好ましくは３００〜２０００ｐｐｍ、特に好ましく
は４００〜１０００ｐｐｍである。１５０ｐｐｍ未満で
は、経年により形成された生物膜やスライムの除去が十
分でない恐れがあり、５０００ｐｐｍを超える場合は、
量の割りに優位な効果が得られず経済的に不利である。
第４級アンモニウム塩と２−フェノキシエタノールとの
割合は、適宜決定することができるが、質量比で通常、
３０：７０〜７０：３０、好ましくは４０：６０〜６
０：４０である。
【０００９】本発明の洗浄方法において、循環させる水
又は湯には、本発明の所望の目的を損なわない範囲で、
また、他の目的や本発明の目的を更に向上させるため
に、他の成分、例えば、殺菌剤や消毒剤、アルコール
類、消泡剤等を適量含ませることもできる。
【００１０】本発明の洗浄方法では、循環させる、少な
くとも上記所定濃度の第４級アンモニウム塩及び２−フ
ェノキシエタノールを含む水又は湯を、循環式水槽シス
テムに対して少なくとも１回循環させる必要がある。循
環回数の上限は特に限定されないが、１０回程度で充分
である。通常は２〜５回程度である。循環後、生物膜や
スライム等が水又は湯と共に流れてくるので、これらを
全て排水することにより除去することができる。排水
後、所望により再度同様な操作を行なっても良いし、他
の消毒剤や洗浄剤で洗浄するか、これらを含まない水又
は湯でシステム内を洗浄することもできる。
【００１１】本発明の洗浄方法を実施するにあたり、循
環させる水又は湯に上記第４級アンモニウム塩及び２−
フェノキシエタノールを溶解させるには、後述する本発
明の洗浄剤組成物を所望量投入し溶解させることにより
行なうことができる。投入は、１箇所でも良いが、数カ
所に分けて投入することが好ましい。
【００１２】本発明の循環式水槽システム用洗浄剤組成
物は、第４級アンモニウム塩と、２−フェノキシエタノ
ールと、第４級アンモニウム塩及び２−フェノキシエタ
ノールを溶解するアルコールとを含む。前記アルコール
としては、例えば、エタノール、イソプロピルアルコー
ル等が挙げられる。このアルコールを含まない場合に
は、循環式水槽システムを洗浄する際に、循環させる水
又は湯に第４級アンモニウム塩と２−フェノキシエタノ
ールとを十分に溶解させることができず、所定割合で溶
解させることが困難となる。
【００１３】本発明の洗浄剤組成物において、第４級ア
ンモニウム塩と、２−フェノキシエタノールと、これら
を溶解するアルコールとの配合割合は、第４級アンモニ
ウム塩と２−フェノキシエタノールとの割合が、質量比
で通常、３０：７０〜７０：３０、好ましくは４０：６
０〜６０：４０とし、アルコールの量をこれらが溶解す
る量以上とすれば良い。本発明に用いる上記第４級アン
モニウム塩及び２−フェノキシエタノールの混合物は、
経口毒性試験において、濃度ＬＤ50５０００ｍｇ／ｋｇ
においても安全性が確認できた。
【００１４】本発明の洗浄剤組成物には、所望に応じて
他の成分を含ませることもできる。他の成分としては、
他の殺菌剤、他の消毒剤、消泡剤、前記アルコール以外
の溶解補助剤等が挙げられる。これらの配合割合は、目
的に応じて適宜決定することができる。本発明の洗浄剤
組成物を調製するには、第４級アンモニウム塩及び２−
フェノキシエタノールが溶解するように各成分を混合す
ることにより得ることができる。
【００１５】
【発明の効果】本発明の循環式水槽システムの洗浄方法
では、第４級アンモニウム塩及び２−フェノキシエタノ
ールを、所定濃度で、循環水や湯に溶解させて、システ
ム内を循環させるので、塩素系殺菌剤では十分な除去が
できなかったレジオネラ属菌等が生息する生物膜等や他
の一般細菌及び大腸菌等を除去及び殺菌することができ
る。しかも、人体に対しての害やシステムに対するダメ
ージを極めて少なくして実施することができる。本発明
の循環式水槽システム用洗浄剤組成物は、第４級アンモ
ニウム塩及び２−フェノキシエタノールが溶解した、特
定のアルコールを含むので、上記洗浄方法等において循
環水や湯に所望量の第４級アンモニウム塩及び２−フェ
ノキシエタノールを容易に溶解させることができ、所望
の洗浄効果を得ることができる。
【００１６】
【実施例】以下実施例により、本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。実施例１ 第４級アンモニウム塩として、アルキルジメチルベンジ
ルアンモニウム塩３２０質量部、２−フェノキシエタノ
ール３００質量部及びイソプロピルアルコール３４０質
量部を混合し循環式水槽用洗浄剤を調製した。総水量５
０００ｍ3の薬用湯が入った循環式浴槽において、常法
によりレジオネラ属菌を検出したところ、３００ＣＦＵ
／１００ｍｌ検出された。この薬用湯に、上記洗浄剤を
３リットル(第４級アンモニウム塩及び２−フェノキシ
エタノールの合計濃度３８７ｐｐｍ)投入し、１時間循
環させた(循環回数２回)。その結果、大量の生物膜及び
スライムが湯口より放出された。全水量を排水した後、
新湯を入れ、２日間循環させた後に再度レジオネラ属菌
の検出を行なった。その結果、レジオネラ属菌は陰性で
あった。
【００１７】実施例２ 総水量３００００ｍ3の循環式大型浴槽において、常法
により菌の検出を行なったところ、種々の菌が４０００
０ＣＦＵ／１００ｍｌ検出された。この湯３００００ｍ
3に、実施例１で調製した洗浄剤を８リットル(第４級ア
ンモニウム塩及び２−フェノキシエタノールの合計濃度
１７７ｐｐｍ)投入し、３０分間循環させた(循環回数１
回)。その結果、大量の生物膜及びスライムが湯口より
放出された。続いて２時間循環を繰返した(循環回数４
回)後に全水量を排水した。次いで、新湯を入れ、１日
間循環させ、営業をした後に、常法によりレジオネラ属
菌の検出を行なった。その結果、レジオネラ属菌は陰性
であった。また、２ヶ月後に同様な検査を行なったとこ
ろ、レジオネラ属菌は陰性であった。
【００１８】実施例３ 第４級アンモニウム塩として、アルキルジメチルエチル
アンモニウム塩３００質量部、２−フェノキシエタノー
ル３５０質量部、イソプロピルアルコール３１０質量部
及びシリコン系消泡剤４質量部を混合し循環式水槽用洗
浄剤を調製した。総水量６０００ｍ3の浴湯が入った循
環式浴槽において、常法によりレジオネラ属菌を検出し
たところ、８３０ＣＦＵ／１００ｍｌ検出された。この
浴湯に、上記洗浄剤を２リットル(第４級アンモニウム
塩及び２−フェノキシエタノールの合計濃度２１６ｐｐ
ｍ)投入し、１時間循環させた(循環回数２回)。その結
果、生物膜及びスライムが湯口より放出されることはな
かった。全水量を排水した後、新湯を入れ、１日間循環
させた後に再度レジオネラ属菌の検出を行なった。その
結果、レジオネラ属菌は陰性であった。また、新湯中の
第４級アンモニウム塩及び２−フェノキシエタノールの
合計残存濃度は３６ｐｐｍであった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０８Ｂ 9/027 Ｂ０８Ｂ 9/08 9/08 Ｃ０２Ｆ 1/50 ５１０Ｃ Ｃ０２Ｆ 1/50 ５１０ ５２０Ｌ ５２０ ５３２Ｃ ５３２ ５３２Ｄ Ｃ１１Ｄ 3/48 Ｃ１１Ｄ 3/48 7/26 7/26 17/08 17/08 Ｂ０８Ｂ 9/06 (72)発明者 吉田 茂斗志 千葉県山武郡大網白里町上谷新田404−32 (72)発明者 吉田 政司 千葉県山武郡大網白里町上谷新田404−32 Ｆターム(参考） 3B116 AA13 AA33 AB51 BB01 BB82 3B201 AA13 AA33 AB51 BB82 BB92 BB94 CC21 4H003 BA12 DA05 DA08 EB04 EB06 EB19 FA34 4H011 AA02 BA01 BA06 BB03 BB04 BC03 BC18 DA13 DD01

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 循環式水槽システムにおいて、第４級ア
    ンモニウム塩及び２−フェノキシエタノールを合計で１
    ５０〜５０００ｐｐｍの濃度で含む水又は湯を少なくと
    も１回循環させた後、排水することを特徴とする循環式
    水槽システムの洗浄方法。
  2. 【請求項２】 第４級アンモニウム塩と２−フェノキシ
    エタノールとの割合が、質量比で３０：７０〜７０：３
    ０であることを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
  3. 【請求項３】 第４級アンモニウム塩と、２−フェノキ
    シエタノールと、第４級アンモニウム塩及び２−フェノ
    キシエタノールを溶解するアルコールとを含むことを特
    徴とする循環式水槽システム用洗浄剤組成物。
  4. 【請求項４】 第４級アンモニウム塩と２−フェノキシ
    エタノールとの割合が、質量比で３０：７０〜７０：３
    ０であることを特徴とする請求項３に記載の洗浄剤組成
    物。
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