JP2002117795A - 荷電粒子ビーム装置 - Google Patents
荷電粒子ビーム装置Info
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- JP2002117795A JP2002117795A JP2000308632A JP2000308632A JP2002117795A JP 2002117795 A JP2002117795 A JP 2002117795A JP 2000308632 A JP2000308632 A JP 2000308632A JP 2000308632 A JP2000308632 A JP 2000308632A JP 2002117795 A JP2002117795 A JP 2002117795A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 荷電粒子ビーム遮断箇所を特定できるように
成した荷電粒子ビーム装置を提供する。 【解決手段】 集束レンズ可動絞り１１、対物レンズ可
動絞り１２、中間レンズ可動絞り１３、投影レンズ可動
絞り１４，試料ホルダー１９各々において検出された電
子ビームの量に対応したビーム電流を増幅し、更に電圧
に変換する電流検出回路２１，２２，２３，２４，２５
を設ける。電流検出回路２１，２２，２３，２４，２５
からの電圧と独自の基準電圧とを比較し、基準電圧を越
えた場合のみ、電流を出力する比較回路 ２６，２７，
２８，２９，３０を設ける。比較回路２６，２７，２
８，２９，３０に対応して設けられた発光ダイオード３
２，３３，３４，３５，３６を備えたパネル表示装置３
１を設ける。
成した荷電粒子ビーム装置を提供する。 【解決手段】 集束レンズ可動絞り１１、対物レンズ可
動絞り１２、中間レンズ可動絞り１３、投影レンズ可動
絞り１４，試料ホルダー１９各々において検出された電
子ビームの量に対応したビーム電流を増幅し、更に電圧
に変換する電流検出回路２１，２２，２３，２４，２５
を設ける。電流検出回路２１，２２，２３，２４，２５
からの電圧と独自の基準電圧とを比較し、基準電圧を越
えた場合のみ、電流を出力する比較回路 ２６，２７，
２８，２９，３０を設ける。比較回路２６，２７，２
８，２９，３０に対応して設けられた発光ダイオード３
２，３３，３４，３５，３６を備えたパネル表示装置３
１を設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する分野】本発明は、荷電粒子ビーム遮断箇
所を特定できるように成した荷電粒子ビーム装置に関す
る。
所を特定できるように成した荷電粒子ビーム装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】透過型電子顕微鏡は、試料の拡大観察や
試料の構造分析等を行うのに使用される。図１は透過型
電子顕微鏡の一概略例を示したものである。
試料の構造分析等を行うのに使用される。図１は透過型
電子顕微鏡の一概略例を示したものである。
【０００３】図中１は電子光学系鏡筒で、その中に、電
子銃２、集束レンズ３、対物レンズ４、中間レンズ５、
投影レンズ６等が設けられている。７は観察室で、蛍光
板８等が設けられている。尚、９は試料である。
子銃２、集束レンズ３、対物レンズ４、中間レンズ５、
投影レンズ６等が設けられている。７は観察室で、蛍光
板８等が設けられている。尚、９は試料である。
【０００４】この様な透過型電子顕微鏡においては、電
子銃１からの電子ビームが集束レンズ３により集束され
て試料９上に照射される。そして、該試料を透過した電
子ビームが対物レンズ４，中間レンズ５及び投影レンズ
６のレンズ作用を受けることにより、蛍光板８上に試料
透過部の拡大像或いは回折像が形成される。
子銃１からの電子ビームが集束レンズ３により集束され
て試料９上に照射される。そして、該試料を透過した電
子ビームが対物レンズ４，中間レンズ５及び投影レンズ
６のレンズ作用を受けることにより、蛍光板８上に試料
透過部の拡大像或いは回折像が形成される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】さて、この様な透過型
電子顕微鏡において、電子銃２からの電子ビームが電子
光学系鏡筒内の電子ビーム通路上において、蛍光板まで
の間の何処かで遮断され、像観察が満足に出来ない場合
がある。
電子顕微鏡において、電子銃２からの電子ビームが電子
光学系鏡筒内の電子ビーム通路上において、蛍光板まで
の間の何処かで遮断され、像観察が満足に出来ない場合
がある。
【０００６】本発明はこの様に問題を解決することを目
的としたもので、新規な荷電粒子ビーム装置を提供する
ものである。
的としたもので、新規な荷電粒子ビーム装置を提供する
ものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明に基づく荷電粒子
ビーム装置は、荷電粒子発生手段からの荷電粒子ビーム
を複数のレンズ場及び複数の絞りを通して被照射物上に
照射するように成した荷電粒子ビーム装置において、前
記各絞りの支持体を通して検出された荷電粒子ビームに
対応した電流信号を得る様に成し、該各電流信号値と基
準値とを比較し、該基準値を越えた電流信号に対応した
荷電粒子ビームを検出した絞りが特定されるように成し
たことを特徴とする。本発明に基づく荷電粒子ビーム装
置は、荷電粒子発生手段からの荷電粒子ビームを複数の
レンズ場、複数の絞り及び試料を通して蛍光板上に荷電
粒子ビームによる試料の透過像を結像するように成した
荷電粒子ビーム装置において、前記各絞りの支持体及び
前記試料の支持体を通して検出された荷電粒子ビームに
対応した電流信号を得る様に成し、該各電流信号値と基
準値とを比較し、該基準値を越えた電流信号に対応した
荷電粒子ビームを検出したものを前記各絞り及び試料の
中から特定されるように成したことを特徴とする。本発
明に基づく荷電粒子ビーム装置は、荷電粒子発生手段か
らの荷電粒子ビームを複数のレンズ場及び複数の絞りを
通して被照射物上に照射するように成した荷電粒子ビー
ム装置において、前記各絞りに入射した荷電粒子ビーム
に対応した電流信号を得る様に成し、該各電流信号値と
基準値とを比較し、該基準値に達しない電流信号に対応
した荷電粒子ビームを検出した絞りが特定されるように
成したことを特徴とする。本発明に基づく荷電粒子ビー
ム装置は、荷電粒子発生手段からの荷電粒子ビームを複
数のレンズ場、複数の絞り及び試料を通して像検出器上
に導いて荷電粒子ビームによる試料の像を結像するよう
に成した荷電粒子ビーム装置において、前記各絞り及び
前記試料に入射した荷電粒子ビームに対応した電流信号
を得る様に成し、該各電流信号値と基準値とを比較し、
該基準値に達しない電流信号に対応した荷電粒子ビーム
を検出したものを前記各絞り及び試料の中から特定され
るように成したことを特徴とする。本発明に基づく荷電
粒子ビーム装置は、荷電粒子発生手段からの荷電粒子ビ
ームを複数のレンズ場及び複数の絞りを通して被照射物
上に照射するように成した荷電粒子ビーム装置におい
て、前記各絞り及び試料に入射した荷電粒子ビームに対
応した電流信号を得る様に成し、該各電流信号値を表示
するように成したことを特徴とする。
ビーム装置は、荷電粒子発生手段からの荷電粒子ビーム
を複数のレンズ場及び複数の絞りを通して被照射物上に
照射するように成した荷電粒子ビーム装置において、前
記各絞りの支持体を通して検出された荷電粒子ビームに
対応した電流信号を得る様に成し、該各電流信号値と基
準値とを比較し、該基準値を越えた電流信号に対応した
荷電粒子ビームを検出した絞りが特定されるように成し
たことを特徴とする。本発明に基づく荷電粒子ビーム装
置は、荷電粒子発生手段からの荷電粒子ビームを複数の
レンズ場、複数の絞り及び試料を通して蛍光板上に荷電
粒子ビームによる試料の透過像を結像するように成した
荷電粒子ビーム装置において、前記各絞りの支持体及び
前記試料の支持体を通して検出された荷電粒子ビームに
対応した電流信号を得る様に成し、該各電流信号値と基
準値とを比較し、該基準値を越えた電流信号に対応した
荷電粒子ビームを検出したものを前記各絞り及び試料の
中から特定されるように成したことを特徴とする。本発
明に基づく荷電粒子ビーム装置は、荷電粒子発生手段か
らの荷電粒子ビームを複数のレンズ場及び複数の絞りを
通して被照射物上に照射するように成した荷電粒子ビー
ム装置において、前記各絞りに入射した荷電粒子ビーム
に対応した電流信号を得る様に成し、該各電流信号値と
基準値とを比較し、該基準値に達しない電流信号に対応
した荷電粒子ビームを検出した絞りが特定されるように
成したことを特徴とする。本発明に基づく荷電粒子ビー
ム装置は、荷電粒子発生手段からの荷電粒子ビームを複
数のレンズ場、複数の絞り及び試料を通して像検出器上
に導いて荷電粒子ビームによる試料の像を結像するよう
に成した荷電粒子ビーム装置において、前記各絞り及び
前記試料に入射した荷電粒子ビームに対応した電流信号
を得る様に成し、該各電流信号値と基準値とを比較し、
該基準値に達しない電流信号に対応した荷電粒子ビーム
を検出したものを前記各絞り及び試料の中から特定され
るように成したことを特徴とする。本発明に基づく荷電
粒子ビーム装置は、荷電粒子発生手段からの荷電粒子ビ
ームを複数のレンズ場及び複数の絞りを通して被照射物
上に照射するように成した荷電粒子ビーム装置におい
て、前記各絞り及び試料に入射した荷電粒子ビームに対
応した電流信号を得る様に成し、該各電流信号値を表示
するように成したことを特徴とする。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。
施の形態を詳細に説明する。
【０００９】図２は本発明に基づく透過型電子顕微鏡の
１概略例を表したもので、前記図１にて使用した記号と
同一記号の付されたものは同一構成要素である。
１概略例を表したもので、前記図１にて使用した記号と
同一記号の付されたものは同一構成要素である。
【００１０】図中１１は集束レンズ可動絞り、１２は対
物レンズ可動絞り、１３は中間レンズ可動絞り、１４は
投影レンズ可動絞りで、１５は集束レンズ可動絞り駆動
機構、１６は対物レンズ可動絞り駆動機構、１７は中間
レンズ可動絞り駆動機構、１８は投影レンズ可動絞り駆
動機構である。尚、１９は試料を保持した試料ホルダ
ー、２０は試料ホルダー駆動機構である。
物レンズ可動絞り、１３は中間レンズ可動絞り、１４は
投影レンズ可動絞りで、１５は集束レンズ可動絞り駆動
機構、１６は対物レンズ可動絞り駆動機構、１７は中間
レンズ可動絞り駆動機構、１８は投影レンズ可動絞り駆
動機構である。尚、１９は試料を保持した試料ホルダ
ー、２０は試料ホルダー駆動機構である。
【００１１】２１，２２，２３，２４，２５は、各々、
前記集束レンズ可動絞り１１、対物レンズ可動絞り１
２、中間レンズ可動絞り１３、投影レンズ可動絞り１
４，試料ホルダー１９で検出された電子ビームの量に対
応したビーム電流を増幅し、更に電圧に変換する電流検
出回路である。２６，２７，２８，２９，３０は、各
々、前記電流検出回路２１，２２，２３，２４，２５か
らの電圧と独自の基準電圧とを比較し、基準電圧を越え
た場合のみ、電流を出力する比較回路である。
前記集束レンズ可動絞り１１、対物レンズ可動絞り１
２、中間レンズ可動絞り１３、投影レンズ可動絞り１
４，試料ホルダー１９で検出された電子ビームの量に対
応したビーム電流を増幅し、更に電圧に変換する電流検
出回路である。２６，２７，２８，２９，３０は、各
々、前記電流検出回路２１，２２，２３，２４，２５か
らの電圧と独自の基準電圧とを比較し、基準電圧を越え
た場合のみ、電流を出力する比較回路である。
【００１２】３１は前記各比較回路２６，２７，２８，
２９，３０に対応して設けられた発光ダイオード３２，
３３，３４，３５，３６を備えたパネル表示装置であ
る。
２９，３０に対応して設けられた発光ダイオード３２，
３３，３４，３５，３６を備えたパネル表示装置であ
る。
【００１３】この様な構成の透過型電子顕微鏡におい
て、予め、前記集束レンズ可動絞り１１、対物レンズ可
動絞り１２、中間レンズ可動絞り１３、投影レンズ可動
絞り１４，試料ホルダー１９は、電子ビームの中心軸Ｏ
に対して軸合わせされる。即ち、各絞りの孔の中心及び
試料ホルダー１９の試料部の中心が電子ビームの中心軸
Ｏに一致するように軸合わせされる。
て、予め、前記集束レンズ可動絞り１１、対物レンズ可
動絞り１２、中間レンズ可動絞り１３、投影レンズ可動
絞り１４，試料ホルダー１９は、電子ビームの中心軸Ｏ
に対して軸合わせされる。即ち、各絞りの孔の中心及び
試料ホルダー１９の試料部の中心が電子ビームの中心軸
Ｏに一致するように軸合わせされる。
【００１４】この状態において、電子銃１からの電子ビ
ームが集束レンズ３により集束されて試料９上に照射さ
れる。そして、該試料を透過した電子ビームが対物レン
ズ４，中間レンズ５及び投影レンズ６のレンズ作用を受
けることにより、蛍光板８上に試料透過部の拡大像或い
は回折像が形成される。
ームが集束レンズ３により集束されて試料９上に照射さ
れる。そして、該試料を透過した電子ビームが対物レン
ズ４，中間レンズ５及び投影レンズ６のレンズ作用を受
けることにより、蛍光板８上に試料透過部の拡大像或い
は回折像が形成される。
【００１５】さて、この様な像観察において、例えば、
試料ホルダー１９の試料部若しくは何れかの絞り孔が汚
染されたり、或いは何らかの原因で試料ホルダー１９若
しくは何れかの絞りがずれたりした場合、電子銃２から
の電子が蛍光板８に十分に達せず、像観察が満足に出来
ないことになる。
試料ホルダー１９の試料部若しくは何れかの絞り孔が汚
染されたり、或いは何らかの原因で試料ホルダー１９若
しくは何れかの絞りがずれたりした場合、電子銃２から
の電子が蛍光板８に十分に達せず、像観察が満足に出来
ないことになる。
【００１６】しかし、図２に示す例においては、前記電
流検出回路２１，２２，２３，２４，２５は、各々、前
記集束レンズ可動絞り１１、対物レンズ可動絞り１２、
中間レンズ可動絞り１３、投影レンズ可動絞り１４，試
料ホルダー１９の試料支持部各々に当たった電子ビーム
の量に対応したビーム電流を増幅し、更に電圧に変換
し、前記比較回路２６，２７，２８，２９，３０は、各
々、前記電流検出回路２１，２２，２３，２４，２５か
らの電圧と独自の基準電圧とを比較し、基準電圧を越え
た場合のみ、電流を出力する様にしている。従って、電
子ビームを蛍光板８方向に通過させる量が少ないもの、
即ち、遮断量の多い何れかの絞り、若しくはホルダーの
試料支持部に対応した比較回路だけが電流を出力するこ
とになり、その比較回路に対応した発光ダイオードだけ
が発光することとなる。この結果、電子銃からの電子ビ
ームを基準量以上に遮断しているものが何れの絞りなの
か、若しくは試料ホルダーなのかが容易に特定（判断）
出来る。そして、特定された絞りの孔若しくは試料ホル
ダーの試料支持部をクリーニングしたり、或いは、特定
された絞り若しくは試料ホルダーの位置調整等が行われ
る。
流検出回路２１，２２，２３，２４，２５は、各々、前
記集束レンズ可動絞り１１、対物レンズ可動絞り１２、
中間レンズ可動絞り１３、投影レンズ可動絞り１４，試
料ホルダー１９の試料支持部各々に当たった電子ビーム
の量に対応したビーム電流を増幅し、更に電圧に変換
し、前記比較回路２６，２７，２８，２９，３０は、各
々、前記電流検出回路２１，２２，２３，２４，２５か
らの電圧と独自の基準電圧とを比較し、基準電圧を越え
た場合のみ、電流を出力する様にしている。従って、電
子ビームを蛍光板８方向に通過させる量が少ないもの、
即ち、遮断量の多い何れかの絞り、若しくはホルダーの
試料支持部に対応した比較回路だけが電流を出力するこ
とになり、その比較回路に対応した発光ダイオードだけ
が発光することとなる。この結果、電子銃からの電子ビ
ームを基準量以上に遮断しているものが何れの絞りなの
か、若しくは試料ホルダーなのかが容易に特定（判断）
出来る。そして、特定された絞りの孔若しくは試料ホル
ダーの試料支持部をクリーニングしたり、或いは、特定
された絞り若しくは試料ホルダーの位置調整等が行われ
る。
【００１７】尚、前記例では、発光ダイオードを点灯さ
せるようにしたが、他の種類の発光素子を用いて点灯さ
せるようにしても良い。又、この際、点灯させる代わり
に、点滅させるように成しても良い。
せるようにしたが、他の種類の発光素子を用いて点灯さ
せるようにしても良い。又、この際、点灯させる代わり
に、点滅させるように成しても良い。
【００１８】図３は本発明に基づく透過型電子顕微鏡の
他の概略例を表したもので、前記図２にて使用した記号
と同一記号の付されたものは同一構成要素である。
他の概略例を表したもので、前記図２にて使用した記号
と同一記号の付されたものは同一構成要素である。
【００１９】図中３７は陰極線管の如きモニター、３８
はグラフィック信号発生装置で、該グラフィック信号発
生装置は、電子銃表示信号作成部３９，集束レンズ可動
絞り表示信号作成部４０、試料ホルダー表示信号作成部
４１，対物レンズ可動絞り表示信号作成部４２，中間レ
ンズ可動絞り表示信号作成部４３，投影レンズ可動絞り
表示信号作成部４４，蛍光板表示信号作成部４５及び電
子線表示信号作成部４６から構成されている。前記モニ
ター３７は、電子銃表示信号作成部３９，集束レンズ可
動絞り表示信号作成部４０、試料ホルダー表示信号作成
部４１，対物レンズ可動絞り表示信号作成部４２，中間
レンズ可動絞り表示信号作成部４３，投影レンズ可動絞
り表示信号作成部４４，蛍光板表示信号作成部４５及び
電子線表示信号作成部４６から信号に基づき、その画面
上に、電子銃，集束レンズ可動絞り、試料ホルダー，対
物レンズ可動絞り，中間レンズ可動絞り，投影レンズ可
動絞り，蛍光板及び電子線を、Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅ，
Ｆ，Ｇ，Ｈに示す様にグラフィカルに、例えば、黒色で
表示する。
はグラフィック信号発生装置で、該グラフィック信号発
生装置は、電子銃表示信号作成部３９，集束レンズ可動
絞り表示信号作成部４０、試料ホルダー表示信号作成部
４１，対物レンズ可動絞り表示信号作成部４２，中間レ
ンズ可動絞り表示信号作成部４３，投影レンズ可動絞り
表示信号作成部４４，蛍光板表示信号作成部４５及び電
子線表示信号作成部４６から構成されている。前記モニ
ター３７は、電子銃表示信号作成部３９，集束レンズ可
動絞り表示信号作成部４０、試料ホルダー表示信号作成
部４１，対物レンズ可動絞り表示信号作成部４２，中間
レンズ可動絞り表示信号作成部４３，投影レンズ可動絞
り表示信号作成部４４，蛍光板表示信号作成部４５及び
電子線表示信号作成部４６から信号に基づき、その画面
上に、電子銃，集束レンズ可動絞り、試料ホルダー，対
物レンズ可動絞り，中間レンズ可動絞り，投影レンズ可
動絞り，蛍光板及び電子線を、Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅ，
Ｆ，Ｇ，Ｈに示す様にグラフィカルに、例えば、黒色で
表示する。
【００２０】図中４７は各比較回路２６，２７，２８，
２９，３０からの信号に基づいて前記グラフィック信号
発生装置３８をコントロールする制御装置である。
２９，３０からの信号に基づいて前記グラフィック信号
発生装置３８をコントロールする制御装置である。
【００２１】今、例えば、対物レンズ可動絞り１２から
検出された電子ビーム電流が基準値を越えた場合、比較
回路２７から電流信号が制御装置４７に入力される。該
制御装置はグラフィック信号発生装置３８に指令を送
り、例えば、図４に示す様に、グラフィカル表示された
対物レンズ可動絞りＤのみ、白黒反転させて表示させる
ようにする。
検出された電子ビーム電流が基準値を越えた場合、比較
回路２７から電流信号が制御装置４７に入力される。該
制御装置はグラフィック信号発生装置３８に指令を送
り、例えば、図４に示す様に、グラフィカル表示された
対物レンズ可動絞りＤのみ、白黒反転させて表示させる
ようにする。
【００２２】尚、グラフィカル表示された絞りなどを白
黒で表示せず、或る色相で表示させ、電子ビームを基準
を越えて遮蔽した絞り若しくは試料ホルダーを、別の色
相で表示させるようにしても良い。
黒で表示せず、或る色相で表示させ、電子ビームを基準
を越えて遮蔽した絞り若しくは試料ホルダーを、別の色
相で表示させるようにしても良い。
【００２３】又、電子ビームを基準を越えて遮蔽した絞
り若しくは試料ホルダーと電子銃の間における電子ビー
ムの表示を、他の部分の電子ビームと線種を変えてグラ
フィカル表示するようにしても良い。例えば、第３図に
示す様に、基本的には電子ビームを点線でグラフィカル
表示させておき、仮に、対物レンズ可動絞り１２から検
出された電子ビーム電流が基準値を越えた場合に、グラ
フィカルに表示された対物レンズ可動絞りＤと電子銃Ａ
の間の電子線を実線で表示させるようにしても良い。
り若しくは試料ホルダーと電子銃の間における電子ビー
ムの表示を、他の部分の電子ビームと線種を変えてグラ
フィカル表示するようにしても良い。例えば、第３図に
示す様に、基本的には電子ビームを点線でグラフィカル
表示させておき、仮に、対物レンズ可動絞り１２から検
出された電子ビーム電流が基準値を越えた場合に、グラ
フィカルに表示された対物レンズ可動絞りＤと電子銃Ａ
の間の電子線を実線で表示させるようにしても良い。
【００２４】又、前記例では、各絞り及び試料に入射し
た荷電粒子ビームに対応した電流信号を得、該各電流信
号値と基準値とを比較し、該基準値を越えた電流信号に
対応した荷電粒子ビームを検出したものを前記各絞り及
び試料の中から特定するように成したが、その様にはせ
ずに、前記基準値よりも少し小さい値の別の基準値を設
定しておき、この基準値に達しない電流信号に対応した
荷電粒子ビームを検出したものを前記各絞り及び試料の
中から全て特定するように成しても良い。
た荷電粒子ビームに対応した電流信号を得、該各電流信
号値と基準値とを比較し、該基準値を越えた電流信号に
対応した荷電粒子ビームを検出したものを前記各絞り及
び試料の中から特定するように成したが、その様にはせ
ずに、前記基準値よりも少し小さい値の別の基準値を設
定しておき、この基準値に達しない電流信号に対応した
荷電粒子ビームを検出したものを前記各絞り及び試料の
中から全て特定するように成しても良い。
【００２５】又、前記各絞り及び試料に入射した荷電粒
子ビームに対応した電流信号を得、該各電流信号値を全
て表示するように成しても良い。
子ビームに対応した電流信号を得、該各電流信号値を全
て表示するように成しても良い。
【００２６】又、前記例は何れも透過型電子顕微鏡を例
に上げたが、本発明は、走査型電子顕微鏡や電子ビーム
描画装置等、各種絞り等を備えた荷電粒子ビーム装置に
応用可能であることはいうまでもない。
に上げたが、本発明は、走査型電子顕微鏡や電子ビーム
描画装置等、各種絞り等を備えた荷電粒子ビーム装置に
応用可能であることはいうまでもない。
【図１】 透過型電子顕微鏡の一概略例を示している。
【図２】 本発明の一例を示した透過型電子顕微鏡の概
略例を示している。
略例を示している。
【図３】 本発明の他の例を示した透過型電子顕微鏡の
概略例を示している。
概略例を示している。
【図４】 本発明によるグラフィカル表示の一例を示
す。
す。
１…電子光学系鏡筒 ２…電子銃 ３…集束レンズ ４…対物レンズ ５…中間レンズ ６…投影レンズ ７…観察室 ８…蛍光板 ９…試料 １１…集束レンズ可動絞り １２…対物レンズ可動絞り １３…中間レンズ可動絞り １４…投影レンズ可動絞り １５…集束レンズ可動絞り駆動機構 １６…対物レンズ可動絞り駆動機構 １７…中間レンズ可動絞り駆動機構 １８…投影レンズ可動絞り駆動機構 １９…試料ホルダー ２０…試料ホルダー駆動機構 ２１，２２，２３，２４，２５…電流検出回路 ２６，２７，２８，２９，３０…比較回路 ３１…パネル表示装置 ３２，３３，３４，３５，３６…発光ダイオード ３７…モニター ３８…グラフィック信号発生装置 ３９…電子銃表示信号作成部 ４０…集束レンズ可動絞り表示信号作成部 ４１…試料ホルダー表示信号作成部 ４２…対物レンズ可動絞り表示信号作成部 ４３…中間レンズ可動絞り表示信号作成部 ４４…投影レンズ可動絞り表示信号作成部 ４５…蛍光板表示信号作成部 ４６…電子線表示信号作成部 ４７…制御装置 Ａ…グラフィカルに表示された電子銃 Ｂ…グラフィカルに表示された集束レンズ可動絞り Ｃ…グラフィカルに表示された試料ホルダー Ｄ…グラフィカルに表示された対物レンズ可動絞り Ｅ…グラフィカルに表示された中間レンズ可動絞り Ｆ…グラフィカルに表示された投影レンズ可動絞り Ｇ…グラフィカルに表示された蛍光板 Ｈ…グラフィカルに表示された電子ビーム Ｏ…電子ビーム中心軸
Claims (18)
- 【請求項１】 荷電粒子発生手段からの荷電粒子ビーム
を複数のレンズ場及び複数の絞りを通して被照射物上に
照射するように成した荷電粒子ビーム装置において、前
記各絞りに入射した荷電粒子ビームに対応した電流信号
を得る様に成し、該各電流信号値と基準値とを比較し、
該基準値を越えた電流信号に対応した荷電粒子ビームを
検出した絞りが特定されるように成した荷電粒子ビーム
装置。 - 【請求項２】 荷電粒子発生手段からの荷電粒子ビーム
を複数のレンズ場、複数の絞り及び試料を通して像検出
器上に導いて荷電粒子ビームによる試料の像を結像する
ように成した荷電粒子ビーム装置において、前記各絞り
及び前記試料に入射した荷電粒子ビームに対応した電流
信号を得る様に成し、該各電流信号値と基準値とを比較
し、該基準値を越えた電流信号に対応した荷電粒子ビー
ムを検出したものを前記各絞り及び試料の中から特定さ
れるように成した荷電粒子ビーム装置。 - 【請求項３】 荷電粒子発生手段からの荷電粒子ビーム
を複数のレンズ場及び複数の絞りを通して被照射物上に
照射するように成した荷電粒子ビーム装置において、前
記各絞りに入射した荷電粒子ビームに対応した電流信号
を得る様に成し、該各電流信号値と基準値とを比較し、
該基準値に達しない電流信号に対応した荷電粒子ビーム
を検出した絞りが特定されるように成した荷電粒子ビー
ム装置。 - 【請求項４】 荷電粒子発生手段からの荷電粒子ビーム
を複数のレンズ場、複数の絞り及び試料を通して像検出
器上に導いて荷電粒子ビームによる試料の像を結像する
ように成した荷電粒子ビーム装置において、前記各絞り
及び前記試料に入射した荷電粒子ビームに対応した電流
信号を得る様に成し、該各電流信号値と基準値とを比較
し、該基準値に達しない電流信号に対応した荷電粒子ビ
ームを検出したものを前記各絞り及び試料の中から特定
されるように成した荷電粒子ビーム装置。 - 【請求項５】 前記基準値は各絞り若しくは試料に対応
して個別に与えられたものである請求項１〜４の何れか
に記載の荷電粒子ビーム装置。 - 【請求項６】 前記各絞りに対応した表示素子を設け、
特定された絞りに対応した表示素子のみ他の表示素子と
は異なった表示をさせるように成した請求項１〜４の何
れかに記載の荷電粒子ビーム装置。 - 【請求項７】 前記各絞り及び試料に対応した表示素子
を設け、特定された絞り若しくは試料に対応した表示素
子のみ他の表示素子とは異なった表示をさせるように成
した請求項２乃至４記載の荷電粒子ビーム装置。 - 【請求項８】 前記表示素子は発光素子から成り、特定
された絞り若しくは試料に対応した発光素子のみ点灯さ
せるように成した請求項６乃至７記載の荷電粒子ビーム
装置。 - 【請求項９】 少なくとも前記各絞りをグラフィルカル
に表示するための表示手段を設け、特定された絞りに対
応してグラフィカル表示された絞りのみ他のグラフィカ
ル表示された絞りとは異なった表示をさせるように成し
た請求項１乃至３記載の荷電粒子ビーム装置。 - 【請求項１０】 前記荷電粒子発生手段、各絞り及び被
照射物をグラフィルカルに表示するための表示手段を設
け、特定された絞りに対応してグラフィカル表示された
絞りのみ他のグラフィカル表示された絞りとは異なった
表示をさせるように成した請求項１乃至３記載の荷電粒
子ビーム装置。 - 【請求項１１】 少なくとも前記各絞り及び試料をグラ
フィルカルに表示するための表示手段を設け、特定され
た絞り若しくは試料に対応してグラフィカル表示された
絞り若しくは試料のみ他のグラフィカル表示された絞り
若しくは試料とは異なった表示をさせるように成した請
求項１乃至３記載の荷電粒子ビーム装置。 - 【請求項１２】 前記荷電粒子発生手段、各絞り、試料
及び被照射物をグラフィルカルに表示するための表示手
段を設け、特定された絞り若しくは試料に対応してグラ
フィカル表示された絞り若しくは試料のみ他のグラフィ
カル表示されたた絞り若しくは試料とは異なった表示を
させるように成した請求項１乃至３記載の荷電粒子ビー
ム装置。 - 【請求項１３】 前記荷電粒子発生手段、各絞り、試料
及び像検出器をグラフィルカルに表示するための表示手
段を設け、特定された絞り若しくは試料に対応してグラ
フィカル表示された絞り若しくは試料のみ他のグラフィ
カル表示されたた絞り若しくは試料とは異なった表示を
させるように成した請求項１乃至３記載の荷電粒子ビー
ム装置。 - 【請求項１４】 前記荷電粒子発生手段からの荷電粒子
ビームをグラフィルカルに表示する様にした請求項９〜
１３の何れかに記載の荷電粒子ビーム装置。 - 【請求項１５】 特定された絞り若しくは試料に対応し
てグラフィカル表示された絞り若しくは試料を、他のグ
ラフィカル表示された絞り若しくは試料に対して、色相
若しくは明暗で区別して表示させるようにした請求項９
〜１３の何れかに記載の荷電粒子ビーム装置。 - 【請求項１６】 特定された絞り若しくは試料と荷電粒
子発生手段の間でグラフィカルに表示されている荷電粒
子ビームを、他の部分でグラフィカルに表示された荷電
粒子ビームに対して、線種で区別して表示させるように
した請求項１４に記載の荷電粒子ビーム装置。 - 【請求項１７】 荷電粒子発生手段からの荷電粒子ビー
ムを複数のレンズ場及び複数の絞りを通して被照射物上
に照射するように成した荷電粒子ビーム装置において、
前記各絞りに入射した荷電粒子ビームに対応した電流信
号を得る様に成し、該各電流信号値を表示するように成
した荷電粒子ビーム装置。 - 【請求項１８】 荷電粒子発生手段からの荷電粒子ビー
ムを複数のレンズ場及び複数の絞りを通して被照射物上
に照射するように成した荷電粒子ビーム装置において、
前記各絞り及び試料に入射した荷電粒子ビームに対応し
た電流信号を得る様に成し、該各電流信号値を表示する
ように成した荷電粒子ビーム装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000308632A JP2002117795A (ja) | 2000-10-10 | 2000-10-10 | 荷電粒子ビーム装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000308632A JP2002117795A (ja) | 2000-10-10 | 2000-10-10 | 荷電粒子ビーム装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002117795A true JP2002117795A (ja) | 2002-04-19 |
Family
ID=18788910
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000308632A Withdrawn JP2002117795A (ja) | 2000-10-10 | 2000-10-10 | 荷電粒子ビーム装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002117795A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007115409A (ja) * | 2004-03-31 | 2007-05-10 | Institute Of Physical & Chemical Research | 電子線干渉装置および電子顕微鏡 |
-
2000
- 2000-10-10 JP JP2000308632A patent/JP2002117795A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007115409A (ja) * | 2004-03-31 | 2007-05-10 | Institute Of Physical & Chemical Research | 電子線干渉装置および電子顕微鏡 |
| JP4512183B2 (ja) * | 2004-03-31 | 2010-07-28 | 独立行政法人理化学研究所 | 電子線干渉装置 |
| US7816648B2 (en) | 2004-03-31 | 2010-10-19 | Riken | Electron interferometer or electron microscope |
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