JP2002117520A - 磁気記録媒体と製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】電磁変換特性、特に高密度記録特性が改良さ
れ、かつヘッドとの摩擦力が低くて耐久性に優れ、かつ
高密度記録領域のエラーレートが低い磁気記録媒体を提
供すること。さらに、記録容量が０．２〜２Ｇbitとい
う大容量のディスク状磁気記録媒体を提供すること。 【解決手段】磁性六方晶フェライト微粉末を含有する磁
性層をこの順に設けた塗布型の磁気記録媒体であって、
該下層及び上層が少なくとも放射線硬化樹脂を結合剤と
して含有しており、その製造過程においてカレンダー処
理に続いて放射線照射処理を施した磁気記録媒体。とく
に、磁性層の表面粗さ（Ｒａ）が５．０ｎｍ以下であっ
て、かつ表面性試験機による表面硬度が４０ｎｍ以下で
ある上記磁気記録媒体。また、放射線硬化処理を施した
ことを特徴とする上記磁気記録媒体の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は塗布型の高記録密度
の磁気記録媒体に関する。特に磁性層と実質的に非磁性
の下層を有し、最上層に強磁性金属微粉末または六方晶
フェライト微粉を含む高密度記録用の磁気記録媒体に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】磁気ディスクの分野において、Ｃｏ変性
酸化鉄を用いた２ＭＢのＭＦ−２ＨＤフロッピー（登録
商標）ディスクがパーソナルコンピュータに標準搭載さ
れようになった。しかし扱うデータ容量が急激に増加し
ている今日において、その容量は十分とは言えなくな
り、フロッピーディスクの大容量化が望まれていた。ま
た磁気テープの分野においても近年、ミニコンピュータ
ー、パーソナルコンピューター、ワークステーションな
どのオフィスコンピューターの普及に伴って、外部記憶
媒体としてコンピューターデータを記録するための磁気
テープ（いわゆるバックアップテープ）の研究が盛んに
行われている。このような用途の磁気テープの実用化に
際しては、とくにコンピューターの小型化、情報処理能
力の増大と相まって、記録の大容量化、小型化を達成す
るために、記録容量の向上が強く要求される。

【０００３】従来、磁気記録媒体には酸化鉄、Ｃｏ変性
酸化鉄、ＣｒＯ_２ 、強磁性金属粉末、六方晶系フェラ
イト粉末を結合剤中に分散した磁性層を非磁性支持体に
塗設したものが広く用いられる。この中でも強磁性金属
微粉末と六方晶系フェライト微粉末は高密度記録特性に
優れていることが知られている。デイスクの場合、高密
度記録特性に優れる強磁性金属微粉末を用いた大容量デ
ィスクとしては１０ＭＢのＭＦ−２ＴＤ、２１ＭＢのＭ
Ｆ−２ＳＤまたは六方晶フェライトを用いた大容量ディ
スクとしては４ＭＢのＭＦ−２ＥＤ、２１ＭＢフロプテ
ィカルなどがあるが、容量、性能的に十分とは言えなか
った。

【０００４】このような状況に対し、高密度記録特性を
向上させる試みが多くなされている。以下にその例を示
すと、ディスク状磁気記録媒体の特性を向上させる目的
では、特開昭６４−８４４１８には酸性基とエポキシ基
と水酸基を有する塩化ビニル樹脂を用いることが提案さ
れ、特公平３−１２３７４にはＨｃ１０００Oe以上、比
表面積２５〜７０m^２/gの金属微粉末を用いることが提
案され、特公平６ー２８１０６には磁性体の比表面積と
磁化量を定め、さらに研磨剤を含ませることが提案され
ている。

【０００５】また、ディスク状磁気記録媒体の耐久性を
改善させる目的では、特公平７−８５３０４には不飽和
脂肪酸エステルとエーテル結合を有する脂肪酸エステル
を用いることが提案され、特公平７ー７００４５には分
岐脂肪酸エステルとエーテル結合を有する脂肪酸エステ
ルを用いることが提案され、特開昭５４−１２４７１６
にはモース硬度６以上の非磁性粉末と高級脂肪酸エステ
ルを含ませることが提案され、特公平７−８９４０７に
は潤滑剤を含む空孔の体積と表面粗さを０．００５〜
０．０２５μmとすることが提案され、特開昭６１−２
９４６３７には低融点と高融点の脂肪酸エステルを用い
ることが提案され、特公平７ー３６２１６には磁性層厚
みに対し１／４〜３／４の粒径の研磨剤と低融点の脂肪
酸エステルを用いることが提案され、特開平３−２０３
０１８にはＡｌを含むメタル磁性体と酸化クロム用いる
ことが提案されている。

【０００６】さらに、非磁性の下層や中間層を有するデ
ィスク状磁気記録媒体の構成として、特開平３ー１２０
６１３には導電層と金属微粉末を含む磁性層を有する構
成が提案され、特開平６−２９０４４６には１μm以下
の磁性層と非磁性層を有する構成が提案され、特開昭６
２−１５９３３７にはカーボン中間層と潤滑剤を含む磁
性層からなる構成が提案され、特開平５−２９０３５８
にはカーボンサイズを規定した非磁性層を有する構成が
提案されている。

【０００７】一方、最近では薄層磁性層と機能性非磁性
層からなるディスク状磁気記録媒体が開発されるように
なって、１００ＭＢクラスのフロッピーディスクが登場
している。これらの特徴を示すものとして、特開平５−
１０９０６１にはＨｃが１４００Oe以上で厚さ０．５μ
m以下の磁性層と導電性粒子を含む非磁性層を有する構
成が提案され、特開平５−１９７９４６には磁性層厚よ
り大きい研磨剤を含む構成が提案され、特開平５−２９
０３５４には磁性層厚が０．５μm以下で、磁性層厚の
厚み変動を±１５％以内とし、表面電気抵抗を規定した
構成が、特開平６−６８４５３には粒径の異なる２種の
研磨剤を含ませ、表面の研磨剤量を規定した構成が提案
されている。

【０００８】また、テープ状の磁気記録媒体において
も,近年、ミニコンピュータ、パーソナルコンピュータ
などのオフィスコンピュータの普及に伴って、外部記憶
媒体としてコンピュータデータを記録するための磁気テ
ープ（所謂、バックアップテープ）の研究が盛んに行わ
れている。このような用途の磁気テープの実用化に際し
ては、特にコンピュータの小型化、情報処理能力の増大
と相まって、記録の大容量化、小型化を達成するために
記録容量の向上が強く要求される。また磁気テープの使
用環境の広がりによる幅広い環境条件下（特に、変動の
激しい温湿度条件下など）での使用、データ保存に対す
る信頼性、更に高速での繰り返し使用による多数回走行
におけるデータの安定した記録、読み出し等の性能に対
する信頼性なども従来に増して要求されている。しかし
ながら、ディスク状やテープ状の磁気記録媒体の急速な
大容量化と高密度化にともない、上記した技術進歩をも
ってしても市場の要求に応えうる満足な特性を得ること
が難しくなってきていた。また耐久性と両立させること
も困難な状況になってきている。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
の技術開発の経緯及び市場の要求に基くものであって、
電磁変換特性、特に高密度記録特性が改良され、かつヘ
ッドとの摩擦力が低くて耐久性に優れており、特に高密
度記録領域でのエラーレートが改良された磁気記録媒体
を提供することにある。本発明の他の目的は記録容量が
０．２〜２Ｇbit、特に好ましくは０．３５〜２Ｇbitと
いう大容量のディスク状磁気記録媒体を提供することに
ある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、電磁変換
特性と耐久性が良好で特に高密度記録領域でのエラーレ
ートが格段に改良された磁気記録媒体を得る手段を鋭意
検討した結果、以下のような構成と製造方法で製造され
た磁気記録媒体が高密度記録特性と優れた耐久性が有す
ることを見出し、本発明に至った。

【００１１】すなわち、本発明によれば下記構成の磁気
記録媒体及び磁気記録媒体の製造方法が提供される。支
持体上に実質的に非磁性である非磁性層とその上に強磁
性粉末を結合剤中に分散してなる磁性層がこの順で形成
されている磁気記録媒体の製造方法において、結合剤と
して、放射線硬化樹脂を含有する下層用塗布液及び磁性
層用塗布液を支持体上に塗布して乾燥し、さらにカレン
ダー処理を施した後、放射線を照射することにより、磁
性層の表面粗さ（Ｒａ）を５．０ｎｍ以下、表面硬度を
表面性試験機によるスクラッチ試験法によるキズの深さ
で表して４０ｎｍ以下とすることを特徴とする磁気記録
媒体の製造方法及び該製造方法によって製造した磁器記
録媒体。本明細書において、表面性とは、表面の平滑性
であり、表面粗さを尺度に用いることができ、表面硬度
とは、表面の物理的な硬さ、つまり傷のつきにくさであ
り、後述する引っかき試験法に基づく表面性試験機よっ
て測定できる。

【００１２】磁気記録媒体の一般的な製造方法は、磁性
層及び非磁性層（以後、磁性層／非磁性層と略記する）
を塗布した後、塗布液調製時に使用した有機溶剤を除去
するため熱を加えて乾燥する方法である。この方法で
は、有機溶剤が磁性層 ／非磁性層中に残留していると
磁性層 ／非磁性層を可塑性にして磁気録媒体の耐久性
が低下する。この欠陥を避けて優れた耐久性を得るため
に、結合剤として熱硬化性樹脂を用いる場合には、磁性
層／非磁性層を塗布した後、乾燥するために熱を加える
と結合剤の硬化が進行してしまう。硬化が進行すると、
カレンダー処理での成形性が低下し、カレンダー処理後
の磁性層の表面性及び充填度が低下し、表面硬度の減少
をきたし、電磁変換特性の低下や耐久性の低下を引き起
こす。また、熱硬化性樹脂を使用した磁気記録媒体の製
造では、カレンダ処理されて巻き取られたバルク状態
で、テープ状磁気記録媒体においてはスリットされてリ
ールに巻かれた状態で、ディスク状磁気記録媒体におい
てはディスク状態で、それぞれ加熱硬化処理を行って表
面硬度を上げることがあるが、その場合も十分な硬度は
得られなかった。また、加熱処理を行う際に、支持体や
磁性層の熱変形等を伴う場合もあった。

【００１３】本発明者は、この問題を解決するために磁
気記録媒体の結合剤樹脂及び製造方法について鋭意検討
した結果、磁気記録媒体の製造に際して、磁性層／非磁
性層の結合剤として実質的に熱硬化性樹脂を使用せず、
放射線硬化樹脂を使用して塗布液を調製し、これを塗布
して乾燥し、さらにカレンダー処理を施したのち、放射
線を照射して硬化を行うことにより良好な表面性と表面
硬度が得られることを見い出し、上記の本発明に到達し
た。本発明の製造方法により、磁気記録層の表面性に関
しては、記録層の表面粗さ（Ｒａ）を５ｎｍ以下、望ま
しくは４ｎｍ以下とすることが可能であり、表面硬度に
関しては、後述する引っかき強度試験法による針傷の平
均深さが４０ｎｍ以下、望ましくは２５ｎｍ以下にする
ことが可能である。上記範囲の表面性と表面硬度を発現
させることによって優れた電磁変換特性と耐久性を併せ
持った発明の目的を満たす磁気記録媒体を得ることがで
きる。

【００１４】

【発明の実施の形態】本発明の磁気録媒体は、支持体上
に実質的に非磁性である下層とその上に強磁性粉末を結
合剤に分散してなる磁性層が形成されている磁気録媒体
である。以下、磁気記録媒体を構成する各層の成分、層
構成、磁気記録媒体の製造のための具体的方法等につい
て順次説明する。

【００１５】［磁性層］本発明の磁気記録媒体の磁性層
の平均表面粗さ（Ｒａ）は、ＷＹＫＯ社製表面粗さ測定
装置ＨＤ２０００により測定した値として、５ｎｍ以下
であり、好ましくは４ｎｍ以下、より好ましくは０．５
〜４ｎｍである。５ｎｍを超えると磁気記録媒体とのヘ
ッドのスペーシングロスが大きくなり、出力が低下して
ノイズが高くなり、本発明の磁気記録媒体が有する媒体
性能を発揮出来ない。０．５ｎｍに満たないと磁性層が
磁気ヘッドによる損傷を受けやすくなるので好ましくな
い。また、磁性層の表面硬度は表面性試験機により、触
針荷重１０ｇ，ダイヤモンド針（先端径０．１ｍｍ）の
条件によるスクラッチ試験法によるキズの深さで表して
４０ｎｍ以下、好ましくは２５ｎｍ以下である。キズの
深さが小さいほど、表面硬度が大きく硬い。キズの深さ
が４０ｎｍを超えると、磁性層の表面が柔らかいため磁
性層 が磁気ヘッドにより損傷を受けやすくなる。磁性
層の表面の平均表面粗さ及び表面硬度を上記のようにす
るには、磁性層及び下層を形成するための塗布液に含有
される結合剤として実質的に熱硬化樹脂を使用せずに放
射線硬化樹脂を使用し、支持体に塗布液を塗布して乾燥
し、さらにカレンダー処理を施した後、放射線を照射し
て架橋重合することによって達成できる。

【００１６】本発明の磁気記録媒体の磁性層の抗磁力
（Ｈｃ）は、１４３．３ｋＡ／ｍ（１８００エルステッ
ド）以上が好ましく、更に好ましくは１５９．２ｋＡ／
ｍ（２０００エルステッド）以上であり、更に好ましく
は１８３．１〜２７８．６ｋＡ／ｍ（（２３００〜３５
００エルステッド）である。１４３．３ｋＡ／ｍ（１８
００エルステッド）未満では高記録密度の達成は困難で
ある。

【００１７】（強磁性粉末）本発明の上層磁性層に使用
する強磁性粉末としては、強磁性金属粉末または六方晶
フェライト粉末が好ましい。強磁性金属粉末としては、
α−Ｆｅを主成分とする強磁性合金粉末が好ましい。こ
れらの強磁性粉末には所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、
Ｓ、Ｓｃ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒ
ｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、
Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎ
ｄ、Ｓｍ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなど
の原子を含んでもかまわない。特に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃ
ａ、Ｙ、Ｂａ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｂの少
なくとも１つをα−Ｆｅ以外に含むことが好ましく、Ｃ
ｏ、Ｙ、Ａｌ、Ｎｄ、Ｓｍの少なくとも一つを含むこと
がさらに好ましい。Ｃｏの含有量は、Ｆｅに対して０〜
４０原子％が好ましく、さらに好ましくは１５〜３５原
子％、より好ましくは２０〜３５原子％である。Ｙの含
有量は、１．５〜１２原子％が好ましく、さらに好まし
くは３〜１０原子％、より好ましくは４〜９原子％であ
る。Ａｌは、１．５〜３０原子％が好ましく、さらに好
ましくは５〜２０原子％、より好ましくは８〜１５原子
％である。

【００１８】これらの強磁性粉末には、後に述べる分散
剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあ
らかじめ処理を行ってもかまわない。具体的には、特公
昭４４−１４０９０号、特公昭４５−１８３７２号、特
公昭４７−２２０６２号、特公昭４７−２２５１３号、
特公昭４６−２８４６６号、特公昭４６−３８７５５
号、特公昭４７−４２８６号、特公昭４７−１２４２２
号、特公昭４７−１７２８４号、特公昭４７−１８５０
９号、特公昭４７−１８５７３号、特公昭３９−１０３
０７号、特公昭４６−３９６３９号、米国特許第３０２
６２１５号、同３０３１３４１号、同３１００１９４
号、同３２４２００５号、同３３８９０１４号などに記
載されている。

【００１９】強磁性金属粉末には少量の水酸化物、また
は酸化物が含まれてもよい。強磁性金属粉末は、公知の
製造方法により得られたものを用いることができ、下記
の製造方法を挙げることができる。すなわち、 ・複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素などの還
元性気体で還元する方法 ・酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅあるい
はＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法 ・金属カルボニル化合物を熱分解する方法 ・強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜
リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還
元する方法 ・金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて粉末を得る方
法などである。このようにして得られた強磁性金属粉末
は、公知の徐酸化処理（弱い参加条件で粒子表面のみを
酸化する処理）を施す。徐酸化処理の方法としては、例
えば有機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法、有機溶剤
に浸漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜
を形成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素
ガスと不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形
成する方法、などのいずれをも用いることができる。

【００２０】磁性層に含有される強磁性粉末をＢＥＴ法
による比表面積（ＳＢＥＴ）で表せば、通常４５〜８０
ｍ²／ｇであり、好ましくは５０〜７０ｍ²／ｇである。
４５ｍ²／ｇ以下ではノイズが高くなり、８０ｍ²／ｇ以
上では表面性が得にくく好ましくない。強磁性粉末の結
晶子サイズは、通常８〜１８Åであり、好ましくは１０
〜１８Å、更に好ましくは１１〜１７．５Åである。強
磁性粉末の平均長軸長は、好ましくは３０〜１５０ｎｍ
であり、さらに好ましくは３０〜１００ｎｍである。強
磁性粉末の針状比は、３〜１５が好ましく、さらには５
〜１２が好ましい。強磁性粉末の飽和磁化（σＳ）は、
通常１００〜２００Ａ・ｍ²／ｋｇ（ｅｍｕ／ｇ）であ
り、好ましくは１２０Ａ・ｍ²／ｋｇ（ｅｍｕ／ｇ）〜
１８０Ａ・ｍ²／ｋｇ（ｅｍｕ／ｇ） である。

【００２１】強磁性粉末の含水率は、０．０１〜２質量
％とするのが好ましいが、結合剤の種類に応じて強磁性
金属粉末の含水率を上記した範囲の中で最適化するのが
より好ましい。強磁性粉末のｐＨも、用いる結合剤との
組合せにより最適化することが好ましく、その範囲は通
常、４〜１２であるが、好ましくは６〜１０である。強
磁性粉末は、必要に応じてＡｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれら
の酸化物などで表面処理を施してもよい。その量は強磁
性粉末に対し通常、０．１〜１０質量％である。表面処
理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸着量が１００ｍｇ／
ｍ² 以下になり好ましい。強磁性粉末には、可溶性のＮ
ａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオンを含む場
合がある。これらは、本質的に無い方が好ましいが、２
００ｐｐｍ以下であれば特に特性に影響を与えることは
少ない。また、本発明に用いられる強磁性粉末は、空孔
が少ない方が好ましく、その値は２０容量％以下、さら
に好ましくは５容量％以下である。また形状については
先に示した粒子サイズについての特性を満足すれば針
状、米粒状、紡錘状のいずれでもよおい。

【００２２】強磁性粉末自体のＳＦＤ（switching fiel
d distribution） は小さい方が好ましく、０．８以下
が好ましい。それには、強磁性粉末のＨｃの分布を小さ
くすることが好ましい。なお、ＳＦＤが０．８以下であ
ると、電磁変換特性が良好で、出力が高く、また、磁化
反転がシャープでピークシフトも少なくなり、高密度デ
ジタル磁気記録に好適である。Ｈｃの分布を小さくする
ためには、強磁性金属粉末においてはゲータイトの粒度
分布を小さくしたり、焼結が起こりにくい条件を選ぶな
どの方法がある。

【００２３】（研磨剤）磁気記録媒体の磁性層に用いら
れる研磨剤には、公知のものを使用できるが、ダイヤモ
ンド粒子またはアルミナ粒子の使用が好ましい。

【００２４】＜ダイヤモンド及びアルミナ＞ダイヤモン
ドの場合、天然ダイアモンドは高価であり、通常人工ダ
イヤモンドが使用される。ダイアモンドの製法として
は、黒鉛と鉄、Ｃｏ，Ｎｉ等を介して高温高圧下で生成
する方法、黒鉛またはフラン樹脂炭素を高温高圧下で反
応させる静的合成法と呼ばれるものの他、動的合成法、
気相合成法がある。本発明で用いるダイアモンドは、こ
れらのいずれの方法で作られたダイアモンドであっても
よい。ダイアモンド粒子の平均粒径は、好ましくは０．
０５〜１μｍ、より好ましくは０．０７〜０．５μｍで
ある。ダイアモンドの配合量は、強磁性粉末に対して
０．１〜５質量％であり、好ましくは０．５〜３質量％
である。工業的には、切削あるいは研磨用に使用したダ
イアモンドから不純物を弁別洗浄したものを、２次使用
することも可能である。ダイアモンド粒子を分級する方
法としては、分散液から遠心力を用いる、特殊なメッシ
ュフィルターを用いる方法等がある。アルミナ粒子とし
ては、α化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ
等が用いられる。アルミナ粒子の平均粒径は、好ましく
は０．０５〜１．０μｍ、より好ましくは０．１〜０．
３μｍである。アルミナ粒子の配合量は、強磁性粉末に
対して１〜１５質量％であり、好ましくは５〜１２質量
％である。

【００２５】＜カーボンブラック＞磁性層に配合される
カ−ボンブラックは、ゴム用の各種ファ−ネスブラッ
ク、ゴム用の各種サ−マルブラック、カラ−用カーボン
ブラック、導電性カーボンブラック、アセチレンブラッ
クなどを用いることができる。比表面積は５〜５００ｍ
²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１００ｇ、
平均粒子径は５ｎｍ〜３００ｎｍ、ｐＨは２〜１０、含
水率は０．１〜１０質量％、タップ密度は０．１〜１ｇ
／cc、が好ましい。本発明に用いられるカ−ボンブラッ
クの具体的な例としてはキャボット社製、ＢＬＡＣＫＰ
ＥＡＲＬＳ−１３０、旭カーボン社製 ＃５５、＃５
０、＃３５、三菱化成工業社製 Ｎ６６０、コロンビア
カーボン社製 ＲＡＶＥＮ ４１０、４２０、５００、
２２などがあげられる。カ−ボンブラックを分散剤など
で表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、
また、表面の一部をグラファイト化したものを使用して
もよい。あるいは、カ−ボンブラックを磁性塗料に添加
する前にあらかじめ結合剤で分散してもよい。これらの
カ−ボンブラックは単独、または組合せで使用すること
ができる。磁性層にカーボンブラックを使用する場合
は、強磁性体量に対して、０．１〜３０質量％で用いる
ことが好ましい。

【００２６】カーボンブラックは、磁性層の帯電防止、
摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあ
り、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。従
って本発明に使用されるこれらのカーボンブラックは上
層磁性層、下層でその種類、量、組合せを変え、粒子サ
イズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性を
もとに目的に応じて使い分けることはもちろん可能であ
り、むしろ各層で最適化すべきものである。本発明の磁
性層で使用できるカーボンブラックは、例えば（「カー
ボンブラック便覧」カーボンブラック協会編）を参考に
することができる。

【００２７】＜その他の研磨剤＞本発明の磁気デイスク
の磁性層は、所望により上記以外の研磨剤を併用するこ
ともできる。そのような研磨剤としては、酸化アルミ、
炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、
コランダム、窒化珪素、炭化珪素、チタンカ−バイト、
酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主としてモ
−ス硬度６以上の公知の材料が単独または組合せで使用
される。また、これらの研磨剤同士の複合体（研磨剤を
他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。こ
れら研磨剤には主成分以外の化合物または元素が含まれ
る場合もあるが主成分が９０質量％以上であれば効果に
かわりはない。これらの併用される研磨剤の平均粒径
は、通常０．０１〜２μｍであり、特に電磁変換特性を
高めるためには、その粒度分布が狭い方が好ましい。ま
た耐久性を向上させるには必要に応じて粒子サイズの異
なるものを組み合わせたり、単独の研磨剤でも粒径分布
を広くして同様の効果をもたせることも可能である。磁
性層に使用する研磨剤は、ダイアモンド、アルミナを含
めて、タップ密度が０．３〜２ｇ／ｃｃ、含水率が０．
１〜５質量％、ｐＨが２〜１１、比表面積が１〜３０ｍ
²／ｇであることが好ましい。研磨剤の形状は針状、球
状、サイコロ状、のいずれでもよいが、形状の一部に角
を有するものが研磨性が高く好ましい。上記研磨剤とし
ては、具体的には、住友化学社製ＡＫＰ−１２、ＡＫＰ
−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５０、
ＨＩＴ−２０、ＨＩＴ−３０、ＨＩＴ−５５、ＨＩＴ−
６０、ＨＩＴ−７０、ＨＩＴ−８０、ＨＩＴ−１００；
レイノルズ社製、ＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰ
Ｓ−ＤＢＭ；不二見研磨剤社製、ＷＡ１００００；上村
工業社製、ＵＢ２０；日本化学工業社製、Ｇ−５、クロ
メックスＵ２、クロメックスＵ１；戸田工業社製、ＴＦ
１００、ＴＦ１４０；イビデン社製、ベータランダムウ
ルトラファイン；昭和鉱業社製、Ｂ−３などが挙げられ
る。これらの研磨剤は必要に応じ下層に添加することも
できる。下層に添加することで表面形状を制御したり、
研磨剤の突出状態を制御したりすることができる。これ
ら磁性層に併用乃至下層へ添加する研磨剤の粒径、量は
むろん最適値に設定すべきものである。

【００２８】〔非磁性層（下層）〕次に下層に関する詳
細な内容について説明する。本発明の磁気デイスクの下
層は、実質的に非磁性であればその構成は制限されるべ
きものではないが、通常少なくとも樹脂からなり、好ま
しくは粉体、例えば、無機粉末あるいは有機粉末が樹脂
中に分散されたものが挙げられる。該無機粉末は、通常
好ましくは非磁性粉末であるが、下層が実質的に非磁性
である範囲で磁性粉末も使用され得るものである。下層
が実質的に非磁性であるとは、上層の電磁変換特性を実
質的に低下させない範囲で下層が磁性を有することを許
容するということである。具体的には、例えば下層の残
留磁束密度が０．０１テスラ（１００ガウス（Ｇ））以
下または抗磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００エルステッ
ド）以下であるような場合である。

【００２９】（非磁性粉末）該非磁性粉末としては、例
えば、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化
物、金属炭化物、金属硫化物などの無機化合物から選択
することができる。無機化合物としては、例えばα化率
９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミ
ナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリ
ウム、α−酸化鉄、ヘマタイト、ゲータイト、コランダ
ム、窒化珪素、チタンカーバイド、酸化チタン、二酸化
珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステ
ン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カ
ルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリ
ブデンなどが単独または組合せで使用される。特に好ま
しいのは、粒度分布の小ささ、機能付与の手段が多いこ
となどから、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バ
リウムであり、更に好ましいのは二酸化チタン、α−酸
化鉄である。

【００３０】これら非磁性粉末の平均粒子サイズは、
０．００５〜２μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サ
イズの異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁
性粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせるこ
ともできる。とりわけ好ましい非磁性粉末の平均粒子径
は、０．０１μｍ〜０．２μｍである。特に、非磁性粉
末が粒状金属酸化物である場合は、平均粒子径０．０８
μｍ以下が好ましく、針状金属酸化物である場合は、平
均長軸長が０．３μｍ以下が好ましく、０．２μｍ以下
がさらに好ましい。タップ密度は、通常０．０５〜２ｇ
／ｍｌ、好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｍｌである。非
磁性粉末の含水率は通常、０．１〜５質量％、好ましく
は０．２〜３質量％、更に好ましくは０．３〜１．５質
量％である。非磁性粉末のｐＨは通常、２〜１１である
が、ｐＨは３〜１０の範囲が特に好ましい。非磁性粉末
の比表面積は、通常１〜１００ｍ²／ｇ、好ましくは５
〜８０ｍ²／ｇ、更に好ましくは１０〜７０ｍ²／ｇであ
る。非磁性粉末の結晶子サイズは０．００４μｍ〜１μ
ｍが好ましく、０．０４μｍ〜０．１μｍが更に好まし
い。ＤＢＰ（ジブチルフタレート）を用いた吸油量は、
通常５〜１００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは１０〜８０
ｍｌ／１００ｇ、更に好ましくは２０〜６０ｍｌ／１０
０ｇである。比重は、通常１〜１２、好ましくは３〜６
である。形状は針状、球状、多面体状、板状のいずれで
もよい。モース硬度は、４以上、１０以下のものが好ま
しい。非磁性粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は、通
常１〜２０μｍｏｌ／ｍ²、好ましくは２〜１５μｍｏ
ｌ／ｍ²、さらに好ましくは３〜８μｍｏｌ／ｍ²であ
る。

【００３１】これらの非磁性粉末の表面は表面処理が施
され、表面にＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、
ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、Ｙ₂Ｏ₃が存在することが
好ましい。特に分散性に好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ
₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂であるが、更に好ましいのはＡｌ₂
Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂である。これらは組み合わせて
使用しても良いし、単独で用いることもできる。また、
目的に応じて共沈させた表面処理層を用いても良いし、
先ずアルミナを存在させた後にその表層にシリカを存在
させる方法、またはその逆の方法を採ることもできる。
また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わ
ないが、均質で密である方が一般には好ましい。

【００３２】本発明の下層に用いられる非磁性粉末の具
体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製
ＨＩＴ−１００、ＺＡ−Ｇ１；戸田工業社製α−ヘマタ
イトＤＰＮ−２５０、ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ−２
４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸ、ＤＰＮ−５００ＢＸ、ＤＢ
Ｎ−ＳＡ１、ＤＢＮ−ＳＡ３；石原産業製酸化チタンＴ
ＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴ
Ｏ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ−
１００、α−ヘマタイトＥ２７０、Ｅ２７１、Ｅ３０
０、Ｅ３０３；チタン工業製酸化チタンＳＴＴ−４Ｄ、
ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、αヘ
マタイトα−４０、テイカ製ＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１
００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、ＭＴ−６０
０Ｂ、ＭＴ−１００Ｆ、ＭＴ−５００ＨＤ；堺化学製Ｆ
ＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、
ＳＴ−Ｍ；同和鉱業製ＤＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−
Ｒ；日本アエロジル製ＡＳ２ＢＭ、ＴｉＯ２Ｐ２５；宇
部興産製１００Ａ、５００Ａ、およびそれを焼成したも
のが挙げられる。特に好ましい非磁性粉末は二酸化チタ
ンとα−酸化鉄である。

【００３３】（下層に配合されるカーボンブラック等）
下層にカ−ボンブラックを混合させて公知の効果である
表面電気抵抗（Ｒｓ）を下げること、光透過率を小さく
することができるとともに、所望のマイクロビッカース
硬度を得る事ができる。また、下層にカーボンブラック
を含ませることで潤滑剤貯蔵の効果をもたらすことも可
能である。カーボンブラックの種類はゴム用各種ファ−
ネスブラック、ゴム用各種サ−マルブラック、カラ−用
カーボンブラック、アセチレンブラックなどを用いるこ
とができる。下層のカーボンブラックは所望する効果に
よって、以下のような特性を最適化すべきであり、併用
することでより効果が得られることがある。

【００３４】下層のカ−ボンブラックの比表面積は、通
常１００〜５００ｍ²／ｇ、好ましくは１５０〜４００
ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は、通常２０〜４００ｍｌ／１
００ｇ、好ましくは３０〜４００ｍｌ／１００ｇであ
る。カ−ボンブラックの平均粒径は、通常５〜８０ｎ
ｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍ、さらに好ましくは１０
〜４０ｎｍである。カ−ボンブラックのｐＨは２〜１
０、含水率は０．１〜１０質量％、タップ密度は０．１
〜１ｇ／ｍｌが好ましい。

【００３５】本発明に用いられるカ−ボンブラックの具
体的な例としては、キャボット社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲ
ＬＳ ２０００、１３００、１０００、９００、８０
０、８８０、７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２；三菱
化成工業社製＃３０５０Ｂ、＃３１５０Ｂ、＃３２５０
Ｂ、＃３７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９５０、＃６５０
Ｂ、＃９７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ−６００、ＭＡ−２
３０、＃４０００、＃４０１０；コロンビアンカ−ボン
社製ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ ８８０
０、８０００、７０００、５７５０、５２５０、３５０
０、２１００、２０００、１８００、１５００、１２５
５、１２５０；アクゾー社製ケッチェンブラックＥＣな
どがあげられる。カ−ボンブラックを分散剤などで表面
処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の
一部をグラファイト化したものを使用してもかまわな
い。また、カ−ボンブラックを塗料に添加する前にあら
かじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボ
ンブラックは、上記無機化合物粉末に対して５０質量％
を越えない範囲及び非磁性層総質量の４０質量％を越え
ない範囲で使用できる。これらのカ−ボンブラックは単
独、または組合せで使用することができる。本発明で使
用できるカ−ボンブラックは例えば「カ−ボンブラック
便覧」（カ−ボンブラック協会編）を参考にすることが
できる。

【００３６】また下層には有機質粉末を目的に応じて、
添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹
脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉
末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフ
ィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド
系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレ
ン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭６２
−１８５６４号公報、特開昭６０−２５５８２７号公報
に記載されている方法等が使用できる。

【００３７】「結合剤」本発明においては、前述のよう
に結合剤に放射線硬化樹脂を用いることによって発明の
目的を達している。結合剤に放射線硬化樹脂を用いるに
当たっては，該樹脂を構成するモノマー(以後放射線硬
化性樹脂材料と呼ぶ)を構成層の塗布液に含有させ、塗
布した後に放射線照射によって架橋重合させて樹脂とす
る。放射線硬化性樹脂材料としては、分子中に２コ以上
の放射線感応性二重結合を有する化合物であるアクリル
酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステ
ル類、メタクリル酸アミド類、アリル化合物、ビニルエ
−テル類、ビニルエステル類などがあげられる。好まし
くは２官能以上のアクリレ−ト化合物、メタクリレ−ト
化合物である。

【００３８】２官能のアクリレ−ト化合物、メタクリレ
−ト化合物の具体例としては、エチレングリコ−ルジア
クリレ−ト、プロピレングリコ−ルジアクリレ−ト、ブ
タンジオ−ルジアクリレ−ト、ヘキサンジオ−ルジアク
リレ−ト、ジエチレングリコールジアクリレート、トリ
エチレングリコールジアクリレート、テトラエチレング
リコールジアクリレート、ネオペンチルグリコ−ルジア
クリレ−ト、トリプロピレングリコ−ルジアクリレ−
ト、エチレングリコ−ルジメタクリレ−ト、プロピレン
グリコ−ルジメタクリレ−ト、ブタンジオ−ルジメタク
リレ−ト、ヘキサンジオ−ルジメタクリレ−ト、ジエチ
レングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコ
ールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメ
タクリレート、ネオペンチルグリコ−ルジメタクリレ−
ト、トリプロピレングリコ−ルジメタクリレ−トなどに
代表される脂肪族ジオ−ルにアクリル酸、メタクリル酸
を付加させたものを用いることができる。

【００３９】またポリエチレングリコ−ル、ポリプロピ
レングリコ−ル、ポリテトラメチレングリコ−ルなどの
ポリオ−テルポリオ−ルにアクリル酸、メタクリル酸を
付加したポリエ−テルアクリレ−ト、ポリエ−テルメタ
クリレ−トや公知の二塩基酸、グリコ−ルから得られた
ポリエステルポリオ−ルにアクリル酸、メタクリル酸を
付加させたポリエステルアクリレ−ト、ポリエステルメ
タクリレ−トも用いることができる。

【００４０】公知のポリオ−ル、ジオ−ルとポリイソシ
アネ−トを反応させたポリウレタンにアクリル酸、メタ
クリル酸を付加させたポリウレタンアクリレ−ト、ポリ
ウレタンメタクリレ−トを用いてもよい。ビスフェノ−
ルＡ、ビスフェノ−ルＦ、水素化ビスフェノ−ルＡ、水
素化ビスフェノ−ルＦやこれらのアルキレンオキサイド
付加物にアクリル酸、メタクリル酸を付加させたものや
イソシアヌル酸アルキレンオキサイド変性ジアクリレ−
ト、イソシアヌル酸アルキレンオキサイド変性ジメタア
クリレ−ト、トリシクロデカンジメタノ−ルジアクリレ
−ト、トリシクロデカンジメタノ−ルジメタクリレ−ト
などの環状構造を有するものも用いることができる。

【００４１】３官能基のアクリレ−ト化合物、メタクリ
レ−ト化合物の具体例としては、トリメチロ−ルプロパ
ントリアクリレ−ト、トリメチロ−ルエタントリアクリ
レ−ト、トリメチロ−ルプロパンのアルキレンオキサイ
ド変性トリアクリレ−ト、ペンタエリスリト−ルトリア
クリレ−ト、ジペンタエリスリト−ルトリアクリレ−
ト、イソシアヌル酸アルキレンオキサイド変性トリアク
リレ−ト、プロピオン酸ジペンタエリスリト−ルトリア
クリレ−ト、ヒドロシキピバルアルデヒド変性ジメチロ
−ルプロパントリアクリレ−ト、トリメチロ−ルプロパ
ントリメタクリレ−ト、トリメチロ−ルプロパンのアル
キレンオキサイド変性トリメタクリレ−ト、ペンタエリ
スリト−ルトリメタクリレ−ト、ジペンタエリスリト−
ルトリメタクリレ−ト、イソシアヌル酸アルキレンオキ
サイド変性トリメタクリレ−ト、プロピオン酸ジペンタ
エリスリト−ルトリメタクリレ−ト、ヒドロシキピバル
アルデヒド変性ジメチロ−ルプロパントリメタクリレ−
トなどを用いることができる。

【００４２】４官能以上のアクリレ−ト化合物、メタク
リレ−ト化合物の具体例としては、ペンタエリスリト−
ルテトラアクリレ−ト、ジトリメチロ−ルプロパンテト
ラアクリレ−ト、ジペンタエリスリト−ルペンタアクリ
レ−ト、プロピオン酸ジペンタエリスリト−ルテトラア
クリレ−ト、ジペンタエリスリト−ルヘキサアクリレ−
ト、フォスファゼンのアルキレンオキサイド変性ヘキサ
アクリレ−トなどを用いることができる。

【００４３】具体例として好ましいものは分子量２００
〜２０００の３官能以上のアクリレ−ト化合物である。
更に好ましいものはトリメチロールプロパントリアクリ
レート、ペンタエリスリト−ルテトラアクリレ−ト、ジ
ペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート、イソシアヌル酸のエ
チレンオキサイド変性トリアクリレ−トである。またこ
れらの化合物は任意の割合で混合して使用することがで
きるとともに「低エネルギ−電子線照射の応用技術（20
00年 （株）シ−エムシ−発行）」「ＵＶ・ＥＢ硬化技
術（1982年 （株）総合技術センタ−発行）」などに記
載されている公知の１官能アクリレ−トまたはメタクリ
レ−ト化合物を併用してもよい。

【００４４】さらに塩ビ酢ビ系共重合体、繊維素系樹
脂、アセタール系樹脂、塩ビ−塩化ビニリデン系樹脂、
ウレタン樹脂、アクリロニトリルブタジエン樹脂等の熱
可塑性樹脂を必要により前記放射線照射により重合可能
な化合物と混合使用することができる。また、熱可塑性
樹脂は放射線硬化官能基として炭素−炭素不飽和結合を
有する基を有し、前記放射線照射により硬化可能な樹脂
と重合可能であればさらに好ましい。

【００４５】結合剤として、放射線硬化性樹脂と共に、
熱可塑性樹脂を併用することができる。そのような熱可
塑性樹脂としては、ガラス転移温度が、通常−１００〜
１５０℃、数平均分子量（ＧＰＣ法によるポリスチレン
換算値）が、通常１,０００〜２００,０００、好ましく
は１０,０００〜１００,０００、重合度が、通常約５０
〜１０００程度のものが好ましい。このような熱可塑性
樹脂の例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルア
ルコ−ル、無水マレイン酸、マレイン酸、アクリル酸、
アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリ
ル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、
ブタジエン、エチレン、ビニルブチラ−ル、ビニルアセ
タ−ル、ビニルエ−テルなどの単量体から導かれる構成
単位を含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、
各種ゴム系樹脂が挙げられる。

【００４６】なお、上記ポリウレタン樹脂には、ポリエ
ステルポリウレタン、ポリエ−テルポリウレタン、ポリ
エ−テルポリエステルポリウレタン、ポリカ−ボネ−ト
ポリウレタン、ポリエステルポリカ−ボネ−トポリウレ
タン、ポリカプロラクトンポリウレタンなどが含まれ
る。ポリウレタン樹脂を併用する場合は、ガラス転移温
度が−５０〜１５０℃、さらには０〜１００℃、破断伸
びが１００〜２０００％、破断応力が０．４９〜９８Ｎ
／ｍｍ²（０．０５〜１０ｋｇ／ｍｍ²）、降伏点が０．
４９〜９８Ｎ／ｍｍ ²（０．０５〜１０ｋｇ／ｍｍ²）で
あることが好ましい。

【００４７】以上の放射線硬化性樹脂やそれと併用され
る熱可塑性樹脂は、より優れた分散性と耐久性を得るた
めに、必要に応じ、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃
Ｍ、−Ｐ＝Ｏ(ＯＭ)₂、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ(ＯＭ)₂、（ここ
で、Ｍは水素原子またはアルカリ金属を示す）、−Ｏ
Ｈ、−ＮＲ₂、−Ｎ⁺Ｒ₃（Ｒは炭化水素基）、エポキシ
基、−ＳＨ、−ＣＮなどから選ばれる少なくとも一つ以
上の極性基を共重合または付加反応で導入したものを用
いることが好ましい。このような極性基の量は、樹脂の
質量に対して好ましくは１０^-1〜１０^-8モル／ｇであ
り、より好ましくは１０^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００４８】放射線硬化性樹脂と併用される熱可塑性樹
脂としての結合剤の具体的な例としては、ユニオンカ−
バイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、
ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、
ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、
ＰＫＦＥ；日信化学工業社製ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−Ｔ
Ａ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭ
Ｆ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ；電
気化学社製１０００Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８
２、ＤＸ８３、１００ＦＤ；日本ゼオン社製ＭＲ−１０
４、ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ１００、ＭＲ５５
５、４００Ｘ−１１０Ａ；日本ポリウレタン社製ニッポ
ランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４；大日本イン
キ社製パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ
−５２０１、バ−ノックＤ−４００、Ｄ−２１０−８
０、クリスボン６１０９、７２０９；東洋紡社製バイロ
ンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ−８７００、ＲＶ
５３０、ＲＶ２８０、大日精化社製ダイフェラミン４０
２０、５０２０、５１００、５３００、９０２０、９０
２２、７０２０；三菱化成社製ＭＸ５００４、三洋化成
社製サンプレンＳＰ−１５０；旭化成社製サランＦ３１
０、Ｆ２１０などが挙げられる。

【００４９】磁気記録媒体の下層及び磁性層に用いられ
る結合剤としての放射線硬化性樹脂は、下層にあっては
非磁性粉末、磁性層にあっては強磁性金属粉末に対し、
各々通常５〜５０質量％の範囲、好ましくは１０〜３０
質量％の範囲で用いられる。ポリイソシアネ−トは好ま
しくは２〜２０質量％の範囲で用いられる。塩化ビニル
系樹脂を併用する場合は好ましくは５〜３０質量％の範
囲で、ポリウレタン樹脂を併用する場合は好ましくは２
〜２０質量％の範囲で用いられる。特にこれら三者を組
み合わせて用いることが好ましい。微量の脱塩素により
ヘッド腐食が起こる場合は、ポリイソシアネートにポリ
ウレタンのみを併用してもよい。

【００５０】本発明に係わる磁気記録媒体は、基本的に
下層および磁性層からなるが、下層および／または磁性
層を複層化してもよい。従って、結合剤量、結合剤中に
占める放射線硬化性樹脂、あるいはそれ以外の樹脂の
量、磁性層を形成する各樹脂の分子量、極性基量、ある
いは先に述べた樹脂の物理特性などを必要に応じ各層と
で変えることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適
化すべきであり、多層構成に関する公知技術を適用でき
る。例えば、各層で結合剤量を変更する場合、磁性層表
面の擦傷を減らすためには磁性層の結合剤量を増量する
こと、ヘッドに対するヘッドタッチを良好にするために
は、下層の結合剤量を多くして柔軟性を持たせることな
どが挙げられるが、適用に際しては、本発明の効果が発
揮される範囲で最適化されることが好ましいことは言を
待たない。

【００５１】〔添加剤〕磁気記録媒体の磁性層と下層に
使用される添加剤としては、潤滑効果、帯電防止効果、
分散効果、可塑効果などをもつものが使用される。添加
剤としては、二硫化モリブデン、二硫化タングステング
ラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイ
ル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、
フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素
含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコール、アル
キル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、アルキル
硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ポリフェニル
エーテル、フェニルホスホン酸、αナフチル燐酸、フェ
ニル燐酸、ジフェニル燐酸、ｐ−エチルベンゼンホスホ
ン酸、フェニルホスフィン酸、アミノキノン類、各種シ
ランカップリング剤、チタンカップリング剤、フッ素含
有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、炭
素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んで
も、また分岐していてもかまわない）、および、これら
の金属塩（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数
１２〜２２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アル
コール（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもか
まわない）、炭素数１２〜２２のアルコキシアルコール
（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわな
い）、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合
を含んでも、また分岐していてもかまわない）と炭素数
２〜１２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコ
ールのいずれか一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐
していてもかまわない）とからなるモノ脂肪酸エステル
またはジ脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、ア
ルキレンオキシド重合物のモノアルキルエーテルの脂肪
酸エステル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８
〜２２の脂肪族アミンなどが挙げられる。

【００５２】これらの具体例として下記のものが挙げら
れる。脂肪酸では、カプリン酸、カプリル酸、ラウリン
酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘ
ン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレ
ン酸、イソステアリン酸など。エステル類ではブチルス
テアレート、オクチルステアレート、アミルステアレー
ト、イソオクチルステアレート、ブチルミリステート、
オクチルミリステート、ブトキシエチルステアレート、
ブトキシジエチルステアレート、２ーエチルヘキシルス
テアレート、２ーオクチルドデシルパルミテート、２ー
ヘキシルドデシルパルミテート、イソヘキサデシルステ
アレート、オレイルオレエート、ドデシルステアレー
ト、トリデシルステアレート、エルカ酸オレイル、ネオ
ペンチルグリコールジデカノエート、エチレングリコー
ルジオレイルなど。アルコール類ではオレイルアルコ−
ル、ステアリルアルコール、ラウリルアルコ−ルなど。

【００５３】アルキレンオキサイド系、グリセリン系、
グリシド−ル系、アルキルフェノ−ルエチレンオキサイ
ド付加体などのノニオン界面活性剤、環状アミン、エス
テルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘
導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類な
どのカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン
酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基などの酸性
基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスル
ホン酸類、アミノアルコ−ルの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベダイン型などの両性界面活性剤なども使
用できる。これらの界面活性剤については、「界面活性
剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されて
いる。これらの潤滑剤、帯電防止剤などは必ずしも完全
に純水である必要はなく、主成分以外に異性体、未反応
物、副反応物、分解物、酸化物などの不純分が含まれて
もかまわない。これらの不純分は３０質量％以下が好ま
しく、さらに好ましくは１０質量％以下である。

【００５４】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は個々に異なる物理的作用を有するものであり、
その種類、量、および相乗的効果を生み出す潤滑剤の併
用比率は目的に応じ最適に定められるべきものである。
下層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面への滲み
出しを制御する、沸点、融点や極性の異なるエステル類
を用い表面への滲み出しを制御する、界面活性剤量を調
節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の添加
量を下層で多くして潤滑効果を向上させるなど考えら
れ、無論ここに示した例のみに限られるものではない。
一般には潤滑剤の総量として磁性層の強磁性粉末または
下層の非磁性粉末に対し、０．１質量％〜５０質量％、
好ましくは２質量％〜２５質量％の範囲で選択される。

【００５５】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性および非磁性塗料製造のどの工程
で添加してもかまわない。例えば、混練工程前に磁性体
と混合する場合、磁性体と結合剤と有機溶剤による混練
工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後
に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。
また、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐
次塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することによ
り目的が達成される場合がある。また、目的によっては
カレンダー処理（カレンダーロールによる加熱加圧処
理）した後、またはスリット終了後、磁性層表面に潤滑
剤を塗布することもできる。

【００５６】上記で用いられる有機溶剤は、公知のもの
が使用でき、例えば特開平６−６８４５３号公報に記載
の溶剤を用いることができる。

【００５７】〔層構成〕本発明に係わる磁気記録媒体の
層構成をより詳しく説明する。磁気記録媒体の支持体の
厚みは、好ましくは１０〜１００μｍ、より好ましくは
２０〜８０μｍである。支持体と下層との間に密着性向
上のための下塗層を設けてもかまわない。該下塗層の厚
みは、好ましくは０．０１〜０．５μｍ、より好ましく
は０．０２〜０．５μｍである。本発明に係わる磁気記
録媒体は、通常支持体両面に下層と磁性層を設けてなる
両面磁性層ディスク状媒体であっても、片面のみにそれ
らを設けたディスク状媒体であってもよい。後者の場
合、帯電防止やカール補正などの効果を出すために下
層、磁性層側と反対側にバックコ−ト層を設けてもかま
わない。この厚みは０．１〜４μｍ、好ましくは０．３
〜２．０μｍである。これらの下塗層、バックコ−ト層
は公知のものが使用できる。

【００５８】磁気記録媒体の磁性層の厚みは、用いるヘ
ッドの飽和磁化量やヘッドギャップ長、記録信号の帯域
により最適化されるものであるが、好ましくは０．０２
〜０．５μｍ、より好ましくは０．７〜０．２５μｍで
ある。磁性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離
してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用
できる。

【００５９】下層の厚みは、通常０．２〜５μｍ、好ま
しくは０．３〜３μｍ、さらに好ましくは１〜２．５μ
ｍである。なお、下層は実質的に非磁性であればその効
果を発揮するものであり、たとえば不純物としてあるい
は意図的に少量の磁性体を含んでも、本発明の効果を示
すものであり、本発明と実質的に同一の構成と見なすこ
とができることは既に述べた。具体的には、例えば下層
の残留磁束密度が０．０１テスラ（１００ガウス
（Ｇ））以下または抗磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００
エルステッド）以下であるような場合であり、好ましく
は残留磁束密度と抗磁力を持たないことである。

【００６０】（支持体）本発明の磁気デイスクに用いら
れる支持体は、非磁性であることが好ましい。非磁性支
持体としてはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ンナフタレート、などのポリエステル類、ポリオレフィ
ン類、セルロ−ストリアセテート、ポリカ−ボネート、
ポリアミド（脂肪族ポリアミドやアラミドなどの芳香族
ポリアミドを含む）、ポリイミド、ポリアミドイミド、
ポリスルフォン、ポリベンゾオキサゾールなどの公知の
フィルムが使用できる。ポリエチレンナフタレート、ポ
リアミドなどの高強度支持体を用いることが好ましい。
また必要に応じ、磁性面とベ−ス面の表面粗さを変える
ため特開平３−２２４１２７号公報に示されるような積
層タイプの支持体を用いることもできる。これらの支持
体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接
着処理、熱処理、除塵処理などをおこなってもよい。ま
た本発明の支持体としてアルミまたはガラス基板を適用
することも可能である。

【００６１】支持体のＦ−５値は、好ましくは４９〜４
９０Ｎ／ｍｍ²（５〜５０ｋｇ／ｍｍ²）、また、支持体
の１００℃３０分での熱収縮率は好ましくは３％以下、
さらに好ましくは１．５％以下、８０℃３０分での熱収
縮率は好ましくは０．５％以下、さらに好ましくは０．
１％以下である。破断強度は５〜９８０Ｎ／ｍｍ²（５
〜１００ｋｇ／ｍｍ²）、弾性率は９８０〜１９６００
Ｎ／ｍｍ²（１００〜２０００ｋｇ／ｍｍ²）が好まし
い。温度膨張係数は１０^-4〜１０^-8／℃であり、好まし
くは１０^-5〜１０^-6／℃である。湿度膨張係数は１０^-4
／％ＲＨ以下であり、好ましくは１０^-5／％ＲＨ以下で
ある。これらの熱特性、寸法特性、機械強度特性は支持
体の面内各方向に対し１０％以内の差でほぼ等しいこと
が好ましい。

【００６２】〔磁気記録媒体の製法〕本発明の磁気記録
媒体の製造方法は、各層を形成するための塗布液の調
製、支持体への塗布液の塗布、配向処理、乾燥、冷却、
カレンダ処理、放射線照射による硬化、研磨処理(必要
により)等の工程からなる 磁気記録媒体の磁性塗料（塗布液）または下層塗料（塗
布液）を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工
程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混
合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわ
かれていてもかまわない。強磁性粉末、非磁性粉末、結
合剤、カ−ボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑
剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初または途中
で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上
の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、ポリ
イソシアネートを混練工程、分散工程、分散後の粘度調
整のための混合工程で分割して投入してもよい。また、
従来の公知の製造技術を一部の工程として用いることが
できる。混練工程ではオープンニーダ、連続ニーダ、加
圧ニーダ、エクストルーダなど強い混練力をもつものを
使用することが好ましい。ニーダを用いる場合は磁性粉
末または非磁性粉末と結合剤のすべてまたはその一部
（ただし全結合剤の３０質量％以上が好ましい）および
磁性粉末１００質量部に対し１５〜５００質量部の範囲
で混練処理される。これらの混練処理の詳細については
特開平１−１０６３３８号公報、特開平１−７９２７４
号公報に記載されている。また、磁性層塗料および下層
塗料を分散させるにはガラスビーズを用ることができる
が、高比重の分散メディアであるジルコニアビーズ、チ
タニアビーズ、スチールビーズが好適である。これら分
散メディアの粒径と充填率は最適化して用いられる。分
散機は公知のものを使用することができる。

【００６３】本発明の重層構成の磁気記録媒体の場合、
支持体に塗布する場合、以下のような方式を用いること
が好ましい。第一に、磁性塗料の塗布で一般的に用いら
れるグラビア塗布、ロール塗布、ブレード塗布、エクス
トルージョン塗布装置などにより、まず下層を塗布し、
下層がウェット状態のうちに特公平１−４６１８６号公
報や特開昭６０−２３８１７９号公報、特開平２−２６
５６７２号公報に開示されている支持体加圧型エクスト
ルージョン塗布装置により上層を塗布する方法である。
第二に、特開昭６３−８８０８０号公報、特開平２−１
７９７１号公報，特開平２−２６５６７２号公報に開示
されているような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一
つの塗布ヘッドにより上下層をほぼ同時に塗布する方法
である。第三に、特開平２−１７４９６５号公報に開示
されているバックアップロール付きエクストルージョン
塗布装置により上下層をほぼ同時に塗布する方法であ
る。なお、磁性粒子の凝集による磁気デイスクの電磁変
換特性などの低下を防止するため、特開昭６２−９５１
７４号公報や特開平１−２３６９６８号公報に開示され
ているような方法により塗布ヘッド内部の塗布液にせん
断を付与することが望ましい。さらに、塗布液の粘度に
ついては、特開平３−８４７１号公報に開示されている
数値範囲を満足することが好ましい。本発明に係わる磁
気記録媒体の層構成を実現するには、下層を塗布し乾燥
させたのち、その上に磁性層を設ける逐次重層塗布を用
いてもむろんかまわず、本発明の効果が失われるもので
はない。ただし、塗布欠陥を少なくし、ドロップアウト
などの品質を向上させるためには、前述の同時重層塗布
を用いることが好ましい。

【００６４】磁気記録媒体は、配向装置を用いず無配向
でも十分に等方的な配向性が得られることもあるが、コ
バルト磁石を斜めに交互に配置すること、ソレノイドで
交流磁場を印加するなど公知のランダム配向装置を用い
ることが好ましい。等方的な配向とは、一般的には面内
２次元ランダムが好ましいが、垂直成分をもたせて３次
元ランダムとすることもできる。また、スピンコートを
用い円周配向してもよい。

【００６５】乾燥工程において、乾燥ゾーンの温度は４
０℃以上が望ましく、好ましくは１００〜１３０℃とな
るように設定される。この際、乾燥風の温度、風量、塗
布速度を制御することで塗膜の乾燥位置を制御できるよ
うにすることが好ましい。塗布速度は２０〜１０００ｍ
／分、乾燥風の温度は４０℃以上が望ましく、好ましく
は１００〜１３０℃が好ましい、また配向工程に入る前
に適度の予備乾燥を行なうこともできる。

【００６６】乾燥後、ウェブは通常ロール状に巻き取ら
れ、このロールが上記温度範囲に維持される。放射線照
射がされていないこの段階では、ウェブは十分な柔軟性
を有し、カレンダ加工処理がスムーズに行われる。その
結果、カレンダ処理後の磁性層の表面は適度に平滑とな
り、磁性粉末の充填度も高くなり、表面硬度も高くな
る。なお、本明細書において、ウェブとは、支持体もし
くは塗布済み支持体を塗布機に搬送中の状態もしくはロ
ール状に巻かれた状態のことをいう。

【００６７】カレンダ処理に用いられるロ−ルとして、
エポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド
などの耐熱性のあるプラスチックロ−ルまたは金属ロ−
ルが用いられる。特に両面磁性層とする場合は金属ロ−
ル同志で処理することが好ましい。処理温度は、好まし
くは５０℃以上、さらに好ましくは１００℃以上であ
る。線圧力は好ましくは１９６０Ｎ／ｃｍ（２００ｋｇ
／ｃｍ）以上、さらに好ましくは２９４０Ｎ／ｃｍ（３
００ｋｇ／ｃｍ）以上である。

【００６８】カレンダー処理に続いて放射線照射が行わ
れる。本発明において使用される放射線には、電子線や
紫外線を用いることができる。紫外線を使用する場合に
は前記の化合物に光重合開始剤を添加することが必要と
なる。電子線硬化の場合は重合開始剤が不要であり、透
過深さも深いので好ましい。

【００６９】電子線加速器としてはスキャニング方式、
ダブルスキャニング方式あるいはカーテンビーム方式が
採用できるが、好ましいのは比較的安価で大出力が得ら
れるカーテンビーム方式である。電子線特性としては、
加速電圧が30〜1000kV、好ましくは50〜300kVであり、
吸収線量として0.5〜20Ｍｒａｄ、好ましくは2〜10Ｍｒ
aｄである。加速電圧が30kV以下の場合はエネルギーの
透過量が不足し、300kVを超えると重合に使われるエネ
ルギーの効率が低下し経済的でない。電子線を照射する
雰囲気は窒素パージにより酸素濃度を200ppm以下にする
ことが好ましい。酸素濃度が高いと表面近傍の架橋、硬
化反応が阻害される。

【００７０】紫外線光源としては、水銀灯が用いられ
る。水銀灯は、発光面強度が２０〜２４０Ｗ／cmのラン
プを用い、ウエブ搬送速度０．３ｍ／分〜２０ｍ／分で
使用される。ウエブと水銀灯との距離は一般に１〜３０
cmであることが好ましい。紫外線硬化に用いる光重合開
始剤として光ラジカル重合開始剤が用いられる。詳細は
例えば「新高分子実験学第２巻、第６章、光・放射線重
合」（共立出版1995発行、高分子学会編）記載されてい
るものを使用できる。具体例としては、アセトフエノ
ン、ベンゾフエノン、アントラキノン、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンジルメチルケタール、ベンジルエチル
ケタール、ベンゾインイソブチルケトン、ヒドロキシジ
メチルフエニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシル
フエニルケトン、２−２ジエトキシアセトフエノン、な
どがある。光重合開始剤の混合比率は、放射線硬化性樹
脂材料100質量部に対し0.5〜20質量部、好ましくは２〜
15質量部、さらに好ましくは３〜10質量部である。

【００７１】放射線硬化装置、照射条件などについては
「ＵＶ・ＥＢ硬化技術」（（株）総合技術センタ−発行）
や「低エネルギー電子線照射の応用技術」（2000，（株）
シーエムシー発行）などに記載されている公知のものを
用いることができる。

【００７２】放射線照射処理後、デイスク形状に打ち抜
き、ライナが内側に設置済みのカートリッジに入れ、所
定の機構部品を付加し、磁気デイスクが製造されるが、
必要に応じ、デイスク形状に打ち抜いた後、研磨テープ
でバーニッシュ処理を行い表面の突起を削るなどの後処
理を行ってもよい。

【００７３】〔物理特性〕本発明に係わる磁気記録媒体
の磁性層の飽和磁束密度は、通常０．２〜０．６テスラ
（２０００〜６０００ガウス）である。抗磁力の分布は
狭い方が好ましく、ＳＦＤおよびＳＦＤｒは０．６以下
が好ましい。角形比は、通常、ランダム配向で０．４５
〜０．５５、２次元ランダムの場合は、０．６〜０．６
７以下である。垂直配向した場合は、通常０．５以上で
ある。

【００７４】本発明の磁気記録媒体のヘッドに対する摩
擦係数は、温度−１０℃〜４０℃、湿度０％〜９５％の
範囲において、好ましくは０．５以下、より好ましくは
０．３以下であり、表面固有抵抗は好ましくは磁性面１
０⁴〜１０¹²オ−ム／ｓｑであり、帯電位は−５００Ｖ
から＋５００Ｖ以内が好ましい。磁性層の０．５％伸び
での弾性率は、面内各方向で好ましくは９８０〜１９６
００Ｎ／ｍｍ²（１００〜２０００ｋｇ／ｍｍ²）、破断
強度は、好ましくは９８〜６８６Ｎ／ｍｍ²（１０〜７
０Ｋｇ／ｍｍ²）、磁気デイスクの弾性率は、面内各方
向で好ましくは９８０〜１４７００Ｎ／ｍｍ²（１００
〜１５００ｋｇ／ｍｍ²）、残留のびは、好ましくは
０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮
率は、好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％
以下、もっとも好ましくは０．１％以下である。磁性層
のガラス転移温度（１１０Ｈｚで測定した動的粘弾性測
定の損失弾性率の極大点）は５０℃〜１２０℃が好まし
く、下層のそれは０℃〜１００℃が好ましい。損失弾性
率は１×１０³〜１×１０⁴Ｎ／ｃｍ²（１×１０⁸ 〜８
×１０⁹ｄｙｎｅ／ｃｍ²）の範囲にあることが好まし
く、損失正接は０．２以下であることが好ましい。損失
正接が大きすぎると粘着故障が発生しやすい。これらの
熱特性や機械特性は媒体の面内各方向で１０％以内でほ
ぼ等しいことが好ましい。磁性層中に含まれる残留溶媒
は、好ましくは１００ｍｇ／ｍ²以下、さらに好ましく
は１０ｍｇ／ｍ²以下である。塗布層が有する空隙率
は、非磁性下層、磁性層とも好ましくは３０容量％以
下、さらに好ましくは２０容量％以下である。空隙率は
高出力を果たすためには小さい方が好ましいが、目的に
よってはある値を確保した方が良い場合がある。例え
ば、繰り返し用途が重視されるデイスク媒体では空隙率
が大きい方が走行耐久性は好ましいことが多い。

【００７５】本発明の磁気記録媒体において、目的に応
じ下層と磁性層でこれらの物理特性を変えることができ
る。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性を向上
させると同時に下層の弾性率を磁性層より低くして磁気
記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどである。

【００７６】

【実施例】以下、本発明を具体的に実施例に基づきを説
明するが、本発明はこれに限定されて解釈されるべきも
のではない。なお、以下の「部」とは「質量部」のこと
である。 [実施例１] ＜塗料の調製＞下記組成の塗料を調整した。 １）磁性塗料組成 強磁性金属微粉末 １００部 組成：Ｆｅ７０％、Ｃｏ３０％、 Ｈｃ２５５０Oe、比表面積５５m^２/g、σs１４０emu/g 結晶サイズ１２０nm、長軸長０．０４８μm、針状比４ 焼結防止剤 Ａｌ化合物（Ａｌ／Ｆｅ原子比 ８％） Ｙ化合物 （Ｙ／Ｆｅ原子比 ６％） 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ３部 αアルミナ ＨＩＴ５５（住友化学社製） １０部 カ−ボンブラック ＃５０（旭カーボン社製） ５部 フェニルホスホン酸 ３部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ３部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン １８０部 シクロヘキサノン １８０部

【００７７】 ２）非磁性塗料組成（ 球状無機粉使用 ） 非磁性粉体 ＴｉＯ_２ 結晶系ルチル ８０部 平均一次粒子径0.035μm、ＢＥＴ法による比表面積４０m^２/g ｐＨ７,ＴｉＯ_２含有量９０％以上、ＤＢＰ吸油量27〜38g/100g、 表面処理剤Ａｌ_２Ｏ_３ ８質量％ カ−ボンブラック コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアンカーボン社製） ２０部 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ５部 フェニルホスホン酸 ４部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ２部 ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０ 部

【００７８】３）塗布液の調製 上記２つの塗料のそれぞれについて、各成分をニ−ダで
混練したのち、サンドミルをもちいて分散させた。得ら
れた分散液に放射線硬化性樹脂材料としてジペンタエリ
ストールヘキサアクリレート（共栄社化学（株）；ライ
トアクリレートＤＰＥ−６Ａ）を非磁性層の塗布液には
１０部、磁性層の塗布液には１０部を加え、さらにそれ
ぞれにシクロヘキサノン４０部を加え，１μmの平均孔
径を有するフィルターを用いて濾過し、非磁性層形成用
および磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調製した。

【００７９】＜ディスク試料の作製＞得られた非磁性層
塗布液を、乾燥後の厚さが１．５μmになるようにさら
にその直後にその上に磁性層の厚さが０．１５μmにな
るように、厚さ６２μmで中心面平均表面粗さが３ｎｍ
のポリエチレンテレフタレ−ト支持体上に同時重層塗布
をおこない、両層がまだ湿潤状態にあるうちに周波数５
０Hz、磁場強度２５０ガウスまた周波数５０Hz、１２０
ガウスの２つの磁場強度交流磁場発生装置の中を通過さ
れランダム配向処理を行い１００#Cで乾燥後、カレンダ
温度９０℃、線圧３００kg/cmにて処理を行い、加速電
圧１６５ＫＶ、ビーム電流６ｍＡで吸収線量が７Ｍｒａ
ｄになるように電子線を照射した後、３．７吋ディスク
状に打ち抜き、ライナーが内側に設置済の３．７吋のカ
ートリッジ（米 Ｉｏｍｅｇａ社製ｚｉｐ−ｄｉｓｋカ
ートリッジに入れ、所定の機構部品を付加し、３．７吋
フロッピーディスクを得た。

【００８０】［実施例２］実施例１において磁性塗料・
非磁性塗料の塩化ビニル共重合体に代えて放射線硬化性
樹脂材料である塩化ビニル共重合体アクリレートを同量
用いた。その他は、実施例１と同じ方法でフロッピ０デ
ィスク試料を作製した。

【００８１】［実施例３］実施例１において磁性塗料・
非磁性塗料の塩化ビニル共重合体に代えて放射線硬化性
樹脂材料である塩化ビニル共重合体アクリレートを、ポ
リウレタン樹脂に代えて放射線硬化性樹脂材料であるポ
リウレタンアクリレートをそれぞれ同量用いた。その他
は、実施例１と同じ方法でフロッピ０ディスク試料を作
製した。

【００８２】［実施例４］実施例１における放射線照射
過程の照射条件を、加速電圧５０ＫＶ／ビーム電流６ｍ
Ａ／吸収線量 ０．５Ｍｒａｄになるような電子線照射
とした。その他は、実施例１と同じ方法でフロッピ０デ
ィスク試料を作製した。

【００８３】［実施例５］実施例１における放射線照射
過程の照射条件を、加速電圧３５０ＫＶ／ビーム電流６
ｍＡ／吸収線量２０Ｍｒａｄになるような電子線照射と
した。その他は、施例１と同じ方法でフロッピ０ディス
ク試料を作製した。

【００８４】［実施例６］実施例１において放射線硬化
性樹脂材料のジペンタエリストールヘキサアクリレート
に代えて放射線硬化性樹脂材料としてイソシアヌレート
トリアクリレート（東亜合成（株）；Ｍ３１５）を同量
使用した。その他は、実施例１と同じ方法でフロッピ０
ディスク試料を作製した。

【００８５】［比較例１］実施例１において放射線硬化
性樹脂材料のジペンタエリストールヘキサアクリレート
の代わりに熱硬化性樹脂ポリイソシアネート（日本ポリ
ウレタン（株）；コロネートＬ）を同量使用し、放射線
照射を行わなかった。その他は、実施例１と同じ方法で
フロッピ０ディスク試料を作製した。

【００８６】［比較例２］実施例１において放射線硬化
性樹脂材料のジペンタエリストールヘキサアクリレート
の代りに熱硬化性樹脂ポリイソシアネート（日本ポリウ
レタン（株）；コロネートＬ）を同量使用し、放射線照
射を行わず、３．７吋ディスクに打ち抜き後、５０#C２
４Ｈ熱処理を行った。その他は、実施例１と同じ方法で
フロッピ-ディスク試料を作製した。

【００８７】［比較例３］実施例１において放射線硬化
性樹脂材料のジペンタエリストールヘキサアクリレート
の代りに熱硬化性樹脂ポリイソシアネート（日本ポリウ
レタン（株）；コロネートＬ）を同量使用した。その他
は、実施例１と同じ方法でフロッピ０ディスク試料を作
製した。

【００８８】［比較例４］実施例１において放射線照射
を行わなかった。その他は、実施例１と同じ方法でフロ
ッピ０ディスク試料を作製した。

【００８９】［比較例５］実施例１において放射線照射
を行わず、３．７吋ディスクに打ち抜き後、５０#C、２
４時間の熱処理を行った。その他は、実施例１と同じ方
法でフロッピ０ディスク試料を作製した。

【００９０】［測定・評価方法］ １）表面粗さ（Ｒａ） ＷＹＫＯ社製ＨＤ２０００型を用いて、下記の条件でＲ
ａを測定した。 対物レンズ； ×５０、中間レンズ×０．５ 測定範囲；２４２μｍ×１８４ｎｍ 画素数；３６８×２４０ フィルター；円筒補正と傾き補正 ２）表面硬度 新東科学社製ＨＥＩＤＯＮ１４型表面性測定器を用いて
２３#Cで５０％の環境条件で以下の条件で磁気記録層表
面に引っ掻きキズをつける。 触針荷重１０g 使用針 R=0.1mmのダイヤモンド針 引っ掻き長 3cm 引っ掻き速度 100mm/min 上記キズをＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ３Ｄを用いて、以下の
条件で８ラインのＰ−Ｖ(測定ラインの最大値―最小値)
を測定し、平均値をキズの深さとした。キズ深さが小さ
いほど硬いことになる。 対物レンズ； ×４０ 測定範囲；２５０μm×２５０μｍ 画素数；２５６×２５６ フィルター；円筒補正と傾き補正

【００９１】３）電磁変換特性（出力） Ｉｏｍｅｇａ社製フロッピーディスクドライブ ＺＩＰ
１００（回転数２９６８ｒｐｍ）を用い、半径３８ｍｍ
の位置にヘッドを固定し、記録密度３４ｋｆｃｉで記録
を行った後、その信号を再生してその時の出力を測定す
る。富士写真フィルム社製ＺＩＰ１００ディスクの出力
を１００％とし、その相対比率で表す。 ４）耐久性 Ｉｏｍｅｇａ社製フロッピーディスクドライブＺＩＰ１
００（回転数２９６８ｒｐｍ）用い、半径３８ｍｍの位
置にヘッドを固定し記録密度３４ｋｆｃｉで記録を行っ
た後、その信号を再生しその時の出力を測定してその値
を１００％とする。その後５０#C２０％の環境で連続走
行し出力が７０％になるまでの時間を測定して、耐久性
の尺度とする。 ５）エラーレート 富士写真フィルム製ＨｉＦＤドライブ（回転数３６００
ｒｐｍ）を用い、線記録密度８９kｆｃｉの信号を記録
してエラーレートを測定した。

【００９２】

【表１】

【００９３】［試験結果］以上の実施例１〜６と比較例
１〜５の試験結果を表にまとめて示す。実施例１〜６の
本発明の試料は、いずれも表面粗さが小さく(平滑で)、
表面硬度が十分(キズの深さが小さい)であり、高い電磁
変換出力と耐久性を併せ有し，エラーレートも低いこと
が示されている。特に熱可塑性樹脂成分の一部あるいは
全部を更なる放射線硬化性樹脂材料に置き換えた実施例
２あるいは実施例３の試料は、表面硬度と表面粗さが一
段と優れていて発明の効果が顕著である。一方，比較例
の書く資料は、いずれもエラーレート及び耐久性が劣
り，その他の評価特性においても劣るものがあって総合
的な評価において明らかに劣っている。特に比較例３に
示す熱硬化性樹脂に熱処理を加えて効果して試料でも本
発明の各実施例試料には及ばない。

【００９４】

【発明の効果】非磁性支持体上に実質的に非磁性である
下層と強磁性金属微粉末または強磁性六方晶フェライト
微粉末を含有する磁性層とをこの順に設け、かつ該上層
及び下層が結合剤として放射線硬化性樹脂材料を含有
し、放射線照射による硬化処理を施してなる塗布型の本
発明の磁気記録媒体は，表面平滑性に優れ、擦り傷のつ
きにくい高い表面硬度を有し，かつ、時期記録特性にお
いても高い電磁変換出力、耐久性及び低いエラーレート
を発揮する。したがって、Ｇｂｉｔレベルの大容量磁気
ディスクに適した性能を有している。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】非磁性支持体上に実質的に非磁性である下
   層と強磁性金属微粉末または強磁性六方晶フェライト微
   粉末を結合剤中に分散してなる磁性層をこの順に設けた
   塗布型の磁気記録媒体とその製造方法において、結合剤
   として放射線硬化樹脂を含有する下層用塗布液及び磁性
   層塗布液を支持体上に塗布して乾燥し、さらにカレンダ
   ー処理を施した後、放射線を照射し硬化を行い磁性層の
   表面粗さ（Ｒａ）を５．０ｎｍ以下、表面硬度を表面性
   試験機によるキズの深さで表して４０ｎｍ以下としたこ
   とを特徴とする磁気記録媒体。
2. 【請求項２】非磁性支持体上に実質的に非磁性である下
   層と強磁性金属微粉末または強磁性六方晶フェライト微
   粉末を結合剤中に分散してなる磁性層をこの順に設けた
   塗布型の磁気記録媒体の製造方法において、結合剤とし
   て放射線硬化性樹脂材料を含有する下層用塗布液及び磁
   性層塗布液を支持体上に塗布して乾燥し、さらにカレン
   ダー処理を施した後、放射線を照射し硬化を行い磁性層
   の表面粗さ（Ｒａ）を５．０ｎｍ以下、表面硬度を表面
   性試験機によるキズの深さで表して４０ｎｍ以下とした
   ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。