JP2002114504A - Ｓｆ６ガス回収装置及び回収方法 - Google Patents
Ｓｆ６ガス回収装置及び回収方法Info
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- JP2002114504A JP2002114504A JP2000302001A JP2000302001A JP2002114504A JP 2002114504 A JP2002114504 A JP 2002114504A JP 2000302001 A JP2000302001 A JP 2000302001A JP 2000302001 A JP2000302001 A JP 2000302001A JP 2002114504 A JP2002114504 A JP 2002114504A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/151—Reduction of greenhouse gas [GHG] emissions, e.g. CO2
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- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】ＳＦ6ガス中の不純ガスを効率的に除去するこ
とで、高純度のＳＦ6ガスを液化回収しうる実用的で簡
便なＳＦ6ガス回収装置と方法を提供する。 【解決手段】純化手段として、ゼオライトを充填した第
一除去装置１０と、孔径５〜６オングストロームのゼオ
ライトを充填するとともに当該充填部に加圧手段を連結
した第二除去装置１１と、を備える。
とで、高純度のＳＦ6ガスを液化回収しうる実用的で簡
便なＳＦ6ガス回収装置と方法を提供する。 【解決手段】純化手段として、ゼオライトを充填した第
一除去装置１０と、孔径５〜６オングストロームのゼオ
ライトを充填するとともに当該充填部に加圧手段を連結
した第二除去装置１１と、を備える。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、六弗化硫黄（ＳＦ
6）ガスを封入した電力用のガス絶縁機器からのガス回
収装置及び方法に係り、特に分解ガス等の不良ガスを除
去してＳＦ6ガスの純度を向上させる技術に関する。
6）ガスを封入した電力用のガス絶縁機器からのガス回
収装置及び方法に係り、特に分解ガス等の不良ガスを除
去してＳＦ6ガスの純度を向上させる技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】変電所には、系統切換えや保守点検など
に使用するため遮断器及び断路器等のガス絶縁開閉装置
（ＧＩＳ）が設置されている。かかるＧＩＳは、通常高
電圧下で使用されることから、電気絶縁特性を向上せし
めて機器全体の小型化を図るべく内部にＳＦ6ガスを充
填している。ＳＦ6ガスは電気絶縁特性と消弧特性に極
めて優れたガスであり、しかも人体には無害である。し
たがって、ＧＩＳのみならず、近年では変圧器において
も広く適用されるに至り、変電所全体の省スペース化に
貢献している。
に使用するため遮断器及び断路器等のガス絶縁開閉装置
（ＧＩＳ）が設置されている。かかるＧＩＳは、通常高
電圧下で使用されることから、電気絶縁特性を向上せし
めて機器全体の小型化を図るべく内部にＳＦ6ガスを充
填している。ＳＦ6ガスは電気絶縁特性と消弧特性に極
めて優れたガスであり、しかも人体には無害である。し
たがって、ＧＩＳのみならず、近年では変圧器において
も広く適用されるに至り、変電所全体の省スペース化に
貢献している。
【０００３】しかし、ＳＦ6ガスは地球温暖化係数が炭
酸ガスに比べて約２万倍も高く、しかも化学的に安定し
た人工ガスであることから自然分解までの寿命も長いた
め、１９９７年に開催された地球温暖化防止京都会議に
おいて、大気への排出が規制される６種類のガスの一つ
に指定されるに至った。したがって、これらガス絶縁機
器からの、ＳＦ6ガスの効率的な回収技術の確立が急務
となっている。
酸ガスに比べて約２万倍も高く、しかも化学的に安定し
た人工ガスであることから自然分解までの寿命も長いた
め、１９９７年に開催された地球温暖化防止京都会議に
おいて、大気への排出が規制される６種類のガスの一つ
に指定されるに至った。したがって、これらガス絶縁機
器からの、ＳＦ6ガスの効率的な回収技術の確立が急務
となっている。
【０００４】従来においては、図４に示すように、ガス
絶縁機器１からポンプ３によりガスのまま別のタンク４
に回収して保管するか、あるいはコンプレッサー３３で
加圧液化して液体タンク５に回収、保管し、再利用する
手段が考えられている。なお、図中符号６は、系統の配
管である。一般のＳＦ6ガス回収に際しては不純物ある
いは不純ガスの種類も量も少ないので、従来のフィルタ
ー２あるいはモレキュラーシーブ、アルミナ、ソーダラ
イム等の吸着材で、ＳＦ6ガスの純化は可能で、高純度
のＳＦ6ガスもしくは液化ＳＦ6が回収でき、ＳＦ6ガス
としての再利用も容易である。
絶縁機器１からポンプ３によりガスのまま別のタンク４
に回収して保管するか、あるいはコンプレッサー３３で
加圧液化して液体タンク５に回収、保管し、再利用する
手段が考えられている。なお、図中符号６は、系統の配
管である。一般のＳＦ6ガス回収に際しては不純物ある
いは不純ガスの種類も量も少ないので、従来のフィルタ
ー２あるいはモレキュラーシーブ、アルミナ、ソーダラ
イム等の吸着材で、ＳＦ6ガスの純化は可能で、高純度
のＳＦ6ガスもしくは液化ＳＦ6が回収でき、ＳＦ6ガス
としての再利用も容易である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ガス絶
縁機器内部に空気が混入した場合、あるいは短絡等の絶
縁トラブルによってＳＦ6ガスが化学分解するような場
合には、カーボン等の不純物の他、後述するＨＦ、Ｈ2
Ｏ、ＳＯ2、ＳＯＦ2、ＳＯ2Ｆ2、ＣＦ4、Ｎ2、Ｏ2、Ｈ2
等多種多様の不純ガス（以下「不良ガス」とする）がＳ
Ｆ6ガスに含まれることとなる。この場合には、上述の
純化手段を用いても、不純物は除去できるものの不良ガ
スの除去は困難となり、再利用するＳＦ6ガスの絶縁特
性が劣化する他、分解により生ずる腐食性ガスによる悪
影響の可能性がある。
縁機器内部に空気が混入した場合、あるいは短絡等の絶
縁トラブルによってＳＦ6ガスが化学分解するような場
合には、カーボン等の不純物の他、後述するＨＦ、Ｈ2
Ｏ、ＳＯ2、ＳＯＦ2、ＳＯ2Ｆ2、ＣＦ4、Ｎ2、Ｏ2、Ｈ2
等多種多様の不純ガス（以下「不良ガス」とする）がＳ
Ｆ6ガスに含まれることとなる。この場合には、上述の
純化手段を用いても、不純物は除去できるものの不良ガ
スの除去は困難となり、再利用するＳＦ6ガスの絶縁特
性が劣化する他、分解により生ずる腐食性ガスによる悪
影響の可能性がある。
【０００６】また、不良ガスが多量に発生した場合に
は、図５に示すようにアルカリ溶液処理槽８を通過せし
めることで回収ガスを洗浄して不良ガスを吸収除去する
純化手段も考えられるが、その後工程で水分を除去する
除湿装置９が新たに必要となり、装置全体が大型化す
る。
は、図５に示すようにアルカリ溶液処理槽８を通過せし
めることで回収ガスを洗浄して不良ガスを吸収除去する
純化手段も考えられるが、その後工程で水分を除去する
除湿装置９が新たに必要となり、装置全体が大型化す
る。
【０００７】一方、ガス絶縁機器は、変電所等の現場サ
イトに設置されて使用されるものであり、ここで定期検
査あるいは修理に伴う部品交換及び簡易試験等、ガス絶
縁機器の蓋を開閉する必要のある内部点検作業が行われ
る。そして、かかる作業毎にＳＦ6ガスを回収する必要
がある。したがって、これらの作業毎に必要となるガス
回収装置が大型化することは、運搬性を考慮すると現実
使用に際して不利不便をきたすこととなる。
イトに設置されて使用されるものであり、ここで定期検
査あるいは修理に伴う部品交換及び簡易試験等、ガス絶
縁機器の蓋を開閉する必要のある内部点検作業が行われ
る。そして、かかる作業毎にＳＦ6ガスを回収する必要
がある。したがって、これらの作業毎に必要となるガス
回収装置が大型化することは、運搬性を考慮すると現実
使用に際して不利不便をきたすこととなる。
【０００８】本発明の目的は、不良ガスを含んだＳＦ6
ガスから、不良ガスを効率的に除去することで、高純度
のＳＦ6ガスを液化回収しうる実用的で簡便なＳＦ6ガス
回収装置と方法を提供することにある。
ガスから、不良ガスを効率的に除去することで、高純度
のＳＦ6ガスを液化回収しうる実用的で簡便なＳＦ6ガス
回収装置と方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、以上の課題を
解決するためになされたものであり、請求項1の発明と
して、純化手段を流通させることにより回収ガスの純化
を図るＳＦ6ガス回収装置において、前記純化手段に
は、ゼオライト充填部を有する第一除去装置と、この第
一除去装置に連結した、前記ゼオライトより平均孔径の
より小さいゼオライトを充填した充填部を有した第二除
去装置と、を備えたことを特徴とするＳＦ 6ガス回収装
置を提供する。かかる構成により、簡易に不良ガスの除
去が可能となる。
解決するためになされたものであり、請求項1の発明と
して、純化手段を流通させることにより回収ガスの純化
を図るＳＦ6ガス回収装置において、前記純化手段に
は、ゼオライト充填部を有する第一除去装置と、この第
一除去装置に連結した、前記ゼオライトより平均孔径の
より小さいゼオライトを充填した充填部を有した第二除
去装置と、を備えたことを特徴とするＳＦ 6ガス回収装
置を提供する。かかる構成により、簡易に不良ガスの除
去が可能となる。
【００１０】また、請求項２の発明として、純化手段を
流通させることにより回収ガスの純化を図るＳＦ6ガス
回収装置において、前記純化手段には、ゼオライトとの
吸着力がＳＦ6より強いガスを吸着するための第一除去
装置と、ゼオライトとの吸着力がＳＦ6より弱くかつ分
子径がＳＦ6より小さいガスを吸着するための第二除去
装置と、を備えたことを特徴とするＳＦ6ガス回収装置
を提供する。かかる構成により、単純な二工程だけで簡
易に不良ガスを除去することが可能となる。
流通させることにより回収ガスの純化を図るＳＦ6ガス
回収装置において、前記純化手段には、ゼオライトとの
吸着力がＳＦ6より強いガスを吸着するための第一除去
装置と、ゼオライトとの吸着力がＳＦ6より弱くかつ分
子径がＳＦ6より小さいガスを吸着するための第二除去
装置と、を備えたことを特徴とするＳＦ6ガス回収装置
を提供する。かかる構成により、単純な二工程だけで簡
易に不良ガスを除去することが可能となる。
【００１１】また、請求項３の発明として、前記第二除
去装置は、孔径５〜６オングストロームのゼオライトを
充填した充填部を有しこの充填部に圧力変換手段を連結
したことを特徴とする請求項１記載のＳＦ6ガス回収装
置を提供する。かかる構成により、複数種類の不良ガス
を含むＳＦ6ガスを、単純な２工程だけで簡易に浄化す
ることが可能となる。
去装置は、孔径５〜６オングストロームのゼオライトを
充填した充填部を有しこの充填部に圧力変換手段を連結
したことを特徴とする請求項１記載のＳＦ6ガス回収装
置を提供する。かかる構成により、複数種類の不良ガス
を含むＳＦ6ガスを、単純な２工程だけで簡易に浄化す
ることが可能となる。
【００１２】また、請求項４の発明として、前記第一除
去装置は、複数個の単位ゼオライト充填部が着脱自在に
接続されてなるとともに、一つ又は複数の単位ゼオライ
ト充填部の下流側にはガス検出センサーが設けられてい
ることを特徴とする請求項１記載のＳＦ6ガス回収装置
を提供する。かかる構成により、ゼオライトの吸着効率
の監視が可能となるとともに、効率が低下した単位ゼオ
ライト充填部については、簡易に交換することが可能と
なる。
去装置は、複数個の単位ゼオライト充填部が着脱自在に
接続されてなるとともに、一つ又は複数の単位ゼオライ
ト充填部の下流側にはガス検出センサーが設けられてい
ることを特徴とする請求項１記載のＳＦ6ガス回収装置
を提供する。かかる構成により、ゼオライトの吸着効率
の監視が可能となるとともに、効率が低下した単位ゼオ
ライト充填部については、簡易に交換することが可能と
なる。
【００１３】また、請求項５の発明として、前記圧力変
換手段は、加圧及び減圧可能なポンプであることを特徴
とする請求項３記載のＳＦ6ガス回収装置を提供する。
換手段は、加圧及び減圧可能なポンプであることを特徴
とする請求項３記載のＳＦ6ガス回収装置を提供する。
【００１４】かかる構成により、第二除去装置における
ゼオライト充填部を高圧にすることで吸着力弱くかつ小
径の不良ガスの、ゼオライトへの吸着が可能となるとと
もに、当該充填部を再利用する際に、減圧にすることで
ゼオライトに吸着された不良ガスの回収も可能となる。
ゼオライト充填部を高圧にすることで吸着力弱くかつ小
径の不良ガスの、ゼオライトへの吸着が可能となるとと
もに、当該充填部を再利用する際に、減圧にすることで
ゼオライトに吸着された不良ガスの回収も可能となる。
【００１５】また、請求項６の発明として、前記第一除
去装置あるいは第二除去装置は、バイパス管に切換可能
に構成されていることを特徴とする請求項１記載のＳＦ
6ガス回収装置を提供する。かかる構成により、ＳＦ6ガ
ス純度がさほど悪くない場合には、上記除去装置の一方
又は両方を必要に応じて省略することが可能となる。
去装置あるいは第二除去装置は、バイパス管に切換可能
に構成されていることを特徴とする請求項１記載のＳＦ
6ガス回収装置を提供する。かかる構成により、ＳＦ6ガ
ス純度がさほど悪くない場合には、上記除去装置の一方
又は両方を必要に応じて省略することが可能となる。
【００１６】また、請求項７の発明として、回収ガス
を、ゼオライト充填部を流通させるとともに、高圧雰囲
気下で孔径５〜６オングストロームのゼオライト充填部
をも流通させることによって不良ガスを除去することを
特徴とするＳＦ6ガス回収方法を提供する。
を、ゼオライト充填部を流通させるとともに、高圧雰囲
気下で孔径５〜６オングストロームのゼオライト充填部
をも流通させることによって不良ガスを除去することを
特徴とするＳＦ6ガス回収方法を提供する。
【００１７】よって、ＳＦ6ガスに含まれる不良ガスの
特質を考慮し、単純な２工程だけで一括的に不良ガスの
除去が可能となる。
特質を考慮し、単純な２工程だけで一括的に不良ガスの
除去が可能となる。
【００１８】
【発明の実施の形態】本発明において、吸着材として用
いられるゼオライトとは、含水アルミナケイ酸塩鉱物群
の総称で、一般式ＭｅＯ・Ａｌ2Ｏ3・ｍＳｉＯ2・ｎＨ2
Ｏで示される。このゼオライトは、その表面に均一な細
孔を形成し分子径の大小に基いてガス分子を選択的に吸
着する効果を呈する。
いられるゼオライトとは、含水アルミナケイ酸塩鉱物群
の総称で、一般式ＭｅＯ・Ａｌ2Ｏ3・ｍＳｉＯ2・ｎＨ2
Ｏで示される。このゼオライトは、その表面に均一な細
孔を形成し分子径の大小に基いてガス分子を選択的に吸
着する効果を呈する。
【００１９】さて、代表的な不良ガスと、ゼオライトと
の吸着力（主に分子間力に基く吸着のし易さ）につい
て、吸着力の強い順に順位付けを行なうと、ＨＦ≫Ｈ2
Ｏ＞ＳＯ2＞ＳＯＦ2＞ＳＯ2Ｆ2＞Ｓ2Ｆ10＞ＣＯ2＞ＳＦ
6＞ＣＦ4＞Ｏ2＞Ｎ2＞Ｈ2である。かかる吸着力は相対
的に定まるものであり、厳密な数値化は困難であるた
め、ＳＦ6を基準とする概略的な相関地位として図１の
縦軸に示す。一方、各ガスの最小分子径については図１
の横軸で示されるとおりである。単位はオングストロー
ムである。
の吸着力（主に分子間力に基く吸着のし易さ）につい
て、吸着力の強い順に順位付けを行なうと、ＨＦ≫Ｈ2
Ｏ＞ＳＯ2＞ＳＯＦ2＞ＳＯ2Ｆ2＞Ｓ2Ｆ10＞ＣＯ2＞ＳＦ
6＞ＣＦ4＞Ｏ2＞Ｎ2＞Ｈ2である。かかる吸着力は相対
的に定まるものであり、厳密な数値化は困難であるた
め、ＳＦ6を基準とする概略的な相関地位として図１の
縦軸に示す。一方、各ガスの最小分子径については図１
の横軸で示されるとおりである。単位はオングストロー
ムである。
【００２０】本図から明らかなように、不良ガスは、Ｓ
Ｆ6ガスより吸着力が強く、分子径が比較的広く分布し
ているガスグループＡと、吸着力はＳＦ6ガスより弱い
が、分子径はＳＦ6ガスより小さいガスグループＢの２
種類に分類できることが判明した。
Ｆ6ガスより吸着力が強く、分子径が比較的広く分布し
ているガスグループＡと、吸着力はＳＦ6ガスより弱い
が、分子径はＳＦ6ガスより小さいガスグループＢの２
種類に分類できることが判明した。
【００２１】ガスグループＡに対しては、孔径の大きい
ゼオライトを用いれば、たとえ回収対象のＳＦ6ガスが
ゼオライトに吸着されたとしても、ＳＦ6ガスより吸着
力の強いガスが付近を通過する際にガスが交換するメカ
ニズムにより、不良ガスが優先的にゼオライトに吸着さ
れる。
ゼオライトを用いれば、たとえ回収対象のＳＦ6ガスが
ゼオライトに吸着されたとしても、ＳＦ6ガスより吸着
力の強いガスが付近を通過する際にガスが交換するメカ
ニズムにより、不良ガスが優先的にゼオライトに吸着さ
れる。
【００２２】一方、ガスグループＢに対しては、大気圧
下ではゼオライトをほとんどそのまま通過するが、高圧
下にすることを条件に強制的にゼオライトの細孔内に吸
着される。この場合、ゼオライトの孔径がＳＦ6ガスの
分子径より大きいと、吸着力のより強いＳＦ6ガスが優
先的に吸着されてしまうため、ＳＦ6ガスの分子径より
も小さい孔径のゼオライト（例えば５オングストロー
ム）を用いることで、Ｂグループに属する不良ガスをま
とめてゼオライトに吸着することが可能となる。
下ではゼオライトをほとんどそのまま通過するが、高圧
下にすることを条件に強制的にゼオライトの細孔内に吸
着される。この場合、ゼオライトの孔径がＳＦ6ガスの
分子径より大きいと、吸着力のより強いＳＦ6ガスが優
先的に吸着されてしまうため、ＳＦ6ガスの分子径より
も小さい孔径のゼオライト（例えば５オングストロー
ム）を用いることで、Ｂグループに属する不良ガスをま
とめてゼオライトに吸着することが可能となる。
【００２３】すなわち、種々の不良ガスを複雑な装置に
よってガス毎に除去する必要は無く、不良ガスを、ゼオ
ライトへの吸着力及びガス分子径によりグループ別けす
ることで、２工程で簡易に除去処理することが可能とな
る。
よってガス毎に除去する必要は無く、不良ガスを、ゼオ
ライトへの吸着力及びガス分子径によりグループ別けす
ることで、２工程で簡易に除去処理することが可能とな
る。
【００２４】以下本発明のガス回収装置の実施形態を、
図２を参照して説明する。ガス絶縁機器１に、配管６に
沿って、フィルター２、第一除去装置１０、第二除去装
置１１、液化ＳＦ6タンク５、を配管６により直列接続
するとともに、第一除去装置１０及び第二除去装置１１
には並列にバイパス管１６を接続する。フィルター２、
ポンプ３、液体タンク５の各役割については従来技術と
同様故、ここでは説明を省略する。なお、ポンプ３が、
第一除去装置１０、第二除去装置１１、の上流側にも連
結されているのは、これらの各装置の流体抵抗に抗して
回収ガスを送り込むためである。また、バルブ類７は、
第一除去装置１０及び第二除去装置１１とバイパス管１
６との系統切換を行なうためのものであり、その開閉は
図示せぬ運転制御手段により行われる。同様に、ポンプ
制御あるいはガス圧力制御、必要に応じて行なう装置各
部の温度制御等も図示せぬ制御手段により行われる。ち
なみに、本実施形態ではＳＦ6ガスは第一除去装置１０
及び第二除去装置１１を流通するように系統が設定され
ているものとする。バイパス管１６に関する実施形態に
ついては後述する。
図２を参照して説明する。ガス絶縁機器１に、配管６に
沿って、フィルター２、第一除去装置１０、第二除去装
置１１、液化ＳＦ6タンク５、を配管６により直列接続
するとともに、第一除去装置１０及び第二除去装置１１
には並列にバイパス管１６を接続する。フィルター２、
ポンプ３、液体タンク５の各役割については従来技術と
同様故、ここでは説明を省略する。なお、ポンプ３が、
第一除去装置１０、第二除去装置１１、の上流側にも連
結されているのは、これらの各装置の流体抵抗に抗して
回収ガスを送り込むためである。また、バルブ類７は、
第一除去装置１０及び第二除去装置１１とバイパス管１
６との系統切換を行なうためのものであり、その開閉は
図示せぬ運転制御手段により行われる。同様に、ポンプ
制御あるいはガス圧力制御、必要に応じて行なう装置各
部の温度制御等も図示せぬ制御手段により行われる。ち
なみに、本実施形態ではＳＦ6ガスは第一除去装置１０
及び第二除去装置１１を流通するように系統が設定され
ているものとする。バイパス管１６に関する実施形態に
ついては後述する。
【００２５】次に、第一除去装置１０と第二除去装置１
１の概略構造を図３を参照して説明する。第一除去装置
１０は、１０ａ〜１０ｃの３個の単位ゼオライト充填部
から構成されており、１０オングストローム以上の孔径
のゼオライト（以下「１０オングストロームタイプのゼ
オライト」とする）１３ａが、それぞれの充填部に充填
されている。第二除去装置１１は、本体タンク１１ａと
吸着部１１ｂが並列に連結されることで構成されてお
り、吸着部１１ｂには、５〜６オングストロームの孔径
のゼオライト（以下「５オングストロームタイプゼオラ
イト」とする）１３ｂが充填されている。そして、吸着
部１１ｂの上流部には圧力変換手段として、加圧及び減
圧可能なポンプ２３を備えている。
１の概略構造を図３を参照して説明する。第一除去装置
１０は、１０ａ〜１０ｃの３個の単位ゼオライト充填部
から構成されており、１０オングストローム以上の孔径
のゼオライト（以下「１０オングストロームタイプのゼ
オライト」とする）１３ａが、それぞれの充填部に充填
されている。第二除去装置１１は、本体タンク１１ａと
吸着部１１ｂが並列に連結されることで構成されてお
り、吸着部１１ｂには、５〜６オングストロームの孔径
のゼオライト（以下「５オングストロームタイプゼオラ
イト」とする）１３ｂが充填されている。そして、吸着
部１１ｂの上流部には圧力変換手段として、加圧及び減
圧可能なポンプ２３を備えている。
【００２６】ガス絶縁機器１からの回収ガスは、まず第
一除去装置１０内を１０ａ、１０ｂ、１０ｃと順に通過
する間に、吸着力の強い不良ガス（ガスグループＡ）の
みが選択的に吸着除去される。次に、吸着力が弱くかつ
分子径が５オングストロームより小さい不良ガスを含む
回収ガス（ガスグループＢ）に対しては、第二除去装置
１１のバルブ１７を開状態としバルブ２７を閉状態と
し、本体タンク１１ａと吸着部１１ｂを循環させること
で、不良ガスを除去する。もっとも、ガスが吸着部１１
ｂを流通する際にはポンプ２３により高圧とされること
で、不良ガス分子がゼオライト１３ｂの内部に強制的に
入り込むことで吸着除去される。
一除去装置１０内を１０ａ、１０ｂ、１０ｃと順に通過
する間に、吸着力の強い不良ガス（ガスグループＡ）の
みが選択的に吸着除去される。次に、吸着力が弱くかつ
分子径が５オングストロームより小さい不良ガスを含む
回収ガス（ガスグループＢ）に対しては、第二除去装置
１１のバルブ１７を開状態としバルブ２７を閉状態と
し、本体タンク１１ａと吸着部１１ｂを循環させること
で、不良ガスを除去する。もっとも、ガスが吸着部１１
ｂを流通する際にはポンプ２３により高圧とされること
で、不良ガス分子がゼオライト１３ｂの内部に強制的に
入り込むことで吸着除去される。
【００２７】また、第一除去装置１０を構成する１０ａ
〜１０ｃの３個の構成要素は、それぞれ相互に着脱自在
に構成されている。また、これらの下流側には一つ又は
複数のガス検出センサー１２を取付けてもよい。ゼオラ
イト１３ａの吸着効率が低下するとセンサーがこれを感
知するため、例えば構成要素１０ａと１０ｂとを取り外
し、構成要素１０ｃの流出側に図示せぬ構成要素１０
ｄ、１０ｅを新たに取り付けることにより、速やかに第
一除去装置１０の吸着力を回復せしめることが可能とな
る。一方、取り外した構成要素１０ａ、１０ｂは、両端
部に栓をして保管し、化学分解等の正規の廃棄処分を別
途行い安全に処理する。
〜１０ｃの３個の構成要素は、それぞれ相互に着脱自在
に構成されている。また、これらの下流側には一つ又は
複数のガス検出センサー１２を取付けてもよい。ゼオラ
イト１３ａの吸着効率が低下するとセンサーがこれを感
知するため、例えば構成要素１０ａと１０ｂとを取り外
し、構成要素１０ｃの流出側に図示せぬ構成要素１０
ｄ、１０ｅを新たに取り付けることにより、速やかに第
一除去装置１０の吸着力を回復せしめることが可能とな
る。一方、取り外した構成要素１０ａ、１０ｂは、両端
部に栓をして保管し、化学分解等の正規の廃棄処分を別
途行い安全に処理する。
【００２８】また、第二除去装置１１について、所定時
間回収作業を行なうとゼオライト１３ｂの吸着効率も低
下する。この場合は、まずバルブ２７だけ開状態としバ
ルブ１７を閉状態とする。そして吸着部１１ｂをポンプ
２３により減圧処理することで、吸着済の不良ガスを不
良ガスタンク１５に回収することにより、ゼオライト１
３ｂの再使用が可能となる。ここで不良ガスタンク１５
に回収された不良ガスについても、化学分解等の正規の
廃棄処分を別途行い安全に処理する。なお、第二除去装
置１１の構成要素のうち、本体タンク１１ａと吸着部１
１ｂとを分離して並列に接続するのは、ガスグループＢ
に属する不良ガスはある程度循環させなければゼオライ
トに吸着されないからである。
間回収作業を行なうとゼオライト１３ｂの吸着効率も低
下する。この場合は、まずバルブ２７だけ開状態としバ
ルブ１７を閉状態とする。そして吸着部１１ｂをポンプ
２３により減圧処理することで、吸着済の不良ガスを不
良ガスタンク１５に回収することにより、ゼオライト１
３ｂの再使用が可能となる。ここで不良ガスタンク１５
に回収された不良ガスについても、化学分解等の正規の
廃棄処分を別途行い安全に処理する。なお、第二除去装
置１１の構成要素のうち、本体タンク１１ａと吸着部１
１ｂとを分離して並列に接続するのは、ガスグループＢ
に属する不良ガスはある程度循環させなければゼオライ
トに吸着されないからである。
【００２９】ところで、ガス絶縁機器１から、不良ガス
の少ない、高純度のＳＦ6ガスを回収する場合には、除
去装置１０、１１を流通せしめる必要はなく、却って回
収作業が遅延することとなる。したがって、この場合は
図２に示すバイパス管１６を流通せしめるべくバルブ類
７を開閉することで、回収ガスが除去装置１０、１１を
経由しないよう切換可能に構成しても良い。また、不良
ガスの性質によってはいずれか一方の除去装置を省略し
ても良い。例えば空気（Ｎ2、Ｏ2）だけが不良ガスとし
て存在する場合には、第一除去装置１０だけをバイパス
管１６にて省略することが現実的だからである。
の少ない、高純度のＳＦ6ガスを回収する場合には、除
去装置１０、１１を流通せしめる必要はなく、却って回
収作業が遅延することとなる。したがって、この場合は
図２に示すバイパス管１６を流通せしめるべくバルブ類
７を開閉することで、回収ガスが除去装置１０、１１を
経由しないよう切換可能に構成しても良い。また、不良
ガスの性質によってはいずれか一方の除去装置を省略し
ても良い。例えば空気（Ｎ2、Ｏ2）だけが不良ガスとし
て存在する場合には、第一除去装置１０だけをバイパス
管１６にて省略することが現実的だからである。
【００３０】
【発明の効果】以上本発明においては、ガス絶縁機器に
おいて問題となる不良ガスが、ゼオライトへの吸着パタ
ーンにおいて２つのグループに大別できることに着目し
たことにより、単純な２工程だけで一括的にこれら複数
種類の不良ガスを除去可能とした。これにより、回収装
置の小型軽量化を達成し、ガス回収装置の現場サイトで
の使用を実現容易となった。
おいて問題となる不良ガスが、ゼオライトへの吸着パタ
ーンにおいて２つのグループに大別できることに着目し
たことにより、単純な２工程だけで一括的にこれら複数
種類の不良ガスを除去可能とした。これにより、回収装
置の小型軽量化を達成し、ガス回収装置の現場サイトで
の使用を実現容易となった。
【図１】各種不良ガスのゼオライトへの吸着力と分子径
との相関関係図。
との相関関係図。
【図２】本発明のＳＦ6ガス回収装置の実施形態を示す
模式系統図。
模式系統図。
【図３】第一除去装置及び第二除去装置の概略構造を示
す模式系統図。
す模式系統図。
【図４】従来のガス回収装置の概要を示す模式系統図。
【図５】不良ガスが多量に発生した場合の、従来のガス
回収装置の模式系統図。
回収装置の模式系統図。
１・・・ガス絶縁機器 、２・・・フィルター、３、２３・・・ポ
ンプ、５・・・液体ＳＦ6タンク、６・・・ 配管、７、１７、
２７・・・バルブ類、１０・・・第一除去装置、１１・・・第二
除去装置、１２・・・ガス検出センサー、１３a,b・・・ゼオ
ライト、１６・・・バイパス管。
ンプ、５・・・液体ＳＦ6タンク、６・・・ 配管、７、１７、
２７・・・バルブ類、１０・・・第一除去装置、１１・・・第二
除去装置、１２・・・ガス検出センサー、１３a,b・・・ゼオ
ライト、１６・・・バイパス管。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村瀬 洋 神奈川県川崎市川崎区浮島町２番１号 株 式会社東芝浜川崎工場内 (72)発明者 直塚 浩美 神奈川県川崎市川崎区浮島町２番１号 株 式会社東芝浜川崎工場内 Ｆターム(参考） 4D012 BA02 CA20 CB18 CD07 CE02 CF05 CG01 CG05 CG06 CH01
Claims (7)
- 【請求項１】 純化手段を流通させることにより回収ガ
スの純化を図るＳＦ 6ガス回収装置において、前記純化
手段には、ゼオライト充填部を有する第一除去装置と、
この第一除去装置に連結した、前記ゼオライトより平均
孔径のより小さいゼオライトを充填した充填部を有した
第二除去装置と、を備えたことを特徴とするＳＦ6ガス
回収装置。 - 【請求項２】 純化手段を流通させることにより回収ガ
スの純化を図るＳＦ 6ガス回収装置において、前記純化
手段には、ゼオライトとの吸着力がＳＦ6より強いガス
を吸着するための第一除去装置と、ゼオライトとの吸着
力がＳＦ6より弱くかつ分子径がＳＦ6より小さいガスを
吸着するための第二除去装置と、を備えたことを特徴と
するＳＦ6ガス回収装置。 - 【請求項３】 前記第二除去装置は、孔径５〜６オング
ストロームのゼオライトを充填した充填部を有しこの充
填部に圧力変換手段を連結したことを特徴とする請求項
１記載のＳＦ6ガス回収装置。 - 【請求項４】 前記第一除去装置は、複数個の単位ゼオ
ライト充填部が相互に着脱自在に連結されてなるととも
に、一つ又は複数の単位ゼオライト充填部の下流側には
ガス検出センサーが設けられていることを特徴とする請
求項１記載のＳＦ6ガス回収装置。 - 【請求項５】 前記圧力変換手段は、加圧及び減圧可能
なポンプであることを特徴とする請求項３載のＳＦ6ガ
ス回収装置。 - 【請求項６】 前記第一除去装置あるいは第二除去装置
は、バイパス管に切換可能に構成されていることを特徴
とする請求項１記載のＳＦ6ガス回収装置。 - 【請求項７】 回収ガスを、ゼオライト充填部を流通さ
せるとともに、高圧雰囲気下で孔径５〜６オングストロ
ームのゼオライトを充填した充填部をも流通させること
によって不良ガスを除去することを特徴とするＳＦ6ガ
ス回収方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000302001A JP2002114504A (ja) | 2000-10-02 | 2000-10-02 | Ｓｆ６ガス回収装置及び回収方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000302001A JP2002114504A (ja) | 2000-10-02 | 2000-10-02 | Ｓｆ６ガス回収装置及び回収方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002114504A true JP2002114504A (ja) | 2002-04-16 |
Family
ID=18783444
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000302001A Pending JP2002114504A (ja) | 2000-10-02 | 2000-10-02 | Ｓｆ６ガス回収装置及び回収方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002114504A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003299931A (ja) * | 2002-04-05 | 2003-10-21 | Sanyo Electric Industries Co Ltd | ガス分離方法及びガス分離装置 |
| JP2008023497A (ja) * | 2006-07-25 | 2008-02-07 | Toyota Boshoku Corp | 大気中の不純物除去システム |
| CN112978683A (zh) * | 2021-02-06 | 2021-06-18 | 福建德尔科技有限公司 | 一种电子级六氟化硫吸附装置及应用 |
| CN113775921A (zh) * | 2021-09-06 | 2021-12-10 | 国网江苏省电力有限公司电力科学研究院 | 一种六氟化硫气体现场正压式回收装置及方法 |
| JP2022169836A (ja) * | 2021-04-28 | 2022-11-10 | ＳｙｎｃＭＯＦ株式会社 | ガス処理システム、ガス処理方法及び制御装置 |
-
2000
- 2000-10-02 JP JP2000302001A patent/JP2002114504A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2008023497A (ja) * | 2006-07-25 | 2008-02-07 | Toyota Boshoku Corp | 大気中の不純物除去システム |
| CN112978683A (zh) * | 2021-02-06 | 2021-06-18 | 福建德尔科技有限公司 | 一种电子级六氟化硫吸附装置及应用 |
| JP2022169836A (ja) * | 2021-04-28 | 2022-11-10 | ＳｙｎｃＭＯＦ株式会社 | ガス処理システム、ガス処理方法及び制御装置 |
| CN113775921A (zh) * | 2021-09-06 | 2021-12-10 | 国网江苏省电力有限公司电力科学研究院 | 一种六氟化硫气体现场正压式回收装置及方法 |
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