JP2002107283A - 走査型プローブ顕微鏡 - Google Patents

走査型プローブ顕微鏡

Info

Publication number
JP2002107283A
JP2002107283A JP2001072722A JP2001072722A JP2002107283A JP 2002107283 A JP2002107283 A JP 2002107283A JP 2001072722 A JP2001072722 A JP 2001072722A JP 2001072722 A JP2001072722 A JP 2001072722A JP 2002107283 A JP2002107283 A JP 2002107283A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
scanning probe
point
probe microscope
displacement
output
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001072722A
Other languages
English (en)
Inventor
Akira Egawa
明 江川
Tatsuya Miyatani
竜也 宮谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Instruments Inc
Original Assignee
Seiko Instruments Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Instruments Inc filed Critical Seiko Instruments Inc
Priority to JP2001072722A priority Critical patent/JP2002107283A/ja
Priority to US09/814,520 priority patent/US6710339B2/en
Priority to DE10113966A priority patent/DE10113966A1/de
Publication of JP2002107283A publication Critical patent/JP2002107283A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q30/00Auxiliary means serving to assist or improve the scanning probe techniques or apparatus, e.g. display or data processing devices
    • G01Q30/04Display or data processing devices
    • G01Q30/06Display or data processing devices for error compensation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y35/00Methods or apparatus for measurement or analysis of nanostructures
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q60/00Particular types of SPM [Scanning Probe Microscopy] or microscopes; Essential components thereof
    • G01Q60/10STM [Scanning Tunnelling Microscopy] or apparatus therefor, e.g. STM probes
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q60/00Particular types of SPM [Scanning Probe Microscopy] or microscopes; Essential components thereof
    • G01Q60/24AFM [Atomic Force Microscopy] or apparatus therefor, e.g. AFM probes
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/84Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
    • Y10S977/849Manufacture, treatment, or detection of nanostructure with scanning probe
    • Y10S977/85Scanning probe control process
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/84Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
    • Y10S977/849Manufacture, treatment, or detection of nanostructure with scanning probe
    • Y10S977/85Scanning probe control process
    • Y10S977/851Particular movement or positioning of scanning tip
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/84Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
    • Y10S977/849Manufacture, treatment, or detection of nanostructure with scanning probe
    • Y10S977/86Scanning probe structure

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Radiology & Medical Imaging (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 試料の形状像等を、環境の影響なしに繰り返
し高精度に再現することのできる走査型プローブ顕微鏡
を提供する。 【解決手段】 試料あるいはプローブをXYZ方向に微
小移動させる微小駆動手段と、微小駆動手段の変位を
X、Y、Z方向それぞれに測定可能な変位検出手段と、
変位検出手段の出力値を配列データとして記録し、配列
データから、X、Y、Zそれぞれの相対位置を補正して
出力画像とする画像補正手段15を備える構成とした。
SPM測定部13は、SPMコントローラ14により制
御される。また、各変位センサの出力値は、SPMコン
トローラ14に取り込まれ、操作・表示手段16に送ら
れる。X,Y,Zセンサ出力データは、操作・表示手段
16から画像補正処理手段15へ送られ、処理される。

Description

【発明の詳細な説明】
【発明の属する技術分野】本発明は、走査型トンネル顕
微鏡(STM)や、走査型原子間力顕微鏡(AFM)な
どに代表される走査型プローブ顕微鏡(SPM)に関す
る。
【従来の技術】現在、微小な試料の表面形状を観察する
手段として走査型トンネル顕微鏡(STM)や走査型原
子間力顕微鏡(AFM)等に代表される走査型プローブ
顕微鏡(SPM)が広く用いられている。SPMは、プ
ローブと試料表面の物理的相互作用によって、試料表面
の形状・物性等を観察するものであり、その特徴はサブ
ナノメートルオーダーという高い分解能にある。高分解
能を達成するためには、試料あるいはプローブをXYZ
それぞれの方向に微小駆動する必要があるが、通常その
駆動には、圧電素子が用いられている。その圧電素子の
中でも最も一般的なのが、円筒型圧電素子である。円筒
型圧電素子は、個別に駆動信号を印加可能な電極を設け
ることで、一個の圧電素子でX,Y,Zそれぞれの方向
に駆動することができ、X、Y方向の変位量を比較的大
きく確保することができる、などの利便性を有する。S
PMでは、この円筒型圧電素子に印加するXYZそれぞ
れの駆動信号を3次元的にマッピングすることにより、
試料の表面形状等の観察像を再現することができる。図
13は、円筒型圧電素子を利用した従来のSPMの構成
を示す。プローブ52がプローブ支持台51を介して円
筒型圧電素子50に取り付けられる。試料台54上の試
料53との物理的相互作用に応じたプローブの変化を、
相互作用検出手段55により検出する。なお、相互作用
検出手段55で実際に検出する対象となるのは、相互作
用が原子間力である場合には原子間力に応じたプローブ
52のたわみであり、また、トンネル電流の場合にはプ
ローブ52と試料53との間に流れるトンネル電流であ
る。この相互作用検出手段55の出力信号に応じて、円
筒型圧電素子50のZ方向の駆動量を制御しながら、X
Y方向に走査することで、試料53表面の形状などを観
察することが可能となる。これらの制御を行うのが、S
PMコントローラ56であり、また観察像の出力および
全体の操作を行うのが、操作・表示手段57である。
【発明が解決しようとする課題】従来のSPMは、その
高い分解能から微小領域の表面観察手段として有効であ
る。しかしながら、ここ数年、SPMにより半導体や記
録媒体の形状を精度良く計測したいという要求が増えつ
つある。SPMをこうした計測装置として見た場合、位
置決め精度や繰り返し精度などの点で十分ではない。従
来のSPMでは、X、Y方向の走査は、オープンループ
制御であり、印加した駆動信号どおりに圧電素子が変位
するということを前提としてプローブあるいは試料の位
置を決定している。しかし、実際には、圧電素子にはヒ
ステリシスや非直線的動作などが存在するため、その変
位量は駆動信号に比例しない。そのため、プローブの位
置は不確かなものになる。従って、得られる観察像も実
際の形状などを正確には再現していないということにな
る。これを解決するために、従来のSPMでは、駆動信
号と圧電素子の変位を測定しておき、圧電素子が直線的
に動作するよう補正を行っている。しかし、この方法
も、実績値による補正であるため、大きなヒステリシス
などによる影響は改善するものの、微小位置誤差を除去
するのには十分とはいえない。また、ヒステリシスや非
直線的動作は、素子の材質のばらつき、形状精度、電極
精度等により異なるものであり、素子毎に補正係数を求
めなければならない。さらに、温度、振動等の環境条件
によってもその誤差が変化するといった課題もある。こ
こで形状精度によって生じる非直線的動作の例として、
円筒型圧電素子の厚さが均等で無い場合を考える。図1
4(a)は、左右の素子の厚さが均等な円筒型圧電素子
の断面図、図14(b)は、均等でない円筒型圧電素子
の断面図である。実際に用いられる圧電素子は複数の電
極を設け、3次元的に伸縮できる構造となっているが、
ここでは簡略化し、図14(a)、図14(b)それぞ
れの圧電素子が、内側、外側の一面に均等な電極が形成
された垂直方向のみ伸縮するものとして考える。図14
(a)の場合に、内側と外側の電極間に電位が印加され
ると左右均等に圧電素子が延びるため、図14(a)中
の波線で示したように垂直方向のみの変位となり、望む
べき特性が得られる。しかし、図14(b)のように素
子の厚さが不均一であると、図14(a)と同じ電位が
印加されても、図14(b)左側の膜圧の薄い部分がよ
り大きく延びるため、波線で示したように水平方向にも
変位することとなる。つまり、同じ電位を印加しても、
垂直方向の変位に誤差が生ずるだけでなく、水平方向に
も多大な誤差を生ずる原因となる。この図14(b)の
ような圧電素子をプローブ顕微鏡に用いて駆動信号のみ
から形状像を得ると、多大な誤差を生ずることは明白で
ある。
【課題を解決するための手段】これらの課題を解決する
ために、本願発明によるプローブ顕微鏡は、微小駆動手
段の変位をX、Y、Z方向それぞれに測定可能な変位検
出手段と、試料をプローブで走査した際の各変位検出手
段出力値を配列データとして記録し、その記録した配列
データから、X、Y、Zそれぞれの相対位置を補正し画
像を構成する画像補正手段とを備えることとした。この
ような構成により、プローブもしくは試料の位置を、素
子の材質、形状精度、外部環境条件によらず、正確に検
出することができる。従って、実際の形状を繰り返し高
精度に再現できる。さらに、この構成は、従来のSPM
の構成に変位検出手段と画像補正手段を追加するだけで
よく、従来のSPMの機能を損ねることなく、極めて簡
易に構成することができる。
【発明の実施の形態】次に、本発明における実施例につ
いて説明する。本発明のSPM測定部の構成を表す模式
図を図1に示す。図1(a)は上面図であり、図1
(b)は正面図である。従来のSPMと同様に、XYZ
方向に移動可能なスキャナ1にプローブ支持台6および
プローブ7が取り付けられ、試料台9上に試料8が配置
されている。試料8の表面をプローブ7と試料8の物理
的相互作用を検出しながら走査することが可能となって
いる。なお、図1には示していないが、従来のSPMと
同様に相互作用を検出するための機構も組み込まれてい
る。本実施例では、さらに、X変位センサ3、Y変位セ
ンサ4、Z変位センサ5を組み込み、プローブ7の移動
量を検出できるようになっている。そのため、スキャナ
1の走査時に、X、Y、Zそれぞれの変位量をデータと
して取り込むことが可能となっている。また、本実施例
では、変位センサとして静電容量方式のものを想定して
いるためセンサ対極2がスキャナ1に取り付けられてい
るが、干渉計や光電検出器等もセンサとして利用可能で
ある。図2は、本実施例のSPM全体の構成を示すブロ
ック図である。SPM測定部13は、SPMコントロー
ラ14により制御される。また、各変位センサの出力値
は、SPMコントローラ14に取り込まれ、操作・表示
手段16に送られる。これは、走査時のスキャナ1の駆
動とセンサ出力の取り込みを同期させる必要があるため
であり、SPMコントローラ14により処理することで
効率的に信号を処理することができるようになってい
る。操作・表示手段16とは、通常SPM全体を制御
し、データを表示するコンピュータおよびプログラムで
ある。本実施例では、X,Y,Zセンサの出力データ
は、操作・表示手段16から画像補正処理手段15へ送
られ、処理される。上述したSPMでは、X、Y、Z各
センサ出力値が、それぞれ同じ要素数の配列データとし
て得られることになる。X変位センサの出力値17
(a)、Y変位センサ出力値18(a)およびZ変位セ
ンサ出力値19として、それぞれの配列データの模式図
を図3に示す。X方向に1ライン走査した後、Yを1画
素に対応する分だけ移動し、再度Xを走査するという行
為を繰り返すことにより、ある領域を走査する場合、X
の各行の値は、おおよそX変位センサ出力値ラインプロ
ファイル17(b)のような単調増加のラインとして示
され、またYは、各列がY変位センサ出力値ラインプロ
ファイル18(b)のような単調増加を示すことにな
る。もちろん、図3は理想的な走査結果であり、実際に
はスキャナのヒステリシスなどの影響より、様々な誤差
が含まれる結果となるはずである。また、Z変位センサ
出力値19は、走査した試料の表面形状と対応した高さ
を示す変位センサ値が、配列の各要素に格納される。ま
たここで、X、Y、Zセンサ出力値が、正しくスキャナ
の変位を表しているかどうかが問題となる。例えば、図
1で示した、X、Y、Z変位センサの取り付け角度が、
あらかじめ想定した理想的な角度からずれていれば、当
然誤差が生じる。この場合、センサ値が正しい変位を示
すように、何らかの補正を行うことが必要である。図4
は補正の一例である。図4で示すように、X、Y変位セ
ンサ軸をU、Vとし、それぞれの角度が、理想的な軸で
あるXY軸からα、βだけずれている場合を考える。な
おここでは、図3で示したX、Y変位センサのデータを
考慮してX、Y軸を設定している。この場合、変位セン
サ軸上の(u,v)を、理想的なXY軸上の(x,y)
に補正する必要があるが、その式は、以下のように表す
ことができる。 x=u・cosα+v・sinβ y=−u・sinα+v・cosβ この式に基づいて、X、Y変位センサ値の各点の値を計
算することで、正しいセンサ値を得ることが可能とな
る。これは、変位センサ値の配列を得た後にコンピュー
タ上で行う処理である、変位センサ出力後に電気的な信
号処理として補正機能を追加することももちろん可能で
ある。また、Z変位センサの取り付け角度がずれている
場合にも、同様にして補正することができる。次に、セ
ンサ値が温度変化などに応じて、ドリフトする場合を考
える。もし、このドリフトが、経過時間に応じたある関
数で表されるならば、簡単に補正することができる。例
えとして、変位センサ出力が、時間に応じて直線的に単
調増加する場合を考える。この場合、ドリフト量を表す
関数は、ドリフト量をD、経過時間をT、傾きをa、切
片をbとすれば、 D(T) = a・T + b と表される。そこで、単位時間となるデータのサンプリ
ングする間隔をΔT、その単位時間当たりのドリフト量
をΔDとすると、 ΔD = a・ΔT となる。このドリフト量を単位時間当たりのセンサ値の
増分から減算することで簡単に補正することが可能とな
る。これと同様に、変位センサ値のドリフトを時間の関
数D(T)として求めることができれば、簡単に補正す
ることができる。XYZ空間上に、前述のようにして得
られたそれぞれの変位センサ出力値を座標とする点をプ
ロットすれば、真の形状像ともいえる像が得られる。し
かし、そのままではデータの容量が大きく、処理を行う
コンピュータや、信号処理用の電気回路に与える負荷が
大きくなってしまう。また、コンピュータなどで扱うビ
ットマップなどの画像データとしては、画像の個々の点
のXY座標がそのままスキャナの変位を、またその点の
強度がZ方向の変位を表すようにした方が都合がよい。
このような画像を得る手段が前述の画像補正処理手段1
5である。XY変位センサ出力値に基づいて、XY平面
上に点をプロットした場合の概略図を図5に示す。X、
Yそれぞれに若干のバラツキが存在するとすれば、図5
に示すセンサ値XYプロット20のような点となる。そ
れらのデータを元に、点の背景に描かれた等間隔に並ん
だ配列データ21の座標に対応するZの値を補完すると
いう作業が本発明における画像補正処理である。このよ
うな配列データを求めておくことにより、元はX、Y、
Zの3つの配列データだったものが1つのデータとして
扱える。そのため、データの効率化が図られ、また、コ
ンピュータで一般的に用いられているビットマップなど
の画像形式に簡単に転用することが可能となる。次に、
画像補正処理の大まかな流れを、図6に示すフローチャ
ートに基づいて説明する。また、補正方法の概略図を図
7に示す。まず、図6の目標点選択処理22において、
求めるべき等間隔配列データのある一点のXY座標を求
める。このXY座標が図7で示す目標点である。センサ
値の組の中から、図7のセンサ値A、センサ値B、セン
サ値Cとして示すような、その座標に最も近接した点を
3組選出する。この処理が、図6における近似点選出処
理23である。次に、3角形判定処理24においては、
その近接した3組の点が、XY平面に3角形を形成し、
且つ、その3角形に目標点が内在するかどうかを判定す
る。その後、その3組の点で構成される3次元空間内の
平面を表す方程式を求め(近似式算出処理25)その式
に目標点のXY座標を入力することにより、目標点のZ
値が求められる(補正値算出処理26)。以上の工程
を、処理完了判定処理27により終了と判定されるま
で、即ち補正結果となる配列データの要素の数だけ繰り
返すことで、補正画像が求められることになる。図6に
おいては、補正画像の各点を目標点として選出した後
に、その点に近接する3点を検索し、さらにその3点が
3角形を形成するかどうかを判定した。しかし、あらか
じめ、XYセンサ値の組を、各点を結ぶ3角形に分割し
た後、目標点が内在する3角形を検索するという手法も
ある。その手法を、図8のフローチャートに示す。この
場合、3角形分割処理30で3角形分割することになる
が、その手法の例として、一般的に広く用いられている
ドロネーの3角形分割法を挙げる。この場合には、まず
図9に示すようなボロノイ図を作成する必要がある。な
お、図9における各点(以後母点と呼ぶ)は、XYセン
サ値に基づいて平面上に配置されたものとする。そし
て、その各点を囲む多角形がボロノイ多角形と呼ばれ、
その多角形の境界は、各母点を結ぶ線分の垂直2等分線
で構成されている。ボロノイ点と呼ばれるボロノイ多角
形の頂点は、必ず3辺の交点となっており、その結果、
ボロノイ点の周りには、必ず母点が3点配置されている
ことになる。その3点を結ぶ3角形が、ドロネー3角形
と呼ばれる。つまり、このドロネー3角形を平面上全て
の点に対して求めれば、結果的に平面を3角形に分割す
ることが可能となる。そのドロネー3角形の集合を示し
たのが、図10であり、ドロネー図と呼ばれるものであ
る。以上が、ドロネーの3角分割法であるが、この方法
の利点として、ドロネー3角形が比較的、正3角形に近
い形で求められるため、この後行う近似計算の精度の面
で、有利となることが挙げられる。また、この手法が構
造解析や画像処理などを含めた多くの分野で、一般的に
利用されているため、実績がある点も利点として挙げら
れる。ただし、この手法の場合、予めボロノイ点やドロ
ネー3角形の情報を記憶し、処理する必要があるため、
図6の処理よりも、使用するコンピュータへの記憶容量
などに対する負荷が大きくなる。そのため、使用するコ
ンピュータの性能によっては、図6の処理を選択せざる
を得ない可能性がある。以上の3角形分割の後は、図8
に示す通り、目標点のXY座標の算出(目標点選択処理
31)、目標点が含まれるドロネー3角形の選出(近接
3角形選出処理32)、ドロネー3角形を構成する3点
から近似式を算出(近似式算出処理33)、近似式から
補正値を算出(補正値算出処理34)、という一連の流
れを処理完了判定処理34で終了と判定されるまで、繰
り返すことで補正画像が求められる。図6、図8の処理
において、それぞれ平面近似を行うことで高精度の補正
が可能となるが、すべての点に置いて、平面を表す式を
求める必要があるため、処理に時間がかかる場合があ
る。そこで、精度は犠牲となるが、最も近い点のZ変位
センサ値を、目標点のZ値として代入する方法、あるい
は、目標点近傍の数組のZ変位センサ値を平均し、代入
することで、処理速度を向上することができる。また、
画像補正処理として、図11の概略図に示すような手法
も考えられる。図6における近似点選出処理23におい
て、目標点を囲み、かつ4角形を構成するようなセンサ
値4組を、図11のように選出する。次の近似式算出処
理25において、まずセンサ値Aとセンサ値Bを結ぶ直
線と、センサ値Cとセンサ値Dを結ぶ直線に対して、Y
軸に平行で、目標点を通る直線を引き、その交点a,b
のX、Z座標を求める。その交点a,bを結ぶ直線の近
似式から、目標点におけるZ値を求めることが可能とな
る。以上の実施例では、全てZセンサ値を元にした、高
精度な形状像を求める手法について説明したが、SPM
では、試料の高さ以外にも、光、摩擦力、表面電位など
様々な試料の特性を測定可能である。その場合にも、
X、Yセンサ値とともに、それらの特性情報を同時に記
録しておき、上記のZセンサ値の配列データの代わりに
用いることで、XY方向に高精度な、それぞれの特性像
が得られることになる。その一例として、図1で示した
SPM測定部を、走査型近視野顕微鏡として利用する場
合の構成模式図を図12に示す。図12において、図1
と異なる点は、試料8に光を照射するために、光ファイ
バーなどの光伝搬体により作製された光プローブ100
を用いること、さらにそのプローブ100に光を入光す
るための集光レンズ103および光源102が追加され
ている点である。さらに、試料8から透過した光をミラ
ー104と集光レンズ105により、光検出器106に
導くことで、試料8の光学的特性が測定可能となってい
る。また、ここで用いられる試料台101は、試料8か
らの透過光を遮ることのないような、形状や材質にする
必要がある。光検出器106で得られた光学的特性情報
を、前述のZセンサ値と同様に、配列データとして保存
し、補正処理することで、XY方向の位置精度の高い光
学的特性像が得られる。また、Z方向の変位が微小で、
センサを用いなくても十分な精度が得られるのであれ
ば、Z方向にはセンサを設けず、従来のプローブ顕微鏡
と同様にスキャナに入力するZ方向の駆動信号を高さ方
向を表すデータとして、補正することにより形状像を得
ることができる。
【発明の効果】以上説明したように、本願発明による走
査型プローブ顕微鏡は、試料あるいはプローブをXYZ
方向に微小移動可能な微小駆動手段と、微小駆動手段の
変位をX、Y、Z方向それぞれに測定可能な変位検出手
段と、試料をプローブで走査した際の各変位検出手段出
力値を配列データとして記録し、その記録した配列デー
タから、X、Y、Zそれぞれの相対位置を補正し出力画
像を構成する画像補正手段とを備える構成とした。この
ような構成にすることにより、圧電素子のヒステリシス
や非直線動作、もしくは環境条件などの影響を受けず
に、試料の実際の形状などを、繰り返し、高精度に再現
することができる。この結果、SPMを半導体や記録媒
体の表面状態を高精度に測定する計測装置として利用す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のSPM測定部の構成模式図である。
【図2】本発明のSPM全体の構成を示すブロック図で
ある。
【図3】XYZ変位センサ値を表す概略図である。
【図4】本発明の角度補正手段の概略図である。
【図5】XY変位センサ値のプロット図である。
【図6】本発明の画像補正手段のフローチャートであ
る。
【図7】本発明の画像補正手段の一例を表す概略図であ
る。
【図8】本発明の3角形分割法を用いた画像補正手段の
フローチャートである。
【図9】ボロノイ図の一例である。
【図10】ドロネー図の一例である。
【図11】本発明の画像補正手段の一例を表す概略図で
ある。
【図12】本発明の走査型近視野顕微鏡の構成模式図で
ある。
【図13】従来のSPMの構成模式図である。
【図14】(a)膜圧が均一な円筒型圧電素子の断面図
である。 (b)膜圧が不均一な円筒型圧電素子の断面図である。
【符号の説明】
10 X変位センサ 11 Y変位センサ 12 Z変位センサ 13 SPM測定部 14 SPMコントローラ 15 画像補正処理手段 16 操作・表示手段 17(a) X変位センサ出力値 17(b) X変位センサ出力値ラインプロファイル 18(a ) Y変位センサ出力値 18(b) Y変位センサ出力値ラインプロファイル 19 Z変位センサ出力値 20 XYセンサ出力値プロット 21 配列データ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2F069 AA04 AA06 AA60 BB40 DD12 EE20 EE22 GG04 GG06 GG07 GG58 GG64 HH09 HH30 JJ08 JJ15 LL03 MM32 MM34 NN00 QQ05

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 試料あるいはプローブをXYZ方向に微
    小移動させる微小駆動手段と、 前記微小駆動手段の変位をX、Y、Z方向それぞれに測
    定可能な変位検出手段と、 前記変位検出手段の出力値を配列データとして記録し、
    前記配列データから、X、Y、Zそれぞれの相対位置を
    補正して出力画像とする画像補正手段とを備えることを
    特徴とする走査型プローブ顕微鏡。
  2. 【請求項2】 前記変位検出手段の理想的な位置からの
    ずれ角度を補正する角度補正手段を備えることを特徴と
    する請求項1記載の走査型プローブ顕微鏡。
  3. 【請求項3】 前記変位検出手段の出力値の時間に応じ
    たドリフトを補正するドリフト補正手段を備えることを
    特徴とする請求項1または請求項2に記載の走査型プロ
    ーブ顕微鏡。
  4. 【請求項4】 X、Y各変位検出手段出力値と同時に、
    試料表面の特性を表す情報を測定可能な特性情報測定手
    段を備えるとともに、 前記画像補正手段は、試料をプローブで走査した際の各
    変位検出手段出力値と特性情報測定手段出力値を配列デ
    ータとして記録し、その記録した配列データから、X、
    Y、Zあるいは特性情報の相対位置を補正し出力画像を
    構成することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項
    に記載の走査型プローブ顕微鏡。
  5. 【請求項5】 前記画像補正手段が、出力画像の個々の
    点のXY座標が等間隔に並んだ微小駆動手段のXY方向
    の変位に対応するように、且つ、個々の点における強度
    が微小駆動手段のZ方向の変位、あるいは試料の表面特
    性情報に対応するように構成する手段であり、 前記変位検出手段の出力値の配列データの中から、出力
    画像の個々の点のXY座標の近傍に存在する1組以上の
    データを選出する近傍点選出手段と、 選出された近傍点から出力画像の個々の点の強度となる
    補正値を求める補正値算出手段を有することを特徴とす
    る請求項4に記載の走査型プローブ顕微鏡。
  6. 【請求項6】 前記近傍点選出手段が、出力画像のある
    対象点のXY座標に近い順に、2組以上のデータを選出
    する機能を有することを特徴とする請求項5に記載の走
    査型プローブ顕微鏡。
  7. 【請求項7】 前記近傍点選出手段が、出力画像のある
    対象点に対して、その点に近接するX、Y、Z変位検出
    手段出力値の配列データから3組を選出する機能と、そ
    の選出した3組がXY平面において3角形を形成し、且
    つその3角形の中に出力画像の対象の点が含まれるかど
    うかを判定する機能を有することを特徴とする請求項5
    に記載の走査型プローブ顕微鏡。
  8. 【請求項8】 前記近傍点選出手段が、X、Y変位検出
    手段出力値の配列データをXY座標としてプロットされ
    るXY平面を、各点を結ぶ3角形の領域に分割し、出力
    画像の対象の点が含まれる3角形の頂点となる3組の点
    を近傍点として選出する機能を有することを特徴とする
    請求項5に記載の走査型プローブ顕微鏡。
  9. 【請求項9】 前記近傍点選出手段が、出力画像のある
    対象点に対して、その点に近接するX、Y、Z変位検出
    手段出力値の配列データから4組を選出する機能と、そ
    の選出した4組がXY平面において4角形を形成し、且
    つその4角形の中に出力画像の対象の点が含まれるかど
    うかを判定する機能を有することを特徴とする請求項5
    に記載の走査型プローブ顕微鏡。
  10. 【請求項10】 前記補正値算出手段が、前記近傍点選
    出手段により選出した1組のデータに含まれるZ変位検
    出手段出力値を補正値とすることを特徴とする請求項6
    に記載の走査型プローブ顕微鏡。
  11. 【請求項11】 前記補正値算出手段が、前記近傍点選
    出手段により選出した2組以上のデータに含まれるZ変
    位検出手段出力値の平均値を補正値とすることを特徴と
    する請求項6〜9のいずれか一項に記載の走査型プロー
    ブ顕微鏡。
  12. 【請求項12】 前記補正値算出手段が、前記近傍点選
    出手段により選出した3組のデータにより、XYZ空間
    内に形成される近似平面により補正値を求めることを特
    徴とする請求項8または請求項9に記載の走査型プロー
    ブ顕微鏡。
  13. 【請求項13】 前記補正値算出手段が、前記近傍点選
    出手段により選出した4組のデータにより、XYZ空間
    内に形成される4角形のある一辺と、その対辺とを結
    び、かつその個々の点の通るような近似直線から求める
    ことを特徴とする請求項9に記載の走査型プローブ顕微
    鏡。
JP2001072722A 2000-03-28 2001-03-14 走査型プローブ顕微鏡 Pending JP2002107283A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001072722A JP2002107283A (ja) 2000-03-28 2001-03-14 走査型プローブ顕微鏡
US09/814,520 US6710339B2 (en) 2000-03-28 2001-03-22 Scanning probe microscope
DE10113966A DE10113966A1 (de) 2000-03-28 2001-03-22 Sondenelektronenmikroskop

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000089451 2000-03-28
JP2000-225153 2000-07-26
JP2000225153 2000-07-26
JP2000-89451 2000-07-26
JP2001072722A JP2002107283A (ja) 2000-03-28 2001-03-14 走査型プローブ顕微鏡

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002107283A true JP2002107283A (ja) 2002-04-10

Family

ID=27342839

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001072722A Pending JP2002107283A (ja) 2000-03-28 2001-03-14 走査型プローブ顕微鏡

Country Status (3)

Country Link
US (1) US6710339B2 (ja)
JP (1) JP2002107283A (ja)
DE (1) DE10113966A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005121374A (ja) * 2003-10-14 2005-05-12 Sii Nanotechnology Inc 近接場光学顕微鏡
JP2007538276A (ja) * 2004-05-17 2007-12-27 オリンパス・ソフト・イメージング・ソリューションズ・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング 試料を光学的に走査するための方法及び装置
CN108732385A (zh) * 2018-04-10 2018-11-02 厦门大学 扫描探针显微成像系统的漂移校正装置及自动校正方法

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4405062B2 (ja) * 2000-06-16 2010-01-27 株式会社ルネサステクノロジ 固体撮像装置
US7082378B2 (en) * 2004-11-18 2006-07-25 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Displacement sensing by comparing matrices of pointwise measurements
US7381975B1 (en) * 2005-08-26 2008-06-03 Kla-Tencor Corporation In plane drift compensation
EP1934578A1 (de) * 2005-10-13 2008-06-25 JPK Instruments AG Verfahren zum untersuchen eines messobjektes und vorrichtung
GB0901772D0 (en) * 2009-02-04 2009-03-11 Infinitesima Ltd Control system for a scanning probe microscope
JP5470019B2 (ja) * 2009-12-11 2014-04-16 日本分光株式会社 画像データの3次元ベース設定方法
US10670625B2 (en) 2016-07-12 2020-06-02 University Of Florida Research Foundation, Incorporated Method for error correction in scanning probe microscopy
JP6627903B2 (ja) * 2018-03-20 2020-01-08 株式会社島津製作所 データ補正方法、データ補正方法をコンピュータに実行させるプログラム、画像処理装置、走査型プローブ顕微鏡
US10641815B2 (en) * 2018-09-27 2020-05-05 Schweitzer Engineering Laboratories, Inc. Secure distance protection of electric power delivery systems under transient conditions

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07120250A (ja) * 1993-10-25 1995-05-12 Olympus Optical Co Ltd 走査型プローブ顕微鏡
US5825670A (en) * 1996-03-04 1998-10-20 Advanced Surface Microscopy High precison calibration and feature measurement system for a scanning probe microscope

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005121374A (ja) * 2003-10-14 2005-05-12 Sii Nanotechnology Inc 近接場光学顕微鏡
JP4500033B2 (ja) * 2003-10-14 2010-07-14 エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 近接場光学顕微鏡
JP2007538276A (ja) * 2004-05-17 2007-12-27 オリンパス・ソフト・イメージング・ソリューションズ・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング 試料を光学的に走査するための方法及び装置
CN108732385A (zh) * 2018-04-10 2018-11-02 厦门大学 扫描探针显微成像系统的漂移校正装置及自动校正方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20010030286A1 (en) 2001-10-18
US6710339B2 (en) 2004-03-23
DE10113966A1 (de) 2001-10-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8732861B2 (en) Control system for a scanning probe microscope
JP2002107283A (ja) 走査型プローブ顕微鏡
EP0599582B1 (en) Scanning apparatus linearization and calibration system
JPH08233836A (ja) 走査型プローブ顕微鏡、並びにその高さ方向較正用基準器および較正方法
JP3131517B2 (ja) 走査型プローブ顕微鏡装置
JPH04212001A (ja) 走査型トンネル顕微鏡
JP2002031589A (ja) 走査型プローブ顕微鏡
JP3859588B2 (ja) 走査型プローブ顕微鏡及びその測定方法
JP3103217B2 (ja) 走査型プローブ顕微鏡及びそれを用いて試料を観察する方法
JPH0926427A (ja) 位置決め装置、およびこれを用いたメディア移動型メモリ装置
TWI230780B (en) Error correction apparatus for planar positioning of piezoelectric tube scanner
JPH0989913A (ja) 走査型プローブ顕微鏡
JP3576248B2 (ja) 走査型プローブ顕微鏡
JP3035395B2 (ja) 表面構造測定装置
JPH0625642B2 (ja) 走査型トンネル顕微鏡装置
JP3327041B2 (ja) 原子間力顕微鏡
JPH0225702A (ja) 走査型トンネルマイクロスコープ並びに走査型トンネルスペクトロスコープ
JP2002014025A (ja) プローブの走査制御装置、該走査制御装置による走査型プローブ顕微鏡、及びプローブの走査制御方法、該走査制御方法による測定方法
JP3175342B2 (ja) 表面形状の測定方法
JP4810241B2 (ja) プローブユニットおよび原子間力顕微鏡
JPS60189724A (ja) 光走査装置
JP2001116677A (ja) 走査型プローブ顕微鏡
JPH1020200A (ja) ステージ走査型測光顕微鏡
JPH0771912A (ja) 微動装置及び走査型プローブ顕微鏡
JPH08226925A (ja) プローブ顕微鏡およびその測定方法

Legal Events

Date Code Title Description
RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20040303