JP2002102646A - シラン類の除去方法 - Google Patents
シラン類の除去方法Info
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- JP2002102646A JP2002102646A JP2000301612A JP2000301612A JP2002102646A JP 2002102646 A JP2002102646 A JP 2002102646A JP 2000301612 A JP2000301612 A JP 2000301612A JP 2000301612 A JP2000301612 A JP 2000301612A JP 2002102646 A JP2002102646 A JP 2002102646A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】重金属や有機溶剤を含まない塩基性水溶液を用
いてシラン類含有ガスからシラン類を高効率で、且つ単
純な構造の装置により除去する方法を提供することを目
的とするものである。 【解決手段】シラン類含有ガスを気泡塔において塩基性
水溶液と接触させシラン類を吸収除去する方法におい
て、気泡塔下部ノズルからシラン類含有ガスと塩基性水
溶液との気液２相流を送入することを特徴とするシラン
類の除去方法。
いてシラン類含有ガスからシラン類を高効率で、且つ単
純な構造の装置により除去する方法を提供することを目
的とするものである。 【解決手段】シラン類含有ガスを気泡塔において塩基性
水溶液と接触させシラン類を吸収除去する方法におい
て、気泡塔下部ノズルからシラン類含有ガスと塩基性水
溶液との気液２相流を送入することを特徴とするシラン
類の除去方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はシラン類の除去方法
に関し、詳しくはシラン類含有ガスを塩基性水溶液と接
触させて、シラン類含有ガスからシラン類を吸収除去す
る方法に関するものである。
に関し、詳しくはシラン類含有ガスを塩基性水溶液と接
触させて、シラン類含有ガスからシラン類を吸収除去す
る方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】シラン類は半導体産業製造工程に用いら
れる有用なガスであるが、人体に対して有害、有毒性を
有し、かつ空気中で自然発火する危険性の高いガスであ
る。半導体産業ではシラン類を含む排ガスから有害なシ
ラン類を除去し無害化して廃棄する必要がある。無害化
とはモノシランの場合には許容濃度を５ｐｐｍ以下にす
ることである。
れる有用なガスであるが、人体に対して有害、有毒性を
有し、かつ空気中で自然発火する危険性の高いガスであ
る。半導体産業ではシラン類を含む排ガスから有害なシ
ラン類を除去し無害化して廃棄する必要がある。無害化
とはモノシランの場合には許容濃度を５ｐｐｍ以下にす
ることである。
【０００３】シラン類の処理方法としては種々の方法が
知られており、例えばＳｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｗ
ｏｒｌｄ，１０，１３４，１９９１には、(1)水に物理
吸収させる方法、(2)薬剤と反応させる方法、(3)化学吸
着法、(4)燃焼法、(5)触媒酸化法等が記載されている。
知られており、例えばＳｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｗ
ｏｒｌｄ，１０，１３４，１９９１には、(1)水に物理
吸収させる方法、(2)薬剤と反応させる方法、(3)化学吸
着法、(4)燃焼法、(5)触媒酸化法等が記載されている。
【０００４】この(1)の水に物理吸収させる方法では、
シラン類の吸収効率が悪く、目的としたシラン類濃度以
下のガスを得ることができない。また、(3)の化学吸着
法、すなわち酸化銅などの充填剤にシラン類を反応吸着
させる方法では処理量が小さく、大量に処理する場合に
適さず、かつ、吸着剤として用いた金属類が産業廃棄物
となり、環境対応上も好ましいものとは言えない。
シラン類の吸収効率が悪く、目的としたシラン類濃度以
下のガスを得ることができない。また、(3)の化学吸着
法、すなわち酸化銅などの充填剤にシラン類を反応吸着
させる方法では処理量が小さく、大量に処理する場合に
適さず、かつ、吸着剤として用いた金属類が産業廃棄物
となり、環境対応上も好ましいものとは言えない。
【０００５】中でも(4)の燃焼法では自己燃焼、或いは
強制燃焼方式が考えられ、比較的大量処理する場合にも
対応可能である。しかし、特にシランの場合には、燃焼
後に下記一般式（化１）に示す反応式により生成する酸
化珪素が発生し、その処理装置が必要となる。発生する
酸化珪素の除去方法としてはベンチュリースクラバーに
より水に懸濁或いは塩基性溶液中で下記一般式（化２）
に示す反応式により反応させてガス中より除去する方
法、集塵装置、例えばバグフィルターで除去する方法が
知られている。
強制燃焼方式が考えられ、比較的大量処理する場合にも
対応可能である。しかし、特にシランの場合には、燃焼
後に下記一般式（化１）に示す反応式により生成する酸
化珪素が発生し、その処理装置が必要となる。発生する
酸化珪素の除去方法としてはベンチュリースクラバーに
より水に懸濁或いは塩基性溶液中で下記一般式（化２）
に示す反応式により反応させてガス中より除去する方
法、集塵装置、例えばバグフィルターで除去する方法が
知られている。
【０００６】この場合に発生する酸化珪素は非常に微細
であり集塵装置はフィルター式等を用いても、目詰まり
等が発生し取り扱いが難かしく好ましい方法とは言えな
い。また、実際に燃焼させることになるので、火気の取
り扱えない場所でこの方法は取りにくい。更に、燃焼装
置と酸化珪素の除去装置が必要となり装置が煩雑にな
り、好ましい方法とは言えない。
であり集塵装置はフィルター式等を用いても、目詰まり
等が発生し取り扱いが難かしく好ましい方法とは言えな
い。また、実際に燃焼させることになるので、火気の取
り扱えない場所でこの方法は取りにくい。更に、燃焼装
置と酸化珪素の除去装置が必要となり装置が煩雑にな
り、好ましい方法とは言えない。
【０００７】
【化１】
【０００８】
【化２】
【０００９】また、(5)の触媒酸化法は触媒充填層にシ
ラン類を含んだガスを通気し燃焼させるものであるが、
(3)の場合と同様に比較的大量に処理する場合、及び触
媒の処理方法に問題があり好ましい方法とは言えない。
ラン類を含んだガスを通気し燃焼させるものであるが、
(3)の場合と同様に比較的大量に処理する場合、及び触
媒の処理方法に問題があり好ましい方法とは言えない。
【００１０】これらの方法の内で(2)の薬剤との接触で
はシラン類、特にシランは上記一般式（化２）の反応式
に従って塩基による酸化を受け分解する。塩基性水溶液
で処理した場合には生成物が水溶性であり特に粉体を処
理する必要が無く有用である。一般的に塩基性の吸収塔
として使われている充填塔形式のもので処理した場合
は、シラン類の上記一般式（化２）による分解反応の速
度が比較的小さいために、接触効率を大きくする必要が
あり装置が大きくなる。
はシラン類、特にシランは上記一般式（化２）の反応式
に従って塩基による酸化を受け分解する。塩基性水溶液
で処理した場合には生成物が水溶性であり特に粉体を処
理する必要が無く有用である。一般的に塩基性の吸収塔
として使われている充填塔形式のもので処理した場合
は、シラン類の上記一般式（化２）による分解反応の速
度が比較的小さいために、接触効率を大きくする必要が
あり装置が大きくなる。
【００１１】この(2)の方法で反応の効率を上げるため
に、二価の銅を含む水溶液と接触させる方法（特開平
７−８０２３７号）、処理液として酸化剤を含むアル
コール溶液を用いる方法（特開平１−１４８３３１
号）、酸化触媒を懸濁させたアルカリ金属水酸化物ま
たはアルカリ土類金属水酸化物の水溶液を用いる方法
（特開平１−２４５８３５号）、アルカリ水溶液にア
セトン及び／又はメチルエチルケトンを添加する方法
（特開昭６３−１４１６２８号）、吸収装置の方式を
ベンチュリスクラバーとしたもの（特開昭６４−６７２
２７号）等がある。
に、二価の銅を含む水溶液と接触させる方法（特開平
７−８０２３７号）、処理液として酸化剤を含むアル
コール溶液を用いる方法（特開平１−１４８３３１
号）、酸化触媒を懸濁させたアルカリ金属水酸化物ま
たはアルカリ土類金属水酸化物の水溶液を用いる方法
（特開平１−２４５８３５号）、アルカリ水溶液にア
セトン及び／又はメチルエチルケトンを添加する方法
（特開昭６３−１４１６２８号）、吸収装置の方式を
ベンチュリスクラバーとしたもの（特開昭６４−６７２
２７号）等がある。
【００１２】これら〜までの方法では、反応の効率
を上げるために重金属、有機溶媒等の添加が行われてい
る。これらの重金属や有機溶媒が処理液に含まれると、
処理液を廃棄する場合に重金属や有機溶媒を除去する必
要があり操作が煩雑となる。
を上げるために重金属、有機溶媒等の添加が行われてい
る。これらの重金属や有機溶媒が処理液に含まれると、
処理液を廃棄する場合に重金属や有機溶媒を除去する必
要があり操作が煩雑となる。
【００１３】一方、の方法では、吸収液を処理ガスと
ともに霧状に噴射するために処理ガスが充分に吸収液と
接触して高い処理効率が得られるが、塩基性水溶液を噴
霧するために各所にミスト及び分解生成物が付着し、目
詰まりを起こしやすい。その為、各種対策が考えられて
いるが装置を複雑にしており、好ましい方法とは言えな
かった。
ともに霧状に噴射するために処理ガスが充分に吸収液と
接触して高い処理効率が得られるが、塩基性水溶液を噴
霧するために各所にミスト及び分解生成物が付着し、目
詰まりを起こしやすい。その為、各種対策が考えられて
いるが装置を複雑にしており、好ましい方法とは言えな
かった。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、薬剤
との接触で重金属や有機溶剤を含まない塩基性水溶液を
用いてシラン類含有ガスからシラン類を高効率で、且つ
単純な構造の装置により除去する方法を提供することを
目的とするものである。
との接触で重金属や有機溶剤を含まない塩基性水溶液を
用いてシラン類含有ガスからシラン類を高効率で、且つ
単純な構造の装置により除去する方法を提供することを
目的とするものである。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するため鋭意検討を行った結果、気液接触装置と
して気泡塔を用い、吸収に用いる塩基性水溶液を下部ノ
ズルより噴出させ、そこにガスを同伴させ同時に噴出さ
せる、いわゆる気液噴流槽あるいはジェットエジェクタ
ー型気泡塔として用いることにより気泡の分散性が向上
でき、シラン類を高効率で除去できる事を見出し本発明
を完成するに至ったものである。
を解決するため鋭意検討を行った結果、気液接触装置と
して気泡塔を用い、吸収に用いる塩基性水溶液を下部ノ
ズルより噴出させ、そこにガスを同伴させ同時に噴出さ
せる、いわゆる気液噴流槽あるいはジェットエジェクタ
ー型気泡塔として用いることにより気泡の分散性が向上
でき、シラン類を高効率で除去できる事を見出し本発明
を完成するに至ったものである。
【００１６】すなわち、本発明は、シラン類含有ガスを
気泡塔において塩基性水溶液と接触させシラン類を吸収
除去する方法において、気泡塔下部ノズルからシラン類
含有ガスと塩基性水溶液との気液２相流を送入すること
を特徴とするシラン類の除去方法である。
気泡塔において塩基性水溶液と接触させシラン類を吸収
除去する方法において、気泡塔下部ノズルからシラン類
含有ガスと塩基性水溶液との気液２相流を送入すること
を特徴とするシラン類の除去方法である。
【００１７】
【発明の実施の形態】本発明での気泡塔とは、槽型反応
器として下部に単孔あるいは複数のノズルを設けたガス
供給孔を有し、一般に言う気液噴流槽・ジェットエジェ
クタ−型気泡塔を用いることができる。
器として下部に単孔あるいは複数のノズルを設けたガス
供給孔を有し、一般に言う気液噴流槽・ジェットエジェ
クタ−型気泡塔を用いることができる。
【００１８】これら気泡塔において、下部ノズルから気
液２相流を噴流状態とすることにより、噴流しない場合
と比較してガスのホールドアップを大きくできることが
知られている。この噴流状態を作り出すために、気液接
触部（ノズル）に液を供給することによって巻き起こさ
れる気液２相流のチョーキング現象を利用して均一な気
泡分散を与えることのできる装置を気液噴流槽といい、
ノズルの代わりにジェットエジェクターを用いたものを
ジェットエジェクター型気泡塔［気泡塔・三相流動層実
用ハンドブック（株式会社アイピーシー、１９９３）、
１７５］という。
液２相流を噴流状態とすることにより、噴流しない場合
と比較してガスのホールドアップを大きくできることが
知られている。この噴流状態を作り出すために、気液接
触部（ノズル）に液を供給することによって巻き起こさ
れる気液２相流のチョーキング現象を利用して均一な気
泡分散を与えることのできる装置を気液噴流槽といい、
ノズルの代わりにジェットエジェクターを用いたものを
ジェットエジェクター型気泡塔［気泡塔・三相流動層実
用ハンドブック（株式会社アイピーシー、１９９３）、
１７５］という。
【００１９】これらの装置は、気泡の分散性を向上させ
るための充填物や攪拌等の付属品を設けた気泡塔と比較
して、噴流による気泡の分散性が良好で、装置を簡略化
できる利点がある。
るための充填物や攪拌等の付属品を設けた気泡塔と比較
して、噴流による気泡の分散性が良好で、装置を簡略化
できる利点がある。
【００２０】本発明を理解するために図１を用いて更に
詳細に説明する。図１は、吸収液（塩基性水溶液）の循
環ラインを設けて連続運転できるものとしての一例を示
してある。３のノズルもしくはジェットエジェクター中
に塩基性水溶液を上方に向けて流動させながら、２のガ
ス供給管からシラン類含有ガスを導入もしくは吸入させ
る。ここで処理ガス（シラン類含有ガス）そのものに圧
力が無く導入することが難しい場合には、ジェットエジ
ェクターを用いて強制的に吸入する方法が有利である。
詳細に説明する。図１は、吸収液（塩基性水溶液）の循
環ラインを設けて連続運転できるものとしての一例を示
してある。３のノズルもしくはジェットエジェクター中
に塩基性水溶液を上方に向けて流動させながら、２のガ
ス供給管からシラン類含有ガスを導入もしくは吸入させ
る。ここで処理ガス（シラン類含有ガス）そのものに圧
力が無く導入することが難しい場合には、ジェットエジ
ェクターを用いて強制的に吸入する方法が有利である。
【００２１】ノズル部もしくはジェットエジェクター部
に導入もしくは吸入されたシラン類含有ガスを、好まし
くは液レイノルズ数（Ｒｅ＝Ｄｕρ／μ）１００００以
上、更に好ましくは２００００以上の流動状態の塩基性
水溶液と混合すれば、気液２相流の状態を噴流状態とす
ることができるが、この場合の液／ガス比は、体積比で
１／２以下に設定することが好ましい。
に導入もしくは吸入されたシラン類含有ガスを、好まし
くは液レイノルズ数（Ｒｅ＝Ｄｕρ／μ）１００００以
上、更に好ましくは２００００以上の流動状態の塩基性
水溶液と混合すれば、気液２相流の状態を噴流状態とす
ることができるが、この場合の液／ガス比は、体積比で
１／２以下に設定することが好ましい。
【００２２】ここで言うシラン類とは、シラン（Si
H4）、ジシラン(Si2H6)、ジクロロシラン(SiH2Cl2)、ト
リクロロシラン(SiHCl3)、テトラクロロシラン(SiCl4)
等であり、単独もしくは混合でガス中に含まれていても
本発明の方法により処理することができる。これらシラ
ン類は、下記に示す塩基と接触することで分解し、無害
化することができる。
H4）、ジシラン(Si2H6)、ジクロロシラン(SiH2Cl2)、ト
リクロロシラン(SiHCl3)、テトラクロロシラン(SiCl4)
等であり、単独もしくは混合でガス中に含まれていても
本発明の方法により処理することができる。これらシラ
ン類は、下記に示す塩基と接触することで分解し、無害
化することができる。
【００２３】シラン類と接触させる塩基は、アルカリ金
属、アルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩等であり、例
えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化ルビジウム、水酸化セシウム、水酸化マグ
ネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、
水酸化バリウム等の水酸化物、炭酸リチウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸ルビジウム、炭酸セシウ
ム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロン
チウム、炭酸バリウム等の炭酸塩等、水素化リチウム、
水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化ルビジウ
ム、水素化セシウム、水素化マグネシウム、水素化カル
シウム、水素化ストロンチウム、水素化バリウム等の水
素化物が挙げられる。これら塩基は、単独であるいは２
種類以上混合で用いることができる。
属、アルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩等であり、例
えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化ルビジウム、水酸化セシウム、水酸化マグ
ネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、
水酸化バリウム等の水酸化物、炭酸リチウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸ルビジウム、炭酸セシウ
ム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロン
チウム、炭酸バリウム等の炭酸塩等、水素化リチウム、
水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化ルビジウ
ム、水素化セシウム、水素化マグネシウム、水素化カル
シウム、水素化ストロンチウム、水素化バリウム等の水
素化物が挙げられる。これら塩基は、単独であるいは２
種類以上混合で用いることができる。
【００２４】これら塩基は、ガスとの接触効率を高める
ことからも溶液とすることが好ましく、その場合の溶媒
は塩基が溶解しうるものならば使用可能であるが、水を
用いた水溶液とすることが、ハンドリングや後処理の
面、さらには経済性の面からも好ましい。
ことからも溶液とすることが好ましく、その場合の溶媒
は塩基が溶解しうるものならば使用可能であるが、水を
用いた水溶液とすることが、ハンドリングや後処理の
面、さらには経済性の面からも好ましい。
【００２５】シラン類を吸収するに際し、塩基性水溶液
のｐＨは１１以上を保ち、好ましくはｐＨ１３以上を保
てれば充分である。シラン類の吸収液としての塩基性水
溶液は、効率の面からも図１に示す１の気泡塔上部にオ
ーバーフロー式の液の取り出し口を設けて５の塩基性水
溶液循環ラインを介して気泡塔へ循環する方式を採るこ
とにより、連続運転が可能となる。
のｐＨは１１以上を保ち、好ましくはｐＨ１３以上を保
てれば充分である。シラン類の吸収液としての塩基性水
溶液は、効率の面からも図１に示す１の気泡塔上部にオ
ーバーフロー式の液の取り出し口を設けて５の塩基性水
溶液循環ラインを介して気泡塔へ循環する方式を採るこ
とにより、連続運転が可能となる。
【００２６】循環する塩基性水溶液はｐＨ１１となるま
でバッチで使用することも可能であるが、一定のｐＨの
範囲に保つためには、任意の場所で連続的あるいは間欠
的にｐＨを測定しながら、図１に示す７の塩基性水溶液
送入ライン、８の塩基性水溶液抜出しラインの様なｐＨ
調整用のラインを設置することにより一定量を連続的或
いは間欠的に抜き出し、供給する方法も有用である。
でバッチで使用することも可能であるが、一定のｐＨの
範囲に保つためには、任意の場所で連続的あるいは間欠
的にｐＨを測定しながら、図１に示す７の塩基性水溶液
送入ライン、８の塩基性水溶液抜出しラインの様なｐＨ
調整用のラインを設置することにより一定量を連続的或
いは間欠的に抜き出し、供給する方法も有用である。
【００２７】
【実施例】以下、実施例および図１を用いて本発明をよ
り具体的に説明する。図１に示す内径が１Ｂで下部がコ
ーン状に施された高さ１ｍの１．気泡塔を用い、その下
部には内径６ｍｍの３．ノズルと該ノズルに接続された
内径１ｍｍの２．ガス供給管が施されている。１．気泡
塔の上部に設けられた６．排ガスラインからの排出ガス
をガスクロマトグラフィーで分析してシラン類の測定を
した。一方、１．気泡塔の上部には、オーバーフロー式
の液の取り出し口を設けて５．塩基性水溶液循環ライン
を通じて４．ポンプにより３．ノズルを介して気泡塔へ
塩基性水溶液を循環する。該循環ラインには７．塩基性
水溶液装入ライン、８．塩基性水溶液抜出しラインが設
けられており、必要に応じて塩基性水溶液のｐＨ調整用
に利用できる。
り具体的に説明する。図１に示す内径が１Ｂで下部がコ
ーン状に施された高さ１ｍの１．気泡塔を用い、その下
部には内径６ｍｍの３．ノズルと該ノズルに接続された
内径１ｍｍの２．ガス供給管が施されている。１．気泡
塔の上部に設けられた６．排ガスラインからの排出ガス
をガスクロマトグラフィーで分析してシラン類の測定を
した。一方、１．気泡塔の上部には、オーバーフロー式
の液の取り出し口を設けて５．塩基性水溶液循環ライン
を通じて４．ポンプにより３．ノズルを介して気泡塔へ
塩基性水溶液を循環する。該循環ラインには７．塩基性
水溶液装入ライン、８．塩基性水溶液抜出しラインが設
けられており、必要に応じて塩基性水溶液のｐＨ調整用
に利用できる。
【００２８】実施例１ 上記装置を用いて、３．ノズルに４％ＮａＯＨ水溶液を
０．３ｍ3／ｈｒの流速で、また、２．ガス供給管から
は１０％シラン（窒素ベース）ガスを０．０１２ｍ3／
ｈｒの流速で各々送入した。その結果、６．排ガスライ
ンからの排出ガス中のシラン濃度を測定したところ最大
でも５ｐｐｍ以下であった。
０．３ｍ3／ｈｒの流速で、また、２．ガス供給管から
は１０％シラン（窒素ベース）ガスを０．０１２ｍ3／
ｈｒの流速で各々送入した。その結果、６．排ガスライ
ンからの排出ガス中のシラン濃度を測定したところ最大
でも５ｐｐｍ以下であった。
【００２９】実施例２〜５ ２．ガス供給管からの１０％シラン（窒素べース）ガス
に代えて、そのシラン類としてジシラン、ジクロロシラ
ン、トリクロロシラン、テトラクロロシランとした他は
実施例１と同様に行った。その結果、排出ガス中の対応
するシラン濃度は各々５ｐｐｍ以下、２ｐｐｍ以下、１
ｐｐｍ以下および１ｐｐｍ以下であった。
に代えて、そのシラン類としてジシラン、ジクロロシラ
ン、トリクロロシラン、テトラクロロシランとした他は
実施例１と同様に行った。その結果、排出ガス中の対応
するシラン濃度は各々５ｐｐｍ以下、２ｐｐｍ以下、１
ｐｐｍ以下および１ｐｐｍ以下であった。
【００３０】実施例６ ５．塩基性水溶液循環ラインを用いて塩基性水溶液を循
環しながら、７．塩基性水溶液装入ラインと８．塩基性
水溶液抜出しラインを利用して、４％水酸化ナトリウム
水溶液でｐＨを１１〜１４の範囲で調整しながら、１０
％シランガス（窒素ベース）を１００時間送入し、処理
した他は実施例１と同様に行った。１時間毎に排出ガス
中のシラン濃度測定を実施したところ全てにおいてシラ
ン濃度は５ｐｐｍ以下であった。また、１００時間経過
後に装置を解体して、気泡塔内面およびラインジョイン
ト部においても、結晶等の付着は観察されなかった。
環しながら、７．塩基性水溶液装入ラインと８．塩基性
水溶液抜出しラインを利用して、４％水酸化ナトリウム
水溶液でｐＨを１１〜１４の範囲で調整しながら、１０
％シランガス（窒素ベース）を１００時間送入し、処理
した他は実施例１と同様に行った。１時間毎に排出ガス
中のシラン濃度測定を実施したところ全てにおいてシラ
ン濃度は５ｐｐｍ以下であった。また、１００時間経過
後に装置を解体して、気泡塔内面およびラインジョイン
ト部においても、結晶等の付着は観察されなかった。
【００３１】比較例１ ３．ノズル以降、１．気泡塔に架けて４％水酸化ナトリ
ウム水溶液を充満せしめ、該水溶液を流通させることな
く、１０％シランガス（窒素ベース）を実施例１同様の
０．０１２ｍ3／ｈｒの流速で導入した他は実施例１と
同様に行った。その結果、排出ガス中のシラン濃度は２
７０００ｐｐｍであった。
ウム水溶液を充満せしめ、該水溶液を流通させることな
く、１０％シランガス（窒素ベース）を実施例１同様の
０．０１２ｍ3／ｈｒの流速で導入した他は実施例１と
同様に行った。その結果、排出ガス中のシラン濃度は２
７０００ｐｐｍであった。
【００３２】
【発明の効果】本発明による方法では高効率でシラン類
を除去できるために、処理量が多い場合でも装置を小型
化でき、かつ気泡分散性を向上させる為の分散板、充填
材、攪拌機を使用する必要がなく、また、気液の混合部
がノズルまたはジェットエジェクターという簡単な構造
であり、装置の簡素化ができ、且つシラン類の分解生成
物が水溶解性の塩となるため装置（特にノズル部分）へ
の生成物付着等の弊害を起こしにくい利点も挙げられ
る。以上のような装置で噴流化した気液２相流とするこ
とにより、噴流化させない場合と比較して吸収効率が向
上し、シラン類を無害な状態までシラン類含有ガスから
効率よく除去でき、産業上優位である。
を除去できるために、処理量が多い場合でも装置を小型
化でき、かつ気泡分散性を向上させる為の分散板、充填
材、攪拌機を使用する必要がなく、また、気液の混合部
がノズルまたはジェットエジェクターという簡単な構造
であり、装置の簡素化ができ、且つシラン類の分解生成
物が水溶解性の塩となるため装置（特にノズル部分）へ
の生成物付着等の弊害を起こしにくい利点も挙げられ
る。以上のような装置で噴流化した気液２相流とするこ
とにより、噴流化させない場合と比較して吸収効率が向
上し、シラン類を無害な状態までシラン類含有ガスから
効率よく除去でき、産業上優位である。
【図１】本発明のシラン類の除去方法における気液噴流
槽である気泡塔を示す一実施例のフロー図である。
槽である気泡塔を示す一実施例のフロー図である。
１．気泡塔 ２．ガス供給管 ３．ノズル又はジェットエジェクター ４．ポンプ ５．塩基性水溶液循環ライン ６．排ガスライン ７．塩基性水溶液装入ライン ８．塩基性水溶液抜出しライン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宇都宮 淳 大阪府高石市高砂１丁目６番地 三井化学 株式会社内 (72)発明者 神原 芳彦 大阪府高石市高砂１丁目６番地 三井化学 株式会社内 Ｆターム(参考） 4D002 AA26 AC10 BA02 CA20 DA01 DA02 DA03 DA05 DA06 DA12 DA16 DA70 GA01 GB09 4D020 AA10 BA01 BA08 BA09 BB03 CB01 CB31 5F045 AC01 AC03 AC05 BB20 EG08 EG09
Claims (3)
- 【請求項１】シラン類含有ガスを気泡塔において塩基性
水溶液と接触させシラン類を吸収除去する方法におい
て、気泡塔下部ノズルからシラン類含有ガスと塩基性水
溶液との気液２相流を送入することを特徴とするシラン
類の除去方法。 - 【請求項２】気泡塔下部ノズルがジェットエジェクター
である請求項１記載の方法。 - 【請求項３】気泡塔上部から溢流する塩基性水溶液を気
泡塔に循環する請求項１又は２記載の方法。
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| JP2000301612A JP2002102646A (ja) | 2000-10-02 | 2000-10-02 | シラン類の除去方法 |
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| JP (1) | JP2002102646A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013039521A (ja) * | 2011-08-15 | 2013-02-28 | Taiyo Nippon Sanso Corp | ガス処理方法、ガス処理装置、微粉末の形成方法及び微粉末形成装置 |
| JP2016520505A (ja) * | 2013-04-09 | 2016-07-14 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフトＷａｃｋｅｒ Ｃｈｅｍｉｅ ＡＧ | クロロシラン含有液体を処理する装置及び方法 |
| CN113797953A (zh) * | 2021-09-29 | 2021-12-17 | 广州珠矶科技有限公司 | 一种用于地下水有机污染修复的纳米催化剂的制备及其使用方法 |
-
2000
- 2000-10-02 JP JP2000301612A patent/JP2002102646A/ja active Pending
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