JP2002097513A - 高Si含有溶鋼のAl濃度調整方法 - Google Patents
高Si含有溶鋼のAl濃度調整方法Info
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Abstract
を非常に狭い範囲に調整可能な高Si含有溶鋼のAl濃
度調整方法を提供することを目的としている。 【解決手段】取鍋に保持した高Si含有溶鋼を、RH真
空脱ガス槽でAl源を添加して処理し、Al濃度を調整
するに際して、脱ガス処理前に予め取鍋内スラグのFe
O及びAl2O3濃度を分析し、その分析値から下記式に
基づきAl源の添加歩留りを予測し、その予測した歩留
りからAl源の添加量を定めると共に、該添加量のAl
源を脱ガス処理で溶鋼中のSiO2の浮上を図る浮上処
理期間の経過後に前記溶鋼中に添加する。 Al歩留り(%)=a×((FeO)/2.1)−(A
l2O3))+b ここで,(FeO):取鍋内スラグのFeO濃度(質量
%) (Al2O3):取鍋内スラグのAl2O3濃度(質量%) a,b:鋼種、設備等で決まる定数
Description
Al濃度調整方法に係わり、詳しくは、方向性電磁鋼板
の基になる高Si含有溶鋼を溶製するに際して、含有さ
せるAlを狭い濃度範囲に的中させる技術である。
れる高Si(通常、1重量%以上)の方向性電磁鋼板
は、最も重要な特性として、高磁束密度、且つ低鉄損で
あることを要求される。そのためには、該方向性電磁鋼
板の製造時に、結晶方位をゴス方位と呼ばれる状態にす
る必要がある。つまり、{100}面を<001>方位
に高度に集積させるのである。
ためには、一次再結晶の成長を選択的に抑制するインヒ
ビターと呼ばれる析出分散相を、鋼中に均一且つ適正な
サイズで形成させるのが一般的である。このインヒビタ
ーの一つにAlNがある。AlNを前記インヒビターと
して働かせるには、溶鋼段階で鋼中のAl及びN濃度を
ある範囲内に調整する必要がある。その範囲をわずかで
もはずれると、これらの元素は有害元素としてふるま
い、前記特性が劣化することになるからである。
の該溶鋼をRH真空脱ガス槽を用いて減圧下でAl源を
投入して、Al濃度の調整を行なっている。
は、「二次精錬で溶鋼へキャリア・ガスを用いたインジ
ェクションでAlを添加するにあたり、下記式に従いA
l添加量を求める」技術を提案している。
M/CAl Al2=Al3−AlL2 ただし、Al1:インジェクション前実績値 Al2:インジェクション処理後ねらい値 Al3:成品中心値 AlL1:インジェクション処理中Alロス量 AlL2:インジェクション処理から連続鋳造工程でのA
lロス量 M:溶鋼量 CAl:合金鉄中のAl品位 しかしながら、Alは非常に酸化し易い元素であり、他
の溶製条件の変化で酸化物としてスラグに容易に移行し
てしまい、上記技術を利用しても、溶鋼のAlを狭い濃
度範囲に精度良く安定して調整することが非常に難しい
状況にあった。
に鑑み、溶鋼が高Siであっても、Al濃度を非常に狭
い範囲に調整可能な高Si含有溶鋼のAl濃度調整方法
を提供することを目的としている。
成するため鋭意研究し、その成果を本発明に具現化し
た。
i含有溶鋼を、RH真空脱ガス槽でAl源を添加して処
理し、Al濃度を調整するに際して、脱ガス処理前に予
め取鍋内スラグのFeO及びAl2O3濃度を分析し、そ
の分析値から下記式に基づきAl源の添加歩留りを予測
し、その予測した歩留りからAl源の添加量を定めると
共に、該添加量のAl源を脱ガス処理で溶鋼中のSiO
2の浮上を図る浮上処理期間の経過後に前記溶鋼中に添
加することを特徴とする高Si含有溶鋼のAl濃度調整
方法である。 Al歩留り(%)=a×((FeO)/2.1)−(A
l2O3))+b ここで,(FeO):取鍋内スラグのFeO濃度(質量
%) (Al2O3):取鍋内スラグのAl2O3濃度(質量%) a,b:鋼種、設備等で決まる定数 その際、前記SiO2の浮上処理期間は、脱ガス処理開
始から取鍋内の全溶鋼が脱ガス槽との間で1回環流する
に要する時間の7倍以上であることが好ましい。また、
前記Al源を、金属アルミニウムとするのが良い。
してその添加量を定めると共に、溶鋼中に存在するSi
O2がほとんどスラグに移行してから、Al源を溶鋼に
添加するようにしたので、SiO2やスラグ中のFeO
及びAl2O3に邪魔されることなく溶鋼中へのAlが溶
解するようになる。すなわち、これら成分によるAlの
酸化を防止した状態で、Alの添加ができるようにな
る。その結果、従来に比べて、溶鋼のAl濃度が目標値
から狭い範囲に歩留まるようになる。
交え、本発明の実施の形態を説明する。
鋼中Al濃度の調整方法を説明する。
に、2本の浸漬管2を介して溶鋼3を吸い上げたり、降
下させて、取鍋4内の溶鋼3を脱ガス槽1と取鍋4間で
環流(循環)し、減圧した雰囲気にある溶鋼3から脱ガ
スする作用をする。その際、溶鋼3の脱炭も行なった
り、あるいは各種成分源5を添加し、溶鋼3の成分調整
も行なわれる。
も、従来よりこのRH真空脱ガス槽1が用いられてお
り、転炉内及び/又は出鋼中に添加されるSi源、脱ガ
ス処理中に添加されるAl源の順で、溶鋼3に添加され
ている。ところが、前記したように、高Si含有鋼の場
合には、Al濃度の狭幅な(高精度な)調整を難しくす
るという問題が生じていた。つまり、方向性電磁鋼板用
の溶鋼3とするには、目標Al濃度に対して、±10p
pmの精度で調整するのが理想であるが、それが達成で
きていなかった。
研究を行ない、まず、転炉内又は出鋼中に大量に添加さ
れたSiがSiO2として溶鋼3中に存在し、これがA
lを酸化する酸素源となってAlの添加歩留りを不安定
にし、Al濃度の狭幅な調整を難しくするという結論を
得た。そして、Al歩留りが不安定になる原因が溶鋼3
中に大量に存在する珪素介在物であるなら、この介在物
を浮上させた後にAlを添加すれば、Al歩留りは安定
すると考え、真空脱ガス処理中におけるSiO 2浮上の
ための浮上処理期間経過後にAl源を添加するのが良い
と考えた。また、このSiO2浮上のための浮上処理期
間は、溶鋼中に懸濁しているSiO2を分析することで
求められる。つまり、脱ガス処理中の溶鋼サンプリング
を行なってSi濃度が一定の値に安定した時、浮上処理
が完了したとみることができ、この間をSiO2浮上の
ための浮上処理期間とするのである。この浮上処理期間
は、使用している脱ガス装置の大きさや能力別処理溶鋼
量毎に予め調査しておくことでも、設定することができ
る。また、SiO2浮上に要する浮上処理の時間から設
定することもできる。発明者らは、このSiO2浮上に
要する浮上処理の時間を調査した。
記(2)式を用いて、取鍋内の溶鋼3の全量が脱ガス槽
との間で一回の還流をするに要する時間Hを(1)式で
求め、環流回数(環流時間の何倍の時間であるか)と溶
鋼中のSi濃度との関係を求めることで行なわれた。得
られた結果を図3に示す。なお、図3で、[Si%]は
各時間での溶鋼のSi濃度であり、[Si%]fは処理
後の値である。
り、脱ガス処理の開始から溶鋼を7回還流((7×H)
分後)すれば、溶鋼3中のSi濃度に変化がなくなる。
このことは、、溶鋼3中のSiO2がほぼ全量浮上し、
スラグ7にトラップされたことを意味している。
態になってからAl源を溶鋼に添加すれば、溶鋼のAl
濃度は目標値から大きく変動することはないと考え、こ
の考えを本発明の1つの要件としたのである。
す要因は、スラグの酸化度(酸素含有量の多さ)にある
と考えられていた。スラグが含有するFeO量(以下、
FeO濃度という)と溶鋼へのAl添加歩留りがおおよ
そ比例関係にあったからである。そのため、溶鋼へ添加
するAl源の量は、スラグ中のFeO濃度と強い相関関
係のある転炉出鋼時の溶鋼中酸素濃度を測定して、スラ
グ中のFeO濃度を求め、その値からAl添加歩留りを
予測して定められていた。しかしながら、スラグ中のF
eO濃度とAl添加歩留りとの関係は、前記したように
精度が今一歩満足できるものでなく、もっと精度の良い
別の指標が望まれれていた。
め、過去の操業データを鋭意解析し、Al添加歩留りに
は、スラグ中のAl2O3濃度も影響していることを見出
した。つまり、過去の操業データの解析過程で、スラグ
のFeO濃度及びAl2O3濃度を用いて、(FeO)/
2.1)−(Al2O3)なる指標を作成し、Al歩留り
との関係を整理したところ、下記(3)式で示すよう
に、高精度で負の相関関係が得られたのである。 Al歩留り(%)=a×((FeO)/2.1)−(Al2O3))+b ( 3) 一般に、添加したAlとスラグのFeO濃度との間に
は、下記反応が成立する。
ol生成し、質量に換算すると、FeOが216gでA
l2O3が102gなので、反応量の質量比は、FeO/
Al2O3=2.1:1となる。従って、この関係から、
Alの上記(3)式による進み易さは、単位に質量%を
用いると、(FeO)/2.1−(Al 2O3)で表され
ると考えられる。なお、このAlの酸化反応は、スラグ
のFeO濃度が高く、Al2O3濃度が低い程進行し易い
ことを示唆している。前記した(FeO)/2.1−
(Al2O3)なる指標は、FeOとAl2O3の正負符号
が反対で、Alの酸化反応をまさに反映しており、妥当
なものである。
ば、従来より精度の良いAlの添加ができると考えた。
しかしながら、スラグのFeO濃度は、溶鋼中酸素濃度
で迅速に予測できるが、Al2O3濃度は転炉で使用され
る石灰等の副原料の種類、使用量によって変化するた
め、予測が難しい。そこで、スラグを実際にRH真空脱
ガス槽1で処理する前に取鍋4から試料を採取し、迅速
にFeO及びAl2O3を分析してから、前記(3)式を
用いてAlの歩留りを予測することにし、このことを先
の要件(SiO2の完全浮上)に加えることで本発明を
完成させたのである。なお、この予測した歩留りを用い
れば、以下のようにしてAlの添加量が決定でき
((4)式参照)、従来より、Alの狭幅調整ができる
ようになる。 Al投入量(kg/t)=(Al目標(%)/Al歩留り%)×(100000 /Al純度(%)) (4) また、前記(3)式の定数であるa,bは、鋼種、設備
等で変化するため、予め実験等により求めておけば良
く、設備とは、使用する取鍋の大きさ、RH脱ガス槽の
還流能力等をさす。
3〜0.10重量%、Si:1.5〜5.0重量%、M
n:0.04〜0.15重量%を含む高Si含有溶鋼
を、図2に示したRH真空脱ガス槽1で溶製した。1回
の溶製で処理した溶鋼量は200トンである。
てから出鋼した溶鋼を200トン取鍋に受鋼した。そし
て、スラグ3.0トンを取鍋4に装入し、該取鍋4から
スラグの分析試料を採取して分析する一方で、取鍋4を
RH真空脱ガス槽1にセットした。直ちに、RH真空脱
ガス槽1の内部雰囲気を40torrに減圧し、環流ガ
ス6を流して溶鋼3を脱ガス槽1に吸引し、環流を開始
した。その後は、作業者がコンピュータにより前記
(1)〜(2)式に基き、環流時間Hを求め、脱ガス開
始からの経過時間が7Hを超えてから、純度の低い金属
アルミニウムを溶鋼面上に投入した。なお、溶鋼3の目
標Al濃度は、0.010〜0.030質量%の範囲
で、処理毎に変更したが、Alの添加量は、前記した本
発明に係る方法により決定した。図1は、当該溶鋼及び
設備を使用して求めたスラグのFeO濃度及びAl2O3
濃度と溶鋼へ添加したAlの歩留りとの関係を示したも
ので、前記(3)式は、下記のごとき(3)’式となっ
た。 Al歩留り(%)=−1.0077×((FeO)/2.1)−(Al2O3)) +62.267 (3)’ スラグ分析の結果、例えば、スラグのFeO濃度が4.
56質量%、Al2O3濃度が2.4質量%の場合には、
(3)’式から予測Al添加歩留りは62.5%とな
る。添加する金属アルミニウムの純度が94質量%であ
り、目標Al濃度を0.030質量%とすると、前記
(4)式よりAlの添加量は5.1kg/tになる。
0.010〜0.030質量%の範囲で変更し、多数チ
ャージの処理を行なった後、処理結果を、実績Al濃度
と目標濃度との差の出現頻度で評価して図4に示す。な
お、本発明との効果を比較するため、従来のAl添加方
法(脱ガス処理開始から連続的にAl源を添加する)で
も処理を行い、その結果も図4に示してあた。図4よ
り、本発明によれば、溶鋼3中のAl濃度が目標値に対
して±10ppmで調整されたことが明らかである。ま
た、脱ガス処理後の溶鋼中のN濃度は、100ppmで
あり、AlNを形成するに十分な量であった。ちなみ
に、得られた溶鋼の組成例を表1に示しておく。
ものを使用したが、本発明はそれに限らず、高Siであ
れば如何なる鋼材の溶鋼にも適用できることは言うまで
もない。
i含有溶鋼のAl濃度が狭い範囲で調整できるようにな
る。その結果、高磁気密度、低鉄損特性に優れた方向性
電磁鋼板が安定して製造できるようになった。
添加したAlの歩留りとの関係を示す図である。
間の何倍であるか)と溶鋼中Si濃度との関係を示す図
である。
Al濃度の的中精度を示す図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 取鍋に保持した高Si含有溶鋼を、RH
真空脱ガス槽でAl源を添加して処理し、Al濃度を調
整するに際して、 脱ガス処理前に予め取鍋内スラグのFeO及びAl2O3
濃度を分析し、その分析値から下記式に基づきAl源の
添加歩留りを予測し、その予測した歩留りからAl源の
添加量を定めると共に、該添加量のAl源を脱ガス処理
で溶鋼中のSiO2の浮上を図る浮上処理期間の経過後
に前記溶鋼中に添加することを特徴とする高Si含有溶
鋼のAl濃度調整方法。 Al歩留り(%)=a×((FeO)/2.1)−(A
l2O3))+b ここで,(FeO):取鍋内スラグのFeO濃度(質量
%) (Al2O3):取鍋内スラグのAl2O3濃度(質量%) a,b:鋼種、設備等によって決まる定数 - 【請求項2】 前記SiO2の浮上処理期間は、脱ガス
処理開始から取鍋内の全溶鋼が脱ガス槽との間で1回環
流するに要する時間の7倍以上であることを特徴とする
請求項1記載の高Si含有溶鋼のAl濃度調整方法。 - 【請求項3】 前記Al源を、金属アルミニウムとする
ことを特徴とする請求項1又は2記載の高Si含有溶鋼
のAl濃度調整方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2000282857A JP4345213B2 (ja) | 2000-09-19 | 2000-09-19 | 高Si含有溶鋼のAl濃度調整方法 |
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Publications (2)
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KR20040046397A (ko) * | 2002-11-27 | 2004-06-05 | 주식회사 포스코 | 슬래그 채취분석에 의한 용강의 탈가스처리방법 |
WO2006059740A1 (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-08 | Jfe Steel Corporation | 方向性電磁鋼板およびその製造方法 |
JP2006283089A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Jfe Steel Kk | 電磁鋼製造におけるAl添加方法 |
-
2000
- 2000-09-19 JP JP2000282857A patent/JP4345213B2/ja not_active Expired - Fee Related
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WO2006059740A1 (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-08 | Jfe Steel Corporation | 方向性電磁鋼板およびその製造方法 |
US8177920B2 (en) | 2004-11-30 | 2012-05-15 | Jfe Steel Corporation | Grain-oriented electrical steel sheet and process for producing the same |
JP2006283089A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Jfe Steel Kk | 電磁鋼製造におけるAl添加方法 |
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