JP2002097513A - 高Si含有溶鋼のAl濃度調整方法 - Google Patents

高Si含有溶鋼のAl濃度調整方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は、溶鋼が高Siであっても、Al濃度
を非常に狭い範囲に調整可能な高Si含有溶鋼のAl濃
度調整方法を提供することを目的としている。 【解決手段】取鍋に保持した高Si含有溶鋼を、RH真
空脱ガス槽でAl源を添加して処理し、Al濃度を調整
するに際して、脱ガス処理前に予め取鍋内スラグのFe
O及びAl23濃度を分析し、その分析値から下記式に
基づきAl源の添加歩留りを予測し、その予測した歩留
りからAl源の添加量を定めると共に、該添加量のAl
源を脱ガス処理で溶鋼中のSiO2の浮上を図る浮上処
理期間の経過後に前記溶鋼中に添加する。 Al歩留り(%)=a×((FeO)/2.1)−(A
23))+b ここで,(FeO):取鍋内スラグのFeO濃度(質量
%) (Al23):取鍋内スラグのAl23濃度(質量%) a,b:鋼種、設備等で決まる定数

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、高Si含有溶鋼の
Al濃度調整方法に係わり、詳しくは、方向性電磁鋼板
の基になる高Si含有溶鋼を溶製するに際して、含有さ
せるAlを狭い濃度範囲に的中させる技術である。
【0002】
【従来の技術】変圧器や発電機の鉄心材料として使用さ
れる高Si(通常、1重量%以上)の方向性電磁鋼板
は、最も重要な特性として、高磁束密度、且つ低鉄損で
あることを要求される。そのためには、該方向性電磁鋼
板の製造時に、結晶方位をゴス方位と呼ばれる状態にす
る必要がある。つまり、{100}面を<001>方位
に高度に集積させるのである。
【0003】このような二次再結晶の集積を促進させる
ためには、一次再結晶の成長を選択的に抑制するインヒ
ビターと呼ばれる析出分散相を、鋼中に均一且つ適正な
サイズで形成させるのが一般的である。このインヒビタ
ーの一つにAlNがある。AlNを前記インヒビターと
して働かせるには、溶鋼段階で鋼中のAl及びN濃度を
ある範囲内に調整する必要がある。その範囲をわずかで
もはずれると、これらの元素は有害元素としてふるま
い、前記特性が劣化することになるからである。
【0004】現在、この高Si含有溶鋼は、転炉出鋼後
の該溶鋼をRH真空脱ガス槽を用いて減圧下でAl源を
投入して、Al濃度の調整を行なっている。
【0005】例えば、特開平8−120320号公報
は、「二次精錬で溶鋼へキャリア・ガスを用いたインジ
ェクションでAlを添加するにあたり、下記式に従いA
l添加量を求める」技術を提案している。
【0006】Al投入量=(Al2−Al1−AlL1)×
M/CAl Al2=Al3−AlL2 ただし、Al1:インジェクション前実績値 Al2:インジェクション処理後ねらい値 Al3:成品中心値 AlL1:インジェクション処理中Alロス量 AlL2:インジェクション処理から連続鋳造工程でのA
lロス量 M:溶鋼量 CAl:合金鉄中のAl品位 しかしながら、Alは非常に酸化し易い元素であり、他
の溶製条件の変化で酸化物としてスラグに容易に移行し
てしまい、上記技術を利用しても、溶鋼のAlを狭い濃
度範囲に精度良く安定して調整することが非常に難しい
状況にあった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる事情
に鑑み、溶鋼が高Siであっても、Al濃度を非常に狭
い範囲に調整可能な高Si含有溶鋼のAl濃度調整方法
を提供することを目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】発明者は、上記目的を達
成するため鋭意研究し、その成果を本発明に具現化し
た。
【0009】すなわち、本発明は、取鍋に保持した高S
i含有溶鋼を、RH真空脱ガス槽でAl源を添加して処
理し、Al濃度を調整するに際して、脱ガス処理前に予
め取鍋内スラグのFeO及びAl23濃度を分析し、そ
の分析値から下記式に基づきAl源の添加歩留りを予測
し、その予測した歩留りからAl源の添加量を定めると
共に、該添加量のAl源を脱ガス処理で溶鋼中のSiO
2の浮上を図る浮上処理期間の経過後に前記溶鋼中に添
加することを特徴とする高Si含有溶鋼のAl濃度調整
方法である。 Al歩留り(%)=a×((FeO)/2.1)−(A
23))+b ここで,(FeO):取鍋内スラグのFeO濃度(質量
%) (Al23):取鍋内スラグのAl23濃度(質量%) a,b:鋼種、設備等で決まる定数 その際、前記SiO2の浮上処理期間は、脱ガス処理開
始から取鍋内の全溶鋼が脱ガス槽との間で1回環流する
に要する時間の7倍以上であることが好ましい。また、
前記Al源を、金属アルミニウムとするのが良い。
【0010】本発明によれば、Alの添加歩留りを予測
してその添加量を定めると共に、溶鋼中に存在するSi
2がほとんどスラグに移行してから、Al源を溶鋼に
添加するようにしたので、SiO2やスラグ中のFeO
及びAl23に邪魔されることなく溶鋼中へのAlが溶
解するようになる。すなわち、これら成分によるAlの
酸化を防止した状態で、Alの添加ができるようにな
る。その結果、従来に比べて、溶鋼のAl濃度が目標値
から狭い範囲に歩留まるようになる。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、発明をなすに至った経緯を
交え、本発明の実施の形態を説明する。
【0012】まず、RH真空脱ガス槽を用いた従来の溶
鋼中Al濃度の調整方法を説明する。
【0013】RH真空脱ガス槽1は、図2に示すよう
に、2本の浸漬管2を介して溶鋼3を吸い上げたり、降
下させて、取鍋4内の溶鋼3を脱ガス槽1と取鍋4間で
環流(循環)し、減圧した雰囲気にある溶鋼3から脱ガ
スする作用をする。その際、溶鋼3の脱炭も行なった
り、あるいは各種成分源5を添加し、溶鋼3の成分調整
も行なわれる。
【0014】高Si溶鋼のAl濃度を調整する場合に
も、従来よりこのRH真空脱ガス槽1が用いられてお
り、転炉内及び/又は出鋼中に添加されるSi源、脱ガ
ス処理中に添加されるAl源の順で、溶鋼3に添加され
ている。ところが、前記したように、高Si含有鋼の場
合には、Al濃度の狭幅な(高精度な)調整を難しくす
るという問題が生じていた。つまり、方向性電磁鋼板用
の溶鋼3とするには、目標Al濃度に対して、±10p
pmの精度で調整するのが理想であるが、それが達成で
きていなかった。
【0015】そこで、発明者は、その原因について鋭意
研究を行ない、まず、転炉内又は出鋼中に大量に添加さ
れたSiがSiO2として溶鋼3中に存在し、これがA
lを酸化する酸素源となってAlの添加歩留りを不安定
にし、Al濃度の狭幅な調整を難しくするという結論を
得た。そして、Al歩留りが不安定になる原因が溶鋼3
中に大量に存在する珪素介在物であるなら、この介在物
を浮上させた後にAlを添加すれば、Al歩留りは安定
すると考え、真空脱ガス処理中におけるSiO 2浮上の
ための浮上処理期間経過後にAl源を添加するのが良い
と考えた。また、このSiO2浮上のための浮上処理期
間は、溶鋼中に懸濁しているSiO2を分析することで
求められる。つまり、脱ガス処理中の溶鋼サンプリング
を行なってSi濃度が一定の値に安定した時、浮上処理
が完了したとみることができ、この間をSiO2浮上の
ための浮上処理期間とするのである。この浮上処理期間
は、使用している脱ガス装置の大きさや能力別処理溶鋼
量毎に予め調査しておくことでも、設定することができ
る。また、SiO2浮上に要する浮上処理の時間から設
定することもできる。発明者らは、このSiO2浮上に
要する浮上処理の時間を調査した。
【0016】その調査は、溶鋼3の環流量Qを表わす下
記(2)式を用いて、取鍋内の溶鋼3の全量が脱ガス槽
との間で一回の還流をするに要する時間Hを(1)式で
求め、環流回数(環流時間の何倍の時間であるか)と溶
鋼中のSi濃度との関係を求めることで行なわれた。得
られた結果を図3に示す。なお、図3で、[Si%]は
各時間での溶鋼のSi濃度であり、[Si%]fは処理
後の値である。
【0017】 H=W/Q ……(1) Q=(11.4G1/34/3(lnP1/P21/3)……(2) ここで、H:全溶鋼が一回の環流に要する時間(分) Q:環流量(トン/分) W:処理溶鋼の全量(トン) G:環流ガス量(リットル(標準状態)/分) D:浸漬管の内径(メートル) P1:大気圧力(Pa) P2:槽内圧力(Pa) SiO2介在物もSiとして分析されるため、図3よ
り、脱ガス処理の開始から溶鋼を7回還流((7×H)
分後)すれば、溶鋼3中のSi濃度に変化がなくなる。
このことは、、溶鋼3中のSiO2がほぼ全量浮上し、
スラグ7にトラップされたことを意味している。
【0018】従って、発明者は、溶鋼が7回環流した状
態になってからAl源を溶鋼に添加すれば、溶鋼のAl
濃度は目標値から大きく変動することはないと考え、こ
の考えを本発明の1つの要件としたのである。
【0019】一方、従来より、Al歩留りへ影響を及ぼ
す要因は、スラグの酸化度(酸素含有量の多さ)にある
と考えられていた。スラグが含有するFeO量(以下、
FeO濃度という)と溶鋼へのAl添加歩留りがおおよ
そ比例関係にあったからである。そのため、溶鋼へ添加
するAl源の量は、スラグ中のFeO濃度と強い相関関
係のある転炉出鋼時の溶鋼中酸素濃度を測定して、スラ
グ中のFeO濃度を求め、その値からAl添加歩留りを
予測して定められていた。しかしながら、スラグ中のF
eO濃度とAl添加歩留りとの関係は、前記したように
精度が今一歩満足できるものでなく、もっと精度の良い
別の指標が望まれれていた。
【0020】そこで、発明者は、この指標を見出すた
め、過去の操業データを鋭意解析し、Al添加歩留りに
は、スラグ中のAl23濃度も影響していることを見出
した。つまり、過去の操業データの解析過程で、スラグ
のFeO濃度及びAl23濃度を用いて、(FeO)/
2.1)−(Al23)なる指標を作成し、Al歩留り
との関係を整理したところ、下記(3)式で示すよう
に、高精度で負の相関関係が得られたのである。 Al歩留り(%)=a×((FeO)/2.1)−(Al23))+b ( 3) 一般に、添加したAlとスラグのFeO濃度との間に
は、下記反応が成立する。
【0021】3FeO+2Al=3Fe+Al23 この反応は、FeOが3molに対してAl23が1m
ol生成し、質量に換算すると、FeOが216gでA
23が102gなので、反応量の質量比は、FeO/
Al23=2.1:1となる。従って、この関係から、
Alの上記(3)式による進み易さは、単位に質量%を
用いると、(FeO)/2.1−(Al 23)で表され
ると考えられる。なお、このAlの酸化反応は、スラグ
のFeO濃度が高く、Al23濃度が低い程進行し易い
ことを示唆している。前記した(FeO)/2.1−
(Al23)なる指標は、FeOとAl23の正負符号
が反対で、Alの酸化反応をまさに反映しており、妥当
なものである。
【0022】発明者は、この(3)式の関係を用いれ
ば、従来より精度の良いAlの添加ができると考えた。
しかしながら、スラグのFeO濃度は、溶鋼中酸素濃度
で迅速に予測できるが、Al23濃度は転炉で使用され
る石灰等の副原料の種類、使用量によって変化するた
め、予測が難しい。そこで、スラグを実際にRH真空脱
ガス槽1で処理する前に取鍋4から試料を採取し、迅速
にFeO及びAl23を分析してから、前記(3)式を
用いてAlの歩留りを予測することにし、このことを先
の要件(SiO2の完全浮上)に加えることで本発明を
完成させたのである。なお、この予測した歩留りを用い
れば、以下のようにしてAlの添加量が決定でき
((4)式参照)、従来より、Alの狭幅調整ができる
ようになる。 Al投入量(kg/t)=(Al目標(%)/Al歩留り%)×(100000 /Al純度(%)) (4) また、前記(3)式の定数であるa,bは、鋼種、設備
等で変化するため、予め実験等により求めておけば良
く、設備とは、使用する取鍋の大きさ、RH脱ガス槽の
還流能力等をさす。
【0023】
【実施例】方向性電磁鋼板を製造するため、C:0.0
3〜0.10重量%、Si:1.5〜5.0重量%、M
n:0.04〜0.15重量%を含む高Si含有溶鋼
を、図2に示したRH真空脱ガス槽1で溶製した。1回
の溶製で処理した溶鋼量は200トンである。
【0024】予め転炉(図示せず)でSi濃度を調整し
てから出鋼した溶鋼を200トン取鍋に受鋼した。そし
て、スラグ3.0トンを取鍋4に装入し、該取鍋4から
スラグの分析試料を採取して分析する一方で、取鍋4を
RH真空脱ガス槽1にセットした。直ちに、RH真空脱
ガス槽1の内部雰囲気を40torrに減圧し、環流ガ
ス6を流して溶鋼3を脱ガス槽1に吸引し、環流を開始
した。その後は、作業者がコンピュータにより前記
(1)〜(2)式に基き、環流時間Hを求め、脱ガス開
始からの経過時間が7Hを超えてから、純度の低い金属
アルミニウムを溶鋼面上に投入した。なお、溶鋼3の目
標Al濃度は、0.010〜0.030質量%の範囲
で、処理毎に変更したが、Alの添加量は、前記した本
発明に係る方法により決定した。図1は、当該溶鋼及び
設備を使用して求めたスラグのFeO濃度及びAl23
濃度と溶鋼へ添加したAlの歩留りとの関係を示したも
ので、前記(3)式は、下記のごとき(3)’式となっ
た。 Al歩留り(%)=−1.0077×((FeO)/2.1)−(Al23)) +62.267 (3)’ スラグ分析の結果、例えば、スラグのFeO濃度が4.
56質量%、Al23濃度が2.4質量%の場合には、
(3)’式から予測Al添加歩留りは62.5%とな
る。添加する金属アルミニウムの純度が94質量%であ
り、目標Al濃度を0.030質量%とすると、前記
(4)式よりAlの添加量は5.1kg/tになる。
【0025】このようにして、溶鋼の目標Al濃度を
0.010〜0.030質量%の範囲で変更し、多数チ
ャージの処理を行なった後、処理結果を、実績Al濃度
と目標濃度との差の出現頻度で評価して図4に示す。な
お、本発明との効果を比較するため、従来のAl添加方
法(脱ガス処理開始から連続的にAl源を添加する)で
も処理を行い、その結果も図4に示してあた。図4よ
り、本発明によれば、溶鋼3中のAl濃度が目標値に対
して±10ppmで調整されたことが明らかである。ま
た、脱ガス処理後の溶鋼中のN濃度は、100ppmで
あり、AlNを形成するに十分な量であった。ちなみ
に、得られた溶鋼の組成例を表1に示しておく。
【0026】
【表1】
【0027】上記実施例では、溶鋼として電磁鋼板用の
ものを使用したが、本発明はそれに限らず、高Siであ
れば如何なる鋼材の溶鋼にも適用できることは言うまで
もない。
【0028】
【発明の効果】以上述べたように、本発明により、高S
i含有溶鋼のAl濃度が狭い範囲で調整できるようにな
る。その結果、高磁気密度、低鉄損特性に優れた方向性
電磁鋼板が安定して製造できるようになった。
【図面の簡単な説明】
【図1】スラグのFeO濃度及びAl23濃度と溶鋼へ
添加したAlの歩留りとの関係を示す図である。
【図2】RH真空脱ガス槽を示す縦断面図である。
【図3】溶鋼の脱ガス処理期間(溶鋼全量の1回還流時
間の何倍であるか)と溶鋼中Si濃度との関係を示す図
である。
【図4】本発明に係るAl濃度調整方法と従来方法での
Al濃度の的中精度を示す図である。
【符号の説明】
1 RH真空脱ガス槽 2 浸漬管 3 溶鋼 4 取鍋 5 各種成分源 6 環流ガス 7 スラグ
フロントページの続き (72)発明者 野村 寛 岡山県倉敷市水島川崎通1丁目(番地な し) 川崎製鉄株式会社水島製鉄所内 Fターム(参考) 4K013 AA04 BA07 BA16 CE01 CF13 DA12 EA19 FA05

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 取鍋に保持した高Si含有溶鋼を、RH
    真空脱ガス槽でAl源を添加して処理し、Al濃度を調
    整するに際して、 脱ガス処理前に予め取鍋内スラグのFeO及びAl23
    濃度を分析し、その分析値から下記式に基づきAl源の
    添加歩留りを予測し、その予測した歩留りからAl源の
    添加量を定めると共に、該添加量のAl源を脱ガス処理
    で溶鋼中のSiO2の浮上を図る浮上処理期間の経過後
    に前記溶鋼中に添加することを特徴とする高Si含有溶
    鋼のAl濃度調整方法。 Al歩留り(%)=a×((FeO)/2.1)−(A
    23))+b ここで,(FeO):取鍋内スラグのFeO濃度(質量
    %) (Al23):取鍋内スラグのAl23濃度(質量%) a,b:鋼種、設備等によって決まる定数
  2. 【請求項2】 前記SiO2の浮上処理期間は、脱ガス
    処理開始から取鍋内の全溶鋼が脱ガス槽との間で1回環
    流するに要する時間の7倍以上であることを特徴とする
    請求項1記載の高Si含有溶鋼のAl濃度調整方法。
  3. 【請求項3】 前記Al源を、金属アルミニウムとする
    ことを特徴とする請求項1又は2記載の高Si含有溶鋼
    のAl濃度調整方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20040046397A (ko) * 2002-11-27 2004-06-05 주식회사 포스코 슬래그 채취분석에 의한 용강의 탈가스처리방법
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