JP2002093717A - 縦型熱処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 筒状ヒータの各ゾーンに対応する位置の温度
および面状ヒータに対応する位置の温度を検出可能と
し、これら両ヒータの温度制御を可能とする。 【解決手段】 多数枚の被処理体ｗを高さ方向に所定間
隔で配列して処理容器２内に収容し、該処理容器２の周
囲に設けた高さ方向のゾーン制御が可能な筒状ヒータ１
０および処理容器２の上方に設けた面状ヒータ１２によ
り被処理体ｗを加熱して所定の熱処理を施す縦型熱処理
装置１であって、前記ヒータ１０，１２の温度を制御す
べく前記処理容器２内に温度検出器２０を設け、該温度
検出器２０は処理容器２内を高さ方向に立上がり且つそ
の上端から処理容器２内の中心に向って横方向に延出し
た保護管２１と、該保護管２１内に前記面状ヒータ１２
と対応する位置および筒状ヒータ１０の各ゾーンＺ１〜
Ｚ４と対応する位置に配置された熱電対２２…とを有す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、縦型熱処理装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体デバイスの製造においては、被処
理体例えば半導体ウエハに、酸化、拡散、ＣＶＤ（Chem
ical Vapor Deposition）などの処理を施すために、
各種の熱処理装置が用いられている。そして、その一つ
として、一度に多数枚の被処理体の熱処理が可能なバッ
チ式の縦型熱処理装置が知られている。この縦型熱処理
装置は、多数枚の被処理体を高さ方向に所定間隔で配列
して処理容器内に収容し、この処理容器の周囲に設けた
筒状ヒータにより加熱して所定の熱処理を施すようにな
っている。

【０００３】前記筒状ヒータは、高さ方向に複数のゾー
ンに分けて温度制御可能になっている。前記ヒータによ
る処理温度を制御するために、処理容器内には該処理容
器内の温度を検出する温度検出器が設けられている。こ
の温度検出器は、処理容器内を高さ方向に立上がった直
管状の例えば石英ガラス製の保護管を有し、この保護管
内における前記ヒータの各ゾーンに対応する位置に熱電
対を配置した構成がとられ、処理容器内の高さ方向の温
度分布が検出できるようになっている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、前記縦型熱
処理装置においては、処理容器の上方からの放熱を防止
すると共に被処理体を面内均一に加熱するために処理容
器の上方に面状ヒータを設置することが提案されてい
る。しかしながら、処理容器の上方に面状ヒータを設置
した場合、前記温度検出器では処理容器内における前記
面状ヒータに対応する位置の温度を検出することができ
ず、したがって、面状ヒータの温度を制御することが困
難であった。

【０００５】本発明は、前記事情を考慮してなされたも
ので、筒状ヒータの各ゾーンに対応する位置の温度およ
び面状ヒータに対応する位置の温度を検出することがで
き、これら両ヒータの温度制御が可能な縦型熱処理装置
を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明のうち、請求項１
の発明は、多数枚の被処理体を高さ方向に所定間隔で配
列して処理容器内に収容し、該処理容器の周囲に設けた
高さ方向のゾーン制御が可能な筒状ヒータおよび処理容
器の上方に設けた面状ヒータにより被処理体を加熱して
所定の熱処理を施す縦型熱処理装置であって、前記ヒー
タの温度を制御すべく前記処理容器内に温度検出器を設
け、該温度検出器は処理容器内を高さ方向に立上がり且
つその上端から処理容器内の中心に向って横方向に延出
した保護管と、該保護管内に前記面状ヒータに対応する
位置および筒状ヒータの各ゾーンに対応する位置に配置
された熱電対とを有することを特徴とする。

【０００７】請求項２の発明は、請求項１に記載の縦型
熱処理装置において、前記面状ヒータが横方向のゾーン
制御が可能に構成されると共に、前記温度検出器の保護
管内には面状ヒータの各ゾーンに対応する位置に熱電対
が配置されていることを特徴とする。

【０００８】請求項３の発明は、多数枚の被処理体を高
さ方向に所定間隔で配列して処理容器内に収容し、該処
理容器の周囲に設けた高さ方向のゾーン制御が可能な筒
状ヒータおよび処理容器の上方に設けた面状ヒータによ
り被処理体を加熱して所定の熱処理を施す縦型熱処理装
置であって、前記ヒータの温度を制御すべく、処理容器
内に前記筒状ヒータのゾーンに対応する温度を検出する
第１の温度検出器を設けると共に、処理容器の上部の外
側から処理容器内の中心に向って横方向に挿入され面状
ヒータに対応する温度を検出する第２の温度検出器を設
けたことを特徴とする。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を添
付図面に基いて詳述する。図１は本発明の第１の実施の
形態を示す縦型熱処理装置の縦断面図、図２は同縦型熱
処理装置における温度検出器の一例を示す断面図であ
る。

【００１０】図１において、１は縦型熱処理装置で、こ
の縦型熱処理装置１は多数枚の被処理体例えば半導体ウ
エハｗを高さ方向に所定間隔で配列した状態で下方から
収容して所定の熱処理例えばＣＶＤ処理を施す熱処理炉
を構成する処理容器（プロセスチューブ）２を備えてい
る。この処理容器２は、耐熱性および耐食性を有する材
料例えば石英ガラスにより形成されている。

【００１１】処理容器２は、本実施の形態では、内管２
ａと外管２ｂの二重管構造になっている。内管２ａは上
端および下端が開放されている。外管２ｂは、上端が閉
塞され、下端が開放されている。なお、処理容器２は、
外管２ｂのみからなっていてもよい。

【００１２】処理容器２の下部には、本実施の形態で
は、処理容器２内に処理ガスや不活性ガスを導入するガ
ス導入部３と、処理容器２内を排気する排気部４とを有
する短円筒状のマニホールド５が設けられている。この
マニホールド５は、耐熱性および耐食性を有する材料例
えばステンレス鋼により形成されている。

【００１３】ガス導入部３には、ガス源に通じるガス供
給系の配管が接続される。排気部４には、真空ポンプお
よび圧力制御機構を有する排気系が接続され、処理容器
２内を所定の処理圧力に制御し得るようになっている。
この処理圧力に制御された状態で、ガス導入部３から導
入された処理ガスが処理容器２の内管２ａ内を上昇して
ウエハｗの所定の熱処理に供された後、内管２ａと外管
２ｂとの間の環状通路を下降して排気部４から排気され
るようになっている。

【００１４】前記マニホールド５の上端には、フランジ
部５ｆが形成されており、この上端フランジ部５ｆの上
面には、外管２ｂの下端フランジ部２ｆが載置され、フ
ランジ押え７により接合固定されている。マニホールド
５の上端フランジ部５ｆと外管２ｂの下端フランジ部２
ｆとの間には、図示しないシール手段例えばＯリングが
介設されている。マニホールド５の内側には、内管２ａ
を支持するための内管支持部８が設けられている。

【００１５】前記マニホールド５は、ベースプレート９
の下部に取付けられており、このベースプレート９の上
部には、処理容器２の周囲を取り囲み処理容器２内のウ
エハｗを所定の熱処理温度に加熱昇温するための筒状ヒ
ータ１０が設置されている。この筒状ヒータ１０は、例
えば処理容器２の周囲を取囲む図示しない筒状（円筒
状）の断熱材を備え、この筒状断熱材の内周に線状の抵
抗発熱体１１が螺旋状または蛇行状に配設されている。
前記筒状ヒータ１０は、高さ方向に複数のゾーン（領
域）Ｚ１〜Ｚ４に分けて温度制御が可能すなわちゾーン
制御が可能に構成されている。

【００１６】筒状ヒータ１０の筒状断熱材の上部には、
図示しない円板状の板状断熱材が被せられ（載置され）
ている。前記ヒータ１０の筒状断熱材の外側および板状
断熱材の上方は、金属板からなる覆いであるアウターシ
ェルにより覆われており、アウターシェルには水冷ジャ
ケットが設けられている（図示省略）。なお、筒状ヒー
タ１０は、内側を強制的に空冷する強制空冷式であって
もよく、強制空冷を行わない自然空冷式であってもよ
い。

【００１７】前記処理容器２の上方には、上方からの放
熱を防止しウエハｗを面内均一に加熱するために、水平
に面状ヒータ１２が設けられている。この面状ヒータ１
２は、抵抗発熱体を平面状に配線して構成されている。
面状ヒータ１２は、例えば前記板状断熱材の下に設けら
れている。なお、前記筒状ヒータ１０は、例えばカーボ
ンヒータのような棒状の抵抗発熱体を垂直状態で処理容
器２の周囲を取囲むように配設して構成されていてもよ
く、また、急速昇降温を可能とするために断熱材を使用
しないで直接冷却ジャケットの内側に取付けられていて
もよい。この場合、前記面状ヒータ１２は、冷却ジャケ
ットの天井に懸垂状態で取付けられる。

【００１８】処理容器２内に多数枚例えば１５０枚程度
の半導体ウエハｗを高さ方向に所定間隔で搭載保持する
ために、ウエハｗは保持具である例えば石英ガラス製の
ボート１３に保持され、このボート１３はマニホールド
５の下端開口部（炉口）を密閉する例えばステンレス鋼
製の蓋体１４の上部にボートサポート１５を介して載置
されている。

【００１９】このボートサポート１５は、ボート１３を
処理容器２内の熱処理領域に保持すべく蓋体１４の上部
中央より起立した回転支柱１６を有し、蓋体１４の下部
には回転支柱１６を回転駆動する駆動部１７が設けられ
ている。また、蓋体１４の上部には炉口断熱保温手段で
ある保温筒１８が設置され、この保温筒１８の軸心に前
記ボートサポート１５の回転支柱１６が回転可能に貫通
されている。前記処理容器２の下方には、蓋体１４を昇
降させて蓋体１４の開閉および処理容器２に対するボー
ト１３の搬入搬出を行うための昇降機構が設けられてい
ると共にその作業領域であるローディングエリア１９が
設けられている。マニホールド５の下端（開口端）と蓋
体１４との接合部には、シール手段である例えばＯリン
グが設けられている（図示省略）。

【００２０】そして、前記ヒータ１０，１２の温度を制
御するために、前記処理容器２内には温度検出器２０が
設けられている。この温度検出器２０は、図２にも示す
ように、処理容器２内を高さ方向に立上がり且つその上
端から処理容器内の中心に向って横方向に延出した例え
ば透明石英ガラス製の保護管２１と、この保護管２１内
に前記面状ヒータ１２に対応する位置（中心位置）およ
び筒状ヒータ１０の各ゾーンＺ１〜Ｚ４に対応する位置
に配置された熱電対２２…とを有している。

【００２１】前記保護管２０は、Ｌ字状の保護管本体部
２１ａと、この保護管本体部２１ａの上端から処理容器
２内の中心に向って横方向に分岐された分岐管部２１ｂ
とからなり、分岐管部２１ｂの先端は閉じている。保護
管２１の基端部２１ｃは、処理容器２の下側壁を貫通す
る状態に取付けられるために、横方向に折り曲げられて
いる。各熱電対２２…は、各熱電対の素線を通す例えば
アルミナセラミック製の絶縁管２３の先端部に配置され
ている。

【００２２】絶縁管２３は、保護管２１の屈曲部で屈曲
可能なように長手方向に複数に分割されている。先端に
熱電対を配置した各絶縁管２３は、保護管２１の基端部
２１ｃの開口端から保護管２１内に挿入される。なお、
保護管２１の屈曲部における絶縁管２３の挿通作業が困
難である場合には、直管状に形成した保護管２１内に、
先端に熱電対２２を有する絶縁管２３を挿入した後、保
護管２１を曲げ加工するようにしてもよい。

【００２３】熱電対２２の素線は、絶縁管２３と共に保
護管２１の基端部２１ｃの開口端から引き出され、補償
導線を介してヒータ１０，１２の温度を制御する制御部
３０の入力端子に接続されている。保護管２１内には、
熱電対２２…の酸化を防止すべく不活性ガスが充填さ
れ、保護管２１の基端部２１ｃの開口端は、封止剤２４
を充填することで封止されている。前記制御部３０は、
前記温度検出器２０により処理容器２内の温度を検出し
つつ、ヒータ１０，１２の供給電力を調節して処理容器
２内を予めプログラムされた処理温度にすべくプロセス
制御するように構成されている。

【００２４】次に、以上の構成からなる縦型熱処理装置
の作用を述べる。先ず、ウエハｗの移載が終了したボー
ト１３は、ローディングエリア１９において、蓋体１４
上のボートサポート１５上に載置される。次に、昇降機
構による蓋体１４の上昇によってボート１３を処理容器
２内にその下端開口（マニホールド５の下端開口部）か
ら搬入し、その開口を蓋体１４で気密に閉塞する。そし
て、処理容器２内を、排気部４からの排気系による減圧
排気により所定の圧力ないし真空度に制御すると共にヒ
ータ１０，１２に電力を供給して所定の処理温度に制御
し、ボートサポート部１５によりボート１３を回転させ
ながらガス導入部３より処理ガスを処理容器２内に導入
してウエハｗに所定の熱処理例えばＣＶＤ処理を開始す
る。

【００２５】所定の熱処理が終了したなら、先ず、ヒー
タ１０，１２の電力を落とし、場合によってはヒータ１
０内を強制空冷し、処理ガスの導入を停止して不活性ガ
スの導入により処理容器２内をパージする。次に、ボー
トサポート１５の回転を停止し、蓋体１４を下降させて
処理容器２内を開放すると共にボート１３をローディン
グエリア１９に搬出すればよい。

【００２６】このように前記縦型熱処理装置１によれ
ば、多数枚のウエハｗを高さ方向に所定間隔で配列して
処理容器２内に収容し、この処理容器２の周囲に設けた
高さ方向のゾーン制御が可能な筒状ヒータ１０および処
理容器２の上方に設けた面状ヒータ１２によりウエハｗ
を加熱して所定の熱処理を施す縦型熱処理装置１であっ
て、前記ヒータ１０，１２の温度を制御すべく前記処理
容器２内に温度検出器２０を設け、この温度検出器２０
は処理容器２内を高さ方向に立上がり且つその上端から
処理容器２内の中心に向って横方向に延出した保護管２
１と、この保護管２１内に前記面状ヒータ１２に対応す
る位置および筒状ヒータ１０の各ゾーンＺ１〜Ｚ４に対
応する位置に配置された熱電対２２…とを有するため、
一本の温度検出器２０で筒状ヒータ１０の各ゾーンＺ１
〜Ｚ４に対応する位置の温度および面状ヒータ１２に対
応する位置の温度を検出することが可能となり、これら
両ヒータ１０，１２の温度制御が可能となる。

【００２７】図３は本発明の第２の実施の形態を示す要
部斜視図である。図３の実施の形態では、前記面状ヒー
タ１２が同心円状の複数のゾーンＺａ〜Ｚｃに分けて温
度制御が可能すなわちゾーン制御が可能に構成されてい
る。そして、温度検出器２０にあっては、保護管２１内
に面状ヒータ１２の各ゾーンＺａ〜Ｚｃに対応する位置
に熱電対２２…が配置されて構成されている。具体的に
は、保護管２１の分岐管部２１ｂ内に、面状ヒータ１２
の各ゾーンＺａ〜Ｚｃに対応する位置に熱電対２２…が
配置されている。したがって、図３の実施の形態によれ
ば、前記面状ヒータ１２が同心円状のゾーン制御が可能
に構成されると共に、前記温度検出器２０の保護管２１
内には面状ヒータ１２の各ゾーンＺａ〜Ｚｃに対応する
位置に熱電対２２…が配置されているため、面状ヒータ
１２の各ゾーンＺａ〜Ｚｃに対応する位置の温度を検出
することが可能となり、すなわち、ウエハ面内方向の温
度分布を検出することが可能となり、ウエハｗを面内均
一に加熱すべく面状ヒータ１２のゾーン制御が可能とな
る。

【００２８】図４は本発明の第３の実施の形態を示す縦
型熱処理装置の概略的縦断面図である。図４の実施の形
態において、図１の実施の形態と同一部分は、同一参照
符号を付して説明を省略する。図４の実施の形態におい
ては、ヒータ１０，１２の温度を制御するために、処理
容器２内に筒状ヒータ１０の各ゾーンＺ１〜Ｚ４に対応
する温度を検出可能な第１の温度検出器２０Ａが設けら
れると共に、処理容器２の上部の外側から処理容器２内
の中心に向って横方向に挿入され面状ヒータ１２に対応
する温度を検出する第２の温度検出器２０Ｂが設けられ
ている。

【００２９】第１の温度検出器２０Ａは、従来の温度検
出器と同様、処理容器２内を高さ方向に立上がる直管か
らなる保護管２１と、この保護管２１内に筒状ヒータ１
０の各ゾーンＺ１〜Ｚ４に対応する位置に配置された熱
電対２２…とを有する構造になっている。一方、第２の
温度検出器２０Ｂは、処理容器２と筒状ヒータ１０との
間を下方から上方すなわち高さ方向に立上がり且つその
上端から処理容器２内の中心に向って横方向に延出した
保護管２１と、この保護管２１内に前記面状ヒータ１２
に対応する位置に配置された熱電対２２とを有する構造
になっている。

【００３０】具体的には、保護管２１は、処理容器２と
筒状ヒータ１０との間を高さ方向に起立して設けられる
直管状の保護管本体部２１ａと、この保護管本体２１ａ
部の上端から処理容器２内の中心に向って横方向に分岐
された分岐管部２１ｂとからなり、この分岐管部２１ｂ
内のみに熱電対２２が設けられている。処理容器２の上
側壁には、前記保護管２１の先端部（分岐管部２１ｂ）
を挿入するためおよび処理容器２の気密性を確保するた
めに鞘状の挿入部２５が形成されていることが好まし
い。なお、前記面状ヒータ１２が同心円状のゾーン制御
が可能に構成されている場合には、前記保護管２１の分
岐管部２１ｂ内には、面状ヒータ１２の各ゾーンに対応
する位置に熱電対２２…が配置されていることが好まし
い。

【００３１】図４の実施の形態によれば、多数枚のウエ
ハｗを高さ方向に所定間隔で配列して処理容器２内に収
容し、この処理容器２の周囲に設けた高さ方向のゾーン
制御が可能な筒状ヒータ１０および処理容器２の上方に
設けた面状ヒータ１２によりウエハｗを加熱して所定の
熱処理を施す縦型熱処理装置１であって、前記ヒータ１
０，１２の温度を制御すべく、処理容器２内に前記筒状
ヒータ１０のゾーンＺ１〜Ｚ４に対応する温度を検出す
る第１の温度検出器２０Ａを設けると共に、処理容器２
の上部の外側から処理容器２内の中心に向って横方向に
挿入され面状ヒータ１２に対応する温度を検出する第２
の温度検出器２０Ｂを設けているため、筒状ヒータ１０
の各ゾーンＺ１〜Ｚ４に対応する位置の温度および面状
ヒータ１２に対応する位置（中心位置）の温度をそれぞ
れ検出することができ、これら両ヒータ１０，１２の温
度制御が可能となる。

【００３２】図５は図４の実施の形態の変形例を示す縦
型熱処理装置の概略的縦断面図である。図５の実施の形
態において、図４の実施の形態と同一部分は、同一参照
符号を付して説明を省略する。図５の実施の形態におい
ては、第２の温度検出器２０Ｂが、処理容器２の上部に
半径方向外方から処理容器２内の中心に向って挿入され
る水平方向に直管状の保護管２１を有しており、この保
護管２１の閉じられた先端側が筒状ヒータ１３を側方か
ら貫通して、処理容器２の上側壁に形成された鞘状の挿
入部２５に挿入されている。

【００３３】また、処理容器２の上方に設けられた面状
ヒータ１２は、同心円状にゾーン制御が可能に構成され
ており、前記第２の温度検出器２０Ｂの保護管２１内に
は面状ヒータ１２の各ゾーンＺａ〜Ｚｃに対応する位置
に熱電対２２…が配置されている。図５の実施の形態に
おいても、図４の実施の形態と同様の効果を奏すること
ができる。

【００３４】以上、本発明の実施の形態を図面により詳
述してきたが、本発明は前記実施の形態に限定されるも
のではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲での種々の
設計変更等が可能である。例えば、前記実施の形態で
は、熱処理の一例としてＣＶＤ処理が例示されている
が、本発明の縦型熱処理装置は、ＣＶＤ処理以外に、例
えば拡散処理、酸化処理、アニール処理等を行うことが
可能である。また、前記実施の形態では、処理容器にマ
ニホールドを備えた縦型熱処理装置が例示されている
が、本発明の縦型熱処理装置は、処理容器にマニホール
ドを備えていなくてもよい。また、被処理体としては、
半導体ウエハ以外に、例えばＬＣＤ基板やガラス基板等
であってもよい。

【００３５】

【発明の効果】以上要するに本発明によれば、次のよう
な効果を奏することができる。

【００３６】（１）請求項１の発明によれば、多数枚の
被処理体を高さ方向に所定間隔で配列して処理容器内に
収容し、該処理容器の周囲に設けた高さ方向のゾーン制
御が可能な筒状ヒータおよび処理容器の上方に設けた面
状ヒータにより被処理体を加熱して所定の熱処理を施す
縦型熱処理装置であって、前記ヒータの温度を制御すべ
く前記処理容器内に温度検出器を設け、該温度検出器は
処理容器内を高さ方向に立上がり且つその上端から処理
容器内の中心に向って横方向に延出した保護管と、該保
護管内に前記面状ヒータに対応する位置および筒状ヒー
タの各ゾーンに対応する位置に配置された熱電対とを有
するため、一本の温度検出器で筒状ヒータの各ゾーンに
対応する位置の温度および面状ヒータに対応する位置の
温度を検出することができ、これら両ヒータの温度制御
が可能となる。

【００３７】（２）請求項２の発明によれば、請求項１
に記載の縦型熱処理装置において、前記面状ヒータが同
心円状のゾーン制御が可能に構成されると共に、前記温
度検出器の保護管内には面状ヒータの各ゾーンに対応す
る位置に熱電対が配置されているため、面状ヒータの各
ゾーンに対応する位置の温度を検出することができ、面
状ヒータのゾーン制御が可能となる。

【００３８】（３）請求項３の発明によれば、多数枚の
被処理体を高さ方向に所定間隔で配列して処理容器内に
収容し、該処理容器の周囲に設けた高さ方向のゾーン制
御が可能な筒状ヒータおよび処理容器の上方に設けた面
状ヒータにより被処理体を加熱して所定の熱処理を施す
縦型熱処理装置であって、前記ヒータの温度を制御すべ
く、処理容器内に前記筒状ヒータのゾーンに対応する温
度を検出する第１の温度検出器を設けると共に、処理容
器の上部の外側から処理容器内の中心に向って横方向に
挿入され面状ヒータに対応する温度を検出する第２の温
度検出器を設けているため、筒状ヒータの各ゾーンに対
応する位置の温度および面状ヒータに対応する位置の温
度をそれぞれ検出することができ、これら両ヒータの温
度制御が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態を示す縦型熱処理装
置の縦断面図である。

【図２】同縦型熱処理装置における温度検出器の一例を
示す断面図である。

【図３】本発明の第２の実施の形態を示す要部斜視図で
ある。

【図４】本発明の第３の実施の形態を示す縦型熱処理装
置の概略的縦断面図である。

【図５】図４の実施の形態の変形例を示す縦型熱処理装
置の概略的縦断面図である。

【符号の説明】

ｗ 半導体ウエハ（被処理体） １ 縦型熱処理装置 ２ 処理容器 １０ 筒状ヒータ １２ 面状ヒータ ２０ 温度検出器 ２０Ａ 第１の温度検出器 ２０Ｂ 第２の温度検出器 ２１ 保護管 ２２ 熱電対

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長内 長栄 神奈川県津久井郡城山町町屋１丁目２番41 号 東京エレクトロン東北株式会社相模事 業所内 Ｆターム(参考） 4K030 CA04 CA12 FA10 HA13 KA04 KA24 KA39 KA41 5F045 AA03 AA20 DP19 DQ05 EK06 GB05

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 多数枚の被処理体を高さ方向に所定間隔
   で配列して処理容器内に収容し、該処理容器の周囲に設
   けた高さ方向のゾーン制御が可能な筒状ヒータおよび処
   理容器の上方に設けた面状ヒータにより被処理体を加熱
   して所定の熱処理を施す縦型熱処理装置であって、前記
   ヒータの温度を制御すべく前記処理容器内に温度検出器
   を設け、該温度検出器は処理容器内を高さ方向に立上が
   り且つその上端から処理容器内の中心に向って横方向に
   延出した保護管と、該保護管内に前記面状ヒータに対応
   する位置および筒状ヒータの各ゾーンに対応する位置に
   配置された熱電対とを有することを特徴とする縦型熱処
   理装置。
2. 【請求項２】 前記面状ヒータが横方向のゾーン制御が
   可能に構成されると共に、前記温度検出器の保護管内に
   は面状ヒータの各ゾーンに対応する位置に熱電対が配置
   されていることを特徴とする請求項１に記載の縦型熱処
   理装置。
3. 【請求項３】 多数枚の被処理体を高さ方向に所定間隔
   で配列して処理容器内に収容し、該処理容器の周囲に設
   けた高さ方向のゾーン制御が可能な筒状ヒータおよび処
   理容器の上方に設けた面状ヒータにより被処理体を加熱
   して所定の熱処理を施す縦型熱処理装置であって、前記
   ヒータの温度を制御すべく、処理容器内に前記筒状ヒー
   タの各ゾーンに対応する温度を検出可能な第１の温度検
   出器を設けると共に、処理容器の上部の外側から処理容
   器内の中心に向って横方向に挿入され面状ヒータに対応
   する温度を検出する第２の温度検出器を設けたことを特
   徴とする縦型熱処理装置。