JP2002093338A - ブラウン管用シャドウマスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 カラーブラウン管の蛍光面上に略長方形のビ
ームスポットを一様に形成するためのシャドウマスクを
提供する。 【解決手段】 ブラウン管の蛍光面上に略長方形のビー
ムスポットを形成するための多数のスロット１０からな
るブラウン管用シャドウマスクにおいて、そのスロット
１０は、電子ビームが入射する側の略長方形の裏側孔部
２と、電子ビームが出射する側の略長方形の表側孔部３
と、裏側孔部２の側壁４、…、７および表側孔部３の側
壁１４、…、１７で形成される稜線部とを有し、裏側孔
部２の端部から稜線部までの断面高さであって、スロッ
ト１０の長尺方向両側における断面高さと、スロット１
０の短尺方向両側における断面高さとの差を０〜１０μ
ｍの範囲内にしたことによって、上記課題を解決する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーブラウン管
の蛍光面上に略長方形のビームスポットを一様に形成す
るために、形成されるスロットの稜線部の断面高さを均
一化したブラウン管用シャドウマスクに関する。

【０００２】

【従来の技術】図７は、多数のスロットからなるカラー
ブラウン管用シャドウマスク７１の全体図である。シャ
ドウマスク７１は、スロット形成部７２とスカート部７
３とから構成されている。スロットを通過する電子ビー
ムは、その中央部２２においてはスロットに対して真っ
直ぐに入射し、Ａ〜Ｈの各領域を含む外周部２１におい
てはスロットに対して斜めに入射する。そのため、シャ
ドウマスクは、形成されるスロットの位置に応じてスロ
ットを構成する表側孔部の形成位置と裏側孔部の形成位
置とが調整されている。

【０００３】図８は、シャドウマスクの各部に形成され
るスロット８１を構成する略長方形の表側孔部８３と略
長方形の裏側孔部８２との位置関係を示す概略図であ
る。スロット８１は、電子ビーム８４が入射する側の裏
側孔部８２と、電子ビーム８４が出射する側にその通過
の邪魔にならないように形成される大面積の表側孔部８
３と、裏側孔部８２の側壁と表側孔部８３の側壁とで形
成される稜線部９１、９２（図９を参照。）とから構成
されている。

【０００４】シャドウマスクの中央部２２のスロット８
１は、図８（i）に示すように、表側孔部８３が裏側孔
部８２を略中央に配置するように形成される。一方、シ
ャドウマスクの外周部２１、例えば図７に示すＹ座標軸
上のＡ領域、Ｘ座標軸上のＣ領域および対角座標軸上の
Ｅ領域のスロット８１は、図８の（ii）（iii）（iv）
にそれぞれ示すように、表側孔部８３が、スロット８１
に対して斜めに入射する電子ビーム８４の通過の邪魔に
ならないように、裏側孔部８２に対してシャドウマスク
６１の外周側にシフトするように形成される。

【０００５】このような形態で形成されるスロット８１
のうち、特にシャドウマスク７１の外周部２１に形成さ
れるスロットにおいては、斜めに入射する電子ビーム８
４がスロット８１の側壁で遮断されてしまい、その結
果、電子ビーム８４をブラウン管の蛍光面上に所定の形
状でランディングさせることができないという問題があ
った。図９は、こうした問題を説明する概略図である。

【０００６】図９（i）は、図７のＸ座標軸上のＣ領域
に形成されるスロット８１の形状を示ている。このスロ
ット８１は、表側孔部８３を裏側孔部８２に対して外周
側にシフトするように形成される。このとき、スロット
８１の中心部Ａを通過する電子ビーム８４は、図９（ii
i）の断面図に示すように、薄肉の稜線部９１、９２
（ステップともいう。以下同じ。）が形成された側壁９
３、９４の間を所望の幅Ｗで通過することができる。こ
れに対し、スロット８１の長尺方向の上端部Ｂを通過す
る電子ビーム８４は、図９（iv）の断面図に示すよう
に、厚肉の稜線部９１、９２が形成された側壁９３、９
４によって遮断され、所望の幅Ｗで通過することができ
なくなる。

【０００７】このように、スロット８１の中心部Ａと長
尺方向の上端部Ｂとで側壁の形状、特に裏側孔部８２の
端部９５、９６から稜線部９１、９２までの断面高さ、
が異なるのは、表側孔部８３と裏側孔部８２との位置関
係に起因するエッチング進行速度の相違によるものであ
る。すなわち、スロットの中心部Ａでは、表側孔部８３
からのエッチング進行速度が大きくなるので、断面高さ
の小さい稜線部９１、９２が形成される。これに対し
て、スロットの上端部Ｂでは、表側孔部８３からのエッ
チング進行速度が小さくなるので、相対的に裏側孔部８
２からのエッチングが進行して断面高さの大きい稜線部
９１、９２が形成される。

【０００８】このような形態のスロット８１において
は、入射した電子ビーム８４がスロット８１の長尺方向
両側に形成された断面高さの大きい稜線部９１、９２で
遮断される。その結果、スロット８１を通過して蛍光面
上にランディングする電子ビーム８４のスポット８０
は、図９（iii）に示すように、スポット８０の長尺方
向両側がブラウン管の蛍光面の中央を通るＹ座標軸に近
づくように湾曲した形状になるという問題があった。そ
して、こうしたスポット８０の変形は、電子ビーム８４
の入射角が大きいときほど、すなわち前記のＹ座標軸か
ら離れて左右方向に向かうほど大きくなるという問題が
あった。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】従来、上述した問題に
対しては、特開平１−３２０７３８号公報、特開平２−
８６０２７号公報および本出願人の先行出願において検
討されている。これらの先行技術では、断面高さの小さ
い稜線部と断面高さの大きい稜線部の関係はそのままに
して、スロット８１に形成される貫通孔（以下「孔部」
という。）の形状を変化させることによって解決してい
る。

【００１０】すなわち、特開平１−３２０７３８号公報
および特開平２−８６０２７号公報においては、スロッ
トの孔部を、図１０（ａ）に示すように、シャドウマス
クの中央を通るＹ座標軸から離れる側の稜線部９２のう
ちスロットの長尺方向両側付近の稜線部９２を膨らませ
た形状とすることによって上記の問題を解決している。
このとき、スロットの孔部の長尺方向両側は、一方の場
合と両方の場合（図１０（ａ）を参照。）が開示されて
いる。また、本出願人の先行出願においては、裏側孔部
８２の端部９５、９６と稜線部９１、９２の位置関係を
さらに詳細に検討し、スロットの孔部全体を、図１０
（ｂ）に示すように、裏側孔部８２の長尺方向両側がＹ
座標軸から遠ざかるように湾曲して形成することによっ
て上記の問題を解決している。

【００１１】しかしながら、上述の従来の先行技術にお
いては、シャドウマスク上のスロット形成位置に応じ
て、孔部の形状を湾曲させたり、孔部の長尺方向の両側
付近を膨らませたりすることとなるので、複雑な設計が
要求される。しかも、シャドウマスク上のスロット形成
位置に応じて、膨らませる程度や湾曲の程度を調整する
必要がある。

【００１２】また、蛍光面のアールが異なるブラウン管
（例えばフラット形ブラウン管）やインチサイズの異な
るブラウン管に対しては、電子ビームの入射角度がそれ
ぞれ異なることとなる。そのため、シャドウマスクの製
造において、同じエッチングパターンを援用できないと
いう不都合もある。

【００１３】本発明は、上記問題を解決したものであっ
て、カラーブラウン管の蛍光面上に略長方形のビームス
ポットを一様に形成するためのブラウン管用シャドウマ
スクを提供するものである。

【００１４】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、ブラ
ウン管の蛍光面上に略長方形のビームスポットを形成す
るための多数のスロットからなるブラウン管用シャドウ
マスクにおいて、前記スロットは、電子ビームが入射す
る側の略長方形の裏側孔部と、該電子ビームが出射する
側の略長方形の表側孔部と、該裏側孔部の側壁および該
表側孔部の側壁で形成される稜線部とを有し、前記裏側
孔部の端部から前記稜線部までの断面高さであって、前
記スロットの長尺方向両側における断面高さＨと、該ス
ロットの短尺方向両側における断面高さｈとの差が、０
〜１０μｍの範囲内であることに特徴を有する。

【００１５】この発明によれば、スロットの長尺方向両
側における稜線部の断面高さＨとスロットの短尺方向両
側における稜線部の断面高さｈとの差が０〜１０μｍの
範囲内であるので、裏側孔部の側壁および表側孔部の側
壁によって形成される稜線部までの断面高さｈ、Ｈが、
スロット全域に渡ってほぼ均一となる。そのため、本発
明のシャドウマスクに形成されるスロットは、ブラウン
管の蛍光面上にランディングするスポットの長手方向の
両端が欠けないように、長尺方向両側付近を通過する電
子ビームを通過させることができる。こうした本発明の
シャドウマスクによれば、略長方形のスポットをブラウ
ン管の蛍光面上の所定の位置に一様に形成することがで
きる。さらに、シャドウマスク上のスロット形成位置に
応じて、スロットの形状を湾曲させたり、スロットの孔
部の長尺方向の両側付近を膨らませたりする必要もな
い。そのため、複雑な設計が不要となる。

【００１６】請求項２の発明は、請求項１に記載のブラ
ウン管用シャドウマスクにおいて、前記範囲内の断面高
さＨと断面高さｈとの差を有するスロットが、該シャド
ウマスクの全域において形成されていることに特徴を有
する。

【００１７】この発明によれば、前記の範囲内の断面高
さＨと断面高さｈとの差を有するスロットが、シャドウ
マスクの全域において形成されているので、略長方形の
スポットをブラウン管全域の蛍光面上の所定の位置に一
様に形成することができる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明について図面を参照
しつつ説明する。

【００１９】図１は、本発明のブラウン管用シャドウマ
スク（以下「シャドウマスク」という。）の中央部２２
に形成されたスロット１０の一例を示す正面図であり、
図２は、図１のスロット１０の短尺方向のＡ１−Ａ１断
面図（i）と短尺方向のＢ１−Ｂ１断面図（ii）であ
り、図３は、図１のスロット１０の長尺方向のＣ１−Ｃ
１断面図である。また、図４は、本発明のシャドウマス
クの周辺部２１に形成されたスロット２０の一例を示す
正面図であり、図５は、図４のスロット２０の短尺方向
のＡ２−Ａ２断面図（i）と短尺方向のＢ２−Ｂ２断面
図（ii）であり、図６は、図４のスロット２０の長尺方
向のＣ２−Ｃ２断面図である。

【００２０】本発明のシャドウマスクは、金属薄板をエ
ッチングすることによって形成され、スロットタイプの
孔部が形成されるシャドウマスクに共通する所定のパタ
ーンを有するものである。シャドウマスクは、図７に示
すように、スロット１０、２０が形成されているスロッ
ト形成部７２と、スロット１０、２０が形成されていな
いスカート部７３とから構成される。こうしたシャドウ
マスクは、ブラウン管に装着されて、磁気シールドのた
め、およびブラウン管の蛍光面に略長方形のビームスポ
ットを形成するために使用される。

【００２１】スロット１０、２０は、図１と図４に示す
ように、カラーブラウン管の蛍光面上に略長方形のビー
ムスポットを一様に形成するための略長方形の孔部３０
を有するものである。そして、そのスロット１０、２０
は、電子ビーム２９が入射する側の略長方形の裏側孔部
２と、電子ビーム２９が出射する側の略長方形の表側孔
部３と、裏側孔部２の側壁４、…、７および表側孔部３
の側壁１４、…、１７によって形成される稜線部２４、
…、２７とを有してなるものである。表側孔部３は、電
子ビーム２９の通過の邪魔にならないように、裏側孔部
２よりも著しく大きな面積でエッチングされている。こ
うしたスロット１０、２０は、電子ビーム２９の一部を
裏側孔部２の端部３１、…、３４や側壁４、…、７によ
り遮光して、略長方形のビームスポットをブラウン管の
蛍光面上の所定の位置に所定の大きさで形成させること
ができる。

【００２２】スロット１０、２０を構成する裏側孔部２
と表側孔部３の位置関係は、図１と図４に示すように、
電子ビーム２９の入射角度と入射方向を考慮して設定さ
れ、シャドウマスクの周辺部２１と中央部２２とでは異
なる。さらに、同じ周辺部２１であっても、その位置関
係は、Ｘ座標軸、Ｙ座標軸および対角座標軸の各部で異
なる。こうした位置関係の相違は、電子ビーム２９が、
表側孔部３の側壁１４、…、１７のうち、シャドウマス
ク外周側の側壁にかかる部分で遮光されるのを防いだも
のである。位置関係が調整されたスロット１０、２０
は、略長方形のビームスポットをブラウン管の蛍光面上
の所定の位置に所定の大きさで形成することができる。

【００２３】具体的には、図１と図４に示すように、シ
ャドウマスクの中央部２２の形成されるスロット１０に
おいては、スロット１０に向かって電子ビーム２９がほ
ぼ真っ直ぐに入射する。そのため、裏側孔部２の中心位
置Ｎと表側孔部３の中心位置Ｍはほぼ同じであればよ
い。一方、シャドウマスクの周辺部２１に形成されたス
ロット２０においては、スロット２０に向かって電子ビ
ーム２９が斜めに入射する。そのため、裏側孔部２の中
心位置Ｎと表側孔部３の中心位置Ｍは、そのスロット２
０が形成されるＡ〜Ｈの各領域（図３を参照。）によっ
て変化させる必要がある。つまり、スロット２０がシャ
ドウマスクの中心からどの方向に形成されるかによっ
て、そのスロット２０の表側孔部３は、裏側孔部２に対
してシャドウマスク外周側にシフトするように形成され
る。さらに、スロット２０を形成する位置が中心部２２
から周辺部２１に向かうにしたがって、そのスロット２
０の表側孔部３は、裏側孔部２に比べて徐々にシャドウ
マスク外周側にシフトするように形成される。こうする
ことによって、電子ビーム２９が、スロット２０の表側
孔部３によって必要以上に遮光されるのを防ぐことがで
きる。

【００２４】本発明は、上述の位置関係となるように裏
側孔部２と表側孔部３が形成されたスロット１０、２０
を有するシャドウマスクにおいて、スロット１０、２０
の長尺方向両側における稜線部２６、２７の断面高さＨ
と、スロット１０、２０の短尺方向両側における稜線部
２４、２５断面高さｈとの差を０〜１０μｍ、好ましく
は０〜５μｍの範囲内とすることによって所期の目的を
達成する。なお、「断面高さ」とは、裏側孔部２の端部
３１、…、３４から稜線部２４、…、２７までの高さを
いい、「稜線部」とは、裏側孔部２の側壁４、…、７
と、表側孔部３の側壁１４、…、１７とが厚さ方向の中
間部分において接触する部分をいう。

【００２５】先ず、シャドウマスクの中央部２２に形成
されるスロット１０の形態について説明する。

【００２６】シャドウマスクの中央部２２に形成される
スロット１０は、図１〜図３に示すように、略長方形の
裏側孔部２が略長方形の表側孔部３の中心に位置するよ
うに形成される。従って、裏側孔部２の開孔中心Ｎと表
側孔部３の開孔中心Ｍはそれぞれ一致し、図２の短尺方
向と図３の長尺方向の両方において、エッチングによっ
て形成されるスロット１０の断面形状は左右対称であ
る。

【００２７】このスロット１０の短尺方向両側の稜線部
２４、２５の断面高さｈ１、…、ｈ４（以下、これらを
総称するときは「断面高さｈ」という。）は、図２
（i）に示す孔部中央の断面高さｈ１、ｈ２および図２
（ii）に示す孔部下側の断面高さｈ３、ｈ４の何れにお
いても、ほぼ同じ高さである。その断面高さｈは、シャ
ドウマスクのインチサイズや板厚によって任意に設定さ
れ形成されるが、一般的な２５インチ用から２９インチ
用として使用される板厚０．２０〜０．２５ｍｍのシャ
ドウマスクにおいては、２０〜４５μｍの範囲内で断面
高さｈが設定され形成される。そして、設定された断面
高さｈのバラツキは、−５〜＋５μｍの範囲である。

【００２８】また、スロット１０の長尺方向両側の稜線
部２６、２７においても、その断面高さＨ１、Ｈ２（以
下、これらを総称するときは「断面高さＨ」という。）
は、ほぼ同じ高さである。この断面高さＨは、上述した
短尺方向両側の稜線部２４、２５の断面高さｈとの差が
０〜１０μｍ、好ましくは０〜５μｍの範囲内となるよ
うに形成することが好ましい。従って、長尺方向両側の
稜線部２６、２７の断面高さＨは、短尺方向両側の稜線
部２４、２５の断面高さｈに基づいて設定され形成され
る。なお、製造上の容易さを考慮すると、断面高さＨ
は、断面高さｈよりも０〜＋１０μｍ、好ましくは０〜
＋５μｍである。

【００２９】従って、シャドウマスクの中央部２２に形
成されるスロット１０において、その孔部３０を構成す
る稜線部２４、…、２７の断面高さｈ、Ｈは、稜線部全
周に渡って０〜１０μｍ、好ましくは０〜５μｍの範囲
内である。

【００３０】次に、シャドウマスクの周辺部２１に形成
されるスロット２０の形態について説明する。

【００３１】シャドウマスクの周辺部２１であるＥ領域
（図７を参照。）に形成されるスロット２０は、図４〜
図６に示すように、略長方形の表側孔部３が略長方形の
裏側孔部２の形成位置からシャドウマスク外周側にシフ
トするように形成される。従って、裏側孔部２の開孔中
心Ｎと表側孔部３の開孔中心Ｍは一致せず、図５の短尺
方向と図６の長尺方向の両方においても、エッチングに
よって形成されるスロット２０の断面形状が左右対称に
ならない形態となる。

【００３２】このスロット２０の短尺方向両側の稜線部
２４、２５の断面高さｈは、図５（i）に示す孔部中央
の断面高さｈ１、ｈ２および図５（ii）に示す孔部下側
の断面高さｈ３、ｈ４の何れにおいても、ほぼ同じ高さ
である。そして、その断面高さｈは、上述の中央部２２
のスロット１０における断面高さｈと同じ範囲内、すな
わち２０〜４５μｍの範囲内で設定され形成される。そ
して、設定された断面高さｈのバラツキも上記同様−５
〜＋５μｍの範囲である。

【００３３】また、スロット２０の長尺方向両側の稜線
部２６、２７においても、その断面高さＨ１、Ｈ２はほ
ぼ同じ高さである。この断面高さＨも、上述の中央部２
２のスロット１０における断面高さＨと同様に、短尺方
向両側の稜線部２４、２５の断面高さｈとの差が０〜１
０μｍ、好ましくは０〜５μｍの範囲内となるように形
成されることが好ましい。なお、製造上の容易さを考慮
すると、断面高さＨは、断面高さｈよりも０〜＋１０μ
ｍ、好ましくは０〜＋５μｍである。

【００３４】従って、シャドウマスクの周辺部２１に形
成されるスロット２０において、その孔部３０を構成す
る稜線部２４、…、２７の断面高さｈ、Ｈは、稜線部全
周に渡って０〜１０μｍの範囲内である。

【００３５】以上説明したように、本発明のシャドウマ
スクにおいては、そこに形成されるスロット１０、２０
の長尺方向両側における稜線部２６、２７の断面高さＨ
と、スロット１０、２０の短尺方向両側における稜線部
２４、２５の断面高さｈとの差が０〜１０μｍ、好まし
くは０〜５μｍの範囲内にある。しかも、その断面高さ
Ｈ、ｈは、スロット全域に渡ってほぼ均一となってい
る。そのため、本発明のシャドウマスクに形成されるス
ロット１０、２０は、通過させるべき電子ビーム２９の
一部が、孔部３０を構成する側壁４、…、７、１４、
…、１７および稜線部２４、…、２７で遮光されること
なく、電子ビーム２９を一様に通過させることができ
る。

【００３６】断面高さＨと断面高さｈとの差が１０μｍ
を超えると、通過させるべき電子ビーム２９の一部が、
孔部３０を構成する側壁４、…、７、１４、…、１７お
よび稜線部２４、…、２７で遮光されることがあり、電
子ビーム２９を一様に通過させることができなくなるこ
とがある。

【００３７】こうしたスロット１０、２０を有するシャ
ドウマスクは、スロット１０、２０の孔部形状とほぼ同
じ略長方形となる電子ビーム２９のスポットを、ブラウ
ン管の蛍光面上の所定の位置にランディングさせること
ができる。本発明のシャドウマスクを使用したカラーブ
ラウン管は、蛍光面全域に渡って所望の輝度とすること
ができると共に、Ｒ、Ｇ、Ｂの発光むらもない。特に、
断面高さＨと断面高さｈとの差を５μｍ以下にした場合
には、輝度と色むら度合いにおいて極めて安定で優れた
ものとすることができる。

【００３８】また、本発明においては、断面高さＨと断
面高さｈが上述した範囲内となるスロットを、シャドウ
マスクの全域において形成することが好ましい。こうし
た形態のシャドウマスクは、形成されたスポット形状と
ほぼ同じ形状のスポットをブラウン管全域の蛍光面上の
所定の位置に一様に形成することができる。

【００３９】なお、断面高さＨ、ｈを、シャドウマスク
の板厚に対して約１０〜１８％にすると、シャドウマス
クをプレスする際に大きなプレス圧力が加わったとして
も、稜線部２４、…、２７が曲がったり欠けたりするこ
とがない。

【００４０】次に、本発明のシャドウマスクの製造方法
について説明する。

【００４１】シャドウマスクは、スロットタイプのシャ
ドウマスクに使用される所定パターンを有するフォトマ
スクを使用することによって、従来公知の方法で形成す
ることができる。通常、フォトエッチング工程を有する
連続したインライン装置で製造される。例えば、先ず、
金属薄板の両面に水溶性コロイド系フォトレジスト等を
塗布し、乾燥させる。その後、その表面に表側孔部３用
のパターンを形成したフォトマスクを密着させ、裏側に
裏側孔部２用のパターンを形成したフォトマスクを密着
させ、高圧水銀等の紫外線によって露光し、水で現像す
る。

【００４２】レジスト膜画像で周囲がカバーされた金属
露出状態のスロット部分は、所定の条件に調節されたエ
ッチング液が吹き付けられることによって、上述した特
有の形状で形成される。特に、本発明のシャドウマスク
を製造するにあたっては、例えば、４７．８Ｂｅ′の塩
化第二鉄水溶液を用い、温度６８℃・噴射圧力３ｋｇ／
ｃｍ² の条件で、各方向の断面高さが均一になるように
吹き付けることによって、上述した所定の範囲内の断面
高さを有する特有のスロット形態を一定のバラツキの範
囲内で形成することができる。このとき、エッチング液
の液はけを良くするようにすることによって、各方向の
断面高さを均一にできる。なお、エッチングは、熱処理
等された後、両面側から塩化第二鉄溶液をスプレー状に
噴射させて行われる。その後、水洗い、剥離等の後工程
を連続的に行うことによってシャドウマスクが製造され
る。

【００４３】こうした製造方法によって、例えば、２９
インチカラーブラウン管用シャドウマスクを製造した。

【００４４】板厚０．２２ｍｍのＦｅ−Ｎｉ合金の薄板
を用い、シャドウマスクの各部において、約５５０×７
５０μｍの略長方形の表側孔部３と、約１８０×６００
μｍの略長方形の裏側孔部２とからなるスロットを形成
した。このとき、エッチング条件としては、４７．８Ｂ
ｅ′の塩化第二鉄水溶液を用い、温度６８℃・噴射圧力
３ｋｇ／ｃｍ² の条件で、各方向の断面高さが均一にな
るように吹き付けた。図１〜図３で示したような中央部
２２での断面高さｈ１、…、ｈ４は３２μｍ±約３μｍ
であり、断面高さＨ１、Ｈ２は３６μｍ±約４μｍであ
った。また、図４〜図６で示したような周辺部２１での
断面高さｈ１、…、ｈ４は３３μｍ±約３μｍであり、
断面高さＨ１、Ｈ２は３８μｍ±約４μｍであった。こ
うして得られたシャドウマスクは、その何れのスロット
においても、断面高さＨと断面高さｈとの差が、全ての
スロット間において、０〜１０μｍの範囲内であった。

【００４５】このシャドウマスクをプレス加工して２９
インチカラーブラウン管に装着した。製造されたカラー
ブラウン管は、電子ビームが所定の位置にランディング
するので、蛍光面全域に渡って所望の輝度とすることが
できると共に、Ｒ、Ｇ、Ｂの発光むらもなかった。

【００４６】

【発明の効果】以上説明したように、本発明のブラウン
管用シャドウマスクによれば、裏側孔部の側壁および表
側孔部の側壁によって形成される稜線部までの断面高さ
ｈ、Ｈがスロット全域に渡ってほぼ均一となるので、形
成されたスロットは、ブラウン管の蛍光面上にランディ
ングするスポットの長手方向の両端が欠けないように、
長尺方向両側付近を通過する電子ビームを通過させるこ
とができる。その結果、本発明のシャドウマスクは、略
長方形のスポットをブラウン管の蛍光面上の所定の位置
に一様に形成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のブラウン管用シャドウマスクの中央部
に形成されたスロットの一例を示す正面図である。

【図２】図１に示したスロットの短尺方向のＡ１−Ａ１
断面図（i）と、短尺方向のＢ１−Ｂ１断面図（ii）で
ある。

【図３】図１に示したスロットの長尺方向のＣ１−Ｃ１
断面図である。

【図４】本発明のブラウン管用シャドウマスクの周辺部
に形成されたスロットの一例を示す正面図である。

【図５】図４に示したスロットの短尺方向のＡ２−Ａ２
断面図（i）と、短尺方向のＢ２−Ｂ２断面図（ii）で
ある。

【図６】図４に示したスロットの長尺方向のＣ２−Ｃ２
断面図である。

【図７】シャドウマスクの各部に形成されるスロットの
位置関係を説明する模式的な正面図である。

【図８】シャドウマスク各部に形成されるスロットの表
側孔部と裏側孔部の位置関係を説明する模式的な正面図
である。

【図９】従来型のシャドウマスクのスロット（i）、そ
のスロットを通過して蛍光面上にランディングする電子
ビームのスポット形状（ii）、そのスロットの中心部の
断面形状（iii）およびそのスロットの上端付近の断面
形状（iv）を示す概略図である。

【図１０】従来のシャドウマスクに形成されているスロ
ットの形状の一例を示す正面図である。

【符号の説明】

２、８２ 裏側孔部 ３、８３ 表側孔部 ４、５、６、７ 裏側孔部の側壁 １０、２０、８１ スロット １４、１５、１６、１７、９３、９４ 表側孔部の側壁 ２１ 周辺部 ２２ 中央部 ２４、２５、２６、２７、９１、９２ 稜線部 ２９、８４ 電子ビーム ３０ 孔部 ３１、３２、３３、３４、９５、９６ 裏側孔部の端部 ７１ シャドウマスク ７２ スロット形成部 ７３ スカート部 ８０ スポット ｈ、ｈ１、ｈ２、ｈ３、ｈ４ 短尺方向両側の断面高さ Ｈ、Ｈ１、Ｈ２ 長尺方向両側の断面高さ Ｎ 裏側孔部の開孔中心 Ｍ 表側孔部の開孔中心 Ｗ 電子ビームの幅

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 牧田 明 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 Ｆターム(参考） 5C031 EE02 EF07 EH04

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ブラウン管の蛍光面上に略長方形のビー
   ムスポットを形成するための多数のスロットからなるブ
   ラウン管用シャドウマスクにおいて、 前記スロットは、電子ビームが入射する側の略長方形の
   裏側孔部と、該電子ビームが出射する側の略長方形の表
   側孔部と、該裏側孔部の側壁および該表側孔部の側壁で
   形成される稜線部とを有し、 前記裏側孔部の端部から前記稜線部までの断面高さであ
   って、前記スロットの長尺方向両側における断面高さＨ
   と、該スロットの短尺方向両側における断面高さｈとの
   差が、０〜１０μｍの範囲内であることを特徴とするブ
   ラウン管用シャドウマスク。
2. 【請求項２】 前記範囲内の断面高さＨと断面高さｈと
   の差を有するスロットが、該シャドウマスクの全域にお
   いて形成されていることを特徴とする請求項１に記載の
   ブラウン管用シャドウマスク。