JP2002083483A - 磁気ディスク装置 - Google Patents
磁気ディスク装置Info
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- G11B5/7253—Fluorocarbon lubricant
- G11B5/7257—Perfluoropolyether lubricant
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 磁気ディスク装置におけるコンタミが原因と
なる障害発生を防止し、信頼性の高い磁気ディスク装置
を提供する。 【解決手段】 磁気ヘッド、磁気ディスクの保護膜表面
に存在する水酸基と、保護膜表面の水酸基と重合反応可
能なコンタミに反応可能である単官能の化合物を磁気デ
ィスクの気相中に存在させる。
なる障害発生を防止し、信頼性の高い磁気ディスク装置
を提供する。 【解決手段】 磁気ヘッド、磁気ディスクの保護膜表面
に存在する水酸基と、保護膜表面の水酸基と重合反応可
能なコンタミに反応可能である単官能の化合物を磁気デ
ィスクの気相中に存在させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は磁気ディスク装置に
関し、特に長時間稼動時の信頼性向上に関する。
関し、特に長時間稼動時の信頼性向上に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク装置の記録密度向上の為に
は、磁気ディスク（以下ディスクと称す）と磁気ヘッド
（以下ヘッドと称する）間を狭小化することが課題とな
っている。このため、ヘッドの浮上量を低減させる、ヘ
ッドおよびディスク上に形成される保護膜を薄くする、
ディスク保護膜上の潤滑在膜厚を薄くする等の対応が行
われてきた。また、磁気記録情報を高速で記録再生する
ために、ディスクの回転速度の高速化が図られている。
は、磁気ディスク（以下ディスクと称す）と磁気ヘッド
（以下ヘッドと称する）間を狭小化することが課題とな
っている。このため、ヘッドの浮上量を低減させる、ヘ
ッドおよびディスク上に形成される保護膜を薄くする、
ディスク保護膜上の潤滑在膜厚を薄くする等の対応が行
われてきた。また、磁気記録情報を高速で記録再生する
ために、ディスクの回転速度の高速化が図られている。
【０００３】しかし、ヘッドの浮上量減少はヘッドとデ
ィスクの接触頻度を上昇させ、ディスク上の潤滑剤分解
や、ヘッド・ディスク上に形成された保護膜の摩耗等を
引き起こし、磁気ディスク装置の信頼性を著しく低下さ
せることとなる。また、ディスク上の潤滑剤は、ヘッド
との接触による消失以外にもディスクの高速回転によっ
て徐々に減少することが知られている。
ィスクの接触頻度を上昇させ、ディスク上の潤滑剤分解
や、ヘッド・ディスク上に形成された保護膜の摩耗等を
引き起こし、磁気ディスク装置の信頼性を著しく低下さ
せることとなる。また、ディスク上の潤滑剤は、ヘッド
との接触による消失以外にもディスクの高速回転によっ
て徐々に減少することが知られている。
【０００４】ディスク上の潤滑剤のヘッドとの接触によ
る消失や、ディスクの回転による潤滑剤減少を補うため
に、特開平２−３７５８９号や特開平７−７３６５９号
に示されるような、潤滑剤を供給する方法が提案されて
いる。今後、ヘッドとディスクが間歇的に接触するニア
コンタクトレコーディングや、ヘッドとディスクが定常
的に接触するコンタクレコーディングは、更なる記録密
度向上においてキーテクノロジーとなり、これらのテク
ノロジーにおいて、このような潤滑剤を供給する手段は
必須の技術となる。
る消失や、ディスクの回転による潤滑剤減少を補うため
に、特開平２−３７５８９号や特開平７−７３６５９号
に示されるような、潤滑剤を供給する方法が提案されて
いる。今後、ヘッドとディスクが間歇的に接触するニア
コンタクトレコーディングや、ヘッドとディスクが定常
的に接触するコンタクレコーディングは、更なる記録密
度向上においてキーテクノロジーとなり、これらのテク
ノロジーにおいて、このような潤滑剤を供給する手段は
必須の技術となる。
【０００５】また、磁気ディスク装置では、ヘッドやデ
ィスク上に吸着したある種のガス成分が、ヘッドとディ
スクが接触した際に生じる熱等によって化学反応を起こ
し、ヘッド・ディスク間に付着物を形成するこが知られ
ている。かかる付着物の形成はヘッドの浮上姿勢を乱
し、ヘッドとディスクの接触頻度を上昇させ、ディスク
上の記録情報消失の原因となり、最悪の場合にはクラッ
シュに至る場合も有る。また、ヘッドの浮上量増大の原
因となり、ディスク上での情報の磁気的記録再生を不能
に至らしめる場合も有る。当然のことながら、ヘッド浮
上量の低下によってヘッドとディスクの接触頻度が上昇
した場合には、障害に至る確率も高くなる。
ィスク上に吸着したある種のガス成分が、ヘッドとディ
スクが接触した際に生じる熱等によって化学反応を起こ
し、ヘッド・ディスク間に付着物を形成するこが知られ
ている。かかる付着物の形成はヘッドの浮上姿勢を乱
し、ヘッドとディスクの接触頻度を上昇させ、ディスク
上の記録情報消失の原因となり、最悪の場合にはクラッ
シュに至る場合も有る。また、ヘッドの浮上量増大の原
因となり、ディスク上での情報の磁気的記録再生を不能
に至らしめる場合も有る。当然のことながら、ヘッド浮
上量の低下によってヘッドとディスクの接触頻度が上昇
した場合には、障害に至る確率も高くなる。
【０００６】障害を発生させるガス成分は磁気ディスク
装置の構成部材からの発ガス成分である場合が多いが、
製造工程中に混入する場合や、製造後に流入する場合も
有る。ヘッド・ディスク・インターフェイス（ＨＤＩ）
に障害を発生させる物質（以下コンタミと称す）を低減
する方法としては、磁気ディスクの構成部剤の加熱によ
る脱ガス処理によって低減する方法、特開昭６０−２１
９６９５号に示されるように、ガス吸着剤を装置内に設
置することによってコンタミを吸着除去する方法、また
は、特開平６−７６５５６号に示されるようなコンタミ
を触媒によって重合除去する方法、あるいは、特開平６
−３６５４８号や特開平６−３０２１７８号に示される
ように障害を引き起こすコンタミを磁気ディスク装置内
にある種の金属を設置することにより化学吸着させ除去
する方法等が提案されている。
装置の構成部材からの発ガス成分である場合が多いが、
製造工程中に混入する場合や、製造後に流入する場合も
有る。ヘッド・ディスク・インターフェイス（ＨＤＩ）
に障害を発生させる物質（以下コンタミと称す）を低減
する方法としては、磁気ディスクの構成部剤の加熱によ
る脱ガス処理によって低減する方法、特開昭６０−２１
９６９５号に示されるように、ガス吸着剤を装置内に設
置することによってコンタミを吸着除去する方法、また
は、特開平６−７６５５６号に示されるようなコンタミ
を触媒によって重合除去する方法、あるいは、特開平６
−３６５４８号や特開平６−３０２１７８号に示される
ように障害を引き起こすコンタミを磁気ディスク装置内
にある種の金属を設置することにより化学吸着させ除去
する方法等が提案されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、磁気デ
ィスク装置の記録密度を向上させるためには、ヘッドの
浮上量を減少させる必要があるが、それに伴うヘッドと
ディスクの接触頻度の上昇による、潤滑剤の減少、コン
タミ起因の付着物形成による障害発生等の問題がある。
ィスク装置の記録密度を向上させるためには、ヘッドの
浮上量を減少させる必要があるが、それに伴うヘッドと
ディスクの接触頻度の上昇による、潤滑剤の減少、コン
タミ起因の付着物形成による障害発生等の問題がある。
【０００８】ディスク上の潤滑剤が消失した場合には、
下地の保護膜が剥き出しになる。ディスク上の保護膜は
一般にカーボンを主成分とする膜であり、この表面が剥
き出しになった状態では、表面が空気中の酸素や水の影
響によって、水酸基等の官能基を生成することとなる。
この官能基はコンタミの吸着サイトとして作用すること
となり、コンタミによる障害を引き起こすことが容易に
想像できる。従って、長期間稼動において磁気ディスク
の信頼性を維持するためには、潤滑剤の減少を防止する
と同時に、障害を発生させるコンタミの吸着を防止する
手段が必要となる。
下地の保護膜が剥き出しになる。ディスク上の保護膜は
一般にカーボンを主成分とする膜であり、この表面が剥
き出しになった状態では、表面が空気中の酸素や水の影
響によって、水酸基等の官能基を生成することとなる。
この官能基はコンタミの吸着サイトとして作用すること
となり、コンタミによる障害を引き起こすことが容易に
想像できる。従って、長期間稼動において磁気ディスク
の信頼性を維持するためには、潤滑剤の減少を防止する
と同時に、障害を発生させるコンタミの吸着を防止する
手段が必要となる。
【０００９】また、近年のヘッド浮上量の減少はヘッド
とディスクの接触頻度を上昇させることになり、今まで
以上にコンタミの許容濃度を低くしなければならない。
コンタミを活性炭等によって吸着除去する方法では、低
減できる濃度に限界があり、また長期間効果を持続する
ことが難しい。
とディスクの接触頻度を上昇させることになり、今まで
以上にコンタミの許容濃度を低くしなければならない。
コンタミを活性炭等によって吸着除去する方法では、低
減できる濃度に限界があり、また長期間効果を持続する
ことが難しい。
【００１０】また、磁気ディスク装置内にある種の金属
を設置し化学吸着によりコンタミを除去する方法では、
気体中の酸素によって化学吸着力が低下し、コンタミ除
去能力が失われるという問題がある。
を設置し化学吸着によりコンタミを除去する方法では、
気体中の酸素によって化学吸着力が低下し、コンタミ除
去能力が失われるという問題がある。
【００１１】本発明は、磁気ディスク装置に関する上記
問題を解決し、コンタミによる障害発生を防止し、長期
稼動時における信頼性を向上した磁気ディスク装置を提
供することを目的とする。
問題を解決し、コンタミによる障害発生を防止し、長期
稼動時における信頼性を向上した磁気ディスク装置を提
供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明では、磁気ディスク装置の筐体内の気相中に
単官能化合物を少なくとも１種類以上含有させた。さら
に、その単官能化合物として、単官能シラン化合物を少
なくとも１種類以上含有させた。また、同じくその単官
能化合物として、筐体内の気相中に水酸基、カルボキシ
ル基と反応可能な基を１つのみ有する化合物を少なくと
も１種類以上含有させた。
に、本発明では、磁気ディスク装置の筐体内の気相中に
単官能化合物を少なくとも１種類以上含有させた。さら
に、その単官能化合物として、単官能シラン化合物を少
なくとも１種類以上含有させた。また、同じくその単官
能化合物として、筐体内の気相中に水酸基、カルボキシ
ル基と反応可能な基を１つのみ有する化合物を少なくと
も１種類以上含有させた。
【００１３】上記単官能シラン化合物としては、官能基
として水酸基、アルコキシ基、アセトキシ基、ハロゲン
基、のいずれか一種、及びアルキル基またはフェニル基
を有することが望ましい。
として水酸基、アルコキシ基、アセトキシ基、ハロゲン
基、のいずれか一種、及びアルキル基またはフェニル基
を有することが望ましい。
【００１４】さらに上記アルキル基またはフェニル基は
水素の一部もしくは全てがフッ素原子によって置換する
こともできる。
水素の一部もしくは全てがフッ素原子によって置換する
こともできる。
【００１５】また、上記反応可能な化合物として水酸
基、カルボキシル基かのいずれかを含むアルキル化合物
あるいはフェニル化合物を用いることもできる。
基、カルボキシル基かのいずれかを含むアルキル化合物
あるいはフェニル化合物を用いることもできる。
【００１６】また、前記単官能化合物を磁気ディスク装
置内に保持する機構を有し、筐体内の気相中に該化合物
を供給する手段を有することが好ましい。
置内に保持する機構を有し、筐体内の気相中に該化合物
を供給する手段を有することが好ましい。
【００１７】上記機構として多孔質の担体もしくは、有
機高分子に保持されている機構を用いることもできる。
さらに、前記単官能化合物が細孔を設けた容器内に保持
することもできる。また、前記単官能化合物が気体透過
性の有機膜で仕切られた容器内に保持することもでき
る。
機高分子に保持されている機構を用いることもできる。
さらに、前記単官能化合物が細孔を設けた容器内に保持
することもできる。また、前記単官能化合物が気体透過
性の有機膜で仕切られた容器内に保持することもでき
る。
【００１８】さらに前記単官能化合物を磁気ディスク装
置の外部から供給する手段を有することも好ましい。
置の外部から供給する手段を有することも好ましい。
【００１９】さらに、上記目的を達成するために、本発
明では、磁気ディスク装置の筐体内の磁気記録媒体の近
傍に固体単官能シラン化合物を少なくとも１種類以上含
有する吸着材を設置した。さらに、その単官能シラン化
合物としては、官能基として、水酸基、アルコキシ基、
アセトキシ基、ハロゲン基のいずれか一種およびアルキ
ル基またはフェニル基、あるいは水素の一部もしくは全
てがフッ素原子によって置換されたアルキル基またはフ
ェニル基を含有させた。さらに、上記単官能シラン化合
物を気体透過性の膜で覆って設置することが望ましい。
明では、磁気ディスク装置の筐体内の磁気記録媒体の近
傍に固体単官能シラン化合物を少なくとも１種類以上含
有する吸着材を設置した。さらに、その単官能シラン化
合物としては、官能基として、水酸基、アルコキシ基、
アセトキシ基、ハロゲン基のいずれか一種およびアルキ
ル基またはフェニル基、あるいは水素の一部もしくは全
てがフッ素原子によって置換されたアルキル基またはフ
ェニル基を含有させた。さらに、上記単官能シラン化合
物を気体透過性の膜で覆って設置することが望ましい。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施例について説明
する。
する。
【００２１】〔実施例１〕単官能化合物を磁気ディスク
装置内の気相中に存在させることにより、コンタミによ
るヘッド、ディスク上への付着物形成を阻害させる効果
を確認した。
装置内の気相中に存在させることにより、コンタミによ
るヘッド、ディスク上への付着物形成を阻害させる効果
を確認した。
【００２２】本発明の一実施例である磁気ディスク装置
の構造を図６に示す。単官能化合物を保持する多孔質の
担体５としてモレキュラーシーブを用いた。磁気ディス
ク６としては２．５インチのガラス製のものを使用し、
その表面には磁気記録用の磁性媒体、カーボンを主成分
とする保護膜層が順次成膜され、最表面にはパーフルオ
ロポリエーテル系の潤滑剤が塗布されている。サスペン
ション７の先端部には図７に示すように磁気ヘッド８が
ジンバル９を介して取り付けられている。ヘッドスライ
ダ材にはAl2O3とTiCの焼結体よりなるもを使用した。ま
たヘッドの摺動面にはカーボンを主成分とする保護膜が
形成されている。図示されていないが、パッキングを介
してカバーが取り付けられており、装置内はある程度密
閉され外部雰囲気とは隔離されている。本装置の回転数
は毎分4200回転である。さらに本装置はディスク回転用
のモータ、ヘッドシーク用のVCM(Voice Coil Motor)、
装置制御用の電気回路等を有する。
の構造を図６に示す。単官能化合物を保持する多孔質の
担体５としてモレキュラーシーブを用いた。磁気ディス
ク６としては２．５インチのガラス製のものを使用し、
その表面には磁気記録用の磁性媒体、カーボンを主成分
とする保護膜層が順次成膜され、最表面にはパーフルオ
ロポリエーテル系の潤滑剤が塗布されている。サスペン
ション７の先端部には図７に示すように磁気ヘッド８が
ジンバル９を介して取り付けられている。ヘッドスライ
ダ材にはAl2O3とTiCの焼結体よりなるもを使用した。ま
たヘッドの摺動面にはカーボンを主成分とする保護膜が
形成されている。図示されていないが、パッキングを介
してカバーが取り付けられており、装置内はある程度密
閉され外部雰囲気とは隔離されている。本装置の回転数
は毎分4200回転である。さらに本装置はディスク回転用
のモータ、ヘッドシーク用のVCM(Voice Coil Motor)、
装置制御用の電気回路等を有する。
【００２３】本実施例において、下記一般式で示される
単官能化合物として、t-Butyl-dimethylsilanol、Triet
hylethoxysilane、n-Octadecyldimethyl-methoxy-silan
eを用いた。
単官能化合物として、t-Butyl-dimethylsilanol、Triet
hylethoxysilane、n-Octadecyldimethyl-methoxy-silan
eを用いた。
【００２４】
【化４】 （この一般式において、X1は水酸基、アルコキシ基、ア
セトキシ基、ハロゲン基のいずれか一種を示し、R1、 R
2、 R3はアルキル基またはフェニル基、あるいは水素の
一部もしくは全てがフッ素原子によって置換されたアル
キル基またはフェニル基を示す。） また、下記一般式で示される単官能化合物として、1-Te
tradecanol、1H,1H-Perfluorooctan-1-ol、Pentadecano
ic acidを用いた。
セトキシ基、ハロゲン基のいずれか一種を示し、R1、 R
2、 R3はアルキル基またはフェニル基、あるいは水素の
一部もしくは全てがフッ素原子によって置換されたアル
キル基またはフェニル基を示す。） また、下記一般式で示される単官能化合物として、1-Te
tradecanol、1H,1H-Perfluorooctan-1-ol、Pentadecano
ic acidを用いた。
【００２５】
【化５】 （この一般式において、X２は水酸基、カルボキシル基
のいずれか一種を示し、R ４は水素原子の一部もしくは
全てがフッ素原子によって置換されたアルキル基または
フェニル基を示す。） これらの単官能化合物はいずれも、水酸基、カルボキシ
ル基と反応可能な基をひとつのみ有する化合物である。
のいずれか一種を示し、R ４は水素原子の一部もしくは
全てがフッ素原子によって置換されたアルキル基または
フェニル基を示す。） これらの単官能化合物はいずれも、水酸基、カルボキシ
ル基と反応可能な基をひとつのみ有する化合物である。
【００２６】上記の各種化合物を担体５に含侵させ、装
置温度を７０℃とし１０００時間の連続稼動試験を行っ
た後のヘッド表面を観測した結果を表１に示す。
置温度を７０℃とし１０００時間の連続稼動試験を行っ
た後のヘッド表面を観測した結果を表１に示す。
【００２７】
【表１】 上記のように、単官能化合物を磁気ディスク装置内に存
在させた場合には、ヘッド上への付着物形成を抑止する
ことができ、障害の発生を防止できることが明らかにな
った。
在させた場合には、ヘッド上への付着物形成を抑止する
ことができ、障害の発生を防止できることが明らかにな
った。
【００２８】〔実施例２〕コンタミが多く存在する状態
での単官能化合物による障害発生抑止効果を確認した。
での単官能化合物による障害発生抑止効果を確認した。
【００２９】本実施例に用いた装置を図８に示す。単官
能化合物を保持する多孔質の担体５としてモレキュラー
シーブを用いた。磁気ディスク６としては２．５インチ
のガラス製のものを使用し、その表面には磁気記録用の
磁性媒体、カーボンを主成分とする保護膜層が順次成膜
され、最表面にはパーフルオロポリエーテル系の潤滑剤
が塗布されている。サスペンション７の先端部には図７
に示すように磁気ヘッド８がジンバル９を介して取り付
けられている。また、サスペンション７上にヘッドとデ
ィスクの接触検出用のピエゾセンサー１０が設置されて
いる。ヘッドスライダ材にはAl2O3とTiCの焼結体よりな
るもを使用した。ヘッドの摺動面にはカーボンを主成分
とする保護膜が形成されている。図示されていないが、
パッキングを介してカバーが取り付けられており、装置
内はある程度密閉され外部雰囲気とは隔離されている。
本装置の回転数は毎分4200回転である。さらに本装置は
ディスク回転用のモータ、ヘッドシーク用のVCM(Voice
Coil Motor)、装置制御用の電気回路等を有する。
能化合物を保持する多孔質の担体５としてモレキュラー
シーブを用いた。磁気ディスク６としては２．５インチ
のガラス製のものを使用し、その表面には磁気記録用の
磁性媒体、カーボンを主成分とする保護膜層が順次成膜
され、最表面にはパーフルオロポリエーテル系の潤滑剤
が塗布されている。サスペンション７の先端部には図７
に示すように磁気ヘッド８がジンバル９を介して取り付
けられている。また、サスペンション７上にヘッドとデ
ィスクの接触検出用のピエゾセンサー１０が設置されて
いる。ヘッドスライダ材にはAl2O3とTiCの焼結体よりな
るもを使用した。ヘッドの摺動面にはカーボンを主成分
とする保護膜が形成されている。図示されていないが、
パッキングを介してカバーが取り付けられており、装置
内はある程度密閉され外部雰囲気とは隔離されている。
本装置の回転数は毎分4200回転である。さらに本装置は
ディスク回転用のモータ、ヘッドシーク用のVCM(Voice
Coil Motor)、装置制御用の電気回路等を有する。
【００３０】担体５にモレキュラーシーブを用い、単官
能化合物であるn-Octadecyldimethylmethoxysilaneを含
侵させた。装置温度を７０℃とし連続稼動試験１０００
時間後に担体５を取り出し、コンタミ物質であるn-Octy
ltrimethoxysilaneをモレキュラーシーブに含侵させた
ものを担体５として磁気ディスク装置内に設置した。そ
の後、装置温度を７０℃とし連続稼動試験を行い、ヘッ
ドとディスクの接触が発生するまでの時間を計測した。
また、比較例として、単官能化合物を設置しないで、上
記コンタミを導入した場合の試験も行った。結果を表２
に示す。
能化合物であるn-Octadecyldimethylmethoxysilaneを含
侵させた。装置温度を７０℃とし連続稼動試験１０００
時間後に担体５を取り出し、コンタミ物質であるn-Octy
ltrimethoxysilaneをモレキュラーシーブに含侵させた
ものを担体５として磁気ディスク装置内に設置した。そ
の後、装置温度を７０℃とし連続稼動試験を行い、ヘッ
ドとディスクの接触が発生するまでの時間を計測した。
また、比較例として、単官能化合物を設置しないで、上
記コンタミを導入した場合の試験も行った。結果を表２
に示す。
【００３１】
【表２】 上記のように、単官能化合物を存在させ連続稼動を行っ
た磁気ディスク装置では、単官能化合物担体を除去した
後でも単官能化合物が存在しなかった場合と比較して、
コンタミによる障害が発生しにくいことが明らかになっ
た。このことはヘッドやディスク上の存在していた水酸
基等のコンタミ吸着サイトに対して、単官能化合物か重
合反応するために、コンタミの吸着を阻害し、コンタミ
による障害を防止することが可能であることを示してい
る。
た磁気ディスク装置では、単官能化合物担体を除去した
後でも単官能化合物が存在しなかった場合と比較して、
コンタミによる障害が発生しにくいことが明らかになっ
た。このことはヘッドやディスク上の存在していた水酸
基等のコンタミ吸着サイトに対して、単官能化合物か重
合反応するために、コンタミの吸着を阻害し、コンタミ
による障害を防止することが可能であることを示してい
る。
【００３２】〔実施例３〕次に単官能化合物の濃度をコ
ントロールしコンタミ障害の抑止効果を評価した。本実
施例に用いた装置を図９に示す。磁気ディスク６として
は２．５インチのガラス製基板を使用し、その表面には
磁気記録用の磁性媒体、カーボンを主成分とする保護膜
層が順次成膜され、最表面にはパーフルオロポリエーテ
ル系の潤滑剤を塗布した。サスペンション７の先端部に
は図７に示すように磁気ヘッド８がジンバル９を介して
取り付けられている。ヘッドスライダ材にはAl2O3とTiC
の焼結体よりなるもを使用した。またヘッドの摺動面に
はカーボンを主成分とする保護膜が形成されている。１
１及び１２はそれぞれ、濃度をコントロールした単官能
化合物の気体導入口、および気体排出口である。図示さ
れていないが、パッキングを介してカバーが取り付けら
れており、装置内はある程度密閉され外部雰囲気とは隔
離されている。本装置の回転数は毎分4200回転である。
さらに本装置はディスク回転用のモータ、ヘッドシーク
用のVCM(Voice Coil Motor)、装置制御用の電気回路等
を有する。
ントロールしコンタミ障害の抑止効果を評価した。本実
施例に用いた装置を図９に示す。磁気ディスク６として
は２．５インチのガラス製基板を使用し、その表面には
磁気記録用の磁性媒体、カーボンを主成分とする保護膜
層が順次成膜され、最表面にはパーフルオロポリエーテ
ル系の潤滑剤を塗布した。サスペンション７の先端部に
は図７に示すように磁気ヘッド８がジンバル９を介して
取り付けられている。ヘッドスライダ材にはAl2O3とTiC
の焼結体よりなるもを使用した。またヘッドの摺動面に
はカーボンを主成分とする保護膜が形成されている。１
１及び１２はそれぞれ、濃度をコントロールした単官能
化合物の気体導入口、および気体排出口である。図示さ
れていないが、パッキングを介してカバーが取り付けら
れており、装置内はある程度密閉され外部雰囲気とは隔
離されている。本装置の回転数は毎分4200回転である。
さらに本装置はディスク回転用のモータ、ヘッドシーク
用のVCM(Voice Coil Motor)、装置制御用の電気回路等
を有する。
【００３３】単官能化合物としてTriethylethoxysilane
を用い、装置温度を７０℃とし１０００時間の連続稼動
試験を行った後にヘッド表面を観察した。Triethyletho
xy-silaneの濃度はガスクロマトグラフィー（ＧＣ）に
より確認した。結果を表３に示す。
を用い、装置温度を７０℃とし１０００時間の連続稼動
試験を行った後にヘッド表面を観察した。Triethyletho
xy-silaneの濃度はガスクロマトグラフィー（ＧＣ）に
より確認した。結果を表３に示す。
【００３４】
【表３】 上記のように0.01ppmという極僅かの単官能化合物が存
在する状態においてもコンタミによる障害を防止できる
ことが明らかになった。
在する状態においてもコンタミによる障害を防止できる
ことが明らかになった。
【００３５】〔実施例４〕単官能化合物の磁気ディスク
装置内への導入方法について種々評価を行った。図6に
示す磁気ディスク装置において、担体５にモレキュラー
シーブの他に種々の多孔質の担体を用いた。また、多孔
質の担体の代わりに図１０に示されるような細孔１３を
設けたアルミ製容器１４を用いたもの、図１１に示され
るようなポリフルオロエチレン膜１５で仕切られたアル
ミ製容器を用いた。単官能化合物としてTriethylethoxy
silaneを用い装置温度７０℃で、１０００時間の連続稼
動試験を行い加速試験後のヘッド表面を観察した。ま
た、連続稼動試験後の磁気ディスク装置内の気体をサン
プリングし、ＧＣにて気相中のTriethylethoxysilane濃
度を求めた。結果を表４に示す。
装置内への導入方法について種々評価を行った。図6に
示す磁気ディスク装置において、担体５にモレキュラー
シーブの他に種々の多孔質の担体を用いた。また、多孔
質の担体の代わりに図１０に示されるような細孔１３を
設けたアルミ製容器１４を用いたもの、図１１に示され
るようなポリフルオロエチレン膜１５で仕切られたアル
ミ製容器を用いた。単官能化合物としてTriethylethoxy
silaneを用い装置温度７０℃で、１０００時間の連続稼
動試験を行い加速試験後のヘッド表面を観察した。ま
た、連続稼動試験後の磁気ディスク装置内の気体をサン
プリングし、ＧＣにて気相中のTriethylethoxysilane濃
度を求めた。結果を表４に示す。
【００３６】
【表４】 上記のように、単官能化合物の導入方法によって気相中
の濃度に差があるが、どの場合においても、コンタミ障
害防止効果が見られた。
の濃度に差があるが、どの場合においても、コンタミ障
害防止効果が見られた。
【００３７】液体、固体の状態での通過は困難である
が、気体状態では通過可能である細孔を設けた容器や有
機膜で仕切られた容器内に単官能化合物を導入する方法
では、液体や固体の単官能化合物を導入する際に有効で
ある。また、図１２、図１３に示すように外部から単官
能化合物を導入可能な機構１７を用いてもよい。この
際、単官能化合物を保持するために、図１０や図１１に
示す、細孔１３を設けた容器や、ポリフルオロエチレン
等の有機膜１５で仕切られた容器内１８に導入すること
が望ましい。さらに、多孔質の担体をこれらの容器内１
８に入れても、同様の効果が得られることはいうまでも
ない。
が、気体状態では通過可能である細孔を設けた容器や有
機膜で仕切られた容器内に単官能化合物を導入する方法
では、液体や固体の単官能化合物を導入する際に有効で
ある。また、図１２、図１３に示すように外部から単官
能化合物を導入可能な機構１７を用いてもよい。この
際、単官能化合物を保持するために、図１０や図１１に
示す、細孔１３を設けた容器や、ポリフルオロエチレン
等の有機膜１５で仕切られた容器内１８に導入すること
が望ましい。さらに、多孔質の担体をこれらの容器内１
８に入れても、同様の効果が得られることはいうまでも
ない。
【００３８】〔実施例５〕単官能シラン化合物を磁気デ
ィスク装置内に設置することによってコンタミを化学吸
着させ、ヘッド・磁気ディスク上への付着物生成を防止
する効果を確認した。
ィスク装置内に設置することによってコンタミを化学吸
着させ、ヘッド・磁気ディスク上への付着物生成を防止
する効果を確認した。
【００３９】本発明の一実施例である磁気ディスク装置
の構造を図１４に示す。磁気ディスク６としては２．５
インチのガラス製基板を使用し、その表面には磁気記録
用の磁性媒体、カーボンを主成分とする保護膜層が順次
成膜され、最表面にはパーフルオロポリエーテル系の潤
滑剤を塗布した。サスペンション７の先端部には図７に
示すように磁気ヘッド８がジンバル９を介して取り付け
られている。ヘッドスライダ材にはAl2O3とTiCの焼結体
よりなるもを使用した。またヘッドの摺動面にはカーボ
ンを主成分とする保護膜が形成されている。１１及び１
２はそれぞれ、濃度をコントロールした単官能化合物の
気体導入口、および気体排出口である。図示されていな
いが、パッキングを介してカバーが取り付けられてお
り、装置内はある程度密閉され外部雰囲気とは隔離され
ている。本装置の回転数は毎分4200回転である。さらに
本装置はディスク回転用のモータ、ヘッドシーク用のVC
M(Voice Coil Motor)、装置制御用の電気回路等を有す
る。
の構造を図１４に示す。磁気ディスク６としては２．５
インチのガラス製基板を使用し、その表面には磁気記録
用の磁性媒体、カーボンを主成分とする保護膜層が順次
成膜され、最表面にはパーフルオロポリエーテル系の潤
滑剤を塗布した。サスペンション７の先端部には図７に
示すように磁気ヘッド８がジンバル９を介して取り付け
られている。ヘッドスライダ材にはAl2O3とTiCの焼結体
よりなるもを使用した。またヘッドの摺動面にはカーボ
ンを主成分とする保護膜が形成されている。１１及び１
２はそれぞれ、濃度をコントロールした単官能化合物の
気体導入口、および気体排出口である。図示されていな
いが、パッキングを介してカバーが取り付けられてお
り、装置内はある程度密閉され外部雰囲気とは隔離され
ている。本装置の回転数は毎分4200回転である。さらに
本装置はディスク回転用のモータ、ヘッドシーク用のVC
M(Voice Coil Motor)、装置制御用の電気回路等を有す
る。
【００４０】単官能シラン化合物としてTriethylethoxy
silaneを含有する吸着材を気体透過性有機膜で覆ったも
のを設置し、装置温度を７０℃とし１０００時間の連続
稼動試験を行った後のヘッド表面を観察したところ、ヘ
ッド汚れの発生はみられなかった。
silaneを含有する吸着材を気体透過性有機膜で覆ったも
のを設置し、装置温度を７０℃とし１０００時間の連続
稼動試験を行った後のヘッド表面を観察したところ、ヘ
ッド汚れの発生はみられなかった。
【００４１】以上の実施例で明らかにしてきたように、
本発明では磁気ディスク装置の長期に渡る信頼性を維持
する手段として、コンタミを除去するのではなく、コン
タミの保護膜上への吸着を防止し、さらに、コンタミが
吸着した場合でも障害に繋がる反応を防止する手段を講
じた。また、潤滑剤が消失して生成する保護膜上のコン
タミ吸着サイトをコンタミが吸着できないようにするこ
とを同時に達成する方法を考案した。
本発明では磁気ディスク装置の長期に渡る信頼性を維持
する手段として、コンタミを除去するのではなく、コン
タミの保護膜上への吸着を防止し、さらに、コンタミが
吸着した場合でも障害に繋がる反応を防止する手段を講
じた。また、潤滑剤が消失して生成する保護膜上のコン
タミ吸着サイトをコンタミが吸着できないようにするこ
とを同時に達成する方法を考案した。
【００４２】障害の発生は、ヘッドやディスク上に吸着
したコンタミがヘッドとディスクの接触によって発生す
る熱等によって障害を引き起こす大きさの付着物に成長
するために起こると考えられている。障害を発生させる
コンタミ種は分子間での重合反応が可能であり、３次元
的に重合可能である物質と考えられる。
したコンタミがヘッドとディスクの接触によって発生す
る熱等によって障害を引き起こす大きさの付着物に成長
するために起こると考えられている。障害を発生させる
コンタミ種は分子間での重合反応が可能であり、３次元
的に重合可能である物質と考えられる。
【００４３】従って、このような障害を発生させるコン
タミの吸着サイトに重合反応で吸着することが可能であ
り、吸着後はコンタミとの重合反応を発生せず、且つ、
コンタミとも重合反応が可能であり、コンタミと重合反
応することによってコンタミのヘッド・ディスクの保護
膜上の吸着サイトに吸着する際に必要となる官能基を封
止することができる物質を磁気ディスク装置に設置する
ことによって、コンタミ起因の障害を防止することを可
能とした。このような物質の存在下では、コンタミがヘ
ッドやディスク上に吸着した場合でも、コンタミの官能
基と反応し、障害に至るコンタミ分子間での重合反応を
阻害することが可能となった。
タミの吸着サイトに重合反応で吸着することが可能であ
り、吸着後はコンタミとの重合反応を発生せず、且つ、
コンタミとも重合反応が可能であり、コンタミと重合反
応することによってコンタミのヘッド・ディスクの保護
膜上の吸着サイトに吸着する際に必要となる官能基を封
止することができる物質を磁気ディスク装置に設置する
ことによって、コンタミ起因の障害を防止することを可
能とした。このような物質の存在下では、コンタミがヘ
ッドやディスク上に吸着した場合でも、コンタミの官能
基と反応し、障害に至るコンタミ分子間での重合反応を
阻害することが可能となった。
【００４４】具体的には、実施例で明示したようにヘッ
ドやディスク上に存在するコンタミ吸着サイトとなる−
ＯＨ基等の官能基と重合反応可能な官能基を分子内に１
つのみ有する物質を、磁気ディスク装置内に存在させる
ことによって可能となった。
ドやディスク上に存在するコンタミ吸着サイトとなる−
ＯＨ基等の官能基と重合反応可能な官能基を分子内に１
つのみ有する物質を、磁気ディスク装置内に存在させる
ことによって可能となった。
【００４５】図１に示したように分子内に複数の官能基
を有する物質が存在した場合には、図2のように分子間
での重合反応を繰り返すことが可能となり、ヘッドやデ
ィスクの保護膜上で３次元的な巨大分子を形成し、コン
タミとして作用することとなる。ここで、１はヘッドス
ライダ材のＡｉ２Ｏ３・ＴｉＣ、２はカーボンを主成分
とする保護膜、３は官能基を３つ有するコンタミ（ｎ−
オクチルトリメトキシシラン）を示した。
を有する物質が存在した場合には、図2のように分子間
での重合反応を繰り返すことが可能となり、ヘッドやデ
ィスクの保護膜上で３次元的な巨大分子を形成し、コン
タミとして作用することとなる。ここで、１はヘッドス
ライダ材のＡｉ２Ｏ３・ＴｉＣ、２はカーボンを主成分
とする保護膜、３は官能基を３つ有するコンタミ（ｎ−
オクチルトリメトキシシラン）を示した。
【００４６】しかしながら、図３に示したように官能基
が1つのみの化合物４を磁気ディスク装置内に存在させ
た場合には、図４に示したように保護膜上の水酸基と重
合反応することによって、コンタミの吸着防止が可能と
なった。更には図５に示したようにコンタミが吸着した
場合でも、コンタミ分子間での重合反応を阻害し、付着
物の生成を防止することが可能となった。
が1つのみの化合物４を磁気ディスク装置内に存在させ
た場合には、図４に示したように保護膜上の水酸基と重
合反応することによって、コンタミの吸着防止が可能と
なった。更には図５に示したようにコンタミが吸着した
場合でも、コンタミ分子間での重合反応を阻害し、付着
物の生成を防止することが可能となった。
【００４７】このようにコンタミによる障害を防止する
ために装置内に存在させる物質としては単官能のシラン
化合物が望ましいが、官能基を１つのみ有すればよいの
で、ＯＨ基を１つのみ有するアルコールやカルボキシル
基を１つのみ有するカルボン酸であってもよい。
ために装置内に存在させる物質としては単官能のシラン
化合物が望ましいが、官能基を１つのみ有すればよいの
で、ＯＨ基を１つのみ有するアルコールやカルボキシル
基を１つのみ有するカルボン酸であってもよい。
【００４８】単官能シラン化合物の場合の官能基は、水
酸基、アルコキシ基であることが望ましいが、アセトキ
シ基、ハロゲン基であってもよい。水酸基以外の官能基
は、H2Oと反応することが可能であり、結果的に水酸基
へと変化することが可能である。また、実施例の表１に
示したように、単官能シラン化合物の官能基以外の基
は、直鎖状または枝分かれを有する飽和炭化水素基が望
ましいが、フェニル基等であってもよい。これらの基の
水素が一部もしくは全てフッ素で置換れていてもよい。
また、官能基以外の３つの基はその全てが必ずしも同一
の基である必要はない。ヘッドやディスク上の保護膜表
面に存在する水酸基と単官能シラン化合物は、水酸基で
は脱水重合反応、アルコキシ基では脱アルコール重合反
応、アセトキシ基では脱酢酸重合反応、ハロゲン基では
H2Oとの反応で水酸基へと変化した後に脱水反応で、保
護膜表面と結合することが可能である。
酸基、アルコキシ基であることが望ましいが、アセトキ
シ基、ハロゲン基であってもよい。水酸基以外の官能基
は、H2Oと反応することが可能であり、結果的に水酸基
へと変化することが可能である。また、実施例の表１に
示したように、単官能シラン化合物の官能基以外の基
は、直鎖状または枝分かれを有する飽和炭化水素基が望
ましいが、フェニル基等であってもよい。これらの基の
水素が一部もしくは全てフッ素で置換れていてもよい。
また、官能基以外の３つの基はその全てが必ずしも同一
の基である必要はない。ヘッドやディスク上の保護膜表
面に存在する水酸基と単官能シラン化合物は、水酸基で
は脱水重合反応、アルコキシ基では脱アルコール重合反
応、アセトキシ基では脱酢酸重合反応、ハロゲン基では
H2Oとの反応で水酸基へと変化した後に脱水反応で、保
護膜表面と結合することが可能である。
【００４９】また、単官能シラン化合物以外の官能基を
１つのみ有するアルコールやカルボン酸では、主鎖の部
分が直鎖状または枝分かれを有する飽和炭化水素基が望
ましいが、フェニル基等であってもよい。主鎖中の水素
が一部もしくは全てフッ素で置換されていてもよい。
１つのみ有するアルコールやカルボン酸では、主鎖の部
分が直鎖状または枝分かれを有する飽和炭化水素基が望
ましいが、フェニル基等であってもよい。主鎖中の水素
が一部もしくは全てフッ素で置換されていてもよい。
【００５０】磁気ディスク装置長期稼働中には、ヘッド
とディスクの接触により潤滑剤の消失や保護膜の摩耗が
さけられない。保護膜表面が僅かでも摩耗した場合に
は、気相中の水や酸素との反応により、再び保護膜表面
に水酸基等のコンタミとの反応サイトを形成してしまう
こととなる。従って、障害を防止する単官能化合物の気
相中の濃度を長期にわたって維持する必要性がある。こ
のためには、障害を防止する単官能化合物を活性炭、モ
レキュラーシーブ、シリカゲル、ゼオライト等の多孔質
の担体や有機高分子に保持する方法を示した。また、気
相中に一定量の単官能シラン化合物が存在すればよいの
で、蒸気圧を有すれば常温での形態が液体や固体であっ
ても差し支えない。装置内に液体や固体の状態で設置す
る場合には、ヘッドやディスク上に液体が付着する、ま
たはヘッドディスク間に固体が進入するのを防止するた
めに、これらの単官能シラン化合物は細孔を設けた容器
内に設置したり、気体透過性を有する有機膜で仕切られ
た容器内に設置することが望ましいことも示した。特に
常温での形態が液体である場合には多孔質の物質に含侵
させた上で細孔を設けた容器に設置したり、気体透過性
を有する有機膜で仕切られた容器内に設置してもよい。
また、単官能化合物を磁気ディスク装置の外部から導入
する場合には、常温での形態が液体、固体であるなら
ば、前記細孔を設けた容器もしくは気体透過性有機膜で
仕切られた容器内に導入することが望ましいことも実施
例に示したとおりである。
とディスクの接触により潤滑剤の消失や保護膜の摩耗が
さけられない。保護膜表面が僅かでも摩耗した場合に
は、気相中の水や酸素との反応により、再び保護膜表面
に水酸基等のコンタミとの反応サイトを形成してしまう
こととなる。従って、障害を防止する単官能化合物の気
相中の濃度を長期にわたって維持する必要性がある。こ
のためには、障害を防止する単官能化合物を活性炭、モ
レキュラーシーブ、シリカゲル、ゼオライト等の多孔質
の担体や有機高分子に保持する方法を示した。また、気
相中に一定量の単官能シラン化合物が存在すればよいの
で、蒸気圧を有すれば常温での形態が液体や固体であっ
ても差し支えない。装置内に液体や固体の状態で設置す
る場合には、ヘッドやディスク上に液体が付着する、ま
たはヘッドディスク間に固体が進入するのを防止するた
めに、これらの単官能シラン化合物は細孔を設けた容器
内に設置したり、気体透過性を有する有機膜で仕切られ
た容器内に設置することが望ましいことも示した。特に
常温での形態が液体である場合には多孔質の物質に含侵
させた上で細孔を設けた容器に設置したり、気体透過性
を有する有機膜で仕切られた容器内に設置してもよい。
また、単官能化合物を磁気ディスク装置の外部から導入
する場合には、常温での形態が液体、固体であるなら
ば、前記細孔を設けた容器もしくは気体透過性有機膜で
仕切られた容器内に導入することが望ましいことも実施
例に示したとおりである。
【００５１】また、単官能化合物を含有する吸着材を磁
気ディスク装置内に設置することが望ましいことも実施
例に示したとおりである。
気ディスク装置内に設置することが望ましいことも実施
例に示したとおりである。
【００５２】
【発明の効果】本発明によれば、磁気ディスク装置の長
時間稼動時のコンタミによる障害を防止することがで
き、長期に渡って磁気ディスク装置の信頼性を維持する
ことが可能となる。
時間稼動時のコンタミによる障害を防止することがで
き、長期に渡って磁気ディスク装置の信頼性を維持する
ことが可能となる。
【図１】保護膜表面上の水酸基、及びコンタミを示す図
である。
である。
【図２】保護膜上での付着物形成を示す図である。
【図３】保護膜表面上の水酸基、及び単官能化合物を示
す図である。
す図である。
【図４】保護膜表面の水酸基と重合反応した単官能化合
物を示す図である。
物を示す図である。
【図５】吸着コンタミに重合反応した単官能化合物を示
す図である。
す図である。
【図６】実施例１に使用した磁気ディスク装置を示す図
である。
である。
【図７】サスペンション上に取りつけられた磁気ヘッド
を示す図である。
を示す図である。
【図８】実施例２に用いた磁気ディスク装置を示す図で
ある。
ある。
【図９】実施例３に用いた磁気ディスク装置を示す図で
ある。
ある。
【図１０】細孔を有するアルミ容器を示す図である。
【図１１】ポリフルオロエチレン膜で仕切られた磁気デ
ィスク装置を示す図である。
ィスク装置を示す図である。
【図１２】単官能化合物を外部より導入可能な磁気ディ
スク装置を示す図である。
スク装置を示す図である。
【図１３】単官能化合物を外部より導入可能な磁気ディ
スク装置の側面図を示す図である。
スク装置の側面図を示す図である。
【図１４】実施例４に使用した磁気ディスク装置を示す
図である。
図である。
１…Ａｌ２Ｏ３・ＴｉＣ燒結体、２…カーボンを主成分
とする保護膜、３…コンタミの一種であるn-Octyltrime
thoxysilane、４…単官能化合物の一種であるn-Octyldi
methylmethoxysilane、５…多孔質の担体、６…磁気デ
ィスク、７…サスペンション、８…磁気ヘッド、９…ジ
ンバル、１０…ピエゾセンサー、１１…気体導入口、１
２…気体排気口、１３…細孔、１４…アルミ容器、１５
…ポリフルオロエチレン膜、１６…アルミ容器、１７…
単官能化合物導入孔、１８…単官能化合物貯蔵容器、１
９…気体透過性有機膜で覆って設置された単官能化合物
を含有する吸着材。
とする保護膜、３…コンタミの一種であるn-Octyltrime
thoxysilane、４…単官能化合物の一種であるn-Octyldi
methylmethoxysilane、５…多孔質の担体、６…磁気デ
ィスク、７…サスペンション、８…磁気ヘッド、９…ジ
ンバル、１０…ピエゾセンサー、１１…気体導入口、１
２…気体排気口、１３…細孔、１４…アルミ容器、１５
…ポリフルオロエチレン膜、１６…アルミ容器、１７…
単官能化合物導入孔、１８…単官能化合物貯蔵容器、１
９…気体透過性有機膜で覆って設置された単官能化合物
を含有する吸着材。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 東 和文 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者 田坂 健司 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージシステム事業部内
Claims (13)
- 【請求項１】筐体内に情報を記録する磁気媒体と、該磁
気媒体に磁気情報を記録し再生する磁気ヘッド、及びこ
れらを駆動する機構を少なくとも有する磁気ディスク装
置において、筐体内の気相中に単官能化合物を少なくと
も１種類以上含有する磁気ディスク装置。 - 【請求項２】前記単官能化合物が単官能シラン化合物で
あることを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスク装
置。 - 【請求項３】前記単官能化合物が水酸基、カルボキシル
基と反応可能な基を１つのみ有する化合物であることを
特徴とする請求項１に記載の磁気ディスク装置。 - 【請求項４】前記単官能シラン化合物が下記一般式で示
されることを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスク
装置。 【化１】 （但し、X1は水酸基、アルコキシ基、アセトキシ基、ハ
ロゲン基のいずれか一種を示し、R1、 R2、 R3はアルキ
ル基またはフェニル基、あるいは水素の一部もしくは全
てがフッ素原子によって置換されたアルキル基またはフ
ェニル基を示す。また、R1、 R2、 R3は必ずしも同一の
基である必要はない。） - 【請求項５】前記水酸基、カルボキシル基と反応可能な
基を１つのみ有する化合物が下記一般式で示されること
を特徴とする請求項２に記載の磁気ディスク装置。 【化２】 （但し、X２は水酸基、カルボキシル基のいずれか一種
を示し、R４は水素原子の一部もしくは全てがフッ素原
子によって置換されたアルキル基またはフェニル基を示
す。） - 【請求項６】前記単官能化合物を磁気ディスク装置内に
保持する機構を有し、筐体内の気相中に該化合物を供給
する手段を有することを特徴とする、請求項１から請求
項６のいずれかに記載の磁気ディスク装置。 - 【請求項７】前記単官能化合物が多孔質の担体もしく
は、有機高分子に保持されていることを特徴とする請求
項６に記載の磁気ディスク装置。 - 【請求項８】前記単官能化合物が細孔を設けた容器内に
設置されていることを特徴とする請求項８に記載の磁気
ディスク装置。 - 【請求項９】前記単官能化合物が気体透過性の有機膜で
仕切られた容器内に設置されていることを特徴とする請
求項８に記載の磁気ディスク装置。 - 【請求項１０】前記単官能化合物を磁気ディスク装置の
外部から供給する手段を有する請求項１から請求項７の
いずれかに記載の磁気ディスク装置。 - 【請求項１１】筐体内に情報を記録する磁気媒体と、該
磁気媒体に磁気情報を記録し再生する磁気ヘッド、及び
これらを駆動する機構を少なくとも有する磁気ディスク
装置において、前記筐体内の磁気記録媒体の近傍に固体
単官能シラン化合物を少なくとも１種類以上含有する吸
着材を設けることを特徴とする磁気ディスク装置。 - 【請求項１２】請求項１１に記載の磁気ディスク装置に
おいて、前記単官能シラン化合物が下記一般式で示され
ることを特徴とする磁気ディスク装置。 【化３】 （但し、X1は水酸基、アルコキシ基、アセトキシ基、ハ
ロゲン基のいずれか一種を示し、R1、 R2、 R3はアルキ
ル基またはフェニル基、あるいは水素の一部もしくは全
てがフッ素原子によって置換されたアルキル基またはフ
ェニル基を示す。また、R1、 R2、 R3は必ずしも同一の
基である必要はない。） - 【請求項１３】請求項１１又は請求項１２に記載の磁気
ディスク装置において、上記単官能シラン化合物が気体
透過性の膜で覆われていることを特徴とする磁気ディス
ク装置。
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|---|---|---|---|
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000-189722 | 2000-06-20 | ||
| JP2000189722 | 2000-06-20 | ||
| JP2001080260A JP4195553B2 (ja) | 2000-06-20 | 2001-03-21 | 磁気ディスク装置 |
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|---|---|
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|---|---|---|---|
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| JPS62291723A (ja) * | 1986-06-11 | 1987-12-18 | Daikin Ind Ltd | 磁気記録媒体用潤滑剤 |
| JPH0237589A (ja) | 1988-07-28 | 1990-02-07 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 磁気記録装置 |
| US5229899A (en) * | 1990-05-24 | 1993-07-20 | International Business Machines Corporation | Apparatus and method for controlling vapor phase within an enclosure |
| US5331487A (en) * | 1992-01-16 | 1994-07-19 | International Business Machines Corporation | Direct access storage device with vapor phase lubricant system and a magnetic disk having a protective layer and immobile physically bonded lubricant layer |
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| JPH06302178A (ja) | 1993-04-19 | 1994-10-28 | Nec Corp | 磁気ディスク装置 |
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| US5582411A (en) * | 1994-12-13 | 1996-12-10 | International Business Machines Corporation | Scavenging compound infiltrated gasket |
| US5909337A (en) * | 1997-08-12 | 1999-06-01 | International Business Machines Corporation | Magnetic recording device |
| US20010024127A1 (en) * | 1998-03-30 | 2001-09-27 | William E. Bernier | Semiconductor testing using electrically conductive adhesives |
| US6379801B1 (en) * | 1998-12-07 | 2002-04-30 | Seagate Technology, Llc | Silane derivatized lubricants for magnetic recording media |
| US6356407B1 (en) * | 1999-03-31 | 2002-03-12 | Seagate Technology Llc | System and process for reducing contamination in internal disc drive environment |
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-
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- 2001-03-21 JP JP2001080260A patent/JP4195553B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2001-06-20 US US09/884,166 patent/US6692848B2/en not_active Expired - Fee Related
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|---|---|
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