JP2769536B2

JP2769536B2 - 磁気ディスク装置

Info

Publication number: JP2769536B2
Application number: JP5233387A
Authority: JP
Inventors: 輝義東谷; 恒敬長谷川; 正之勝本; 祐一大谷; 光彦小口; 博幸杉本; 哲二東島; 隆史濱田; 欣也江口; 英明天野
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1993-09-20
Filing date: 1993-09-20
Publication date: 1998-06-25
Anticipated expiration: 2013-06-25
Also published as: JPH0785647A; US5636081A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はヘッドクラッシュが発生
しない信頼性の高い磁気ディスク、および磁気ディスク
装置に関する。。

【０００２】

【従来の技術】磁気ディスク装置には、高記録密度を実
現するための、浮動ヘッドスライダと磁気ディスクとの
間隔の狭小化の傾向と、情報転送時間短縮のための、ス
ピンドル回転の高速化の傾向とがある。これに伴い、磁
気ディスク装置内の浮遊塵埃や磁気ディスク装置構成す
る部品からの摩耗粉などが、スライダレールの浮上力発
生面と磁気ディスクの間にはいり込み、一時的に記録情
報の読み出し不能をおこしたり、スライダレールの表面
に塵埃、油状のミストが付着し、浮上が不安定になり、
その結果として破壊的な摺動事故にいたる危険性がたか
まってきている。

【０００３】近年においては、さらなる浮動ヘッドスラ
イダと磁気ディスクとの間隔の狭小化により、磁気ディ
スク装置内部で使われる部品から発生するガスによって
もヘッドクラッシュを引き起こすことが問題となってき
た。密閉するために従来より使われてきたシリコンゴム
パッキンの中には、瞬時加熱により硬い酸化ケイ素に化
学変化するシロキサンが多量に含まれており、シリコン
ゴムパッキンを用いた磁気ディスク装置の内部は、装置
内の温度が上がるにつれてシロキサンガスの濃度が高く
なる。この状況下において浮動ヘッドスライダと磁気デ
ィスクの接触が起こると、瞬時に摩擦熱が発生する。こ
の摩擦熱は、シロキサンから酸化ケイ素の反応を進める
のに十分なエネルギーであるため、接触により酸化ケイ
素が生成され、浮動ヘッドスライダと磁気ディスク間に
硬い物質が介在することとなり、この結果、破壊的なヘ
ッドクラッシュを引き起こすこととなる。この対策とし
て、特開平４ー１３２０７２号公報に記載されているよ
うに、パッキンとして一般的に使われてきたシリコンゴ
ムのかわりにシロキサンガスの発ガス量の少ないフッ素
ゴムを使用することが検討されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】磁気ディスク装置のパ
ッキンとしてシリコンゴムのかわりにフッ素ゴムを使用
すること、あるいは磁気ディスク装置内部にガス吸着剤
を設けることなどは、磁気ディスク装置内部のシロキサ
ンガスの影響を排除するには有効な方法である。しか
し、磁気ディスク装置の小型軽量化に伴い、磁気ディス
ク装置の使われる環境は従来にもまして様々になってき
ており、磁気ディスク装置のそばにシロキサンガスの発
生源がないとは言い切れない。磁気ディスク装置内部に
ガス吸着剤を設けることは外部から侵入してくるシロキ
サンガスに対しても有効な方法であるが、磁気ディスク
装置の小型化により余分なスペースは少なく、十分な量
を装置内に入れることも難しくなってきている。磁気デ
ィスク装置の信頼性を高めるためには、磁気ディスク装
置の今後の使われ方を考えた場合、シロキサンガスが装
置内に侵入してもヘッドクラッシュを引き起こしにくい
ものにすることが重要であり、また望まれるものであ
る。

【０００５】そこで本発明は、磁気ディスク装置内にシ
ロキサンが存在しても、ヘッドクラッシュ等の障害を引
き起こさない磁気ディスク、および磁気ディスク装置を
提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明では、筐体内に磁気ディスクと、該磁気ディ
スクを回転させるスピンドルと、該磁気ディスクに対す
る情報の読み出し、書き込みを行なう浮動ヘッドスライ
ダとを有する磁気ディスク装置において、上記筐体内の
雰囲気中に、０．０１ｐｐｍ以上の濃度の有機ガスを含
む磁気ディスク装置が提供される。また、上記筐体内に
有機ガスを供給する手段を有する磁気ディスク装置が提
供される。なお、上記有機ガスは、モノアルキル置換ベ
ンゼン、ジアルキル置換ベンゼン、トリアルキル置換ベ
ンゼン、チアゾール類、およびフェノール類の少なくと
もいずれか１種の化合物を含む。

【０００７】上記筐体内に有機ガスを供給する手段は、
上記筐体内に備えられた、前記有機ガスを発生する有機
ガス発生部材としてもよく、この場合、上記有機ガス発
生部材は、アクリルモノマ、酢酸トリル、フェノール、
およびイソプロピルフェノールのうちの少なくともいず
れかを含有させた樹脂よりなる。なお、上記樹脂は、エ
チレンプロピレンゴムであることが好ましい。また、上
記筐体内に有機ガスを供給する手段は、上記筐体に備え
られたプラグとすることもできる。この場合は、シリン
ジ等により、外部から上記有機ガスを注入するようにす
れば、筐体内部に有機ガス発生源を備える場合と同様の
効果が得られる。

【０００８】また、本発明では、基板と、磁気記録層
と、潤滑膜とを、この順で積層して有する磁気ディスク
において、上記潤滑膜は、モノアルキル置換ベンゼン、
ジアルキル置換ベンゼン、トリアルキル置換ベンゼン、
チアゾール類、およびフェノール類の少なくともいずれ
か１種の化合物を含むことを特徴とする磁気ディスクも
提供される。

【０００９】なお、上記有機ガスとしては、ホルムアミ
ド、アクリルモノマ、モノアルキル置換ベンゼン、ジア
ルキル置換ベンゼン、トリアルキル置換ベンゼン、脂肪
酸のアリールエステル、芳香族酸のアルキルエステル、
チアゾール類、およびフェノール類の内、少なくも１種
の化合物であることが望ましい。アルキル置換ベンゼン
としては、Ｃ₉Ｈ₁₂またはＣ₁₀Ｈ₁₄で表わされる化合
物、例えばプロピルベンゼン、エチルメチルベンゼン、
ジエチルベンゼン、トリメチルベンゼン、メチルプロピ
ルベンゼン、およびエチルジメチルベンゼンが好まし
く、酢酸トリルがさらに好ましい。また、フェノール類
としては、フェノール、イソプロピルフェノール、イソ
プロペニルフェノール、およびｔｅｒｔ−ブチルヒドロ
キシトルエンが好ましい。

【００１０】

【作用】現在のところ、上記有機ガスが、どのような作
用により酸化ケイ素の生成を阻害するのか、まだはっき
りと判明していないが、浮動ヘッドスライダと磁気ディ
スクとの間に、有機金属化合物以外の有機化合物、望ま
しくはホルムアミド、アクリルモノマ、モノアルキル置
換ベンゼン、ジアルキル置換ベンゼン、トリアルキル置
換ベンゼン、脂肪酸のアリールエステル、芳香族酸のア
ルキルエステル、チアゾール類、およびフェノール類の
うち、少なくも１種のガスが存在することにより、浮動
ヘッドスライダと磁気ディスク接触時の摩擦エネルギ
ー、および、磁気ディスクと空気との摩擦エネルギーが
減少することが考えられる。この場合、シロキサンの化
学反応に必要なエネルギーが十分に供給されなくなり、
反応が進まず、硬度の高い酸化ケイ素は生成されなくな
る。あるいは、上記有機化合物とシロキサンとの間の何
らかの相互作用により、シロキサンの酸化ケイ素への反
応が抑制されていることも考えられる。

【００１１】いずれにしろ、磁気ディスク装置組立て後
の初期稼働（ヒートラン）時に、磁気ディスク装置内の
雰囲気中に、０．１ｐｐｍ以上、爆発限界の１／１０以
下の濃度の上記有機ガスが存在する磁気ディスク装置
は、安全上問題なく、酸化ケイ素の生成によるヘッドク
ラッシュの発生を効果的に抑制される。

【００１２】

【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。

【００１３】（実施例１）本発明の一実施例である磁気
ディスク装置の構造を図１に示す。図１（ａ）は、本実
施例の磁気ディスク装置の俯瞰図である。なお、図示の
都合のためにハウジングカバーは図示していないが、ハ
ウジングカバー１２は、パッキン７を挾んでハウジング
１１に接続され、ハウジング１１とハウジングカバー１
２とで、筐体を構成し、内部を密閉するようになってい
る。また、図１（ｂ）は、図１（ａ）のＡＢ間の断面図
である。

【００１４】本実施例の磁気ディスク装置１０は、ハウ
ジング１１とハウジングカバー１２とを有し、該ハウジ
ング１１とハウジングカバー１２とを接続させ、内部を
密閉するためにパッキン７を有している。内部には、磁
気ディスク３と、該磁気ディスク３を回転させるスピン
ドル１とを備え、さらに、磁気ディスク３に対する情報
の読み出し、書き込みを行なう浮動ヘッドスライダ４
と、該ヘッドスライダ４を動かすためのキャリッジ２を
有する。キャリッジ２には、ストッパ８が備えられてい
る。また、内部の浮遊塵埃除去用のエアーフィルタ５を
有する。フィルタ５は、フィルタ押さえ９により、ハウ
ジング１１とハウジングカバー１２とに接続されてい
る。なお、本実施例の磁気ディスク装置１０は、横２０
ｃｍ、奥行き約１５ｃｍ、高さ約８ｃｍの大きさ有す
る。

【００１５】本実施例では、パッキン７、ストッパ８、
およびフィルタ押さえ９の材料として、有機ガスを発生
する機能を有する樹脂を用いることにより、これらの部
材を、シロキサンガスの酸化ケイ素への化学反応を防止
するためのガスの発生源とした。な、上記材料として、
本実施例では、アクリルモノマ、酢酸トリル、フェノー
ル、イソプロピルフェノールを含有させたエチレンプロ
ピレンゴムを使用した。

【００１６】有機ガスを発生させる材料としてエチレン
プロピレンゴムを使用した理由は、このゴムは製造工程
において多量の有機物を添加することができるという特
徴をもっているからである。また、本実施例では、磁気
ディスク装置１０の密閉のためにパッキン７を使用した
が、シールテープに上記有機化合物を含ませ、該シール
テープを用いて密閉するようにしてもよい。この場合
は、該シールテープが上記有機ガスを発生させることに
なる。

【００１７】本実施例の磁気ディスク装置１０の稼働中
に装置内のガスを採取し、ガスクロマトグラフィーによ
る分析により得られたグラフの一例を図２に示す。ガス
クロマトグラフィーのカラムには、ヒューレットパッカ
ート社製ＨＰー１（１２ｍ，内径０．２ｍｍ）を用い
た。なお、カラムは、試料注入後２分間４０℃に保った
のち、２０℃／分の速度で３００℃まで昇温した。成分
の同定には質量選択性検出器ＨＰ５９７０Ｂを用いた。
図２の各ピークを成分同定したところ、各ピークは、表
１に示す化合物によるものであることがわかった。表１
に、各ピークについて同定された化合物の名称を、図２
において各ピークに付された番号に対応させて列挙す
る。

【００１８】

【表１】

【００１９】上記の分析結果から、磁気ディスク装置１
０の雰囲気中には多種のガス成分が含まれているが、そ
の中には、アクリルモノマ（ピーク１０３）、酢酸トリ
ル（ピーク１１０）、フェノール（ピーク１０６）、イ
ソプロピルフェノール（ピーク１０８）が存在している
ことが確認される。

【００２０】つぎに、本実施例の磁気ディスク装置１０
がシロキサンガスの影響を受けないことを確認するた
め、本実施例の磁気ディスク装置（１０）３台と、パッ
キン７、ストッパ８およびフィルター押さえ９にフッ素
ゴムを使用した磁気ディスク装置（１０ａとする）３台
とを、内部にシロキサンガス発生源を有し、温度２０
℃、湿度４０％に設定したシロキサンガス雰囲気の恒温
槽内で稼働させ、連続試験を行なった。結果を図３に示
す。なお、シロキサンガス発生源としては、ジメチルシ
ロキサン四量体を用いた。また、磁気ディスク装置１０
ａは、パッキン７、ストッパ８およびフィルター押さえ
９の素材が異なる以外は、本実施例の磁気ディスク装置
１０と同様の構造を有する。

【００２１】磁気ディスク装置１０ａは、３００時間で
ヘッドクラッシュ等の障害が発生し始めたのに対し、磁
気ディスク装置１０は、２０００時間稼働させても障害
は発生しなかった。このことから上記有機化合物を含ま
せたエチレンプロピレンゴムのパッキン７、ストッパ８
およびフィルター押さえ９を使用した磁気ディスク装置
１０は、シロキサンガスの影響をうけないことが判る。
なお、２０００時間経過しても、本実施例の磁気ディス
ク装置１０には障害が発生せず、その時点で十分な結果
を得られたので、連続試験は２０００時間で終了した。

【００２２】（実施例２）本実施例の磁気ディスク装置
１０の断面図を図４に示す。本実施例の磁気ディスク装
置１０は、シロキサンガスの化学反応を防止するため
に、有機ガス発生器２０を内部に備えている。なお、図
４は、図３（ｂ）を得たのと同じ位置の断面図である。
有機ガス発生器２０は、ガス拡散用の細孔孔２３の空い
た容器２２内に、酢酸トリルを含ませた材料２１をいれ
たものである。有機ガス発生器２０は、容器２２には細
孔２３が設けてあり、この細孔２３を通してガスが拡散
するように工夫してあるため、ガスを長期にわたり連続
的に供給することができる。本実施例の磁気ディスク装
置１０のパッキン７、ストッパ８およびフィルター押さ
え９には、フッ素ゴムを使用したが、上述の実験結果か
らわかるように、本実施例の磁気ディスク装置１０はシ
ロキサンガスの影響を受けないことから、シリコンゴム
を用いてもよい。その他の構成は実施例１と同じであ
る。

【００２３】なお、このガス発生器２０は、必ずしも磁
気ディスク装置１０の内部に設置する必要はなく、外部
から供給できるようにしてもかまわない。この場合は、
ハウジング１１およびハウジングカバー１２のうち、少
なくともいずれか一方に細孔を穿ち、該細孔と、有機ガ
ス発生器２０の細孔２３とを連通させることにより、ガ
スを供給する。

【００２４】本実施例の磁気ディスク装置１０を、内部
にシロキサンガス発生源を有し、温度２０℃、湿度４０
％に設定したシロキサンガス雰囲気の恒温槽内で稼働さ
せ、有機ガス発生器２０を有さない従来の磁気ディスク
装置１０ａと比較し、シロキサン障害に対する改善効果
についての調査を行なった。なお、シロキサンガス発生
源としては、ジメチルシロキサン四量体を用いた。

【００２５】シロキサンガス障害発生までの時間を加速
して評価を行うため、製品ヘッドよりもレール幅の狭い
ヘッドを使用して、ヘッドの浮上量を下げた条件で実験
を行なったところ、酢酸トリルの発生源を持たない従来
の装置１０ａが３０分足らずでディスク面に目視で確認
できる損傷が発生したのに対し、本実施例の磁気ディス
ク装置１０は、３時間後にわずかにディスクに付着物が
観察される程度であった。この結果から、酢酸トリルの
発生源を備える本実施例の磁気ディスク装置１０は、シ
ロキサンによる障害をほとんど生じないことがわかる。

【００２６】なお、存在することによりシロキサンガス
の酸化ケイ素への反応を起こさせない有機ガスとして
は、酢酸トリルの他に、モノアルキル置換ベンゼン、ジ
アルキル置換ベンゼン、トリアルキル置換ベンゼン、チ
アゾール類、またはフェノール類が望ましい。アルキル
置換ベンゼンとしては、Ｃ₉Ｈ₁₂またはＣ₁₀Ｈ₁₄で表わ
される化合物、例えばプロピルベンゼン、エチルメチル
ベンゼン、ジエチルベンゼン、トリメチルベンゼン、メ
チルプロピルベンゼン、およびエチルジメチルベンゼン
が好ましい。また、フェノール類としては、フェノー
ル、イソプロピルフェノール、イソプロペニルフェノー
ル、およびｔｅｒｔ−ブチルヒドロキシトルエンが好ま
しい。

【００２７】これらのガスは沸点が１５０℃以上で、雰
囲気中に０．１ｐｐｍでも存在すれば、ディスクもしく
はヘッドスライダ浮上力発生面に優先的に吸着し、この
結果ディスクとヘッドスライダとの接触部の温度上昇を
抑制し、シロキサンガスの酸化ケイ素への反応を起こさ
せない。

【００２８】なお、上記のような有機ガス発生器２０
を、磁気ディスク装置内部に設ける代わりに、内部に有
機ガスを発生する機能を有する樹脂の板を取付けてもよ
い。該樹脂としては、実施例１で用いたアクリルモノ
マ、酢酸トリル、フェノール、イソプロピルフェノール
を含有させたエチレンプロピレンゴムを用いることがで
きる。上記樹脂板２５を、ハウジング１１の内壁に、接
着剤を用いて接着した場合の、磁気ディスク装置の部分
断面図を図１２に示す。また、ハウジング１１とハウジ
ングカバー１２とに嵌合部５７を設け、樹脂板２５を、
ハウジング１１とハウジングカバー１２との接続部を覆
うように嵌め込んだ場合の、磁気ディスク装置の部分断
面図を図１１に示す。このようにすれば、樹脂板２５が
有機ガス発生源となるため、有機ガス発生器２０を設け
なくとも、本実施例２と同様の酸化ケイ素生成阻害効果
が得られる。なお、樹脂板２５をハウジングカバー１２
の内壁に接着剤により接着して、同様の効果が得られ
る。また、樹脂板２５の接着には、粘着テープを用いて
もよい。

【００２９】（実施例３）本実施例の磁気ディスク装置
１０を図５に示す。本実施例の磁気ディスク装置１０に
は、ハウジング１１にプラグ３０が設けられている。本
実施例の磁気ディスク装置１０のパッキン７、ストッパ
８およびフィルター押さえ９には、フッ素ゴムを使用し
たが、上述の実験結果からわかるように、本実施例の磁
気ディスク装置１０はシロキサンガスの影響を受けない
ことから、シリコンゴムを用いてもよい。その他の構成
は実施例１と同じである。なお、プラグ３０は、ハウジ
ングカバー１２に備えてもよい。

【００３０】上記プラグ３０にシリンジの針を差し込む
ことにより、外部からガスを注入することができるよう
になっている。本実施例では、酢酸トリルを発生するガ
ス発生源２０から、有機ガスをシリンジ３１で抜取り、
このガスをプラグ３０を通して磁気ディスク装置１０内
部に供給した。このようにして、上記実施例２と同様に
シロキサンによる障害の発生について試験したところ、
実施例２の磁気ディスク装置１０と同様の結果が得られ
た。

【００３１】本実施例３の、プラグ３０を有する磁気デ
ィスク装置１０には、上述のようにシリンジ３１を用い
て有機ガスを注入してもよいが、有機ガス注入装置を用
いて注入してもよい。有機ガス注入装置の俯瞰図を図１
３に示す。本実施例では、有機ガスとして酢酸トリルを
用いた。有機ガス注入装置５１は、酢酸トリルのボンベ
５２と、注入のためのシリンジ部３１ａと、注入量を調
整する注入量調整部５３と、シリンジ部３１ａを移動さ
せるシリンジ制御部５４とを備える。ボンベ５２と注入
量調整部５３との間、および、注入量調整部５３とシリ
ンジ制御部５４との間は、それぞれ流路５５、５６によ
り連通している。

【００３２】注入量調整部５３は、ボンベ５２から供給
されるガスを一定量、流路５６に供給する機能を有す
る。

【００３３】プラグ３０を有する磁気ディスク装置１０
は、ベルトコンベア６０上に等間隔に置かれ、ベルトコ
ンベア６０の動作にともなって搬送される。なお、ベル
トコンベア６０は、図示しない搬送機構により、ベルト
コンベア６０上の任意の点が一定距離（磁気ディスク１
０のプラグ３０間の間隔に等しい距離）移動すると、一
定時間停止する動作を、連続して繰り返すように動かさ
れる。

【００３４】シリンジ制御部５４は、シリンジ部３０ａ
の位置を長手方向に変位させ、また、シリンジ部３１ａ
へのガスの供給と、シリンジ部３１ａからのガスの放出
を制御する。すなわち、シリンジ制御部５４は、シリン
ジ部３０ａに、注入量調整部５３から供給された一定量
のガスをシリンジ部３０ａのシリンダに導入したのち、
シリンジ部３０ａを押し出し、さらにシリンジ部３０ａ
のピストンを動かしてシリンダ内のガスを針から放出
し、最後にシリンジ部３０ａを引き戻すという一連の動
作を、一定時間（ベルトコンベア６０の移動時間に等し
い時間）ごとに繰り返す機能を有する。

【００３５】シリンジ部３１ａの針の先端部分にプラグ
３０の針挿入部３０ａが達すると、ベルトコンベア６０
は一定時間停止する。この停止時間内に、シリンジ制御
部５４は、上記の一連の操作を実行する。これにより、
一定量のガスがプラグ３０から磁気ディスク装置１０内
に注入される。停止時間が経過すると、ベルトコンベア
６０は、上記一定距離動き、再度一定時間停止する。こ
のとき、シリンジ部３０ａの針の先端部分は、直前に注
入を行なった磁気ディスク装置１０の隣の磁気ディスク
装置のプラグ３０の針挿入部３０ａに達しているので、
上記の動作を繰り返すことにより、連続して複数の磁気
ディスク装置１０に、それぞれ一定量のガスを注入する
ことができる。

【００３６】（実施例５）従来の磁気ディスク装置にお
いては、ハウジング１１、ハウジングカバー１２、パッ
キン７は、図７または図８に部分断面図を示すように、
パッキン７をハウジング１１およびハウジングカバー１
２で覆い隠すような構造になっていた。なお、図７はパ
ッキンを嵌める溝５８をハウジング１１に備える磁気デ
ィスク装置の部分断面図であり、図８はパッキンを嵌め
る溝５８をハウジング１１とハウジングカバー１２の両
方に備える磁気ディスク装置の部分断面図である。

【００３７】本実施例の磁気ディスク装置１０のハウジ
ング１１、ハウジングカバー１２、およびパッキン７の
部分断面図を図９に示す。本実施例の磁気ディスク装置
１０は、ハウジング１１の内壁側に嵌合部５７を設け、
溝５８と嵌合部５７との間の凸部５９の高さを従来のも
のよりも低くする。これにより、溝５８から、ハウジン
グの内壁までの間に、つながった凹部ができる。パッキ
ン７を、該凹部に倣った形とすることで、パッキン７が
ハウジング１１の内壁に露出する構造とすることができ
る。本実施例では、パッキン７の素材として、アクリル
モノマ、酢酸トリル、フェノール、イソプロピルフェノ
ールを含有させたエチレンプロピレンゴムを用いた。他
の構成は、実施例１で説明した、従来の磁気ディスク装
置１０ａと同様の構造を有する。

【００３８】このような、パッキンが磁気ディスク装置
１０の内部に露出する構造とすることにより、パッキン
７から、磁気ディスク装置１０内部に有機ガスが効果的
に放出される。本実施例の磁気ディスク装置１０につい
て、実施例１と同様の方法で、効果を確認したところ、
実施例１と同様の効果が得られ、上記の構造は、酸化ケ
イ素の発生を阻害するのに効果的であるということがわ
かった。

【００３９】なお、図８に示すように、ハウジング１１
とハウジングカバー１２との両方の内壁に嵌合部５７を
設け、パッキン７がハウジング１１とハウジングカバー
１２の両方の内壁の一部を覆うようにすれば、内部の空
間に露出しているパッキン７の表面積が、さらに広くな
るため、より効果的に有機ガスを放出するようにでき
る。

【００４０】（実施例６）本実施例では、磁気ディスク
３表面に有機ガスを吹き付け、吸着させることにより、
磁気ディスク３自体を磁気ディスク装置１０の有機ガス
の発生源とする。本実施例では、有機ガスとして酢酸ト
リルを用いたが、実施例２において使用できるとしたい
ずれの化合物を用いてもよい。磁気ディスク３自体を有
機ガスの発生源としても、実施例２と同様の、酸化ケイ
素生成阻害の効果が得られる。

【００４１】従来の磁気ディスクの製造工程は、磁気記
録層形成工程と、表面処理工程とがある。先ず、磁気記
録層形成工程において、基板上に磁性体を塗布し、磁場
配向処理を行ったのち、乾燥して、磁気記録層を形成す
る。つぎに、表面処理工程において、磁気記録層を鏡面
処理したのち、潤滑剤を塗布して、磁気ディスクを得
る。

【００４２】本実施例の磁気ディスク３にガスを吸着さ
せる装置を図６に示す。本実施例のガス吸着装置５０
は、潤滑剤塗布装置４０に隣接して設けられ、潤滑剤の
塗布直後の磁気ディスクにガスを吸着させるようになっ
ている。なお、潤滑剤塗布装置４０は、潤滑剤を保持す
る潤滑剤槽４１を有し、ディスク支持部４２に支持され
たディスク３を潤滑剤槽４１内の潤滑剤中に浸すことに
より、ディスク３上に潤滑剤の膜を形成するものであ
る。

【００４３】上記の潤滑剤塗布工程を経たのち、ディス
ク支持部４２に支持されたディスク３は、本実施例のガ
ス吸着装置５０内に格納される。ガス吸着装置５０は、
ガス供給器２４を備える。ガス供給器２４は、酢酸トリ
ルのボンベ（図示せず）と、ガスを放出するためのノズ
ル６１とを有する。本実施例では、ディスク３がガス吸
着装置５０内に格納されると、ガス供給器２のノズル６
１から、酢酸トリルのガスが放出６２される。これによ
り、ガス吸着装置５０内が酢酸トリルの雰囲気になり、
酢酸トリルのガスは、ディスク支持部４２に支持された
ディスク３の表面に吸着される。これにより、潤滑膜に
酢酸トリルを吸着させた、ガス発生源としての機能を有
する磁気ディスク３を作製することができる。

【００４４】なお、磁気ヘッドの製造工程や磁気ディス
ク装置内につかわれる部品の表面処理工程、あるいはス
ピンドル１へのディスク３の組込設備、さらにはディス
ク搬送ラインにおいて、該工程を実施する設備にカバー
をつけ、有機ガスを吹き込むか、内部に有機ガス発生源
をおいて、有機ガスを閉じ込められるようにして、有機
ガスを封入すれば、ガスの部品表面への吸着が起きるた
め、同様の効果が得られる。

【００４５】（上記各実施例の効果）上記各実施例によ
れば、浮動ヘッドスライダと磁気ディスク接触時の摩擦
エネルギーが低減することにより、磁気ディスク装置内
にシロキサンガスが存在しても、シロキサンガスの酸化
ケイ素への反応を起こさせないため、壊滅的なヘッドク
ラッシュを引き起こすシロキサン障害の危険をなくすこ
とができ、信頼性の高い磁気ディスク装置を提供するこ
とができる。

【００４６】

【発明の効果】本発明によれば、内部にシロキサンが存
在しても、ヘッドクラッシュ等の障害を起こさない磁気
ディスク、および磁気ディスク装置が提供される。

【図面の簡単な説明】

【図１】有機ガス発生機能を有するパッキン、ストッパ
ゴム、およびフィルター押さえを用いた磁気ディスク装
置の構造図である。

【図２】有機ガス発生機能を有するパッキン、ストッパ
ゴム、およびフィルター押さえを用いた磁気ディスク装
置の内部の気体のガスクロマトグラフィー分析結果を示
すチャート図である。

【図３】パッキン、ストッパゴム、およびフィルター押
さえに、有機ガス発生機能を有するものを用いた磁気デ
ィスク装置と、フッ素ゴムを用いた磁気ディスク装置と
の連続試験の結果を示すグラフである。

【図４】内部にガス発生器を備える磁気ディスク装置の
断面図である。

【図５】ガス注入用のプラグを備える磁気ディスク装置
の構造図である。

【図６】磁気ディスクに有機ガスを吸着させるガス吸着
装置を示す説明図である。

【図７】ハウジングにパッキンを嵌める溝を有する磁気
ディスク装置の、ハウジング、ハウジングカバー、およ
びパッキンの構造を示す部分断面図である。

【図８】ハウジングおよびハウジングカバーの両方にパ
ッキンを嵌める溝を有する磁気ディスク装置の、ハウジ
ング、ハウジングカバー、およびパッキンの構造を示す
部分断面図である。

【図９】ハウジングに段差を設けた場合の、ハウジン
グ、ハウジングカバー、およびパッキンの構造を示す部
分断面図である。

【図１０】ハウジングとハウジングカバーとの両方に段
差を設けた場合の、ハウジング、ハウジングカバー、お
よびパッキンの構造を示す部分断面図である。

【図１１】ハウジングおよびハウジングカバーの接続部
分を覆うように樹脂板を取付けた磁気ディスク装置の部
分断面図である。

【図１２】ハウジングに樹脂板を取付けた磁気ディスク
装置の部分断面図である。

【図１３】有機ガス注入装置の俯瞰図である。

【符号の説明】

１…スピンドル、２…キャリッジ、３…ディスク、
４…ヘッドスライダ、５…エアフィルター、７…
有機ガス成分を含有するエチレンプロピレンゴムのパッ
キン、８…有機ガス成分を含有するエチレンプロピレ
ンゴムのストッパゴム、９…有機ガス成分を含有する
エチレンプロピレンゴムのフィルター押さえ、１０…
本発明の磁気ディスク装置、１１…ハウジング、１
２…ハウジングカバー、２０…ガス発生源、２１…
酢酸トリルを含んだ材料、２２…容器、２３…細
孔、２４…ガス供給器、２５…樹脂板、３０…プ
ラグ、３１…シリンジ、４０…潤滑剤塗布装置、
４１…潤滑剤溜め、４２…パレット、５０…ガス付
着装置、５１…ガス注入装置、５２…ボンベ、５３
…注入量調整部、５４…シリンジ制御部、５５、５
６…流路、６０…ベルトコンベア。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者勝本正之神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者大谷祐一神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者小口光彦神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者杉本博幸神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者東島哲二神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者濱田隆史神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者江口欣也神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地株式会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者天野英明神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社日立製作所ストレージシステム事業部内 (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) G11B 33/12 313 G11B 5/72 G11B 25/04 101

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】筐体内に、磁気ディスクと、該磁気ディス
クを回転させるスピンドルと、該磁気ディスクに対する
情報の読み出し、書き込みを行なう浮動ヘッドスライダ
とを有する磁気ディスク装置において、上記筐体内に有機ガスを供給する手段をさらに有し、上記筐体内に有機ガスを供給する手段は、上記筐体内に
備えられた、アクリルモノマ、酢酸トリル、フェノー
ル、およびイソプロピルフェノールのうちの少なくとも
いずれかを含有させた樹脂よりなる、上記有機ガスを発
生する有機ガス発生部材であり、上記有機ガスは、モノアルキル置換ベンゼン、ジアルキ
ル置換ベンゼン、トリアルキル置換ベンゼン、脂肪酸の
アリールエステル、芳香族酸のアルキルエステル、チア
ゾール類、およびフェノール類のうちの少なくともいず
れか１種の化合物を含むことを特徴とする磁気ディスク
装置。
【請求項２】請求項１において、前記樹脂は、エチレンプロピレンゴムであることを特徴
とする磁気ディスク装置。
【請求項３】請求項１または２において、上記筐体内に有機ガスを供給する手段は、上記筐体に備えられたプラグであることを特徴とする磁
気ディスク装置。